超净高纯资料摘要
超净高纯试剂的现状、应用、制备及配套技术
１ 微 电 子 技 术 的 发 展
本 同时起 步 ， 比韩 国早 １ ０年 。现 在 我 国 已经 有 了 从 双 极 （ ５ ｍ） Ｃ 到 ＭＯＳ 从 ２～ ３ ｍ 到 ０ ８ 、 ． ～ １ ２ ｍ 及 ０ ３ ～０ ５ ｍ 工 艺 技 术 ， 形 成 了规模 ． ． ５ ． 并 生 产 ， ． ５ ｍ 工 艺 技 术 生 产 线 目前 正 在 北 京 和 ０ ２ 上 海 同 时建 设 ， 计 到 ２ ０ 预 ０ ２年 即可 投 产 。“ 五 ” 十 期间及 到 ２１ ０ ０年 北 京 建 设 的北 方 微 电 子 基 地将 建成 ２ ０条 ０ ３ 、 ． ５和 ０ １ 工 艺 技 术 生 产 ．５０２ ．８ｍ 线 ， 海在 浦东将 建成 大 约 ４ 上 ０条 ０ ３ 、 ． ５及 ．５ ０ ２
蓄 电量 需 要 尽可 能 的增 大 ， 因此 氧 化 膜变 得 更 薄 ，
动 态 存 贮 器 。进 入 ２ ０世 纪 ９ ０年代 后 期 ， 的 发 Ｉ Ｃ 展 更 迅 速 ， 争 更激 烈 。美 国 的 Ｉｔｌ 司 、 竞 ｎｅ 公 ＡＭＤ 公 司 和 日本 的 ＮＥ Ｃ公 司这 ３个 Ｉ Ｃ生产 厂 家 的 竞 争 尤 为激 烈 ， ９ ９年 Ｉｔｌ 司 、 １９ ｎｅ 公 ＡＭＤ 公 司 均 实
摘 要 ： 国 内 外 微 电 子 技 术 配 套 专 用 超 净 高 纯 试 剂 进 行 了评 述 。 对 关 键 词 ： 净 高 纯 试 剂 ； 状 ； 用 ； 备 ； 套 技 术 超 现 应 制 配
中圈分类号 ： Ｑ４ １ ２ Ｔ ２ ． ３
文献标识 码 ： Ａ
文章 编号 ：２ ８３ ８ （０ ２ ０ —１ ２０ ０ ５ —２ ３ ２ ０ ）３０ ４ —４
３年缩 小 ２倍 ， 片 面积 增 加 约 １ ５倍 ， 片 中 芯 ． 芯
超大规模集成电路的重要支撑材料——超净高纯试剂
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腾蒸馏、 等温蒸 馏 、 减压 蒸 馏 、 升华 、 学 处理 、 化 气体 吸收 等 。超净 高纯 试 剂在 运输 过 程 中极 易受 污染
器 等必 须依赖 进 口，超净 高纯试 剂工 艺先进 技术 如 气 体 吸收 、 子交换 、 离 膜处 理技术 等 的应 用要 达到 国
工 业 中 的消耗 比例 大致 占 １—５ ０ １％，其 中有 机 类化 学品 的需 求量 在微 电子 化 学 品 中 占总体 积 的 ３ ％以 上 ， 场需求量 相 当可观 。 市 在超净高 纯试剂 的发展 方 面 ， 与光刻 胶相 似 ， 不
目前， 国际上普遍使用的提纯工艺有十余种 ， 它们适
而 同步或 超前 发展 ， 同时 它又 对微 电子 技 术 的发 展起 着制 约作用 。
Ｓ ＭＩ Ｅ 标准 金属杂质／ｐ ｐｂ 控制粒径／ｍ ｇ
颗粒／ ／Ｌ 个 ｍ
目前 ， 国际上 制备 Ｓ ＭＩＣ 到 Ｓ ＭＩＣ ２级 超 净 高 Ｅ —１ Ｅ —１ 纯试 剂 的技术 都 已经 趋 于成 熟 。随着集 成 电路 制作 要 求 的提高 ，对工艺 中所 需 的液 体化 学品纯度 的要 求 也不 断提高 。 从技 术趋 势上看 ， 满足 纳米级 集成 电 路 加工需 求是 超净 高纯试 剂今后 发展方 向之一 。 可 以看 出 ，超净 高纯试 剂制 备 的关 键在 于控制
１７ ，国际半导 体设 备与 材料 组织 （ Ｅ ） ９ ５年 Ｓ ＭＩ
制定 了 国际统 一 的超 净 高纯试剂 标准 ， 如表 １ 所示 。
的清洗 、 蚀刻 ， 另外超 净高纯 试剂还 用 于芯片掺 杂 和 沉 淀工艺 。超 净高纯试 剂 的纯度 和洁净 度对集 成 电 路 的成 品率 、 电性能 及可靠性 均有 十分 重要 的影 响。 超净 高纯试 剂 具有 品种 多 、 量大 、 术 要求 高 、 用 技 贮 存 有效期 短 和腐蚀性 强等特 点 ，它基 于微 电子 技术 的发展 而产生 ， 一代 Ｉ ｃ产品需要 一代 的超 净 高纯试 剂与之 配套 。它 随着微 电子技 术 的发 展
%88%90电路的重要支撑材料——超净高纯试剂
超大规模集成电路的重要支撑材料——超净高纯试剂上海化学试剂研究所沈哲瑜1. 国内外超净高纯试剂技术发展现状超净高纯试剂（Ultra-clean and High-purity Reagents）在国际上通称为工艺化学品（Process Chemicals），美欧和中国台湾地区又称湿化学品（Wet Chemicals），是超大规模集成电路制作过程中的关键性基础化工材料之一，主要用于芯片的清洗、蚀刻，另外超净高纯试剂还用于芯片掺杂和沉淀工艺。
超净高纯试剂的纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能及可靠性均有十分重要的影响。
超净高纯试剂具有品种多、用量大、技术要求高、贮存有效期短和腐蚀性强等特点，它基于微电子技术的发展而产生，一代IC 产品需要一代的超净高纯试剂与之配套。
它随着微电子技术的发展而同步或超前发展，同时它又对微电子技术的发展起着制约作用。
依照超净高纯试剂的用途，可以将其划分为光刻胶配套试剂、湿法蚀刻剂和湿法工艺试剂。
如果依其性质可以分为：无机酸类、无机碱类、有机溶剂类和其他超净高纯试剂。
有关资料显示，超净高纯有机溶剂在半导体工业中的消耗比例大致占10-15%，其中有机类化学品的需求量在微电子化学品中占总体积的3%以上，市场需求量相当可观。
在超净高纯试剂的发展方面，与光刻胶相似，不同线宽的集成电路必须使用不同规格的超净高纯试剂进行蚀刻和清洗。
超净高纯试剂的关键在于控制其所含的金属离子的多少和试剂中尘埃颗粒的含量，对于线宽较小的集成电路，几个金属离子或灰尘就足以报废整个电路。
1975年，国际半导体设备与材料组织（SEMI）制定了国际统一的超净高纯试剂标准，如表1所示。
目前，国际上制备SEMI-C1到SEMI-C12级超净高纯试剂的技术都已经趋于成熟。
随着集成电路制作要求的提高，对工艺中所需的液体化学品纯度的要求也不断提高。
从技术趋势上看，满足纳米级集成电路加工需求是超净高纯试剂今后发展方向之一。
我国超净高纯试剂的应用与发展
ｔ ｃ ｎ ｌｇ ． ｅ ｈ ｏｏ ｙ
Ｋｅ ｒ ｙ ｗｏ ｄｓ： ｃｏ ｌｃｒ ｎ ｃ ； ｒ ｃ ｓ Ｍｉｒ ｅ ｅ ｔｏ ｉ ｓ Ｐ ｏ ｅ ｓＣｈｅ ｃ ｌ Ａｐ ｌｃ ｔｏ Ｄｅ ｅｏ ｍｅ ｔ ｍｉａｓ； ｐ ｉ ａｉｎ； ｖ ｌ ｐ ｎ
１ 引 言
进 人 二十 一 世 纪 以来 ， 电子 技 术 的发展 进 入 微
出现 ， 需配 套 的 电子 化 工材 料 的种 类基 本上 没 有 所 变 化 ， 旧包 括超 净 高 纯 试 剂 、 依 光刻 胶 、 电子特 种 气 体 及 电子 塑封 材 料 等 。这 些 材 料 质 量 的好坏 ， 接 直 影 响着不 同制作技 术所 形成 电子产 品的性能及 质量
超净高纯化学试剂(讲一)
检出颗粒物
生产过滤滤芯
液体颗粒检测仪
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超净高纯化学品应用的领域
集成电路
IC
超净高纯 试剂
VLSI
超大规模集成 电路
光电组件
TFT/LCD
SOL AR
太阳能光伏
单晶、多晶硅
SILICO N
OTHE R
其他行业
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不是结束 ，是开始哦！
纯度（金子来注释），洁净度（纯净水来注释） 返回目录
超净高纯试剂特点
超净高纯试剂具有品种多、用量大、技术要求高、强腐蚀 性和储存有效期短等特点，它基于微电子技术的发展而产 生，随着微电子技术的发展而同步或超前发展，同时它又 制约着微电子技术的发展。因此，超净高纯试剂的研究开 发及应用必须与微电子技术的发展及应用紧密地结合才具 有现实意义。
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超净高纯试剂用途
超净高纯试剂的主要用途： （1）用于硅圆片工艺加工过程中的硅片清洗。硅圆片在 进行工艺加工过程中，常常会被不同的杂质所沾污，因为 各种沾污可引起IC芯片产率下降50%左右，为了获得高质 量、高产率的集成电路芯片，必须去除硅圆片表面各类沾 污物。 （2）用于芯片制造中涂胶前的湿法清洗和光刻过程中的 湿法蚀刻及最终的去胶。
电子级3级（EL-Ⅲ）其金属杂质含量为1--10 PPb，高于市场供应的摩斯级 （MOS）1个数量级，达到SEMI C7标准。 电子级4级（EL-Ⅳ）其金属杂质含量为0.1--1PPb，高于市场供应的摩斯级 （MOS）2个数量级，达到SEMI C8标准。 返回目录
公司产品纯度保证
我公司所有的高纯试剂都是在工业基础原料上进行精馏提纯的，去除阴阳离子。
挖金人的成长之路（一）
了解您所推销的产品超净高纯化学试剂
超净高纯化学试剂
超净高纯化学试剂超净高纯化学试剂是一种应用于科学实验中的高纯度化学物质，它在实验室研究和工业生产中扮演着重要的角色。
在实验室中，科学家们经常需要使用高纯化学试剂来进行各种研究和发现。
那么，什么是超净高纯化学试剂呢？为什么要使用它们？在本文中，我们将深入探讨这些问题，并且了解一些超净高纯化学试剂的应用。
超净高纯化学试剂是一种经过特殊处理的化学试剂，以确保其中的杂质含量极低。
这些化学试剂通常经过多次纯化步骤，包括溶液过滤、蒸馏、结晶等，以确保其纯度达到所需的标准。
由于其高纯度，超净高纯化学试剂通常要在高级实验室条件下制备和储存，以防止受到外部杂质的污染。
使用超净高纯化学试剂的主要原因是为了消除实验结果的误差。
实验室中的很多实验都需要对试剂的性质和反应进行准确的分析。
如果试剂中存在较高的杂质含量，这些杂质可能会干扰实验结果，并导致误差的发生。
通过使用超净高纯化学试剂，科学家们可以最大限度地消除这些误差，从而获得更加准确的实验结果。
超净高纯化学试剂在各个领域都有广泛的应用。
在生物学和医学领域，科学家们经常需要使用纯净的生物试剂来进行细胞培养、酶反应、基因测序等实验。
超净高纯化学试剂可以确保这些实验的准确性和可靠性。
在化学合成和材料科学领域，超净高纯化学试剂常用于制备高纯度晶体、金属和陶瓷。
在环境科学研究中，科学家们需要使用高纯的试剂来分析水和土壤中的污染物。
超净高纯化学试剂可以确保实验结果的准确性，并为环境监测和保护提供基础数据。
除了其准确性和可靠性，超净高纯化学试剂还具有卓越的安全性。
由于其经过严格纯化，其中的有害物质和毒性物质含量很低，从而降低了实验操作的风险。
科学家们在操作超净高纯化学试剂时可以更加安全地进行实验。
然而，超净高纯化学试剂的制备和使用并非没有挑战。
首先，制备这些试剂需要严格的实验条件和高级实验设备。
其次，即使经过了多次纯化，这些试剂仍然可能受到外部杂质的污染。
因此，储存和使用超净高纯化学试剂的环境也是非常重要的。
超净高纯试剂的现状应用制备及配套技术
超净高纯试剂的现状应用制备及配套技术超净高纯试剂是指纯度高、杂质少、质量稳定的化学试剂。
它通常用于高精确度的科学实验、工业生产过程中，对杂质敏感的实验和特殊工艺制造等领域。
超净高纯试剂的现状应用、制备及配套技术可从以下几个方面进行探讨。
一、超净高纯试剂的现状应用1.科学研究：在科学研究领域，超净高纯试剂被广泛应用于分析化学、有机合成、生物学、医学等各个领域。
例如，分析化学中的高纯度标准物质和试剂能够为分析提供准确的参考值；有机合成领域的高纯度试剂可以保证反应的准确性、重复性和可控性。
2.工业生产：在工业生产过程中，超净高纯试剂主要应用于精细化工和新材料合成等领域。
例如，电子工业中的超纯硅材料在半导体器件的制备中具有重要的应用；光电子材料领域中的超净高纯金属有助于提高光学器件的性能。
3.环境监测：超净高纯试剂在环境监测中也有广泛应用。
例如，水质监测中使用高纯度试剂可以准确检测出微量的有害物质；大气监测领域中使用高纯度标准气体可以准确测量环境中的空气组分。
4.医疗诊断：超净高纯试剂在医疗诊断领域也具有重要应用。
例如，分子诊断中需要高纯度的试剂来确保诊断结果的准确性；体外诊断领域中的超净试剂用于临床实验室检测。
二、超净高纯试剂的制备技术1.原料净化：超净高纯试剂的制备首先需要采用高纯度的原材料，对原材料进行净化处理，去除掉杂质、杂质有机物和无机盐。
2.反应和分离：根据所需试剂的不同，采用不同的反应方式和分离技术。
例如，采用重结晶、溶剂萃取、离子交换等技术来获得所需的超净高纯试剂。
3.超净包装：制备好的超净高纯试剂需要进行超净包装，采用高纯度的玻璃瓶、聚乙烯瓶等容器，确保试剂在包装过程中不受外界杂质污染。
三、超净高纯试剂的配套技术1.超净实验室设计：超净高纯试剂在制备、存储和使用过程中需要有专门的超净实验室，采取空气净化、水净化等技术保障清洁无菌的实验条件。
2.超净仪器设备：配套使用超净仪器设备，如超净工作台、超净水系统、高精度电子天平等，来保证试剂的制备和操作过程中的无菌、无尘和准确性。
2024年超净高纯试剂市场前景分析
2024年超净高纯试剂市场前景分析摘要本文主要对超净高纯试剂市场进行前景分析。
首先介绍了超净高纯试剂的定义和分类，然后对市场规模和增长趋势进行了分析。
接下来，从产业链和竞争格局两个方面深入探讨了市场的发展潜力和机遇。
最后，对市场面临的挑战进行了分析，并提出了未来发展的建议。
1. 引言超净高纯试剂是在实验室和工业生产中广泛使用的一类化学试剂，具有极高的纯度和低的杂质含量。
它在科学研究、药物研发、电子工业等领域有着广泛的应用。
随着科技的不断进步和相关产业的发展，超净高纯试剂市场也呈现出快速增长的态势。
2. 市场规模和增长趋势根据市场调研数据显示，超净高纯试剂市场规模在过去几年中呈现持续增长的趋势。
这主要得益于科技发展的推动，以及相关领域的需求增加。
预计未来几年，超净高纯试剂市场将继续保持稳定的增长，市场规模有望进一步扩大。
3. 产业链和竞争格局超净高纯试剂市场的产业链包括原材料供应商、生产商、分销商和最终用户。
各环节间的合作和协同发展对市场的健康发展起到至关重要的作用。
目前，市场上的竞争格局主要由大型国际化企业和国内化工企业构成。
大型企业凭借其品牌影响力、技术实力和市场资源优势，占据较大市场份额。
然而，国内企业在技术创新和成本优势方面具备一定竞争力。
4. 市场发展潜力和机遇超净高纯试剂市场发展的潜力和机遇主要体现在以下几个方面：•科学研究领域的不断推进，对高质量超净高纯试剂的需求增加；•电子工业的迅猛发展，对超净高纯试剂的需求增加；•生物医药行业的快速发展，对超净高纯试剂的需求增加。
市场参与者可以通过不断提高产品质量、加大技术研发投入，以及拓展市场渠道等方式，抓住市场发展潜力和机遇。
此外，加强与科研机构、高校和企业的合作，积极参与国际合作，也是发展的重要途径。
5. 市场面临的挑战超净高纯试剂市场在发展过程中也面临一些挑战。
首先，市场竞争激烈，企业需要不断提升自身竞争力。
其次，市场准入门槛较高，对资金、技术和人才等方面的要求较高。
一种超净高纯过氧化氢的生产工艺
一种超净高纯过氧化氢的生产工艺嗨，朋友们！今天我要和你们唠唠一种超厉害的东西——超净高纯过氧化氢的生产工艺。
这可不是一般的过氧化氢哦，它在很多高端领域那可是起着举足轻重的作用呢。
咱先得知道啥是过氧化氢。
过氧化氢，通俗地说就像是一种超级清洁小能手。
它的化学式是H₂O₂，你看，就比水（H₂O）多了一个氧原子，可就这一个氧原子的差别，让它有了独特的性质。
在日常生活中，咱们能见到它用来消毒伤口，那在工业和高科技领域，超净高纯的它更是宝贝。
那这个超净高纯的过氧化氢是怎么生产出来的呢？这就像一场精心编排的魔法表演。
首先呢，原料的选择就像是挑选魔法的初始道具一样重要。
一般来说，我们会从一些含有氢和氧元素的物质开始，这就好比你要做一道美食，得先选好新鲜的食材。
我有个朋友小李，他就在生产过氧化氢的工厂里工作。
他跟我说呀，在生产的第一步，就像是一场严谨的科学实验。
他们要把原料进行精确的配比。
这可不能马虎，多一点少一点都不行。
就像你烤蛋糕，面粉和糖的比例要是不对，那蛋糕可就不是那个味儿了。
他说：“嘿，你可别小看这个配比，这就像调鸡尾酒，每种成分的量都得恰到好处，不然就出不来超净高纯的过氧化氢。
”接下来就是反应环节了。
这个反应啊，就像是一场激烈的战斗。
各种分子在特定的条件下相互碰撞、结合。
温度、压力这些条件就像是战斗的环境因素，必须严格控制。
我曾经问小李：“这温度啥的有那么重要吗？”小李瞪大了眼睛跟我说：“那可太重要了！这就好比你在冬天和夏天锻炼身体，感觉能一样吗？温度不合适，分子们就不好好反应，那生产出来的东西可就不达标喽。
”在反应过程中，还得加入合适的催化剂。
催化剂就像是一个神奇的小助手，它自己不参与反应，但是能让反应变得更快更好。
这让我想起了体育比赛中的啦啦队，虽然不上场比赛，但是能让运动员们更有劲儿。
小李笑着说：“哈哈，你这个比喻还挺形象的呢。
这个催化剂啊，就是这么个神奇的存在。
”反应结束后，可不能就这么大功告成了。
超净高纯化学试剂在TFT中的应用
超净高纯化学试剂在TFT中的应用引言薄膜晶体管（Thin Film Transistor，TFT）是一种新兴的显示技术，其广泛应用于平板显示器（Liquid Crystal Display，LCD）、有机发光二极管（Organic Light-Emitting Diode，OLED）等领域。
TFT的工艺制备过程需要高纯度的化学试剂，超净高纯化学试剂的运用在TFT的制造和性能提升中发挥着关键作用。
一、超净高纯化学试剂的定义和特点1.高纯度：超净高纯化学试剂的纯度通常在99.9999%以上，因此能够提供高度纯净的基础材料供应。
2.低杂质含量：经过严格过滤和纯化处理，杂质含量极低，能够减少或避免杂质对产品性能的影响。
3.稳定性好：超净高纯化学试剂的稳定性好，能够保持长时间的稳定性，减少批次间差异性。
二、超净高纯化学试剂在TFT制造中的应用1.前驱体纯化2.光阻剂和化学溶剂的纯化光阻剂和化学溶剂在TFT的制造过程中起着重要作用，但其中的杂质对显示效果和晶体管性能有很大的影响。
因此，超净高纯化学试剂在光阻剂和化学溶剂的纯化过程中可以去除杂质，提高纯度，从而改善窗口透过率和电学性能。
3.清洗剂的纯化清洗剂的纯化对TFT制造过程中的终端产品性能和可靠性至关重要。
超净高纯化学试剂能够通过去除清洗剂中的杂质，减少对显示器结构的损害和对晶体管性能的影响，提高终端产品的质量和可靠性。
三、超净高纯化学试剂在TFT品质改进中的作用利用超净高纯化学试剂在TFT制造过程中纯化材料和去除杂质，能够提高产品的品质和性能，主要包括以下几个方面：1. 提高晶体管的性能：去除杂质能够提高材料的纯度和晶体管的工作稳定性，减少场效应晶体管（Field Effect Transistor，FET）的漏电流和开关速度等方面的问题，提高晶体管的性能。
2.改善显示品质：通过纯化光阻剂和化学溶剂，提高窗口透过率和电学性能，能够改善显示品质，提高平板显示器的色彩饱和度和清晰度。
超净高纯硝酸纯化技术的研究
超净高纯硝酸纯化技术的研究陈林;朱龙;邵勇【摘要】High-purity nitric acid have more and more demand in the market,the paper describes the method of purification process of nitric acid and nitric acid of high purity purification.Today,the high-purity nitric acid has several main purification process:ordinarydistillation,distillation,vacuum distillation,sub-boiling distillation,membrane separation method has advantages and disadvantages,you need to be selected according to the actual situation.How the benefits were set in several ways purification,the purification process of ultra-high purity nitric acid to optimize the focus now researchers discussed.%高纯度硝酸在市场上有了越来越多的需求量，简述了硝酸的提纯工艺及高纯度硝酸提纯的方法。
高纯度硝酸的提纯工艺主要由：普通蒸馏、精馏、减压蒸馏、亚沸蒸馏、膜分离等。
这些方法均有优缺点，需要根据实际情况进行选择。
如何将几种提纯方式的优点进行集合，将超高纯度硝酸的提纯工艺达到最优化是如今研究人员讨论的重点。
【期刊名称】《化工设计通讯》【年(卷),期】2016(042)005【总页数】2页(P70-70,92)【关键词】超净高纯;硝酸;精馏;膜分离【作者】陈林;朱龙;邵勇【作者单位】江阴江化微电子材料股份有限公司，江苏江阴 214400;江阴江化微电子材料股份有限公司，江苏江阴 214400;江阴江化微电子材料股份有限公司，江苏江阴 214400【正文语种】中文【中图分类】TQ111.261.1 硝酸的特性强酸具有强氧化性，有极强的腐蚀性，硝酸属于几大常见强酸之一。
超净高纯试剂
第三章超净高纯试剂3.1概述超净高纯试剂又称工艺化学品（Process Chemicals，以下称为工艺化学品），是电子技术微细加工制作过程中不可缺少的关键性基础化工材料之一，主要用于芯片的清洗和腐蚀，它的纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能及可靠性都有着十分重要的影响。
工艺化学品是基于微电子技术的发展而产生的，并随着微电子技术的发展而发展，同时又制约着微电子技术的发展。
因此，工艺化学品的研究和开，发必须与微电子技术的发展及应用需求相结合才具有现实意义。
3.1.1 微电子技术发展现状微电子技术即电子微细加工技术主要是指用于半导体器件和集成电路加工制作的一系列蚀刻及处理技术。
其中集成电路（简称IC），特别是超大规模集成电路制作技术又是微电子技术的核心，是电子信息产业最关键、最重要的基础。
其发展速度之快，更新之速，是其他：任何行业都无法比拟的。
微电子技术发展的主要途径之一是通过不断缩小器件的特征尺寸，增加芯片面积，以提高集成度和速度。
自20世纪70年代后期至今，集成电路芯片的集成度大体上每一年半增加一倍（Moore定律），IC芯片的特征尺寸大体上每三年缩小2倍，芯片面积增加约1.5倍，芯片中晶体管数增加约4倍，也就是说大体上每三年就有一代新的IC产品问世。
3.1.1.1 国外微电子技术发展现状1958年美国率先研制成功集成电路，从20世纪70年代开始，集成电路微细加工技术进入快速发展的时期，相继推出了4K、16K、256K、1M、4M、16M、64M、256M及1G动态存储器，并依次实现了规模生产。
目前全世界已建成或在建的0.25~0.5um生产线达50多条，总投资超过500亿美元，而美国已建成或在建的0.25～0.35um 工艺8时生产线达17条之多。
到2000年，0.18um工艺技术生产线也已在美国投入批量生产。
0.lum乃至0.04um的器件已经在实验室中制备成功，研究工作已经进入亚0.1pm技术阶段，相应地栅氧化层厚度只有1.0～2.0nm。
超净高纯资料摘要
霍尼韦尔公司可为全球半导体行业供应杂质在100ppt（万亿分之一百）以下的高纯度湿法电子化学品，如氢氟酸、氢氧化铵、过氧化氢和盐酸等产品，其材料部每年可创出约10 亿美元的收入，公司在美国、中国、韩国、日本、印度和新加坡都经营电子化学品业务。
另外，公司最近对其设在新加坡的地区总部投资2500 万美元，以发展其在亚太地区业务，并将重点发展在中国和印度的电子化学品业务通过对新型超净高纯试剂同常规CMOS 酸碱试剂同时进行CMOS 工艺中栅氧化前的清洗实验,从清洗后硅片残留金属量的电感耦合高频等离子体原子发射光谱分析、硅片表面形貌的AFM 分析和MOS 电容测量三个方面进行了应用实验.结果表明,以超净高纯乙腈为主要组分的新型试剂,其清洗效果总体优于常规CMOS 酸碱试剂,可以考虑在半导体器件相应清洗工艺中采用。
超净高纯试剂的主要用途,一是用于基片在涂胶前的湿法清洗,二是用于在光刻过程中的蚀刻及最终的去胶,三是用于硅片本身制作过程中的清洗。
硅圆片在进行工艺加工过程中,常常会被不同的杂质所沾污,这些杂质的沾污将导致IC 的产率下降大约50%。
为了获得高质量、高产率的集成电路芯片,必须将这些沾污物去除干净。
氮化硅膜在室温下用氢氟酸或磷酸进行蚀刻。
半导体膜蚀刻：主要是指单晶硅和多晶硅的蚀刻,通常采用混合酸蚀刻液进行蚀刻。
导体膜蚀刻：在Si 材料集成电路中,金属导线常采用Al、Al-Si 合金膜, 湿法蚀刻图形化后Al 和Al-Si 金属膜常采用磷酸蚀刻液进行蚀刻。
有机材料蚀刻：主要是指光刻胶在经过显影和图形转移后的去胶。
常用的正胶显影液有四甲基氢氧化铵,去胶剂可采用热的过氧化氢-硫酸氧化去胶或采用厂家提供的专用去胶剂或剥离液来去除胶膜。
2007 年默克化工技术（上海）有限公司建立了松江基地Ashland亚什兰集团在中国的业务稳步增长，先后成立了四家全资子公司，胜牌（上海）润滑油有限公司、亚什兰（常州）化学有限公司、亚什兰聚酯（昆山）有限公司、常州亚什兰现代化学有限公司，一家合资企业康胜（上海）润滑油有限公司，在北京、上海设立了销售代表处。
8电子工业用辅助化学品-超净高纯试剂和特种气体
（2） SEMI-C7标准 适用于0.8～1.2μmIC工艺技术 的制作。
（3） SEMI-C8标准 适用于0.2～0.6μmIC工艺技术 的制作。
（4） SEMI-C12标准 适用于0.09～0.2μmIC工 艺技术的制作。
2、超净高纯试剂种类 普通化工生产中溶剂和试液品种繁多，而电子微
≤25个/mL
≤5个/mL
TBD
各种金属杂 质含量
国内级别
≤100×109
≤10×109 BV-III
≤1×109
≤0.1×109
BV-IV
BV-V
可见，不同级别的微细加工工艺对超净高 纯试剂的质量要求也不同。随着前沿集成电路芯 片已经进入亚微米和深亚微米时代，对与之配套 的超净高纯试剂提出了更高的要求，要求颗粒和 杂质含量再降低1～3个数量级，另外对储运和包 装也提出更高的要求。
4、超净高纯试剂的发展和标准
随着微电子技术的快速发展，对超净高纯试剂 的要求也越来越高。不同时期有不同线宽的IC制作 工艺技术，对金属杂质和颗粒物含量有越来越高的 标准。更新一代IC要求有更新一代的超净高纯试剂 与之配套。SEMI和国内超净高纯试剂的主要规格指 标如下表。
超净高纯试剂的纯度标准与集成电路发展的关系
3
（4）高效去焊剂B 一种无污染的高效去焊剂，是一种恒沸混合物。配方组成
简单、成本低、去污效果好。
原材料 异丙醇
辛烷
质量份 44 10
（5）光固化涂层用的脱漆剂 该配方为一种光固化涂层用的脱漆剂，可除去印刷板上的感
光性树脂涂层。
原材料
质量份
水
40
硝酸铈
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霍尼韦尔公司可为全球半导体行业供应杂质在100ppt（万亿分之一百）以下的高纯度湿法电子化学品，如氢氟酸、氢氧化铵、过氧化氢和盐酸等产品，其材料部每年可创出约10 亿美元的收入，公司在美国、中国、韩国、日本、印度和新加坡都经营电子化学品业务。
另外，公司最近对其设在新加坡的地区总部投资2500 万美元，以发展其在亚太地区业务，并将重点发展在中国和印度的电子化学品业务通过对新型超净高纯试剂同常规CMOS 酸碱试剂同时进行CMOS 工艺中栅氧化前的清洗实验,从清洗后硅片残留金属量的电感耦合高频等离子体原子发射光谱分析、硅片表面形貌的AFM 分析和MOS 电容测量三个方面进行了应用实验.结果表明,以超净高纯乙腈为主要组分的新型试剂,其清洗效果总体优于常规CMOS 酸碱试剂,可以考虑在半导体器件相应清洗工艺中采用。
超净高纯试剂的主要用途,一是用于基片在涂胶前的湿法清洗,二是用于在光刻过程中的蚀刻及最终的去胶,三是用于硅片本身制作过程中的清洗。
硅圆片在进行工艺加工过程中,常常会被不同的杂质所沾污,这些杂质的沾污将导致IC 的产率下降大约50%。
为了获得高质量、高产率的集成电路芯片,必须将这些沾污物去除干净。
氮化硅膜在室温下用氢氟酸或磷酸进行蚀刻。
半导体膜蚀刻：主要是指单晶硅和多晶硅的蚀刻,通常采用混合酸蚀刻液进行蚀刻。
导体膜蚀刻：在Si 材料集成电路中,金属导线常采用Al、Al-Si 合金膜, 湿法蚀刻图形化后Al 和Al-Si 金属膜常采用磷酸蚀刻液进行蚀刻。
有机材料蚀刻：主要是指光刻胶在经过显影和图形转移后的去胶。
常用的正胶显影液有四甲基氢氧化铵,去胶剂可采用热的过氧化氢-硫酸氧化去胶或采用厂家提供的专用去胶剂或剥离液来去除胶膜。
2007 年默克化工技术（上海）有限公司建立了松江基地Ashland亚什兰集团在中国的业务稳步增长，先后成立了四家全资子公司，胜牌（上海）润滑油有限公司、亚什兰（常州）化学有限公司、亚什兰聚酯（昆山）有限公司、常州亚什兰现代化学有限公司，一家合资企业康胜（上海）润滑油有限公司，在北京、上海设立了销售代表处。
亚什兰集团对常州和昆山的生产工厂进行扩建和升级，其中在常州的项目2005 年投产。
2006 年4 月，西格玛·奥德里奇进军中国，并收购了北京舒伯伟化工仪器公司。
2008 年在无锡投资建厂，从事高纯度化学品、生化试剂的规模化生产及分装，2009 年中国市场销售额约6.5 亿元。
德国默克集团于1995 年开始开拓中国市场，2009 年在中国市场销售额约7 亿元，制药业务和化工业务分别占6 成和4 成。
2009 年国内化学试剂行业的市场规模约为80 亿元，其中排名第一和第二的分别是默克和西格玛·奥德里奇；西陇化工排名第三，当年实现营收6.36亿元；国药集团和光华化学分列第四和第五名。
超净高纯硫酸占超净高纯试剂的27%-30%。
在标准的集成电路制造工艺流程中,涉及晶圆清洗或表面预处理的工艺就超过100 步之多,包括曝光后光刻胶的剥离、灰化残留物的去除、本征氧化物的去除,甚至还有选择性刻蚀超净高纯试剂盐酸占超净高纯试剂的3%-8%。
尽管干法工艺不断发展,且在某些应用中具有独特的优势,但是大多数晶圆清洗/表面预处理工艺还是湿法,即使用由多种化学物质组成的混合溶液,包括氢氟酸、盐酸、硫酸、磷酸、双氧水,以及大量用于稀释与冲洗的去离子水。
苏州晶瑞化学有限公司2001.11.29 注册成立，位于苏州市吴中经济开发区澄湖东路，是一家生产销售微电子业用超纯化学材料和其他精细化工产品的外资企业。
品种包括氢氟酸、过氧化氢、氨水、盐酸、硫酸、硝酸、异丙醇、冰醋酸、混合酸（硅腐蚀液、铝腐蚀液、铬腐蚀液）等。
目前主要产品的纯度为，单项金属杂质含量小于10ppb。
产品广泛应用于超大规模集成电路和TFT-LCD 面板制造过程及太阳能硅片的蚀刻与清洗。
北京化学试剂研究所主要有9 大系列产品：锂电池电解液、锂离子电池电解液、超净高纯试剂、高纯物质、新型扩散源、光刻胶及配套试剂、金属表面处理专用化学品、标准溶液及实验试剂、其他精细化学品.年产3000 吨生产规模。
产品针对正极材料分为：钴酸锂用电解液、锰酸锂用电解液、磷酸铁锂用电解液、钴锰镍三元材料用电解液四大系列。
对于每一系列又细分为锂离子动力电池电解液、高倍率放电电解液、高温型电解液、低温型电解液及根据不同用户特殊要求专门配制的电解液等多种产品。
高纯物质主要包括三氧化二硼、高纯尿素溶液等。
高纯三氧化二硼用于半导体材料砷化镓、磷化镓、磷化铟晶体成长的液封剂、半导体材料的掺杂, 剂和制取多种硼化物、氟硼化物。
年产3-5 吨。
高纯尿素溶液主要用于新型柴油发动机尾气消除剂，使汽车尾气排放达到欧Ⅳ标准，年生产能力达8000吨。
新型扩散源主要用于半导体的基区和隔离区的扩散。
质量达到进口同类产品水平，根据不同生产线的要求分为三种型号，还可根据用户的要求配置专用型号的扩散源胶液，年生产能力15-20 吨。
无锡华晶(器件、双极、上华等)、福州福顺、丹东安顺、北京燕东、绍兴华越、上海贝岭、上海先进、四川二十四所、吉林华微、深圳深爱、汕头华汕、扬州晶来(新)、上海丽正等国内几十家集成电路、半导体器件厂家;洛阳MCL、北京有研硅股、浙江海纳、峨眉739、上海晶华等多家硅材料厂;上海贝尔等多家PCB 厂家使用。
到目前，中国集成电路产业已经形成了IC 设计、芯片制造、封装测试三业及支撑配套业共同发展的较为完善的产业链格局芯片制造业方面，20 世纪90 年代908 工程（无锡华晶项目）和909 工程（上海华虹NEC 项目）的建成，分别使我国拥有了第一条6 英寸和第一条8 英寸芯片生产线。
2004 年中芯国际北京芯片生产线的建成投产则使中国拥有了首条12 英寸芯片生产线。
截至到2007 年底，国内已经有集成电路芯片制造企业近50 家，拥有各类集成电路芯片生产线50 条在国内封装测试业的发展上，1995 年之前行业主体一直由无锡华晶（现华润微电子）、华越、首钢NEC 等芯片制造企业内部的封装测试线和江苏长电、南通富士通、天水永红（现华天科技）等国内独立封装测试企业组成Freescale、Intel、ST、Renesas、Spansion、Infineon、Sansumg、Fairchild、NS 等众多国际大型半导体企业来华建立封装测试基地，国内封装测试行业的产量和销售额大幅增长，外资企业也开始成为封装测试业行的一支主要力量。
目前国内具有一定规模的集成电路封装测试企业已超过70家，其中年封装量超过10 亿块的企业超过20 家。
国内多条8 英寸生产线的建成量产，国内芯片大生产技术的主体已经由5、6 英寸，0.5 微米以上工艺水平过渡至8 英寸，0.25 微米－0.18 微米，中芯国际（北京）、中芯国际（上海）以及海力士-意法无锡12 寸芯片厂的相继投产标志着国内芯片大生产技术的最高水平已经达到12 英寸、90 纳米乃至65 纳米的国际先进水平传统封装形式：如DIP、SOP、QFP 等都已大批量生产，同时随着跨国公司来华投资设厂和现有封装企业的改造升级，PGA、BGA、MCM 等新型封装形式已开始形成规模生产能力。
“龙芯”等为代表的国产CPU、中国华大、大唐微电子等开发的第二代身份证卡芯片、中星微电子的“星光”系列音视频解码芯片、展讯通信的GSM/GPRS 基带处理芯片和TD-SCDMA 手机核心芯片等大量国内具有自主知识产权的产品研制成功并投向市场，标志着国内集成电路设计业的设计水平已经开始步入世界先进行列中芯国际（上海、北京）、宏力半导体（上海）、和舰科技（苏州）、台积电（上海）等多个大型芯片制造项目，和包括Infineon（苏州）、NS（苏州）、Fairchild（苏州）、Intel（成都）等一大批封装测试项目相继开工建设并陆续投产中国集成电路行业出现第一家上市公司——上海贝岭股份有限公司。
已有杭州士兰、长电科技等多家集成电路企业在国内上市珠海炬力、中星微、展讯通信等多家企业在海外成功上市中国集成电路产业结构不断趋于合理，IC 设计、制造、封装测试三业开始接近于“3:4:4”的合理比重，芯片封装悄然从长江三角洲地区向西部转移，成都、西安以及甘肃的芯片封装渐成气候，开始与东部沿海地区的设计、制造形成错位互补的发展态势。
士兰微电子3 年投入8 亿元研发高频高压器件工艺，在LED 显示屏的研制中取得重要进展；北京君正充分发挥自主知识产权CPU 核Xbust 的潜能，北京创毅视讯抓住CMMB 标准带来的机会，新一代产品已研发成功，预计2010 年两个企业的销售额均可望有2 倍到4 倍的提升；锐迪科微电子打破阻碍中国通信产业发展的瓶颈，可以提供TD-SCDMA、GSM/GPRS 等全系列移动通信核心射频芯片。
“高密度集成电路封装技术国家工程实验室”，由长电科技与中国科学院微电子研究所、中国科学院深圳先进技术研究院、清华大学等5 家单位联合实施。
中电科技中国电子和华润集团都已经参与到相关整合中，对集成电路行业的整合有很好的推动作用。
例如，晶门科技业绩在近几年出现下滑，原因是其业务的60%来自摩托罗拉手机京东方和CEC 合作，而且CEC 成为拥有29%股份的股东，这一合作立刻吸引了很多新的订单。
与此同时，士兰、比亚迪、贝岭、华为、中兴通讯、海尔、京东方、长虹等整机企业积极与设计企业相结合，有可能打造出新型的IDM。
展讯通信有限公司7 月30 日宣布，其首款WCDMA 基带芯片-SC7701B 已实现大规模量产格科微电子同比增长51%;联芯科技同比激增92%。
昂宝电子、盈方电子等一批新锐企业在国际国内市场份额中也名列前茅。
以张江高科技园区为例，集成电路产业已占上海50%、全国15%，占全球1.5%，并形成了从芯片设计、制造、测试、封装等完整的产业链条。
作为集成电路产业最高端科技体现的芯片设计方面，全国前三位芯片设计公司均落户在张江，带动全国的集成电路产业向前跨越。
与北京工业投资公司和中芯国际签订合作协议，共同出资在北京建设45-28 纳米晶圆工艺、月产3.5 万片12 英寸集成电路生产线。
如此高技术水平和高产能的生产线，在国内尚属首条。
五年内带动15 家相关企业落户光谷武汉集成电路产业再添新军。
5 月21 日，新思科技武汉全球研发中心揭牌，其将为全球开发领先的知识产权产品，并带动我市芯片设计产业集群式发展。
武汉半导体产业促进恳谈会同日举行，中芯国际、台积电、海思半导体等十多家企业云集现场。
2012 年，武汉市电子信息产业产值超过2000 亿元，东湖高新区已聚集芯片设计、制造企业50 余家，其中芯片设计企业30 余家，从业人员2000 余人。