超净高纯资料摘要

霍尼韦尔公司可为全球半导

体行业供应杂质在100ppt（万亿分之一百）以下的高纯度湿法电子化学品，

如氢氟酸、氢氧化铵、过氧化氢和盐酸等产品，其材料部每年可创出约10 亿

美元的收入，公司在美国、中国、韩国、日本、印度和新加坡都经营电子化

学品业务。另外，公司最近对其设在新加坡的地区总部投资2500 万美元，以

发展其在亚太地区业务，并将重点发展在中国和印度的电子化学品业务

通过对新型超净高纯试剂同常规CMOS 酸碱试剂同时进行CMOS 工艺中栅

氧化前的清洗实验,从清洗后硅片残留金属量的电感耦合高频等离子体原子

发射光谱分析、硅片表面形貌的AFM 分析和MOS 电容测量三个方面进行了应

用实验.结果表明,以超净高纯乙腈为主要组分的新型试剂,其清洗效果总体

优于常规CMOS 酸碱试剂,可以考虑在半导体器件相应清洗工艺中采用。

超净高纯试剂的主要用途,一是用于基片在涂胶前的湿法清洗,二是用于

在光刻过程中的蚀刻及最终的去胶,三是用于硅片本身制作过程中的清洗。

硅圆片在进行工艺加工过程中,常常会被不同的杂质所沾污,这些杂质的沾污

将导致IC 的产率下降大约50%。为了获得高质量、高产率的集成电路芯片,

必须将这些沾污物去除干净

。氮化硅膜在室温下用氢

氟酸或磷酸进行蚀刻。

半导体膜蚀刻：主要是指单晶硅和多晶硅的蚀刻,通常采用混合酸蚀刻液

进行蚀刻。

导体膜蚀刻：在Si 材料集成电路中,金属导线常采用Al、Al-Si 合金膜, 湿法蚀刻图形化后Al 和Al-Si 金属膜常采用磷酸蚀刻液进行蚀刻。有机材料蚀刻：主要是指光刻胶在经过显影和图形转移后的去胶。常用

的正胶显影液有四甲基氢氧化铵,去胶剂可采用热的过氧化氢-硫酸氧化去胶

或采用厂家提供的专用去胶剂或剥离液来去除胶膜。

2007 年默克化工技术（上海）有限公司建立了松江基地

Ashland亚什兰集团在中国的业务稳步增长，先后成立了四家全资子公司，胜牌（上

海）润滑油有限公司、亚什兰（常州）化学有限公司、亚什兰聚酯（昆山）

有限公司、常州亚什兰现代化学有限公司，一家合资企业康胜（上海）润滑

油有限公司，在北京、上海设立了销售代表处。亚什兰集团对常州和昆山的

生产工厂进行扩建和升级，其中在常州的项目2005 年投产。

2006 年4 月，西格玛·奥德里奇进军中国，并收购了北京舒伯伟化工仪

器公司。2008 年在无锡投资建厂，从事高纯度化学品、生化试剂的规模化生

产及分装，2009 年中国市场销售额约6.5 亿元。德国默克集团于1995 年开

始开拓中国市场，2009 年在中国市场销售额约7 亿元，制药业务和化工业务

分别占6 成和4 成。

2009 年国内化学试剂行业的市场规模约为80 亿元，其中排名第一和第

二的分别是默克和西格玛·奥德里奇；西陇化工排名第三，当年实现营收6.36

亿元；国药集团和光华化学分列第四和第五名。

超净高纯硫酸占超净高纯试剂的27%-30%。在标准的集成

电路制造工艺流程中,涉及晶圆清洗或表面预处理的工艺就超过100 步之多,

包括曝光后光刻胶的剥离、灰化残留物的去除、本征氧化物的去除,甚至还有

选择性刻蚀

超净高纯试剂盐酸占超净高纯试剂的3%-8%。尽管干法工艺不断发展,且

在某些应用中具有独特的优势,但是大多数晶圆清洗/表面预处理工艺还是湿

法,即使用由多种化学物质组成的混合溶液,包括氢氟酸、盐酸、硫酸、磷酸、

双氧水,以及大量用于稀释与冲洗的去离子水。

苏州晶瑞化学有限公司2001.11.29 注册成立，位于苏州市吴中经济开发

区澄湖东路，是一家生产销售微电子业用超纯化学材料和其他精细化工产品

的外资企业。品种包括氢氟酸、过氧化氢、氨水、盐酸、硫酸、硝酸、异丙

醇、冰醋酸、混合酸（硅腐蚀液、铝腐蚀液、铬腐蚀液）等。目前主要产品

的纯度为，单项金属杂质含量小于10ppb。产品广泛应用于超大规模集成电

路和TFT-LCD 面板制造过程及太阳能硅片的蚀刻与清洗。

北京化学试剂研

究所主要有9 大系列产品：锂电池电解液、锂离子电池电解液、超净高纯试剂、高纯物质、新型扩散源、光刻胶及配套试剂、金属表面处理专用化学品、

标准溶液及实验试剂、其他精细化学品.年产3000 吨生产规模。产品针对正

极材料分为：钴酸锂用电解液、锰酸锂用电解液、磷酸铁锂用电解液、钴锰

镍三元材料用电解液四大系列。对于每一系列又细分为锂离子动力电池电解

液、高倍率放电电解液、高温型电解液、低温型电解液及根据不同用户特殊

要求专门配制的电解液等多种产品。高纯物质主要包括三氧化二硼、高纯尿素溶液等。高纯三氧化二硼用于半导体材料砷化镓、磷化镓、磷化铟晶体成长的液封剂、半导体材料的掺杂, 剂和制取多种硼化物、氟硼化物。年产3-5 吨。高纯尿素溶液主要用于新型柴油发动机尾气消除剂，使汽车尾气排放达到欧Ⅳ标准，年生产能力达8000吨。新型扩散源主要用于半导体的基区和隔离区的扩散。质量达到进口同类产品水平，根据不同生产线的要求分为三种型号，还可根据用户的要求配置专用型号的扩散源胶液，年生产能力15-20 吨。

无锡华晶(器件、双极、上华等)、福州福顺、丹东安

顺、北京燕东、绍兴华越、上海贝岭、上海先进、四川二十四所、吉林华微、

深圳深爱、汕头华汕、扬州晶来(新)、上海丽正等国内几十家集成电路、半

导体器件厂家;洛阳MCL、北京有研硅股、浙江海纳、峨眉739、上海晶华等多家硅材料厂;上海贝尔等多家PCB 厂家使用。

到目前，中国集成电路产业已经形成了IC 设计、芯

片制造、封装测试三业及支撑配套业共同发展的较为完善的产业链格局