超净高纯试剂的现状、应用、制备及配套技术
icpMS在超净高纯试剂分析中的应用
２０４Ｐｂ＝２０４－（２０１／１３．２）Ｘ６．８ 从原理上讲，任何同量异位素重叠干扰都能用上述方法校正，只要干扰元素的另一个同 位素本身不受干扰即可，例如，ＶＧ公司的ＰＱ Ｅｘｃｅｌｌ就具有这种校正功能软件，但需要注意的 是，在校正过程中会引入的误差，所以，在校正时要认真分析。 四、氢氟酸
铬，砷可能的干扰，对于钙，铁的干扰，是因为在氩等离子体中，Ａｒ及ＡｒＯ的质量范围分
别覆盖了铁的所有同位素和钙的最大丰度同位素，尽管氩的电离电位（１５．７５９ｅｖ）远大
于铁和钙的电离电位（分别为７．０７ ｅＶ和６．１１３ ｅｖ），但由于氩的大量存在，在正常功率范
围内（８００—１５００ｗ，等离子体炬的温度约为６０００－８０００Ｋ），仍能产生大量Ａｒ及ＡｒＯ，使得
氢氟酸的质谱背景主要是”Ｃ“０２，１２Ｃ”０２１Ｈ ｓ１４Ｎ”０２，４０Ａｒｌ４Ｎ，４０Ａｒ”０，４０Ａｒ”０１Ｈ，干扰 不大，氢氟酸的质谱干扰主要是ＡｒＦ对Ｃｏ，实验中采用膜去溶剂化进样，铟为内标，加标回 收率应在７５～１２５％，实验条件及方法可参盐酸中痕量元素的测定，钾、钠、钙、铁采用冷焰状 态（ＰＬＡＳＭＡ ＳＣＲＥＥＮ）钡ｆＪ定，不单独举例。但需要注意的是氢氟酸是唯一能溶解以硅为基 质的物料，即使是微量，也会很快腐蚀ＩＣＰ－ＭＳ的玻璃部件，如雾化器、雾室以及矩管内 管．虽然可以用一些惰性部件，如雾化室和雾室，以及蓝宝石炬管内管代替玻璃部件，但并没 有完全消除分析氢氟酸溶液时存在的潜在危害，所以，每次分析后都要对部件进行检查，及时 发现问题．建议使用耐氢氟酸四氟系统。
年产8万超高纯湿法电子化学品—超净高纯试剂、光刻胶及配套试剂技改扩能二期检测报告
161012050364建设项目竣工环境保护验收检测报告YYJC-BG-2019-09257委托单位：江阴江化微电子材料股份有限公司项目名称：年产8万吨超高纯湿电子化学品一超净高纯试剂、光刻胶及其配套试剂技改扩能项目江苏源远检测科技有限公司2019年9月27日项目名称：年产8万吨超高纯湿法电子化学品一一超净高纯试剂、光刻胶及其配套试剂技改扩能项目委托单位：江阴江化微电子材料股份有限公司承担检测单位：江苏源远检测科技有限公司报告编制人：复核：审核：签发：签发人职务：参加检测人员：洪杰、李柳、朱扬帆、李逸文、许鹏栋、周梦娇、戈逸、金榕、惠尤倩、蔡琦迪、许英姿、张莉、潘新琦等江苏源远检测科技有限公司电话：86885208传真：86885208邮编：214400地址：江阴市东外环路528号检测报告说明对本报告检测结果如有异议者，请于收到报告之日起十天内向本公司提出。
二、鉴定检测，系对新产品、新工艺、新材料等有关技术性能的检测。
验收检测，系对建设项目“三同时”和限期治理项目进行的检测。
四、委托检测，系受用户委托所进行的检测，其中送样委托检测，其检测结果，本公司仅对来样负责，检测结果供委托者了解样品品质之用。
五、本报告非经本公司同意，不得以任何方式复制。
经同意复制的复印件,应有我公司加盖公章予以确认。
江阴江化微电子材料股份有限公司年产8万吨超高纯湿法电子化学品——超净高纯试剂、光刻胶及其配套试剂技改扩能项目“三同时”环保竣工验收检测报告1、概述江阴江化微电子材料股份有限公司（以下简称“江化微公司”）是国内一流的集超高纯电子化学品一一超净高纯试剂、光刻胶及其配套试剂的研发、生产、销售为一体的龙头企业。
该公司原位于江阴市周庄镇山泉村，企业名称原为“江阴市江化微电子材料有限公司”，后于2012年12月更名为江阴江化微电子材料股份有限公司。
因江化微公司山泉村厂区离居民区较近并且没有发展空间，不利于企业长远发展，为适应市场需求和满足企业自身发展，公司于2010年初将原山泉村厂区整体搬迁至周庄镇周南工业集中区云顾路581号并对原有规模进行扩建，该搬迁扩建项目环评《江阴市江化微电子材料有限公司年产8万吨超高纯湿法电子化学品一一超净高纯试剂、光刻胶及其配套试剂技改扩能项目环境影响报告书》已于2010年12月31日通过环评审批（锡环管[2010]90 号）。
超净高纯试剂的现状、应用、制备及配套技术
１ 微 电 子 技 术 的 发 展
本 同时起 步 ， 比韩 国早 １ ０年 。现 在 我 国 已经 有 了 从 双 极 （ ５ ｍ） Ｃ 到 ＭＯＳ 从 ２～ ３ ｍ 到 ０ ８ 、 ． ～ １ ２ ｍ 及 ０ ３ ～０ ５ ｍ 工 艺 技 术 ， 形 成 了规模 ． ． ５ ． 并 生 产 ， ． ５ ｍ 工 艺 技 术 生 产 线 目前 正 在 北 京 和 ０ ２ 上 海 同 时建 设 ， 计 到 ２ ０ 预 ０ ２年 即可 投 产 。“ 五 ” 十 期间及 到 ２１ ０ ０年 北 京 建 设 的北 方 微 电 子 基 地将 建成 ２ ０条 ０ ３ 、 ． ５和 ０ １ 工 艺 技 术 生 产 ．５０２ ．８ｍ 线 ， 海在 浦东将 建成 大 约 ４ 上 ０条 ０ ３ 、 ． ５及 ．５ ０ ２
蓄 电量 需 要 尽可 能 的增 大 ， 因此 氧 化 膜变 得 更 薄 ，
动 态 存 贮 器 。进 入 ２ ０世 纪 ９ ０年代 后 期 ， 的 发 Ｉ Ｃ 展 更 迅 速 ， 争 更激 烈 。美 国 的 Ｉｔｌ 司 、 竞 ｎｅ 公 ＡＭＤ 公 司 和 日本 的 ＮＥ Ｃ公 司这 ３个 Ｉ Ｃ生产 厂 家 的 竞 争 尤 为激 烈 ， ９ ９年 Ｉｔｌ 司 、 １９ ｎｅ 公 ＡＭＤ 公 司 均 实
摘 要 ： 国 内 外 微 电 子 技 术 配 套 专 用 超 净 高 纯 试 剂 进 行 了评 述 。 对 关 键 词 ： 净 高 纯 试 剂 ； 状 ； 用 ； 备 ； 套 技 术 超 现 应 制 配
中圈分类号 ： Ｑ４ １ ２ Ｔ ２ ． ３
文献标识 码 ： Ａ
文章 编号 ：２ ８３ ８ （０ ２ ０ —１ ２０ ０ ５ —２ ３ ２ ０ ）３０ ４ —４
３年缩 小 ２倍 ， 片 面积 增 加 约 １ ５倍 ， 片 中 芯 ． 芯
超大规模集成电路的重要支撑材料——超净高纯试剂
¨
１ ’ ０
Ｉ
腾蒸馏、 等温蒸 馏 、 减压 蒸 馏 、 升华 、 学 处理 、 化 气体 吸收 等 。超净 高纯 试 剂在 运输 过 程 中极 易受 污染
器 等必 须依赖 进 口，超净 高纯试 剂工 艺先进 技术 如 气 体 吸收 、 子交换 、 离 膜处 理技术 等 的应 用要 达到 国
工 业 中 的消耗 比例 大致 占 １—５ ０ １％，其 中有 机 类化 学品 的需 求量 在微 电子 化 学 品 中 占总体 积 的 ３ ％以 上 ， 场需求量 相 当可观 。 市 在超净高 纯试剂 的发展 方 面 ， 与光刻 胶相 似 ， 不
目前， 国际上普遍使用的提纯工艺有十余种 ， 它们适
而 同步或 超前 发展 ， 同时 它又 对微 电子 技 术 的发 展起 着制 约作用 。
Ｓ ＭＩ Ｅ 标准 金属杂质／ｐ ｐｂ 控制粒径／ｍ ｇ
颗粒／ ／Ｌ 个 ｍ
目前 ， 国际上 制备 Ｓ ＭＩＣ 到 Ｓ ＭＩＣ ２级 超 净 高 Ｅ —１ Ｅ —１ 纯试 剂 的技术 都 已经 趋 于成 熟 。随着集 成 电路 制作 要 求 的提高 ，对工艺 中所 需 的液 体化 学品纯度 的要 求 也不 断提高 。 从技 术趋 势上看 ， 满足 纳米级 集成 电 路 加工需 求是 超净 高纯试 剂今后 发展方 向之一 。 可 以看 出 ，超净 高纯试 剂制 备 的关 键在 于控制
１７ ，国际半导 体设 备与 材料 组织 （ Ｅ ） ９ ５年 Ｓ ＭＩ
制定 了 国际统 一 的超 净 高纯试剂 标准 ， 如表 １ 所示 。
的清洗 、 蚀刻 ， 另外超 净高纯 试剂还 用 于芯片掺 杂 和 沉 淀工艺 。超 净高纯试 剂 的纯度 和洁净 度对集 成 电 路 的成 品率 、 电性能 及可靠性 均有 十分 重要 的影 响。 超净 高纯试 剂 具有 品种 多 、 量大 、 术 要求 高 、 用 技 贮 存 有效期 短 和腐蚀性 强等特 点 ，它基 于微 电子 技术 的发展 而产生 ， 一代 Ｉ ｃ产品需要 一代 的超 净 高纯试 剂与之 配套 。它 随着微 电子技 术 的发 展
我国超净高纯试剂的应用与发展
ｔ ｃ ｎ ｌｇ ． ｅ ｈ ｏｏ ｙ
Ｋｅ ｒ ｙ ｗｏ ｄｓ： ｃｏ ｌｃｒ ｎ ｃ ； ｒ ｃ ｓ Ｍｉｒ ｅ ｅ ｔｏ ｉ ｓ Ｐ ｏ ｅ ｓＣｈｅ ｃ ｌ Ａｐ ｌｃ ｔｏ Ｄｅ ｅｏ ｍｅ ｔ ｍｉａｓ； ｐ ｉ ａｉｎ； ｖ ｌ ｐ ｎ
１ 引 言
进 人 二十 一 世 纪 以来 ， 电子 技 术 的发展 进 入 微
出现 ， 需配 套 的 电子 化 工材 料 的种 类基 本上 没 有 所 变 化 ， 旧包 括超 净 高 纯 试 剂 、 依 光刻 胶 、 电子特 种 气 体 及 电子 塑封 材 料 等 。这 些 材 料 质 量 的好坏 ， 接 直 影 响着不 同制作技 术所 形成 电子产 品的性能及 质量
超纯酸
超纯硫酸的生产与应用现状摘要：介绍了超纯硫酸的规格、制备方法、包装、贮运及其生产情况。
在研制与生产方面，我国与国外相比差距明显，我国只能生产中低规格的超纯硫酸，且规模较小。
随着半导体工业的发展，超纯硫酸有着良好的应用前景。
超纯硫酸又称高纯硫酸、电子级硫酸，主要用于硅晶片的清洗、光刻、腐蚀，印刷电路板的腐蚀和电镀清洗。
超纯硫酸用于硅晶片的清洗已有30多年的历史。
超纯硫酸是半导体工业常用的八大化学试剂之一，消耗量居第三位[1]。
超纯硫酸与集成电路的发展密切相关[2]。
随着电子工业的发展，超纯硫酸的研制和生产亦得到了快速发展，我国现已能够进行MOS 级、BV—Ⅲ级超纯硫酸的生产。
超纯硫酸属高附加值产品，其生产与应用现状及前景究竟如何引起硫酸同仁的关注。
鉴此，笔者进行了相关的调研，现介绍如下。
1. 超纯硫酸的规格[2～4]电子工业对超纯硫酸的纯度和洁净度要求非常高，必须严格控制超纯硫酸中金属离子杂质和颗粒的含量。
超纯硫酸的纯度和洁净度对集成电路（IC）的成品率、电性能及可靠性有着十分重要的影响。
目前，国际标准化组织将超纯试剂按应用范围分为4个等级：a.SEMI—C1，适用于大于1.2μm IC工艺技术的制作；b.SEMI—C7，适用于0.8～1.2μm IC 工艺技术的制作；c. SEMI—C8，适用于0.2～0.6lμm IC工艺技术的制作；d.SEMI—C12，适用于0.09～0.2μm IC工艺技术的制作。
我国超纯硫酸生产企业根据超纯硫酸的组分，也制定了超纯硫酸的规格，主要有低尘高纯级、MOS级和BV—Ⅲ级三种规格（指标要求见表1）[4]。
2. 超纯硫酸的制备[2,5～8]超纯硫酸一般采用工业硫酸精馏法或三氧化硫气体直接吸收法（三氧化硫纯化制备）来制备。
精馏法可分为常压精馏和减压精馏，常压精馏的温度一般高达330℃，装置材质要求较高，一般采用价格昂贵的石英玻璃;减压精馏的温度一般为175～190℃，压力 1.33～2.67kPa，装置可采用较廉价的硼硅玻璃和氟聚合物材料。
超净高纯硝酸纯化技术的研究
超净高纯硝酸纯化技术的研究陈林;朱龙;邵勇【摘要】High-purity nitric acid have more and more demand in the market,the paper describes the method of purification process of nitric acid and nitric acid of high purity purification.Today,the high-purity nitric acid has several main purification process:ordinarydistillation,distillation,vacuum distillation,sub-boiling distillation,membrane separation method has advantages and disadvantages,you need to be selected according to the actual situation.How the benefits were set in several ways purification,the purification process of ultra-high purity nitric acid to optimize the focus now researchers discussed.%高纯度硝酸在市场上有了越来越多的需求量，简述了硝酸的提纯工艺及高纯度硝酸提纯的方法。
高纯度硝酸的提纯工艺主要由：普通蒸馏、精馏、减压蒸馏、亚沸蒸馏、膜分离等。
这些方法均有优缺点，需要根据实际情况进行选择。
如何将几种提纯方式的优点进行集合，将超高纯度硝酸的提纯工艺达到最优化是如今研究人员讨论的重点。
【期刊名称】《化工设计通讯》【年(卷),期】2016(042)005【总页数】2页(P70-70,92)【关键词】超净高纯;硝酸;精馏;膜分离【作者】陈林;朱龙;邵勇【作者单位】江阴江化微电子材料股份有限公司，江苏江阴 214400;江阴江化微电子材料股份有限公司，江苏江阴 214400;江阴江化微电子材料股份有限公司，江苏江阴 214400【正文语种】中文【中图分类】TQ111.261.1 硝酸的特性强酸具有强氧化性，有极强的腐蚀性，硝酸属于几大常见强酸之一。
超净高纯电子化学试剂_异丙醇制备方法
超净高纯电子化学试剂_异丙醇制备方法异丙醇是一种重要的有机化合物，在化工领域有广泛的应用。
下面将介绍一种超净高纯异丙醇的制备方法。
超净高纯异丙醇制备方法如下：1.原料准备：异丙醛是制备异丙醇的重要原料，通常以工业级异丙醛为起始物质。
首先需要对工业级异丙醛进行超净化处理，以提高产品的纯度。
2.超净化处理：超净化处理是异丙醇制备中的重要步骤。
超净化处理的主要目的是除去异丙醛中的杂质和不纯物质，以获得高纯度的异丙醛。
超净化处理可以采用物理方法和化学方法相结合的方式进行。
物理方法包括蒸馏、吸附和结晶等，化学方法包括酸碱中和反应、热分解反应等。
3.异丙醛醇化反应：将超净化后的异丙醛进行醇化反应，得到异丙醇。
醇化反应通常采用催化剂促进反应的进行。
常见的催化剂有酸性催化剂和碱性催化剂。
酸性催化剂可以选择硫酸、磷酸等，碱性催化剂可以选择氢氧化钠、氢氧化钾等。
4.分离纯化：异丙醇醇化反应后，还会伴随一些副产物和杂质的生成，需要进行分离纯化。
分离纯化可以采用蒸馏、结晶、吸附等方法，通过不同组分的沸点、溶解度和吸附性质等差异来实现。
5.超净化处理：分离纯化后的异丙醇仍然可能含有一些不纯物质和杂质，因此需要进行再次超净化处理，以获得超净高纯度的异丙醇。
6.包装存储：经过超净高纯异丙醇制备过程后，将产物进行包装并储存。
包装要求严格，使用特定的容器存放，避免与空气、水分等有害物质接触，以保持产品的高纯度。
通过上述方法，可以获得超净高纯异丙醇。
在具体操作过程中，需要严格控制反应条件、催化剂的种类和用量，以及分离纯化过程中的温度、压力等参数，从而获得高纯度的异丙醇产品。
超净高纯电子化学试剂——异丙醇制备方法
超净高纯电子化学试剂——异丙醇制备方法异丙醇是一种重要的有机化工原料，广泛应用于化工、医药、农药、香料等领域。
常规的异丙醇制备方法是通过石化原料异丙醛的加氢加氢制取得，这一过程存在能源消耗高、环境污染严重等问题，并且与氢气的大规模使用相关，安全性也存在一定隐患。
由此，寻求一种新型的、环境友好的异丙醇制备方法具有重要意义。
超净高纯电子化学试剂法是一种新型的有机合成方法，它利用电化学反应在无机盐电解中产生新的有机化学试剂，并且通过高纯度无机盐原料的制备，实现电子化学试剂的快速、便捷、高效合成，并能够达到超净高纯的产品。
在异丙醇制备中，超净高纯电子化学试剂法的应用具有潜力和可行性。
首先，超净高纯电子化学试剂法的异丙醇制备工艺步骤如下：1.原料准备：将高纯度丙酮作为原料制备。
由于超净高纯电子化学试剂法对原料的要求极高，因此需要采用优质无机盐进行制备。
2.电解池设计：设计一个适合异丙醇制备的电解池，要求电解池具有连续工作能力、高效率和高纯度产品的产出。
3.电解条件优化：优化电解条件，包括电解温度、电解电压、电流密度等。
通过调整这些参数，可以达到优化异丙醇生产的效果。
4.异丙醇分离纯化：对电解产物中的异丙醇进行分离纯化，提高产品的纯度和收率。
5.催化剂研究：研究新型催化剂，以提高异丙醇制备的选择性和效率。
超净高纯电子化学试剂法的优势在于其对原料的高纯度要求和反应过程中的环境友好性。
通过优质无机盐制备的高纯度丙酮作为原料，可以减少不必要的杂质对反应产物的干扰。
而电子化学试剂法的反应过程中不需要使用任何额外的溶剂，大大减少了工艺的复杂性和对环境的污染。
此外，超净高纯电子化学试剂法也具有较高的反应效率和选择性。
通过优化电解条件和研究新型催化剂，可以进一步提高异丙醇的产率和产品纯度，同时减少能量和原料的消耗。
超净高纯电子化学试剂法的应用在异丙醇制备中具有一定的挑战性和发展潜力。
目前，该方法在实际工业应用中尚处于研究阶段，还需要进行更多的实验和优化。
2022年全球及中国生物科研试剂产业发展现状
2022年全球及中国生物科研试剂产业发展现状一、生物科研试剂概述1、生物科研试剂分类根据试剂性质不同，科研试剂大体可分为化学类和生物类试剂，其中化学类试剂为单质或化合物，包括合成试剂、催化剂和有机金属试剂等；生物试剂则主要是基因、蛋白和抗体等大分子，可分为蛋白类、核酸类以及细胞类三个种类，常见的蛋白类产品包括重组蛋白和抗体等，核酸类产品包括定制化的合成核酸和克隆载体等，细胞类产品则涵盖转染试剂及培养基等。
2、科研试剂的特点科研试剂为实验必不可少一环。
实验试剂诞生于实验室，又被称为研发用试剂，主要是实现化学反应、分析化验、研究试验、教学实验、化学配方使用的纯净化学品。
并且品种门类繁多，工艺技术复杂，其制造的关键技术主要包括合成制造、分离技术、纯化技术以及与科研试剂生产相配套的分析检验技术、分装技术、环境处理与监测技术、包装储存技术等。
二、生物科研试剂发展背景1、生物科研试剂经济发展背景在生命科学研究总投入中，约10%-15%用于生物科研试剂。
所以生命科学研究投入影响着生物科研试剂的发展。
2016年全球生命科学研究投入为1247亿美元，换算成人民币约为8686亿元，中国生命科学研究投入为496亿元，至2020年全球生命科学研究投入为1576亿美元，换算成人民币约为10978亿元，中国生命科学研究投入为978亿元。
2、中国生物科研试剂相关政策近年来，针对生物试剂行业，国家颁布了多项生物试剂行业发展政策，注重研发具有自主知识产权的通用试剂和高端高纯专用试剂，增强相关产业的核心竞争力，从而推动我国生物试剂行业的发展。
三、科研试剂产业链1、生物科研试剂产业链上游供应链（国内约1300亿元人民币）：生物、化学原料、生产设备、包装材料及耗材供应商；生物试剂生产商：利用上述原材料开发种类丰富的生物试剂；下游客户群体：包括科研院校、高通量测序服务企业、体外诊断试剂生产企业、制药企业及CXO企业等。
2、上游情况生物科研试剂主要原材料为生物和化学原料，直接制成生物科研试剂，对生物科研试剂起着至关重要，根据资料显示，全球生物制品和化学药物市场规模呈现总体上升趋势，2020年全球生物和化学原料市场受到新冠疫情的影响，市场规模有所下降，2021年回暖，其中生物制品市场规模达到333.6十亿美元，化学药物市场规模达到1056.8十亿美元，预计2022年生物制品和化学药物市场规模达到379十亿美元和1096.9十亿美元。
超净高纯化学试剂
超净高纯化学试剂超净高纯化学试剂是一种应用于科学实验中的高纯度化学物质，它在实验室研究和工业生产中扮演着重要的角色。
在实验室中，科学家们经常需要使用高纯化学试剂来进行各种研究和发现。
那么，什么是超净高纯化学试剂呢？为什么要使用它们？在本文中，我们将深入探讨这些问题，并且了解一些超净高纯化学试剂的应用。
超净高纯化学试剂是一种经过特殊处理的化学试剂，以确保其中的杂质含量极低。
这些化学试剂通常经过多次纯化步骤，包括溶液过滤、蒸馏、结晶等，以确保其纯度达到所需的标准。
由于其高纯度，超净高纯化学试剂通常要在高级实验室条件下制备和储存，以防止受到外部杂质的污染。
使用超净高纯化学试剂的主要原因是为了消除实验结果的误差。
实验室中的很多实验都需要对试剂的性质和反应进行准确的分析。
如果试剂中存在较高的杂质含量，这些杂质可能会干扰实验结果，并导致误差的发生。
通过使用超净高纯化学试剂，科学家们可以最大限度地消除这些误差，从而获得更加准确的实验结果。
超净高纯化学试剂在各个领域都有广泛的应用。
在生物学和医学领域，科学家们经常需要使用纯净的生物试剂来进行细胞培养、酶反应、基因测序等实验。
超净高纯化学试剂可以确保这些实验的准确性和可靠性。
在化学合成和材料科学领域，超净高纯化学试剂常用于制备高纯度晶体、金属和陶瓷。
在环境科学研究中，科学家们需要使用高纯的试剂来分析水和土壤中的污染物。
超净高纯化学试剂可以确保实验结果的准确性，并为环境监测和保护提供基础数据。
除了其准确性和可靠性，超净高纯化学试剂还具有卓越的安全性。
由于其经过严格纯化，其中的有害物质和毒性物质含量很低，从而降低了实验操作的风险。
科学家们在操作超净高纯化学试剂时可以更加安全地进行实验。
然而，超净高纯化学试剂的制备和使用并非没有挑战。
首先，制备这些试剂需要严格的实验条件和高级实验设备。
其次，即使经过了多次纯化，这些试剂仍然可能受到外部杂质的污染。
因此，储存和使用超净高纯化学试剂的环境也是非常重要的。
华东理工大学科技成果——超净高纯微电子化学品制备技术
华东理工大学科技成果——超净高纯微电子化学品
制备技术
项目简介
微电子化学品是电子技术微细加工制作过程中不可缺少的关键性基础化工材料之一，主要用于半导体制造过程，用以冲洗晶片及制作研磨剂、蚀刻剂和光刻胶去除剂等。
本项目采用吸附-离子交换-膜分离集成纯化制备了超净高纯电子化学品制备技术，成功制备了超大规模集成电路用超净高纯过氧化氢等微电子化学品，产品性能达到超净高纯级过氧化氢（SEMI-C12，金属离子杂质低于0.1ppb）。
所属领域化工、材料
技术要点
创新点：采用吸附-离子交换-膜分离集成纯化制备技术。
技术成熟度：已建成年产1000吨的工业化装置。
应用前景全国建有的15家33条超大规模集成电路生产线，对微电子化学品的需求量将达到7.2万t/a以上。
知识产权及项目获奖情况
“耐高浓度双氧水膜及其双氧水纯化装置的开发”上海市科学技术委员会2003年鉴定，达国际先进水平；“ULSI用超纯氨水和超纯硝酸试剂纯化的研究”上海市科学技术委员会2006年鉴定，达国际先进水平；“863”计划项目1项“ULSI超纯试剂制备工艺研究子项目年产500吨超净高纯过氧化氢连续制备试验的技术开发”（编号：2002AA3Z1310）通过专家验收；发明专利一项。
应用案例
与上海华谊微电子化学品有限公司进行国家“863”计划0.09-0.2µm技术用SEMI-C12级超净高纯化学品的研究工作，建成年产1000吨的工业化装置。
合作方式技术开发、技术转让。
化学试剂行业市场分析
化学试剂行业市场分析概述：化学试剂是在实验室和生产过程中用于进行化学反应、分析和检测的常用材料。
化学试剂广泛应用于医药、生物科技、食品安全、环保、农业等领域，在科研和产业中起到至关重要的作用。
本文将对化学试剂行业进行市场分析，重点从需求、供应、竞争以及未来发展趋势进行讨论。
需求分析：化学试剂的需求源于科研机构、大学研究实验室、制药厂商以及其他各类生产企业。
随着生物科技、新药研发和食品安全等领域的快速发展，对化学试剂的需求也不断增加。
另外，环境保护和农业领域的发展也推动了对化学试剂的需求。
因此，化学试剂行业的需求前景良好。
供应分析：化学试剂行业的供应方主要包括农业化学试剂、生物化学试剂和实验室化学试剂等。
这些供应方大部分都是专业化的企业，通过研发和生产化学试剂来满足市场需求。
其中，国内化学试剂生产企业众多，产品种类繁多，市场竞争激烈。
国际大型化学试剂公司也在中国市场开展业务，通过进口和代理销售来满足市场需求。
供应方通过广泛建立与客户的合作关系，以提供高质量的化学试剂，来维持市场份额。
竞争分析：化学试剂行业中，竞争形势日益激烈。
竞争主要体现在产品质量、创新能力以及价格方面。
由于市场需求的不断增加，企业之间争夺市场份额相当激烈。
在生物科技和新药研发领域，大型跨国公司在技术研发和市场推广方面具有一定优势。
然而，国内大量的中小型企业也在不断发展创新，努力提高产品质量和服务。
另外，由于行业准入门槛较低，一些小型企业也进入市场，加剧了市场竞争。
未来发展趋势：1.创新能力的提升：企业应不断加大研发投入，提升创新能力，推出更具竞争力的产品和解决方案。
2.产品质量的保证：高质量的化学试剂对于科研和产业具有重要意义，企业应加强质量管控，确保产品质量可靠。
3.生产工艺的改进：优化生产工艺，提高化学试剂的产量和质量，降低成本，提高市场竞争力。
4.服务的升级：提供更加全面、专业的技术支持和售后服务，满足客户个性化需求，增强客户黏性。
超净高纯化学试剂在TFT中的应用
关键词：CF 彩色濾光片（Color Filter简称CF）:提供TFT LCD紅,綠,藍 (光的三原色)的來源.
彩色濾光片（CF)制程中用以下产品： 玻璃清洗用：硫酸、盐酸、硝酸、双氧水、氨水、异丙醇、 无水乙醇、丙酮、等。 光刻显影：N-甲基吡咯烷酮（剥离液）、238显影液、氢氧化 钾。
关键词：ITO 在化学上，ITO 是Indium Tin Oxides的缩写。 作为纳米铟锡金属氧化物，具有很好的导电性和透明性，可以 切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线。因此，铟锡 氧化物通常喷涂在玻璃、塑料及电子显示屏上，用作透明导电 薄膜，同时减少对人体有害的电子辐射及紫外、红外。 ITO 是一种N型氧化物半导体-氧化铟锡,ITO薄膜即铟锡氧化物 半导体透明导电膜，通常有两个性能指标：电阻率和透光率。 在氧化物导电膜中，以掺Sn的In2O3(ITO)膜的透过率最高和 导电性能最好，而且容易在酸液中蚀刻出细微的图形，其中透 光率达90%以上。ITO中其透光率和阻值分别由In2O3与SnO2之比 例来控制，通常SnO2:In2O3=1:9。
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挖金人的成长之路（三） TFT-LCD（薄膜晶体管液晶平板显示器） 超净高纯化学试剂的应用
讲解人---华小龙
Hale Waihona Puke 平板显示器理论知识 TFT-LCD光电组件制程流程 彩色濾光片制程中所使用的化学试剂（CF） ITO制程中所使用的化学试剂（ITO） 光电组件的化学试剂金属杂质和尘埃颗粒要求
平板显示器（FPD)理论知识
业内专家分析认为，CRT、LCD和数字微镜(DMD)3种投影显示器可 以与PDP竞争。液晶平板显示器，特别TFT-LCD，是目前唯一在亮度、 对比度、功耗、寿命、体积和重量等综合性能上全面赶上和超过CRT的 显示器件，它的性能优良、大规模生产特性好，自动化程度高，原材料 成本低廉，发展空间广阔，将迅速成为新世纪的主流产品，是21世纪全 球经济增长的一个亮点。
高纯试剂在医疗器械领域的应用与安全性评估
高纯试剂在医疗器械领域的应用与安全性评估高纯试剂是指纯度较高的化学试剂，通常用于科研和工业生产中。
近年来，随着医疗技术的发展，高纯试剂也在医疗器械领域得到广泛应用。
本文将就高纯试剂在医疗器械领域的应用和安全性评估进行探讨。
首先，高纯试剂在医疗器械领域的应用非常广泛。
医疗器械是指用于诊断、治疗和预防疾病的设备、器具、材料等。
高纯试剂可以用于医学研究、药物开发和临床诊断等方面。
例如，高纯试剂可用于制备医药中间体和活性药物，从而提高药物的制备纯度和活性，增加疗效和安全性。
此外，高纯试剂还可以用于生物医学材料的表面修饰和功能化，提高其生物相容性和靶向性，从而提高医疗器械的治疗效果和安全性。
其次，高纯试剂在医疗器械领域的应用必须经过严格的安全性评估。
医疗器械的安全性评估是指对使用高纯试剂所制备的医疗器械进行安全性评价的过程。
安全性评估应包括试剂的生物相容性、毒理学评价以及临床应用的安全性评价等方面。
生物相容性是指高纯试剂所制备的医疗器械与生物体的相互作用能力。
毒理学评价主要包括试剂对人体内脏器官、免疫和神经系统的影响等方面。
临床应用的安全性评价是指高纯试剂所制备的医疗器械在正常使用及特殊情况下的可靠性、稳定性和安全性。
在进行安全性评估时，需遵循一定的评估标准和方法。
目前，国内外关于医疗器械安全性评估的标准有很多，如ISO 10993系列标准、《临床医疗器械不良事件管理规范》等。
这些标准和规范为高纯试剂在医疗器械领域应用的安全性评估提供了参考。
在具体操作时，可以通过实验室研究、动物实验和临床试验等方法进行研究。
此外，高纯试剂在医疗器械领域的应用还需要注意以下几个方面。
首先，应加强与相关机构的合作，共同研究和推进高纯试剂在医疗器械领域的应用。
其次，应加强监管和管控，严禁使用低纯度试剂或未经严格测试的试剂进行医疗器械制备。
再次，应加强教育和培训，提高医疗器械从业人员和患者的安全意识。
最后，应加强技术创新和研发，开发更安全、高效的高纯试剂和医疗器械，推动医疗器械领域的发展和进步。
超净高纯试剂的现状、应用、制备及配套技术
超净高纯试剂的现状、应用、制备及配套技术1 微电子技术的发展微电子技术主要是指用于半导体器件和集成电路(IC)微细加工制作的一系列蚀刻和处理技术,其中集成电路,特别是大规模及超大规模集成电路的微细加工技术又是微电子技术的核心,是电子信息产业最关键、最为重要的基础。
微电子技术发展的主要途径之一是通过不断缩小器件的特征尺寸,增加芯片的面积,以提高集成度和速度。
自20世纪70年代后期至今,集成电路芯片的发展基本上遵循GordonEM预言的摩尔定律,即每隔1.5年集成度增加1倍,芯片的特征尺寸每3年缩小2倍,芯片面积增加约1.5倍,芯片中晶体管数增加约4倍,也就是说大体上每3年就有一代新的IC产品问世。
在国际上,1958年美国首先研制成功集成电路开始,尤其是20世纪70年代以来,集成电路微细加工技术进入快速发展的时期,这期间相继推出了4、16、256K;1、4、16、256M;1、1.3、1.4G 的动态存贮器。
进入20世纪90年代后期,IC的发展更迅速,竞争更激烈。
美国的Intel公司、AMD公司和日本的NEC公司这3个IC生产厂家的竞争尤为激烈,1999年Intel公司、AMD 公司均实现了0.25Lm技术的生产化,紧接着Intel公司在1999年底又实现了0.18Lm技术的生产化,AMD公司也在紧追不舍。
到2001年上半年,Intel公司实现了0.13Lm技术的生产化,而到2001年的2季度末,日本的NEC公司宣布突破了0.1Lm工艺技术的难关,率先成功研发出0.095Lm的半导体工艺技术,现已开始接受全球各地厂商的订货,并将于2001年的11月开始批量生产。
因此,专家们认为世界半导体工艺技术的发展将会加速,半导体制造厂商将会以更先进的技术加快升级换代以适应新的市场要求。
我国集成电路的研制开发始于1965年,与日本同时起步,比韩国早10年。
现在我国已经有了从双极(5Lm)到CMOS、从2~3Lm到0.8~1.2Lm及0.35~0.5Lm工艺技术,并形成了规模生产,0.25Lm工艺技术生产线目前正在北京和上海同时建设,预计到2002年即可投产。
8电子工业用辅助化学品-超净高纯试剂和特种气体
4、超净高纯试剂的发展和标准
随着微电子技术的快速发展，对超净高纯试剂 的要求也越来越高。不同时期有不同线宽的IC制作 工艺技术，对金属杂质和颗粒物含量有越来越高的 标准。更新一代IC要求有更新一代的超净高纯试剂 与之配套。SEMI和国内超净高纯试剂的主要规格指 标如下表。
超净高纯试剂的纯度标准与集成电路发展的关系
3
（4）高效去焊剂B 一种无污染的高效去焊剂，是一种恒沸混合物。配方组成
简单、成本低、去污效果好。
原材料 异丙醇
辛烷
质量份 44 10
（5）光固化涂层用的脱漆剂 该配方为一种光固化涂层用的脱漆剂，可除去印刷板上的感
光性树脂涂层。
原材料
质量份
水
40
硝酸铈
4
十二烷基苯磺酸钠
0.2
（6）电路板清洗剂 E 本配方是经典的电路板清洗配方，广泛应用于各种线路板的加
化学处理：包括添加氧化还原剂，改变物质的价态；加入沉淀剂去 除杂质离子；添加络合剂改变杂质离子沸点；添加酸碱中和有机溶 剂中过量的酸碱等。
比如，在氢氟酸的纯化中添加氧化剂氧化低价砷杂质，添加 络合剂甘露醇可以络合杂质硼，使它们形成高沸点物质留在残液中 除去。
2、典型高纯试剂生产提纯过程
（1）H2O2：通常采用减压蒸馏工艺制备。路线为：对工业过氧化 氢进行化学处理，再进行减压精馏，然后进行超净过滤，最后进行 成品封装。
颗粒
NH3.H2O，H2O2，H2O，NaOH
金属
HCl、H2O2、H2O，H2SO4、H2O，HF、H2O
有机物 自然氧化物
NH3.H2O 、H2O2、H2O，H2SO4、H2O2 NH4F、HF、H2O，HF、H2O
湿法蚀刻
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超净高纯试剂的现状、应用、制备及配套技术1 微电子技术的发展微电子技术主要是指用于半导体器件和集成电路(IC)微细加工制作的一系列蚀刻和处理技术,其中集成电路,特别是大规模及超大规模集成电路的微细加工技术又是微电子技术的核心,是电子信息产业最关键、最为重要的基础。
微电子技术发展的主要途径之一是通过不断缩小器件的特征尺寸,增加芯片的面积,以提高集成度和速度。
自20世纪70年代后期至今,集成电路芯片的发展基本上遵循GordonEM预言的摩尔定律,即每隔1.5年集成度增加1倍,芯片的特征尺寸每3年缩小2倍,芯片面积增加约1.5倍,芯片中晶体管数增加约4倍,也就是说大体上每3年就有一代新的IC产品问世。
在国际上,1958年美国首先研制成功集成电路开始,尤其是20世纪70年代以来,集成电路微细加工技术进入快速发展的时期,这期间相继推出了4、16、256K;1、4、16、256M;1、1.3、1.4G 的动态存贮器。
进入20世纪90年代后期,IC的发展更迅速,竞争更激烈。
美国的Intel公司、AMD公司和日本的NEC公司这3个IC生产厂家的竞争尤为激烈,1999年Intel公司、AMD 公司均实现了0.25Lm技术的生产化,紧接着Intel公司在1999年底又实现了0.18Lm技术的生产化,AMD公司也在紧追不舍。
到2001年上半年,Intel公司实现了0.13Lm技术的生产化,而到2001年的2季度末,日本的NEC公司宣布突破了0.1Lm工艺技术的难关,率先成功研发出0.095Lm的半导体工艺技术,现已开始接受全球各地厂商的订货,并将于2001年的11月开始批量生产。
因此,专家们认为世界半导体工艺技术的发展将会加速,半导体制造厂商将会以更先进的技术加快升级换代以适应新的市场要求。
我国集成电路的研制开发始于1965年,与日本同时起步,比韩国早10年。
现在我国已经有了从双极(5Lm)到CMOS、从2~3Lm到0.8~1.2Lm及0.35~0.5Lm工艺技术,并形成了规模生产,0.25Lm工艺技术生产线目前正在北京和上海同时建设,预计到2002年即可投产。
“十五”期间及到2010年北京建设的北方微电子基地将建成20条0.35、0.25和0.18Lm工艺技术生产线,上海在浦东将建成大约40条0.35、0.25及0.18Lm工艺技术生产线,深圳也将建设多条超超大规模集成电路生产线。
随着芯片制造技术向亚微米发展,出现了产品“多代同堂”的局面,以满足不同用途的需要。
可说在生产技术方面我国几乎已经与国际先进水平同步,但在研发方面,我国与国际先进水平还有较大的差距。
2 超净高纯试剂的现状超净高纯试剂(国际上称为ProcessChemi-cals)是超大规模集成电路制作过程中的关键性基础化工材料之一,主要用于芯片的清洗和腐蚀,它的纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能及可靠性都有着十分重要的影响。
超净高纯试剂具有品种多、用量大、技术要求高、贮存有效期短和强腐蚀性等特点。
随着IC存储容量的逐渐增大,存储器电池的蓄电量需要尽可能的增大,因此氧化膜变得更薄,而超净高纯试剂中的碱金属杂质(Na、Ca等)会溶进氧化膜中,从而导致耐绝缘电压下降;若重金属杂质(Cu、Fe、Cr、Ag等)附着在硅晶片的表面上,会使P-N结耐电压降低。
杂质分子或离子的附着又是造成腐蚀或漏电等化学故障的主要原因。
因此,随着微电子技术的飞速发展,对超净高纯试剂的要求也越来越高,不同级别超净高纯剂中的金属杂质和颗粒的含量要求各不相同,而配套于不同线宽的IC工艺技术。
超净高纯试与IC发展的关系见表1。
国外20世纪60年代便开始生产电子工业用试剂,并为微细加工技术的发展而不断开发新的产品。
到目前为止,在国际上以德国E.Merck公司的产量及所占市场份额为最大,其次为美国Ashland、Olin公司及日本的关东株式会社,另外还有美国的MallinckradtBaker公司、英国的B.D.H.公司、前全苏化学试剂和高纯物质研究所、三菱瓦斯化学、伊期曼化学公司、AlliedSig-nal公司、Chemtech公司、PVS化学品公司、日本化学工业公司及德山公司等。
近年来,新加坡、台湾地区也相继建立了5000~10000t级的超净高纯试剂生产基地。
由于世界超净高纯试剂市场的不断扩大,从事超净高纯试剂研究与生产的厂家及机构也在增多,生产规模不断扩大,但各生产厂家所生产的超净高纯试剂的标准各不相同。
为了能够规范世界超净高纯试剂的标准,国际半导体设备与材料组织(SEMI)于1975年成立了SEMI化学试剂标准委员会,专门制定超净高纯试剂的国际标准。
目前国际SEMI标准化组织将超净高纯试剂按应用范围分为4个等级:(1)SEMI-C1标准(适用于>1.2Lm IC工艺技术的制作);(2)SEMI-C7标准(适用0.8~1.2Lm IC工艺技术的制作);(3)SEMI-C8标准(适用于0.2~0.6Lm IC工艺技术的制作);(4)SEMI-C12标准(适用于0.09~0.2Lm IC工艺技术的制作)。
我国超净高纯试剂的研制起步于20世纪70年代中期,1980年由北京化学试剂研究所(以下简称试剂所)在国内率先研制成功适合中小规模集成电路5Lm技术用的22种MOS级试剂。
随着集成电路集成度的不断提高,对超净高纯试剂中的可溶性杂质和固体颗粒的控制越来越严,同时对生产环境、包装方式及包装材质等提出了更高的要求。
为了满足我国集成电路发展的需求,国家自“六五”开始至“八五”,将超净高纯试剂的研究开发列入了重点科技攻关计划,并由试剂所承担攻关任务。
到目前为止,试剂所已相继推出了BV-Ⅰ级、BV-Ⅱ级和BV-Ⅲ级超净高纯试剂,其中BV-Ⅲ级超净高纯试剂达到国际SEMI-C7标准的水平,适用于0.8~1.2Lm工艺技术(1~4M)的加工制作,并在“九五”末期形成了500t年的中试规模。
目前试剂所正在进行用于0.2~0.6Lm工艺技术的BV-Ⅳ级超净高纯试剂的研究开发。
3 超净高纯试剂的应用3.1 湿法清洗超净高纯试剂的主要用途,一是用于基片在涂胶前的湿法清洗,二是用于在光刻过程中的蚀刻及最终的去胶,三是用于硅片本身制作过程中的清洗。
硅圆片在进行工艺加工过程中,常常会被不同的杂质所沾污,这些杂质的沾污将导致IC的产率下降大约50%。
为了获得高质量、高产率的集成电路芯片,必须将这些沾污物去除干净。
有关沾污类型、来源和常用清洗试剂见表2。
3.2 湿法蚀刻湿法蚀刻是指借助于化学反应从硅圆片的表面去除固体物质的过程。
它可发生在全部硅圆片表面或局部未被掩膜保护的表面上,其结果是导致固体表面全部或局部的溶解。
湿法蚀刻依蚀刻对象的不同可分为绝缘膜、半导体膜、导体膜及有机材料等多种蚀刻。
3.2.1 绝缘膜的蚀刻绝缘膜蚀刻包括图形化二氧化硅(SiO2)膜的蚀刻和氮化硅(Si3N4)膜蚀刻。
其中图形化二氧化硅膜采用缓冲氢氟酸蚀刻液(BHF)进行蚀刻,其目的是为了保护光刻掩膜和掩膜下的绝缘层。
氮化硅膜在室温下用氢氟酸或磷酸进行蚀刻。
3.2.2 半导体膜蚀刻主要是指单晶硅和多晶硅的蚀刻,通常采用混合酸蚀刻液进行蚀刻。
3.2.3 导体膜蚀刻在Si材料集成电路中,金属导线常采用Al、Al-Si合金膜,湿法蚀刻图形化后Al和Al-Si金属膜常采用磷酸蚀刻液进行蚀刻。
3.2.4 有机材料蚀刻主要是指光刻胶在经过显影和图形转移后的去胶。
常用的正胶显影液有四甲基氢氧化铵,去胶剂可采用热的过氧化氢-硫酸氧化去胶或采用厂家提供的专用去胶剂或剥离液来去除胶膜。
4 超净高纯试剂的制备及配套处理技术4.1 工艺制备技术超净高纯试剂的生产,其关键是针对不同产品的不同特性而应采取何种提纯技术。
目前国内外制备超净高纯试剂的常用提纯技术主要有精馏、蒸馏、亚沸蒸馏、等温蒸馏、减压蒸馏、低温蒸馏、升华、气体吸收、化学处理、树脂交换、膜处理等技术,这些提纯技术各有特性,各有所长。
不同的提纯技术适应于不同产品的提纯工艺,有的提纯技术如亚沸蒸馏技术只能用于制备量少的产品,而有的提纯技术如气体吸收技术可以用于大规模的生产。
4.2 颗粒分析测试技术随着IC制作技术的不断发展,对超净高纯试剂中的颗粒要求越来越严,所需控制的粒径越来越小,从5Lm到1、0.5、0.2Lm及到目前的0.1Lm,因此对颗粒的分析测试技术提出了更高的要求。
颗粒的测试技术从早期的显微镜法、库尔特法、光阻挡法发展到目前的激光光散射法。
进入20世纪90年代,为了能够尽快地反映IC工艺过程中颗粒的真实变化,把原来的离线分析(取样在实验室分析)逐步过渡到在线分析。
这就要求在技术上解决样品中夹带气泡的干扰问题,因为任何气泡在检测器内均可被当做颗粒而记录下来。
气泡主要来源于样品中所溶解的气体、振荡或搅拌产生的气泡、温度高使样品挥发产生的气泡及管线不严而引起的气泡等。
目前在线测定采用间断在线取样,在加压状态进样,进行颗粒测定,较好地解决了气泡的干扰问题。
颗粒在线检测传感器采用了固态激光二极管技术,因而可设计得很小、很轻,又坚固耐用,并可密封在线布置,仪器对超净水和超净高纯试剂的检出限可达0.1Lm。
传感器的电学系统采用低压直流电源,因而能在潮湿和易燃环境中进行颗粒测定。
激光光散射型颗粒计数器的作用就是测量单个粒子通过狭窄的光束时所散发出来的散射光的强度,其工作原理如图1所示。
4.3 金属杂质分析测试技术随着IC技术的不断发展,对金属及非金属杂质含量的要求越来越高,从原来控制的ppm级, 发展到超大规模集成电路控制的ppb级及到极大规模集成电路的ppt级。
而在分析测试手段上,原有的手段不断被淘汰,新的手段不断被推出。
目前常用的痕量元素的分析测试方法主要有发射光谱法、原子吸收分光光度法、火焰发射光谱法、石墨炉原子吸收光谱、等离子发射光谱法(ICP)、电感耦合等离子体-质谱(ICP-MS)法等。
随着IC技术向亚微米及深亚微米方向的发展,ICP-MS法将成为金属杂质分析测试的主要手段。
4.4 非金属杂质分析测试技术非金属杂质的分析测试主要是指阴离子的测试,最为常用的方法就是离子色谱法。
离子色谱法是根据离子交换的原理,由于被测阴离子水合离子半径和所带电荷不同,在阴离子交换树脂上造成分配系数不同,使阴离子在分离柱上得到分离,然后经过抑制柱去除洗脱液的导电性,采用电导检测器测定Cl-、NO3-、SO42-、PO43-等离子。
4.5 高纯水技术超净高纯试剂的制备离不开超纯水,它既直接用于超净高纯试剂的生产,又用于包装容器的超净清洗,其质量的好坏直接决定着超净高纯试剂产品的质量。
同时,超纯水又是最纯、最廉价的清洗剂,就当今的水处理技术而言,已可将水提纯至接近理论纯水,电阻率可达18.25M·8·cm(25℃)。