电子厂配套用工业超纯水设备工程案例
某电子厂纯水的制备
某电子厂纯水的制备本项目为电子公司新厂设计高纯水系统制水量100m3/h,其中一期55m3/h,二期45m3/h.应业主提出的建设方案,并结合多年来的工程经验对方案进行了分析与对比,确定了此方案。
1、高纯水制备概述1.1、水源(除标明单位外,均以Mg /L计)1.1.1、805米井深钾: 1.3;钠:291.1;钙5.0;锰:0.01;镁:0.6;二氧化硅:19.9;磷酸盐(以磷计):0.15;重碳酸盐:553.9;碳酸盐:12.0;氯化物:145.3;氟化物:5.1;硝酸盐:1.17;耗氧量:2.41;总硬度:15.0;总碱度:457.9;溶解性总固体:1010.7;温度(℃):35-37;pH:8.581.1.2 704米井深钾:1.0;钠:221.5;钙:3.0;镁:1.8;二氧化硅:18.6;磷酸盐:0.33;重碳酸盐:472.9;碳酸盐:18.0;氯化物:46.1;氟化物:3.11;硝酸盐:0.78;耗氧量(以氧计):1.36;总硬度(以碳酸钙计):15.0;总碱度(以碳酸钙计):417.9;溶解性总固体:794.9;温度(℃):33-35;pH:8.651.2设计出水水质:电阻率(MΩ. cm)峰值17.5 MΩ.cm 90%时间,25℃,最小17 MΩ.cmPH值 6.5-7.5大于1μm颗粒物(个/mL)≤1大于0.5μm颗粒物(个/mL)≤100细菌个数/(个/ mL)≤1总有机碳(μg/L)≤50SiO2(μg/L)≤2氯(μg/L)≤0.5铜(μg/L)≤0.2钾(μg/L)≤0.5钠(μg/L)≤0.5锌(μg/L)≤0.2铝(μg/L)≤0.5铁(μg/L)≤0.5钙(μg/L)≤0.5锰(μg/L)≤0.5镁(μg/L)≤0.5*注:产水指标主要以颗粒物及电导率为主。
2、高纯水制备主要设备与工艺2.1、超滤立升超滤膜组件是一种中空纤维内压式超滤膜组件,超滤膜中空丝内径为1.0mm或1.2mm,超滤膜平均截留分子量为80,000道尔顿。
电子器件用超纯水设备
电子器件用超纯水设备资源共享来源于莱特莱德西宁超纯水设备工程公司电子器件用超纯水设备对离子含量要求非常高,采用先进的反渗透水处理设备技术,结合尖端的EDI,混合床技术,使产水水质最高可达18.25兆欧,水质符合ASTM标准。
目前我国电子工业部把电子级水质分为五个行业标准。
电子器件同超纯水处理设备工作原理电去离子(EDI)系统主要是在直流电场的作用下,通过隔板的水中电介质离子发生定向移动,利用交换膜对离子的选择透过作用来对水质进行提纯的一种科学的水处理技术。
电渗析器的一对电极之间,通常由阴膜,阳膜和隔板(甲、乙)多组交替排列,构成浓室和淡室(即阳离子可透过阳膜,阴离子可透过阴膜)。
淡室水中阳离子向负极迁移透过阳膜,被浓室中的阴膜截留,水中阴离子向正极方向迁移阴膜,被浓室中的阳膜截留,这样通过淡室的水中离子数逐渐减少,成为淡水,而浓室的水中,由于浓室的阴阳离子不断涌进,电介质离子浓度不断升高,而成为浓水,从而达到淡化、提纯、浓缩或精制的目的。
电子工业制备超纯水的工艺1、采用离子交换树脂制备电子工业超纯水的传统水处理方式,其基本工艺流程为:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→阳床→阴床→混床(复床)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点。
2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合制备电子工业超纯水的方式,其基本工艺流程为:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→混床(复床)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点。
3、采用反渗透设备与电去离子(EDI)设备进行搭配制备电子工业超纯水的方式,这是一种制取超纯水的最新工艺,也是一种环保,经济,发展潜力巨大的超纯水制备工艺,其基本工艺流程为:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→电去离子(EDI)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点。
电子工业超纯水设备应用技术在工艺设计上,自来水标准的水为源水,再设有介质过滤器,活性炭过滤器,精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混合床等。
电子厂配套工业超纯水制备工程案例
电子厂配套工业超纯水制备工程案例一、项目背景某电子厂配套纯水制备工程。
二、设计水量本系统要求产品水量为50m3/h,因此设计产水量确定为50 m3/h。
系统采用两级反渗透装置的系统回收率为75%,故系统的设计进水水量为66.7 m3/h。
三、设计进水水质本纯水系统的进水为当地深井水,其水质经当地环保部门进行了全水质分析,主要检测分析结果见水质报告。
四、目标水质根据产品水的用途与要求,确定产品水的目标水质为:电阻率≥10MΩ·cm五、处理工艺选择电子用纯水不同于一般的纯水制备,它对水质具有更为严格的规定,属于高纯水范畴。
一般来说,高纯水制备主要包括预脱盐与精处理脱盐两大部分,如何进行工艺的选择和组合成为高纯水制备的关键。
典型工艺流程(水质符合美国ASTM标准,电子部超纯水水质标准(18MΩ*cm,15MΩ*cm,2MΩ*cm和0.5MΩ*cm 四级)预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透(正电荷反渗膜)-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5µm精密过滤器-用水对象预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5µm 精密过滤器-用水对象预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-0.2或0.5µm精密过滤器-用水对象目前,预脱盐处理常常采用的主要是离子交换工艺和反渗透工艺。
离子交换已被广泛使用许多年,我国八、九十年代初的纯水制备工艺基本上都采用离子交换法,该工艺技术成熟,工艺可靠,而且可根据目标水质的要求进行多种离子交换方式的组合。
随着科技和自动化技术的发展,离子交换再生频繁、操作复杂、维护麻烦、运行费用高等缺陷就越来越突出,九十年代逐渐被新的反渗透技术代替,特别是预脱盐目前基本上都采用反渗透技术。
电子厂纯水系统施工方案
电子厂纯水系统施工方案1. 引言在电子厂的制造过程中,对水质有着极高的要求。
为了满足电子产品制造的需要, 纯水系统在电子厂中扮演着重要的角色。
本文档将介绍电子厂纯水系统的施工方案,包括系统的设计、设备的选型和施工流程。
2. 系统设计2.1 系统概述电子厂纯水系统是一个复杂的水处理系统,其目的是将自来水或其他水源处理成满足电子产品生产所需的纯净水。
系统主要包括预处理、反渗透、混床离子交换和消毒等部分。
2.2 设备选型在选择纯水系统设备时需要考虑以下因素:•产水量:根据电子厂的生产规模确定纯水系统的产水量。
•水质要求:针对电子产品制造的要求,确定所需的水质标准。
•设备性能:选择具有高效率和可靠性的设备。
•成本:根据预算和经济性选择适合的设备。
根据以上因素,我们建议选择反渗透(RO)设备、混床离子交换设备和消毒设备等。
2.3 系统流程电子厂纯水系统的典型流程如下:1.预处理:自来水通过机械过滤、活性炭过滤和软化处理等步骤进行预处理,去除水中的悬浮物、有机物和硬水成分。
2.反渗透:预处理后的水进入反渗透设备,通过高压膜的逆渗透作用,去除水中的细菌、病毒、重金属和溶解盐等有害物质。
3.混床离子交换:透过反渗透设备处理后的水,进入混床离子交换设备,通过离子交换层去除水中的离子和其他杂质。
4.消毒:处理后的水通过消毒设备进行消毒,确保水质达到消毒标准。
3. 施工流程电子厂纯水系统的施工流程如下:1.工程准备:–根据系统设计,确定施工所需的设备和材料;–准备施工图纸和相关文件。
2.安装设备:–按照设备安装图纸,进行设备的安装和连接;–确保设备连接正确、牢固。
3.管道连接:–根据系统设计图纸,在场地上进行管道的敷设;–确保管道连接紧密、无泄漏。
4.电气连接:–进行电气设备的布线和接线;–确保接线正确、安全。
5.系统调试:–接通电源,按照操作手册进行系统调试;–检查设备运行状态,确保各设备正常工作。
6.水质检测:–使用专业的水质检测设备对产出水质进行检测;–根据检测结果进行必要的调整和优化。
某工厂超纯水处理技术能耗分析案例
1出 水 水 质 要 求
A、B两个工 厂原 水 均 采用 市 政 自来 水 ,出 水要 求 达 到EW 一1级 水 质 标准 ,出 水 水 质 如 表 1。
项 目 电阻率 颗粒 物 细 菌 Toc DO Si0 z Na/K Cu Fe/Zn CI 压 力 温度
单位 M0 ·c No./ml(0.2p m) Col-/1OOml ¨ g/1 U g/1 U g/1 U g/] U g/1 U g/] U g/1 Kgf/cm ℃
该工 艺 的 电耗 和水 耗较 低 ,但 是 经 常 对 阴 床 再生 , 需 耍消 耗 大 量 的 化 学 药 品 ,H 操 作 过 程 中 有 一定 的 危 险
系 数 。 3.3 精 处 理 系 统
此 段 接 收 前处 理 单 元 的 产 水 ,以 去 离 子水 稻 为 界 ,后 续 加 入 混 床 、膜 脱 气 等 装 置 。这 将 进 一 步 降 低 水 中 的 杂 质 含 。 [i、』降 低 水 中 的 有 机 物 以 及 含 氧 疑 。主 耍 装 置 有 混 J未 (M B)+膜 脱 气 。
3.4 抛 光 系 统 要 何 抛 光 系 统 利 超 摅 两 大 装 置 。来 F1于 制 箭 单 元 的
产水 将 被 收 集 存 超 纯 水 水 箱 中 ,通 过 抛 光 树 脂 的 离子 交 换 ,最 终 超 滤 膜 过 滤 处 理 生 产 符 合 要 求 的 超 纯 水 ,不 符 合 要 求 的 趟 纯 水 将 同 流 到 处 理 系 统 中 再 处 理 。
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电子工业超纯水设备设计方案
电子工业超纯水设备设计方案预览说明:预览图片所展示的格式为文档的源格式展示,下载源文件没有水印,内容可编辑和复制电子工业超纯水设备设计方案电子超纯水设备是保证电子产品质量安全的基础是保证电子产品美观的前提因此电子超纯水设计方案是否可行是电子产品质量安全的决定因素。
一、电子超纯水设备方案1、第一级预处理系统:采用石英砂多介质过滤器,主要目的是去除源水中含有的泥沙、铁锈、胶体物质、悬浮物等颗粒在20 m以上对人体有害的物质,系统可以自动(手动)进行反冲洗,正冲洗等一系列操作。
2、第二级预处理系统:采用果壳活性碳过滤器,目的是为了去除水中的色素、异味、生化有机物、降低水的余氯值及农药污染和其他对人体有害的污染物。
系统可以自动(手动)进行反冲洗,正冲洗等一系列操作。
3、第三级预处理系统:采用阳树脂对水进行软化,主要是降低水的硬度,去除水中的钙、镁离子(形成水垢的主要成分),可有效延长反渗透膜的使用寿命,并可进行智能化树脂再生。
4、第四级预处理系统:采用5um孔径精密过滤器,使水得到进一步的净化,使水的浊度和色度达到优化。
保证RO系统进水条件要求,保证设备的产水质量,延长设备的使用寿命。
5、反渗透(超滤)设备主机:采用反渗透(超滤)技术进行深度脱盐处理(进口美国反渗透膜)去除钙、镁、铅、汞等对人体有害的重金属物质及其他杂质,降低水的硬度,脱盐率达99%以上,生产出符合国家标准的纯净水。
6、微过滤装置:安装该装置主要是为防止微粒树脂颗粒从布水中滤出,造成二次水质污染,这主要是运用在对水质特别高的场合7、杀菌系统:采用臭氧发生器(或紫外线杀菌器),减少细菌二次污染,灭菌率可达99%以上,同时臭氧溶于水形成富氧水,保证水的纯鲜。
采用水气混合器使臭氧充分与水混合,达到最佳浓度比。
这样合理可行的设计方案才会让我们身边的电子产品更安全才能让我们有满意度。
电子超纯水系统工程案例
电子超纯水系统工程案例电子超纯水系统工程案例在当今的科技发展日新月异背景下,电子领域的超纯水系统成了利用密闭式管网输送、净化IC芯片等半导体基板和电子元器件必不可少的配备。
以下是一篇电子超纯水系统工程案例,让我们一起了解一下这个领域中的超纯水系统的运用以及它对军工、电子等高科技行业的作用。
一、电子超纯水系统的工程介绍超纯水系统(UPW)是一种为电子、半导体行业的制造工艺提供清洁的用水系统,主要是为了满足生产中特殊工艺的要求,使得生产出的芯片性能更加完美。
虽然自来水厂生产的自来水达到国家二级标准,但是其中还是有大量的杂质,比如砂子、铁锈、氯、高锰酸盐等,这些组分即便是经过砂滤设备、活性炭吸附器、软化器、反渗透等多种普通净化设备的处理,其中仍然会有难以滤除的有机无机物、细菌及微生物、高分子或硅胶颗粒等。
超纯水系统的作用就是在获得“蒸馏水”后,进行多种层次、多种进程的pretreatment systems处理,最终通过电离交换树脂这种纯净度高于99.99%的方法,把水变成纯净得“溶剂级”的纯净水或无菌水。
二、电子超纯水系统的工程设计与实践1.工程设计电子超纯水系统作为电子领域中的一个核心配备,怎样进行科学严密的工程设计,是至关重要的。
从工艺上来说,中心设备及重要模块应保持最大的稳定性,比如RO、EDI、UPC重要经验中心的稳定性是整个工程设计的关键。
系统应有多重保护,避免一旦系统中任何一个模块有问题,都可能对净化后的清洁水产生污染,影响制造某半导体的过程。
需要设置严格规定的警戒线实现实时监测,检查水的水质和流量,早期换石、套塑装置的使用可以保证水质的准确呈现。
从工艺上来说,应建立流水线建设,用最先进、最高效的技术设备,配以操作规程。
这可以帮助保持设备的高流量、高纯度、高可靠性,从而保证生产的实施性、稳定性和准确性。
2.实践在电子领域超纯水系统的实践中,应始终保持清洁、安全、准确、高效的原则。
首先,设备要始终保持干净清洁,对设备的经常性维护清洁和维修是至关重要的;其次设备要始终保持安全使用,工作人员必须做好防护措施,避免造成人员伤害或设备损坏;最后设备要始终保持准确性和高效性,程序应严密规范,操作人员要受过高水平的培训和认证。
超纯水设备工程方案设计
超纯水设备工程方案设计一、需求背景超纯水是指去离子水,即水中除了H2O分子之外,其他成分都被去除的水。
超纯水广泛应用于半导体制造、光伏制造、食品饮料、医药生产、实验室研究等领域。
随着工业技术的不断发展,超纯水的需求不断增加,因此对超纯水设备工程方案的设计和建设提出了更高的要求。
本文将就超纯水设备工程方案设计进行详细讨论。
二、项目概述本项目是为某半导体制造厂设计的超纯水设备工程方案。
该厂主要生产半导体产品,需要大量高质量的超纯水来满足生产需求。
因此,超纯水设备工程方案的设计将直接影响到厂家的生产效率和产品质量。
本项目的主要目标是设计一套稳定、高效、节能的超纯水设备系统,满足客户的生产需求。
三、工艺流程1. 原水处理:原水主要来自自来水厂供水管网。
需要将原水进行初级处理,包括过滤、软化、除氯等工序。
初级处理后的水进入反渗透系统。
2. 反渗透除盐:经过反渗透系统处理的水通过半透膜,去除水中的盐分、重金属、微生物等杂质,得到初级超纯水。
3. 离子交换:初级超纯水通过离子交换树脂柱,去除硅酸盐、离子等杂质,得到高纯水。
4. 纳滤/EDI:高纯水通过纳滤膜、电渗析装置,进一步去除微量离子、有机物,得到超纯水。
5. 消毒保鲜:超纯水通过紫外线消毒、微孔过滤等工艺,确保水质无菌无菇。
四、设备选型1. 过滤设备:采用颗粒过滤器、活性炭过滤器等进行初级处理;2. 反渗透设备:选用高效反渗透膜,高压泵等设备,确保去除水中盐分的效果;3. 离子交换树脂:选用具有高效交换能力的离子交换树脂,并配置自动化控制系统;4. 纳滤/EDI设备:采用超滤膜、电渗析装置,确保超级纯水的质量;5. 消毒设备:选用紫外线消毒灯、微孔过滤器等,确保水质符合纯净水要求。
五、管道布局超纯水设备需要考虑管道的布局,应确保管道设计合理、通畅。
在设计管路时,需要考虑设备之间的距离,以及管道的材质、防腐蚀措施等。
六、自动控制系统为了确保超纯水设备的稳定运行,需要配置自动控制系统。
10吨EDI超纯水设备设计方案
10吨EDI超纯水设备设计方案一、引言EDI(Electrodeionization)技术是一种高效、连续的水处理技术,主要应用于电子行业、制药行业、实验室和化学工业等领域,用于生产超纯水。
本设计方案旨在设计一套10吨EDI超纯水设备,满足客户的需求。
二、工艺流程1.进水:将原水引入设备,经过预处理后进入EDI装置。
2.预处理:对原水进行粗过滤、脱气和阻垢等预处理,以减少原水中的悬浮物、溶解气体和硬度物质的含量。
3.EDI装置:将预处理后的水进入EDI装置进行电极反应和离子交换,以去除残余的离子和有机物。
4.后处理:将EDI装置出水进行深度过滤和紫外杀菌,以确保出水的超纯度和无菌性。
5.出水:将经过处理的超纯水送达客户。
三、设备设计1.预处理系统预处理系统主要包括粗过滤系统、脱气系统和阻垢系统。
粗过滤系统采用多级过滤器,能有效去除原水中的悬浮物和大颗粒杂质。
脱气系统采用真空脱气技术,可去除原水中的氧气和二氧化碳等气体。
阻垢系统采用草酸溶液进行阻垢和清洗,以降低水中硬度物质的含量。
2.EDI装置EDI装置主要由正、负极板、离子交换膜和电源系统组成。
设备设计根据10吨/h的出水量选择适当大小的EDI装置,并保证其长时间稳定运行。
正、负极板之间的电场作用产生电解效应,同时离子交换膜具有选择性地去除离子。
电源系统提供适当的电压和电流,确保EDI装置的正常运行。
3.后处理系统后处理系统主要由深度过滤器和紫外杀菌器组成。
深度过滤器采用多层过滤介质,可去除微小的悬浮物和细菌等微生物。
紫外杀菌器通过紫外线照射,能有效地杀灭水中的细菌和病毒,确保出水的无菌性。
4.控制系统设备设计中应包含一套完善的控制系统,能对整个过程进行监测和控制。
控制系统应具有数据采集、报警、自动清洗和运行状态显示等功能,以确保设备的正常运行和安全性。
四、技术参数1.出水流量:10吨/h2.脱离率:≥99.9%3.设备占地面积:根据具体情况确定4.设备耗水量:根据具体情况确定5.设备能耗:根据具体情况确定五、安全与维护1.设备应具备过载保护、漏电保护和短路保护等安全措施,确保操作人员的安全。
工业超纯水设备工程解决方案
工业超纯水设备工程解决方案超纯水设备产品说明:导体芯片厂超纯水 TOC<10ppb 颗粒度(PARTICLE)达0.5um≤200PCS/L 二氧化硅SiO2<5ppb 电阻率≥18MΩ.cm(25℃) 采用高纯度PVDF管路封装测试行业及相关行业超纯水 TOC<50ppb 颗粒度(PARTICLE)达到0.2um<3-5PCS/ML 二氧化硅SiO2<10ppb 电阻率≥16MΩ.cm(25℃) .涂装电镀用纯水设备1.电镀行业用电镀纯水概述电镀涂装行业中,为了增加镀件表面光洁度、亮度、附着力,电镀液的配制需要用电导率在15uS/cm以下的纯水; 另外在镀件漂洗时也需用电导率在10uS/cm以下电镀纯水来清洗,电镀行业用水处理系统包括电镀前电镀液配制用纯水系统、电镀漂洗废水中稀有金属回收漂洗水循环利用电镀废水处理零排放系统。
通常系统由预处理,超滤,反渗透(RO),离子交换,EDI设备等组成,以满足电镀行业对各种水质的要求。
2.制备电镀纯水的工艺流程电镀纯水的工艺大致分成以下几种:1、采用离子交换方式,其流程如下:自来水→电动阀→多介质过滤器→活性炭过滤器→软化水器→中间水箱→低压泵→精密过滤器→阳树脂床→阴树脂床→阴阳树脂混合床→微孔过滤器→用水点2、采用两级反渗透方式,其流程如下:自来水→电动阀→多介质过滤器→活性炭过滤器→软化水器→中间水箱→低压泵→精密过滤器→一级反渗透→PH调节→混合器→二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷) →纯水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点3、采用高效反渗透加EDI方式,其流程如下:自来水→电动阀→多介质过滤器→活性炭过滤器→软化水器→中间水箱→低压泵→PH值调节系统→高效混合器→精密过滤器→高效反渗透→中间水箱→EDI水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点3.电镀纯水设备特点电镀纯水设备传统的制备工艺通常是采用离子交换树脂进行制取,但采用离子交换树脂通常需要经常性的进行树脂再生,即耗费物力又浪费人工. 我们公司经过多年实践,同时结合最新的膜分离技术,采用低压反渗透加离子交换系统(或EDI)相结合用来制备电镀超纯水,该工艺与传统工艺相比具有运行成本低,运行可靠。
电子工业用超纯水设备技术及应用
电子工业用超纯水设备技术及应用发布时间:2023-03-06T02:27:29.394Z 来源:《中国电业与能源》2022年20期作者:金万明[导读] 超纯水是把水中所有的电解质都除金万明青海黄河水电开发有限责任公司西宁太阳能电力分公司邮编:810000摘要: 超纯水是把水中所有的电解质都除去,使悬浮物,微生物,微粒,有机物,溶解气体等降低到最低限度。
在25℃条件下,超纯水的理论电阻率为18.25 M. cm.在电子行业中,生产的超纯水主要应用在晶片制造、一般机台用水、设备零件清洗、化学品稀释等方面。
其中,生产用水主要是酸洗、有机溶剂清洗、黄光显影清洗、机械研磨清洗等。
利用脱离子、反渗透、离子交换等技术,制备了一种新型的超纯水。
文章着重对超纯水在电子行业中的应用进行了分析。
关键词:电子工业;超纯水;技术;应用在半导体、集成电路、液晶显示、微电子工业、高精度线路板、光电器件等行业中,半成品和成品都要用大量的超纯水清洗。
水中的杂质会对产品的品质产生一定的影响。
重金属会使氧化薄膜绝缘变差,从而缩短使用寿命。
无机物质会产生杂质,使薄膜后的不均匀性和加速侵蚀。
溶解氧可引起纯水细菌,从而恶化树脂,从而影响薄膜的厚度。
有机物质会使晶圆表面产生氧化和晶体缺陷,使器件的性能下降,从而造成蚀刻的不均和净化效果差。
1超纯水水质要求超纯水产水质量的检测依据见表1?表1超纯水产水质量的检测依据其他技术指标的水质检测结果应符合GB/T11446.1—2013《电子级水》给出的指标范围,水质评价等级为EW-I? 2超纯水设备技术和应用分析 2.1多介质过滤器 MMF用于除去原水中的悬浮物和胶体。
水里的悬浮颗粒或凝胶颗粒,由于它们的表面带着负电荷,互相排斥,加入具有相反电荷的FeCl3/PAC,将电荷中和,使水中的凝胶和悬浮物质聚集在一起,形成更大的絮状体,由过滤器进行过滤。
长时间的使用,会在无烟煤层中积累大量的絮凝物,增大了水流的阻力,从而降低了过滤的效率,这时采用简易的反冲洗措施,可以在较短的时间内恢复过滤能力。
电子行业中EDI超纯水设备的应用.
电子行业中EDI超纯水设备的应用目前,各行各业对水质的要求千差万别,电子行业发展迅速,特别是在我国,EDI超纯水设备电子行业的需求不断增加,而且对水质的要求也越来越严格,所以需要原水超纯水设备深度处理采用EDI。
介绍了电子级超纯水设备。
电子产业超纯水装备制备超纯水工艺有以下3种:1、采用离子交换树脂制备电子工业超纯水的传统水处理方式,其基本工艺流程为:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→阳床→阴床→混床(复床→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合制备电子工业超纯水的方式,其基本工艺流程为:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→混床(复床→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点3、采用反渗透设备与电去离子(EDI设备进行搭配制备电子工业超纯水的的方式,这是一种制取超纯水的最新工艺,也是一种环保,经济,发展潜力巨大的超纯水制备工艺,其基本工艺流程为:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→电去离子(EDI→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点电子产业超纯水装备特性电子工业超纯水系统设备无需过多的人工操作,省时省力,能节省大量人力,在工艺选材上也比其他工艺具有优势,这些特性使得电子工业超纯水设备跟其他同类产品相比具有更高的实用价值。
为了保证EDI超纯水设备的连续制水,提高系统运行的稳定性,EDI装置通常采用模块化设计,即利用若干个一定规格的EDI膜块组合成一套EDI装置.如果其中的一个模块出现故障,在不影响装置运行的情况下,可以方便地对故障模块进行维修或更换处理.另外,模块化的设计方式还可以使装置保持一定的扩展性。
按结构形式分类EDI膜块作为EDI装置的核心部件,其设计参数是保证EDI装置整体运行性能的关键。
EDI膜块按其结构形式可分为板框式及螺旋卷式等两种。
板框式EDI模块板框式EDI膜块简称板式模块,它的内部部件为板结框工结构,主要由阳、阴电极板板、极框、离子交换膜、淡水隔板、浓水隔板及端板等部件按一定的顺序组装而成,设备的外形一般为长方形或圆形。
碳化硅电子行业纯水生产工程实例
碳化硅电子行业纯水生产工程实例江苏中电创新环境科技有限公司 李 朋*马兴峰 周 伟 汤付军 曹向前摘 要随着我国半导体行业的快速发展,碳化硅电子行业对纯水的使用要求越来越高。
采用UF超滤系统+两级RO反渗透系统+ EDI电除盐系统+离子交换系统+终端超滤系统的工艺制备生产所需纯水。
其中,UF系统除去水中主要的大分子有机和无机悬浮物;RO系统进行脱盐处理;EDI装置进一步深度处理溶解离子;抛光树脂及终端过滤系统深度处理小分子有机物和细菌,最终得到出水电阻率≥17 MΩ.cm的纯水。
该套工艺为碳化硅行业纯水生产技术提供参考。
关键词UF超滤;RO反渗透;EDI电除盐;离子交换;电子行业纯水An Engineering Example of Pure Water Production in Silicon Carbide Electronics Industry Li Peng, Ma Xingfeng, Zhou Wei, Tang Fujun and Cao XiangqianAbstract With the rapid development of China's semiconductor industry, the silicon carbide electronics industry has increasingly higher requirements for the use of pure water. This engineering example used an UF ultrafiltration system + two-stage RO reverse osmosis system + EDI electric desalination system + ion exchange system + terminal ultrafiltration system for the pure water preparation process. Among them, the UF system was mainly used to remove large organic molecules in water, then inorganic suspended solids; and RO system for desalination treatment; EDI device for further treatment of dissolved ions; finally, polishing resin and terminal filtration system for in-depth treatment of small molecule organics and bacteria, and finally obtained pure water with resistivity greater than or equal to 17 MΩ.cm.This set of processes provides a reference for pure water production technology in the silicon carbide industry.Keywords UF ultrafiltration; RO reverse osmosis; EDI electric desalination; Ion exchange; Pure water for electronics industry0 引言随着我国半导体行业的快速发展,相应的碳化硅电子行业生产中所需纯水的用量越来越大。
浅析某微电子产业园制造厂房超纯水处理系统案例
浅析某微电子产业园制造厂房超纯水处理系统案例
张泽超
【期刊名称】《上海节能》
【年(卷),期】2023()2
【摘要】随着科技的进步,半导体芯片制造业得以快速发展,但由于其制造工艺的精密性和复杂性,对工艺中所用水质要求极高。
以青岛微电子产业园制造厂房为例,介绍了一种超纯水制造工艺,并对现状提出了维护措施和成本分析。
经实际运行测试,该系统制备的超纯水稳定优质,节水节能效率高,保障了工艺生产所需,为同类型工业厂房纯水系统提供了参考。
【总页数】5页(P217-221)
【作者】张泽超
【作者单位】山东建筑大学热能工程学院
【正文语种】中文
【中图分类】F42
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微电子生产工艺中离不开超纯水设备的应用
微电子生产工艺中离不开超纯水设备的应用
随着信息时代的到来,在信息和知识爆炸的时代,微电子技术下的产品影响着我们生活各个方面,如常用的通讯工具、手机、上下班用的IC卡、洗衣穿衣用的自动洗衣机、做饭用的电饭煲等,烧开水的电水壶。
这些与我们生活息息相关的电子产品,通过微电子技术实现其功能,给我们的生活带来方便,享受高品质,它对提高我们的生活质量有积极的影响。
随着科学技术的逐渐发展,作为一种微小型集成电路,微电子技术在智能终端发展浪潮的推动下,以其体积小、重量轻、可靠性高、工作速度快等特点,成为现代信息社会发展的重要基石。
众所周知,集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高,微电子行业在生产时80%以上的工序都需要经过化学处理,而每一道化学处理都离不开水,因此微电子行业对于生产用水的水质要求也是相当严格,因为一旦水质不合格,或者是水中含有杂质,就会降低器件的性能,降低成品率,因此在生产时需要用到超纯水。
超纯水制取工艺是采用反渗透后面再经过EDI及抛光混床工艺来制取超纯水,出水水质符合标准,满足了芯片行业的用水需求。
综上所述,超纯水设备水质符合微电子用水相关标准,为新能源行业、电子行业保驾护航。
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电子厂配套用工业超纯水设备工程案例一、项目背景成都某电子厂配套工业超纯水设备工程案例。
二、设计水量本系统要求产品水量为50m3/h,因此设计产水量确定为50 m3/h。
系统采用两级反渗透装置的系统回收率为75%,故超纯水设备工程的水系统的设计进水水量为66.7 m3/h。
三、设计进水水质本纯水系统的进水为当地深井水,其水质经当地环保部门进行了全水质分析,主要检测分析结果见水质报告。
四、目标水质根据产品水的用途与要求,确定产品水的目标水质为:电阻率≥10MΩ•cm五、处理工艺选择电子用纯水不同于一般的纯水制备,它对水质具有更为严格的规定,属于高纯水范畴。
一般来说,高纯水制备主要包括预脱盐与精处理脱盐两大部分,如何进行工艺的选择和组合成为高纯水制备的关键。
典型工艺流程(水质符合美国ASTM标准,电子部超纯水水质标准(18MΩ*cm,15MΩ*cm,2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四级)1、预处理→反渗透→水箱→阳床→阴床→混合床→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→精制混床→精密过滤器→用水对象2、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5µm精密过滤器→用水对象3、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5µm精密过滤器→用水对象4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→精制混床→0.2或0.5µm精密过滤器→用水对象目前,预脱盐处理常常采用的主要是离子交换工艺和反渗透工艺。
离子交换已被广泛使用许多年,我国八、九十年代初的纯水制备工艺基本上都采用离子交换法,该工艺技术成熟,工艺可靠,而且可根据目标水质的要求进行多种离子交换方式的组合。
随着科技和自动化技术的发展,离子交换再生频繁、操作复杂、维护麻烦、运行费用高等缺陷就越来越突出,九十年代逐渐被新的反渗透技术代替,特别是预脱盐目前基本上都采用反渗透技术。
和离子交换相比,反渗透具有运行稳定、占地少、操作维护简单、可实现高度自控,处理水量越大,其优势就越明显。
预脱盐后续的精脱盐处理工艺则根据目标水质的要求而有所不同,对超高纯水(电阻率大于16 MΩ•cm),目前一般采用更先进的EDI技术;对电阻率低于16MΩ•cm的纯水,目前仍采用经济可靠的混合床技术。
因为对纯水的精脱盐,混床又显示出其独有的优势:脱盐稳定,效率高,再生周期长,操作维护少。
鉴于以上的分析,结合项目的现实情况,在综合技术因素、经济因素的前提下,确定本纯水工程采用以反渗透为主体工艺,混床作为精处理工艺。
具体工艺流程简图如下:本系统原水采用深井水,水温在15℃左右,对于反渗透系统不是最佳温度。
反渗透系统的最理想的温度为20℃左右,如果要保证20℃的温度,必须对原水采用加温措施,加温的方式可以选用电加热或蒸汽换热,对于小水量系统比较可行,但是对于较大水量系统,能耗偏高。
其付出与升温带来的益处相比,反而不具有经济性。
温度的升高虽然有利于提高反渗透系统的回收率,但是在本系统设计中对于反渗透系统的回收率具有一定的余度,因此无需加温仍完全可以满足系统要求。
同时,升温过程的控制和操作也比较复杂。
因此,本系统不考虑采用原水升温措施,只在反渗透系统中考虑水温影响,进行修正。
原水经泵提升依次经过组合过滤器、投加阻垢剂和保安过滤器等预处理工段,用以去除原中水的悬浮固体、胶体、有机物,并降低原水的浊度、色度等,保证RO进水SDI<3,以提供合格的反渗透进水。
保安过滤器出水经高压泵提升进入反渗透装置,反渗透出水进入中间水箱,反渗透部分设有在线PH调节装置。
为保证反渗透装置长期稳定运行,设置反渗透清洗装置,视需要对反渗透膜进行清洗。
中间水箱出水经纯水泵提升至混床除盐系统,利用离子交换原理进一步脱盐,处理后产出的合格水流经微孔过滤器至纯水箱处,再经供水泵提升,经过紫外线消毒装置杀灭细菌后进入用水点。
值得注意的是,本系统一次性按照产品水量为50m3/h进行设计,考虑到实际生产中可能会在初期生产的1-2年内不需要如此大的水量,需水量可能在60%左右,因此在系统配置中控制泵的选型匹配,在不同产水量的要求下,启动不同台数的水泵,达到系统对产水量的需求。
六、主要工艺说明1. 预处理反渗透系统长期稳定运行的关键在于预处理,预处理的好坏不仅决定着反渗透装置的清洗次数,而且决定着反渗透膜元件的使用寿命。
预处理部分主要解决以下问题: 1.防止胶体物质及悬浮物固体颗粒、泥沙等产生污堵;2.防止大分子有机物质、微生物产生污堵;3.防止反渗透膜元件表面结垢(包括因浓缩而出现铁铝化物等的结晶)4.保持反渗透系统长期稳定运行和装置产水量稳定。
本系统预处理部分主要包括:原水箱、提升泵、组合过滤器(砂滤器/炭滤器)、保安过滤器、阻垢剂投加装置、调pH装置。
1.1原水箱及提升泵原水箱的作用是储存一定量的原水,以提供稳定的供水。
原水箱的有效容积V=30m3,尺寸:Φ3100×4200mm,材质:PE,箱内配置浮球阀1个,到达预定液位时自动停止进水。
为尽量避免细菌污染,水箱采用封闭形式,并在通空气处设有呼吸器,过滤净化空气。
原水箱的出水经泵提升至后续处理单元—组合过滤器。
设计提升泵3台(2用1备),单台能力为Q=40m3/h,H=24.5m,N=5.5kw。
1.2组合过滤器组合过滤作为预处理的第一步,主要用以去除胶体物质、悬浮物固体颗粒、泥沙、部分大分子有机物质及微生物。
本系统组合过滤器采用石英砂与颗粒活性炭共同混合作为滤料,通过过滤截留与吸附作用不仅可以达到上述目的,对于铁、锰等也具有较好的去除效果。
活性炭的使用,可以有效预防地下水受到污染后水质变化的影响,同时可以改善处理水的水质条件,对反渗透和离子交换系统的稳定运行非常有利。
其主要特点有:过滤精度高:水中悬浮物的去除率接近100%;截污容量大:一般为5-10kg/m3,是传统过滤器的3-5倍;可调性强:过滤阻力、截污容量等参数可根据需要随意自由调节; 可以去除部分硅胶和铁胶体,抑制硅、铁等的结垢; 操作管理简单方便。
设计选用组合过滤器2台,规格为Ф2400×3000,互为备用,罐体采用碳钢材质,内衬胶,滤料为精选石英砂与颗粒活性炭。
反冲洗利用原水直接进行,采用水反冲洗,配备水泵1台,单台能力Q=139m3/h,H=24m,N=15kw。
1.3阻垢剂投加装置为防止RO膜元件在选择透过淡化水的同时,其浓水侧溶解固形物浓缩出现因浓度极大与溶解度平衡常数而结晶析出,在RO膜表面结垢,影响RO膜的脱盐率、水通量、运行压力等性能参数。
如果出现细小晶粒而不能及时处理的话,溶解固形物会以其为结晶核心,使结晶粒增大,从而其结晶棱角会刺破膜表面,损坏反渗透装置,因而在反渗透装置前设置PTP-2000阻垢剂加药装置。
PTP-2000阻垢剂是KINGLEE公司开发的主要产品之一,能够有效地控制无机盐类结垢并特别针对硅酸盐的结构,完全将硅的溶解度降在安全现以下(64%),可以有效控制LSI指数控制在2.5以内,使膜的寿命延长而降低成本。
从量的角度来看,可以控制240ppm的浓水硅含量,从功能上看,具有以下几个功能:有效控制无机盐类结垢并特别针对硅酸盐在浓缩液中高大240ppm还不致结垢; 碳酸钙、硫酸钙、硫酸钡、硫酸、锶等可高达+2.5LSI还不会结垢; 所有主要反渗透膜元件都能使用; 籍由分散阻塞微利来维持更干净的膜表面; 液态产品,可稀释或直接使用; 适用于硅含量高以及具有铁和铝的水型。
通过阻垢剂投加计算,阻垢剂的投加量为2.9ppm,考虑到设计的安全余量,设计投加量确定为3.5ppm,具体投加量由现场调试决定。
为了增加加药的混合效果,在加药点设置静态混合器一台,以使阻垢剂和原水充分混合,满足阻垢机阻垢机理以及充分发挥所加药剂的性能。
设计采用阻垢剂投加装置一套,药箱的容积为0.15m3,计量泵采用进口计量泵,最大加药量为0.9L/h。
1.4调pH装置投加盐酸调整pH值在6.8左右,有利于膜的使用,防止结垢。
根据计算,36%盐酸最大投加量为25ppm,配套在线pH计,控制pH的调。
设计采用调pH装置一套,药箱的容积为0.15m3,计量泵采用进口计量泵,最大加药量为1.2L/h。
1.5保安过滤器为进一步改善反渗透进水的物化指标,确保反渗透工艺稳定运行,在组合过滤器之后,设计采用保安过滤作为最终的预处理手段,使RO进入浊度低于1的水平,SDI<3。
本工程设计采用保安过滤器1台,处理能力Q=60-80m3/h,规格为Ф600×2111mm,滤芯材质:聚丙烯,过滤精度:5μm,滤芯数量:51根。
在正常工作情况下,滤芯可以维持7-8个月以上,当进出口压力差达到1kg/cm2时进行更换,以便能在清洗滤芯时达到满意的恢复效果,减低运行成本,滤器的结构满足快速更换滤芯的要求。
2. 反渗透系统反渗透是系统预脱盐的核心部分,设计的成熟、合理与否不仅直接决定系统能否达到设计要求,而且关系到反渗透装置的使用寿命。
本系统设计反渗透产水量为50m3/h。
2.1高压泵反渗透膜元件对水中的离子具有选择透过性,因而在反渗透浓水侧和产水侧存在着渗透压差,这样就必须要有外界的压力来克服渗透压差才能够使反渗透装置正常工作并达到设计要求,外界的压力通过高压泵来提供。
根据设计计算,采用丹麦格兰富立式多级离心高压泵2台(2用0备),具有运行压力稳定,噪音小,使用寿命长等特点。
高压泵单台能力Q=40 m3/h,H=15bar,N=30kw。
2.2反渗透装膜膜组件选用美国陶氏公司的产品。
考虑到微生物污染的有效防治,RO的膜元件选用抗污染型低压复合膜。
该种复合膜与传统复合膜相比,具有以下优点:膜流量高,可以在较低的水压和较高的流速下,获得相等的脱盐率,也就是说,在保持高脱盐率的状态下时,其淡水流速几乎达到其他复合聚酰胺膜的两倍,在产水量相同的条件下,可以减少占地面积,降低膜组的投资; 机械强度好,运行寿命长,在设计工况下,使用寿命一般可以达到3-5年; 对水质的适应能力强,尤其是水温和pH。
进水pH值在2-11均可,在进水的常规水温度下不影响其处理效果。
整套反渗透系统共用48支8″膜,膜组件采用一级两段形式,每根压力容器中安装6根膜元件,按照5:3的排列,即第一段的5根反渗透膜管的浓水作为第二段3根反渗透膜管的进水。
这样的设置可以保证RO膜元件的设计通量和回收率小于膜元件制造的最大通量和回收率,降低单只膜元件的产水回收率,从而延长膜元件的使用寿命,降低膜元件的产水年衰减率。
选用的膜元件的型号为BW30-400,单根膜元件的最大回收率为15%,脱盐率超过98%,可以达到99.5%,连续运行的pH范围广,在2-11之间。