真空管式炉的应用范围

真空管式炉的应用范围

真空管式炉的应用范围？下面就由合肥日新高温技术有限公司为您简单解答。真空气氛管式炉专门设计用于高温、中温、低温CVD工艺。如ZnO纳米结构的可控生长、氮化硅渡膜、陶瓷基片导电率测试、陶瓷电容器（MLCC）气氛烧结等等。窑炉采用氧化铝纤维制品隔热、保温，优质硅钼棒加热，优质99刚玉管炉膛，气体采用浮子流量计流量计控制。进口单回路智能温度控制仪控制，有效的实现温度的控制。设备具有温度均匀、控制稳定、升温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点，是理想的科研设备。

真空管式炉均系周期作业式。供实验室、工矿企业、科研单位作元素分析测定和一般小型钢件的淬火、退火、回火和电子陶瓷等新材料的加热用。

真空管式炉的成套供应范围有温度控制器、热电偶、补偿导线等。温度控制有继电器控制、可控硅控制二种，由于是间歇式作业炉，一般都采用40段PlD 高级可编程控制，能严格控制产品的烧制过程。可选择进口单设定点或40段可编程控制器。安全功能包括可调过温保护及开门切断加热的安全锁系统。节能型的陶瓷纤维材料和双层外壳结构，具有升降温速度快，能耗低。可将外表温度降到常温并使得内腔温度分布均匀。高品质的加热元件，使用寿命长。

选配：带排气口和惰性气体通入口。40段可编程控制器型号可选择RS-485串口，实现计算机通讯。

合肥日新高温技术有限公司非常重视应用工艺的学习和研究，紧密关注与工艺的配合，不断在设备开发生产中引进新材料、新元件；应用新工艺、新技术，使产品技术性能的可靠性、稳定性都得到很大提高。我们在不断提高产品质量、性能、可靠性的同时，努力降低成本，减少用户投资！

合肥日新高温技术有限公司成立之初，就确定了依托技术开拓市场空间的经营策略，在秉承传统工艺的基础上，不断引进新技术，消化再吸收新工艺，持续发展，开拓创新。以专业品质科技创新的产品价值观，以日新盛德笃志笃行

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