CVD金刚石技术和应用(下)
CVD金刚石膜刀具制造技术及其应用
CVD金刚石膜刀具制造技术及其应用化学气相沉积(CVD)金刚石作为一种新型超硬刀具材料，为金刚石刀具的应用开辟了新的途径。
CVD金刚石刀具主要有两种类型：CVD金刚石薄膜涂层刀具和CVD金刚石厚膜焊接刀具。
目前来说，CVD金刚石厚膜刀具的应用比较广泛。
一、CVD金刚石薄膜涂层刀具CVD金刚石薄膜涂层刀具是指通过CVD方法在一定温度下使金刚石沉积于某些基体(通常为K类硬质合金)刀片上的刀具，其金刚石膜厚度约为10～30μm。
CVD金刚石薄膜涂层刀具因金刚石厚度较薄，难于刃磨，前、后刀面及刃口质量较差，只适用于粗加工、半精加工和复杂形状刀具。
粗加工的切削较大，当金刚石与基体间的附着力不足以抗拒切削力的破坏时，金刚石膜就会脱落。
这种刀具加工出的工件表面粗糙度一般大于Ra0.2μm。
尽管目前国内CVD薄膜涂层刀具的应用尚处于萌芽状态，但随着CVD金刚石生长技术的提高，CVD金刚石基团颗粒的大小已经由40～50μm缩小到十几甚至几个纳米，从而出现了纳米金刚石。
如美国阿贡国家实验室(Argonne Nat. Lab)的Dr. Gruen D.M已经生长出质量良好、表面为镜面(表面最高峰与最低峰间距为15nm)、任意厚度的纳米金刚石膜，而且其涂层的附着力足够。
相信其对涂层刀具的应用有所促进。
二、CVD金刚石厚膜焊接刀具CVD金刚石厚膜焊接刀具是先把切割好的CVD金刚石厚膜一次焊接至基体(通常为K类硬质合金)上，形成复合片，然后抛光复合片，二次焊接至刀体上，刃磨成需要的形状和刃口。
制造工艺流程：高品质的CVD金刚石膜的制备→激光切割→一次焊接成复合片→复合片抛光→二次焊接至刀体上→刃磨→检验。
下面介绍几个关键工序，如切割，焊接，抛光和刃磨等。
1.激光切割CVD金刚石膜硬度高、不导电(现已有导电型CVD金刚石，但其电阻率很大)、耐磨性极强，常规的机械加工和线切割等方法不适合于CVD 金刚石厚膜的切割。
金刚石薄膜技术及其应用
金刚石薄膜技术及其应用金刚石是一种硬度极高的天然矿物，于20世纪60年代起被学界广泛研究。
随着材料科学技术的不断进步，金刚石薄膜技术也逐渐成为研究的热点之一。
本文将从金刚石薄膜技术的原理、制备方法及其应用的方面进行阐述。
一、金刚石薄膜技术原理金刚石薄膜技术主要利用化学气相沉积（CVD）的方式在基材表面生长金刚石薄膜。
这种方法通常需要高温（在800℃以上）和高气压的气氛下进行，需要一些特殊的条件。
CVD是一种利用热分解气体在表面形成固体物质的工艺。
在CVD法生长金刚石薄膜的过程中，应先将气流中的气体分离出不含杂质、单质态的纯氢气，在高温下将氢气还原出单质氢原子，在这些氢原子的作用下，金刚石的碳原子就会在基材表面上生长。
二、金刚石薄膜技术制备方法金刚石薄膜的制备方法主要分为两大类：基于低压CVD技术和基于高压CVD技术。
基于低压CVD技术中，使用的气体通常是甲烷和氢气的混合物，在真空条件下进行反应。
将这些气体通过高温反应炉，使得甲烷分解成纯碳离子。
碳离子被氢气还原后，随后沉积在准备好的表面上，形成一层金刚石薄膜。
而基于高压CVD技术，则是在准备好的基板中，使用气压较高的气体进行反应。
这种方法通常能够得到更厚的金刚石薄膜。
三、金刚石薄膜技术的应用金刚石薄膜技术的应用场景非常广泛，以下将介绍一些典型的应用场景和案例：1. 电子技术领域金刚石薄膜是一个重要的电学材料，在电子技术领域有着广泛的应用价值。
例如，金刚石薄膜是一种优秀的绝缘材料，可以用于制造高性能半导体元件、纳米晶体管和高功率器件。
2. 机械工业领域由于金刚石薄膜极其硬度极高和耐磨性能强，在机械工业领域也有着广泛的应用价值。
例如，在高速切削和精细加工方面，金刚石薄膜的应用能够明显提高加工效率和加工精度。
另外，金刚石薄膜也可以用于制造高强度、高硬度的刀具和轴承零部件。
3. 生命科学领域除此之外，金刚石薄膜技术在生命科学领域也有另外一些应用场景。
例如，金刚石薄膜可以被用作人工眼视网膜和人工髋关节等器官的材料。
化学气相沉积(CVD)金刚石技术及产业分析——21世纪新材料CVD金刚石
法 的技 术特 点是 投 资少 、 技术 相对 简 单 、 长速度 快 （ 生 可达 ｌ ５“ｍ／ 、 ～ｌ ｈ）
验 研究 阶段 向实 际应 用 的工业 化 、 市 场 化方 向转 变 随着 技 术进 步和 工艺 的完 善 ， Ｖ 金刚石 产品质量 的稳 定 Ｃ Ｄ
天、 电子 、 通讯 、 波 等 多学 科 领域 ， 微
２． 功 率 （ 大 ６０～ １ ） 波 ０ｋＷ 微 ０ （ ＡＣＶＤ） ＭＰ ＣＶＤ 刚 石 制备 方 法 金
大功率 （０ Ｗ ） ６ｋ ￣ Ｃ Ｄ技术是另 Ｖ
饰原 料具有重大 的意义。 所示为大 图２ 功率 微波 法 （ Ａ ＶＤ） ＶＤ金刚石 ＭＰ Ｃ Ｃ
３ 电弧等离子体喷射（ Ｃ Ａｒ ｌｓ ａ ． Ｄ ｃｐａ ｍ
ｊ ｔ Ｃ Ｄ）Ｃ ｓ Ｖ ＶＤ金刚石 制备 方法
品 已经 开始 进行 市 场销售 。 以美 国卡 内基研 究所地球物理 实 验 室 、 拉 巴马州 大学物 理系 及Ｅ 公 阿 ６ 司 为代 表所 研究 的 结果 显示 ， 采用 微
上 ， 方法在涂层 中的应用最为成 功， 该
代表 性 的企 业 有 著 名 的美 国 Ｓ Ｐ３、
图 ２ 大 功率 微波 （ ＭＰＡｃＶＤ）设备 （ 左侧 是美 国设 备 图 ，右 侧是 德国设 备囝 ）
新彻料产业
Ｎ ８２０ Ｏ． ０ ８
维普资讯
到 更多 更广 泛 的应用 。
波等 离 子 体 Ｃ Ｄ设备 可 实 现 金 刚石 Ｖ
单 晶高速 外 延生 长 ， 沉 积速 度和 质 其
量 分别 达 到 １ ０ ０ ｍ／ｈ １ ０ Ｏ ～２ ０ ￣ １ 克 ３ 拉 。 为卡 内基研 究所利用 外延生长 图５ 技 术生产 的 单晶金 刚石 。 目前 ， ＣＶＤ单 晶金 刚石 的主要还
金刚石表面覆膜的方法及应用
金刚石表面覆膜的方法及应用一、化学气相沉积法化学气相沉积（CVD）是一种常用的金刚石表面覆膜方法。
该方法利用含碳气体（如甲烷、乙炔等）在一定条件下发生化学反应，生成金刚石薄膜。
CVD法具有沉积温度低、薄膜质量高等优点，但制备的金刚石膜通常较厚，需要进一步加工以适用于实际应用。
二、物理气相沉积法物理气相沉积（PVD）法是另一种常用的金刚石表面覆膜技术。
该方法通过物理手段（如真空蒸发、离子溅射等）将含碳气体或碳源材料转化为原子态或离子态，然后沉积在基底表面形成金刚石膜。
PVD 法具有较高的沉积速率和较低的制备温度，但制备的金刚石膜较薄，且性能相对较差。
三、热丝化学气相沉积法热丝化学气相沉积（HFCVD）法结合了CVD和热丝技术的优点。
在HFCVD法中，高活性含碳气体在加热的钨丝或镍丝上发生化学反应，产生碳氢自由基或碳离子，并吸附在基底表面形成金刚石膜。
HFCVD 法能够制备高质量的金刚石膜，并具有良好的附着力。
然而，制备过程中需要精确控制热丝温度和气体流量，以保证薄膜质量和沉积速率。
四、激光诱导化学气相沉积法激光诱导化学气相沉积（LCVD）法是一种新型的金刚石表面覆膜技术。
该方法利用激光诱导气体发生化学反应，产生碳氢自由基或碳离子，并在基底表面沉积形成金刚石膜。
LCVD法具有较高的沉积速率和制备温度低等优点，但由于激光诱导过程中可能出现局部过热或光损伤，因此需要优化激光参数以获得高质量的金刚石膜。
五、应用金刚石表面覆膜技术在许多领域具有广泛的应用价值。
例如，在机械领域，金刚石膜可以作为超硬材料应用于刀具、磨料等产品中，提高其使用寿命和加工效率。
在光学领域，金刚石膜具有优异的透光性能和机械稳定性，可用作窗口材料或光电子器件的涂层材料。
此外，金刚石膜在电学、热学、生物学等领域也具有潜在的应用前景。
随着制备技术的不断发展和成本降低，金刚石表面覆膜技术的应用将更加广泛。
CVD金刚石、PCD和单晶金刚石刀具材料及其应用
金刚 石 涂层 能否 获 得 与基 体
韧性 ， 与沉 积 膜 的厚 度 、 显微 结 构
其 上成 核 和 沉 积 的 刀具 基体 材 料 的切 削加 工 ，金 刚石 则具 有无 与 良好 的粘 附 性 以及 高 的 显微 断 裂 包 括 氮化 硅 （ Ｓ ｉ 。 Ｎ ） 、 碳化硅（ Ｓ ｉ Ｃ） 伦 比 的优 异 性 能 。 陶 瓷和 含 钻 量 较 低 （ ≤６ ％） 的硬
墨， 并 活 化 和稳 定 金 刚 石结 构 。 解氢 气 。微 波 等 沉 积 机理 相 当复杂 ，至 今 未 离 子 Ｃ Ｖ Ｄ 设 备
１ ２
或 在 加 工 要。沉积温度通常 为 ７ Ｏ Ｏ 一 很 大 的接 触压 力和 切 削 高温 会 增 腐蚀 性 的加 工 环 境 中 ， １ ０ ０ ０ ｏ ｃ 。如 此 高 的温 度 限制 了可 大其 化 学 活性 ，使 其 发 生化 学 磨 磨 蚀 性 极 强 、 会 产 生 高 温 的 复 金 刚 石 中 的碳 向外 扩散 ） 。 但 合材 料 时 ，它都具 有 优 异 的切 进 行 又 进 一 步 限 制 另 一 方面 ， 对于 铝 、 韧 性 好 的 非铁 削 性 能 。
厚度小于5oum的金刚石晶体sic刀片高速车削硅铝合金si与未涂层硬质合金刀片相比涂层由于薄膜金刚石能应用于具含量18的切削试验加工条层si3n刀片寿命更长其加工有复杂几何形状的刀具如带断表2切削力测量结果表面光洁度优于硬质合金刀片屑槽的刀片立铣刀特形铣刀和试验刀具类型切削力磅与烧结金刚石刀具相当
Ｃ ＶＤ 金 刚 石 、 Ｐ Ｏ ｌ ｌ和 单 晶 气体 流 过 需 要涂 覆 金 刚 石膜 的 刀 金 刚石刀具材料及其应 用 下 方 ，有 时 可 利 用等 离 子 与微 波
2023年CVD金刚石行业市场发展现状
2023年CVD金刚石行业市场发展现状CVD金刚石（Chemical Vapor Deposition）被视为是晶体金刚石的一种新技术，具有制备工艺简单、成本低、性能优异等优点，近年来在工业领域得到广泛应用。
本文将从CVD金刚石的制备工艺、行业应用、市场前景等方面进行详细阐述。
一、CVD金刚石制备工艺CVD金刚石制备是通过在高温高压下，使含有金刚烷等气体的反应气体降解成纯碳原子，并在金属衬底表面上部分氧化，然后在其表面上生长出极具钻石结构的薄膜。
CVD金刚石制备流程如下：（1）选择合适的金属衬底，一般采用钨、钼等金属。
（2）制备CVD反应气体，一般采用甲烷、氢气、氮气等混合气体。
（3）将金属衬底置于高温高压下，反应气体在金属表面降解成纯碳原子，并在金属表面上部分氧化。
（4）在金属表面上生长出DLC（钻石样薄膜）层，DLC层不断生长最终形成金刚石薄膜。
二、CVD金刚石行业应用随着CVD金刚石技术的发展，其在工业领域中的应用越来越广泛，主要体现在以下几个方面：（1）超硬材料切削工具：CVD金刚石与PCBN是硬质材料中的代表，CVD金刚石切削刃丝锯材料的切削效果要比普通硬质材料刀具好很多，而且寿命长，可以取代铜、铝等的制品，以及是飞机上的涡轮叶片、箍紧件、齿轮、轴承和滑动面的最佳选材。
（2）陶瓷切削刃：CVD金刚石可最大限度地发挥硬度高的优势，可直接取代钨钼合金切削刃，使用寿命增长5倍以上，使用效果显著。
（3）石材加工：CVD金刚石可直接应用于石材切割中，且生产速度快，切削过程中石材变化小，成品石材质优价廉，广泛应用于石材加工领域。
（4）检测仪器摩擦副：CVD金刚石表面平坦、无毛刺、无瑕疵，可以用于制造检测仪器的摩擦副，具有良好的硬度和抗磨损性能，使用寿命长，耐腐蚀性能好等特点。
三、CVD金刚石市场前景CVD金刚石发展过程中面临的主要问题是提高金刚石的质量和稳定性，并减少成本。
如果CVD金刚石质量达到天然金刚石的水平，且成本显著降低，将具有广阔的市场前景。
论化学气相沉积_CVD_金刚石技术最新发展
论化学气相沉积_CVD_金刚石技术最新发展化学气相沉积(CVD)技术是一种重要的薄膜制备技术，在新材料合成和薄膜加工领域得到广泛应用。
其中，金刚石薄膜的CVD技术作为一种特殊而重要的应用，历经了多年的发展，并取得了许多重大突破。
本文将从金刚石薄膜的特性、CVD技术的基本原理和现有问题等方面，重点探讨金刚石CVD技术的最新发展。
首先，金刚石薄膜具有极高的硬度、较好的热导性和良好的化学稳定性，使其在超硬材料和微电子领域有着广泛的应用。
CVD技术是金刚石薄膜制备的主要方法之一，其基本原理是利用气相反应在基底表面沉积出金刚石晶粒。
常用的金刚石CVD方法包括热CVD和微波CVD等。
其中，微波CVD技术由于其能量高效利用、反应速度快等优势，成为了目前研究的热点之一其次，要实现高质量的金刚石薄膜制备，需要解决一系列问题。
首先，反应的热力学条件往往很苛刻，需要高温高压的环境才能保证金刚石沉积。
其次，合适的沉积气体和添加剂的选择对于金刚石晶粒的生长和质量起着重要作用。
此外，金刚石薄膜的沉积速度也是一个需要解决的问题，一方面需要控制金刚石晶粒的生长速率，另一方面也需要加快沉积速度以提高生产效率。
最新发展方面，金刚石CVD技术在以下几个方面取得了重要进展。
首先是对热力学条件的优化，研究人员通过改变反应环境中的压力、温度等参数，优化金刚石晶粒的生长和质量。
其次是添加剂的研究，利用不同的添加剂可以改变金刚石薄膜的性质，例如降低杂质含量、改善生长速度等。
另外，研究人员还不断改进金刚石CVD设备和工艺，例如优化反应室结构、改善气体供应方式等，以提高金刚石薄膜的制备质量和生产效率。
在应用方面，金刚石CVD技术已经得到了广泛的应用。
金刚石涂层可用于机械切割工具、刀具、轴承等领域，以提高其耐磨性和寿命。
此外，金刚石薄膜还可用于纳米器件、电子器件等领域，以提高其热导性和电导性能。
此外，金刚石CVD技术还可以用于制备其他新型材料薄膜，例如氮化硼薄膜、碳化硅薄膜等，进一步拓展了应用领域。
国内外第四代金刚石半导体材料发展现状 -回复
国内外第四代金刚石半导体材料发展现状-回复题目：国内外第四代金刚石半导体材料发展现状引言：自从第一代金刚石半导体材料发现以来，金刚石研究在领域中取得了非凡的发展。
当前，第四代金刚石半导体材料已成为研究热点之一。
本文旨在回答国内外第四代金刚石半导体材料发展现状，从应用领域、制备方法和性能优化三个方面详细介绍。
一、第四代金刚石半导体材料的应用领域第四代金刚石半导体材料被广泛应用于各个领域。
例如，射频电子器件中，金刚石材料在高温高频、高功率条件下具有卓越的性能，使其成为无线通信领域的首选材料。
此外，金刚石材料在能源领域中表现出色，可应用于太阳能电池、燃料电池和氢能源技术等。
此外，金刚石半导体材料还可以应用于生物医学领域，如生物传感器、生物成像和药物输送等。
二、第四代金刚石半导体材料的制备方法1. 化学气相沉积法（CVD）：CVD是制备金刚石薄膜的主要方法。
通过在高温高压下将金属气体与氢气混合，金属蒸气进而沉积在底片上，形成金刚石晶体。
2. 金刚石化学气相沉积法（DCD）：DCD是一种优化的CVD方法，可以获得较高的晶体质量和较低的取向性。
其原理是在CVD过程中添加特定的杂质气体，以改善金刚石生长过程中的晶格匹配性。
3. 离子束沉积法（IBD）：IBD利用离子束在底片上沉积金刚石结晶。
该方法可以获得高质量、高纯度和高晶体质量的金刚石薄膜。
4. 活性磁控溅射法（HFCVD）：HFCVD是一种新的金刚石薄膜制备方法，具有高沉积速率、均匀性好和无宏观应力等优势。
三、第四代金刚石半导体材料的性能优化1. 缺陷控制：金刚石材料中的缺陷对其电学和光学性能有着重要影响。
研究人员通过缺陷工程方法，如掺杂和离子辐照等，有效控制和优化金刚石半导体材料的性能。
2. 晶格匹配性：金刚石晶体具有特殊的晶格结构，与其他常见半导体材料存在一定的晶格匹配问题。
通过调控生长过程中的温度、压力和速率等参数，可以改善金刚石与其他半导体材料之间的晶格匹配性，提高材料的应用性。
国外超硬材料工具的最新应用与进展(下)
自动化与高效高精密生产。
以在世界金刚石工具行业排名第五的韩国新韩金刚石工具公司为例，２００７年其生产销售收入１．５亿美元，其中激光焊接金刚石工具在新韩金刚石工具公司的比重已占重要地位，占销售总收入的５５％左右。
近年来，我国激光焊接设备在金刚石工具行业的不断增多，激光焊接金刚石工具生产与出口量的快速增长也说明了这一问题。
在我国，金刚石工具激光焊接设备主要使用三种类型的ＣＯ。
激光发生器：快速横流式，快速轴流式和扩散冷却板条式激光器。
其性能比较见表５［１７】。
鉴于扩散式冷却板条式激光器的优越性能，在我国激光焊接金刚石工具的激光器中已多达４０～５０台。
德国Ｄｒ．Ｆｒｉｔｓｃｈ（飞羽）公司生产的ＬＳＭ２４０、ＬＳＭ２１２、ＢＳＭ２２０激光焊机都采用Ｒｏｆｉｎ－－Ｓｉｎａｒ的板条式激光器。
裘５不同类型ＣＯ：激光器性能比较Ｔａｂｌｅ５ＣｏｍｐａｒｉｓｏｎｏｆｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓｏｆｄｉｆｆｅｒｅｎｔＣ０２ｌａｓｅｒｓ扩散冷却ＣＯ。
板条式激光器的优越性由其工作原理与结构设计而构成（见图６／¨］。
（１）结构紧凑，尺寸小，占地小。
在两个大面积铜电极之间进行射频气体放电，电极之间的间隙小，通过水冷电极放电腔可达到很好的散热效果（扩散冷却），获得相对较高的能量密度，没有气流热传导，无机械传动易损件。
（２）光束质量好。
不稳定谐振腔采用柱状反射镜产生高度聚焦的激光光束。
采用ＣＶＤ金刚石窗口与过滤整形。
在激光器外部采用水冷反射式光束元件将矩形光束转换成旋转对称的光束，光束传播系数＞／ｏ．８。
（３）气体消耗小。
由于气体消耗量极少，激光器内装有１０升预混工作气体，能持续工作１年以上，大大降低运行成本。
（４）没有气体流动，因此光学谐振腔无污染。
（５）热稳定性高。
（６）维护工作量少。
为改善光束质量，元素６公司生产了ＣＶＤ金刚石输出窗口，输出镜、分光镜等，可改善与强化高功率ＣＯｚ激光器的性能，完善光束质量，提高可靠性，并防止工作镜头的热损。
几种CVD制备金刚石薄膜的方法.
几种CVD制备金刚石薄膜的方法1.热丝CVD法此法又称为热解CVD法,Matsumoto等人采用热丝CVD法成功地生长出了金刚石薄膜。
该法是把基片(Si、Mo、石英玻璃片等放在石英玻璃管做成的反应室内,把石英管内抽成真空后,把CH4和H2的混合气体输人到装在管中的钨丝附近(两种气体的流量比为0.5%-5%。
用直流稳压电源加热钨丝到约2000℃,反应室内温度为700~900℃,基片温度为900℃左右,室内气体压力为1×103-1×105Pa。
在这样的反应条件下,CH4和H2混合气中的H2被热解,产生原子态氢,原子态氢与CH4反应生成激发态的甲基,促进了碳化氢的热分解,促使金刚石SP3杂化C-C键的形成,使金刚石在基片上沉积,获得立方金刚石多晶薄膜。
沉积速率为8-10μm/h 我国的金曾孙等人也用热丝CVD法生长出质量很好的金刚石薄膜。
实验表明,基片温度和甲烷的浓度是薄膜生长最为重要的参数,它们对金刚石薄膜的结构、晶形、膜的质量和生长速率影响甚大。
该法的特点是装置结构简单、操作方便、容易沉积出质量较好的金刚石膜。
2.电子加速CVD法此法是在用热丝CVD法沉积金刚石薄膜过程中,用热电子轰击基片表面,加速金刚石在基片上沉积。
与热丝CVD法不同的是,该法把电压正极接在用铝制成的基片架上,经加热的钨丝发射电子,电子在电场作用下轰击阳极的基片。
CH4和H2的混合气体被输送到基片表面,由于热反应和热电子轰击的双重作用,使气体发生分解,形成各种具有活性的碳氢基团,促使具有双键和三键的碳离解,加速金刚石的成核和生长。
基片可选用Si、SiC、Mo、WC、A12O3等材料。
一般的工艺参数是:甲烷为ψ(CH4=0.5%~2.0%;气体流速为5-50cm3/min;基片温度在500~750℃之间;钨丝温度为2000℃;基片支架的电流密度为10mA/cm2,电压150V。
用此法沉积出的金刚石薄膜的性质与天然金刚石基本相同,晶形完整,生长速率一般为3~5μm/h。
CVD金刚石薄膜技术发展现状及展望(下)
２１ ０ ２年 ６月
超 硬 材 料 工 程
Ｓ ＵＰＥＲＨ ＡＲＤ Ｍ ＡＴＥＲＩ ＡＬ ＥＮＧＩ ＮＥＥＲＩ ＮＧ
Ｖｏ ． ４ １２
Ｊ ｎ ２ １ ｕ ．０２
Ｃ ＶＤ 金 刚 石 薄 膜 技 术 发 展 现 状 及 展 望 （ ① 下）
杨 德 威 ，栗正 新 ，苑 执 中
Ａｂ ｔａ ｔＴｈ ｅ ｅｏ ｍ ｅ ｔｃ ｕ ｓ ｆＣＶＤ ｉｍ ｏ ｄ ｆ ｍ ｅ ｈ ｏ ｏ ｙ ｉ ｒｅｌ ｅ ｃ ｉｅ ｎ ｓｒ ｃ ： ｅｄ ｖ ｌ ｐ ｎ ｏ ｒ ｅｏ ｄａ ｎ ｉ ｔｃ ｎ ｌ ｇ ｓｂ ｉｆｙｄ ｓ ｒｂ ｄ ｉ ｌ
ｔ ｉ ａ ｒ Ｔｈｅ ｅ ｈｎｉａ ｆ ａ ｕ ｅ ａ ｄ ｐ ｉａ ｉ ｎｓ ｆ ｈ ｓ ｐ ｐｅ ． ｔ ｃ ｃ ｌ ｅ ｔ ｒ ｓ ｎ ａ ｐｌｃ ｔｏ ｏ ｎａ ｃ ｙ ｔ ｌｉ ｄ ａ ｎｏ ｒ ｓ ａ ｌｎｅ ｉ ｍｏｎ ｆｌ ｓ ｄ ｉｍ
几 个原子 组成 ， 未涂 覆金 刚 石膜 的普 通剃 须 刀片 相 与 比， 寿命提 高可达 １ ０ 倍 ， 充分 体 现 了 ＵＮ Ｄ涂 层 ００ 这 Ｃ 优 异 的耐摩擦磨损 性 能 ， 工 具方 面 具 有更 加 广 阔的 在
ｔ ｖｅｏｐ ｅ ｔｏｆｄ ａ ｏ ｈｅｄｅ ｌ ｍ ｎ ｉ ｍ ｎｄｓｉ ｏ ｒ ｈ ａ ｇ ｒｏｒ ｓ ａ ｌ ｒ ｓｚ ａ ｏ ｎ ｔ ｕ ｕｒ ． Ｓ ｔ ｗａ ｄ ｔ ｅ ｌｒ ｅ ｍ ｌｅ ｉｅ ｄｉｍ ｎｄ ｉ ｈｅ ｆ ｔ ｅ
Ｋｅ ｗｏ ｄ ： ｈｒ － ａ ｏ ｃ ｙ ｔ ｌ ｎ ｉ ｍｏ ｄ ｆｌ ｓ ｙ ｒ ｓ ｕ ａ ｎ ｎ ｒ ｓ ａ ｌ ｅ ｄ ａ ｎ ｉ ｉ ｍ ；ＣＶＤ ａ ｇ ｉ ｇ ｅｃ ｙ ｔ ｌ ｉ ｍｏ ｄ；ｒ ｖ ｅ ｌ ｒ ｅ ｓｎ ｌ ｒ ｓ ａ ａ ｎ ｄ ｅ ｉｗ
CVD合成金刚石简介
检测方法FT-IR，XRR，拉曼这个方法是一个俄罗斯人首先提出的，由此可见俄罗斯人的确很牛。
这种方法可以合成大面积金刚石薄膜，大面积哦，这是由于现在可以得到很大规模的等离子体，所以这种方法在研究领域可谓不可多得，只用甲烷就可以得到大面积的金刚石。
CVD金刚石可以用各种方法合成，其中晶粒生长速度最快的则为热等离子体CVD工艺。
我们试验室过去曾试图用DC等离子体CVD工艺合成金刚石厚膜，并就膜与基底的附着强度和膜的性质作过探讨。
但是，热等离子体工艺存在沉积面积和膜质量都不如其它CVD工艺等问题。
CVD金刚石薄膜应用中对扩大沉积面积有着强烈的需求。
金刚石在所有已知物质中具有最高的硬度、高耐磨率、良好的抗腐蚀性、低的摩擦系数、高的光学透射率(对光线而言从远红外区到深紫外区完全透明) 、高的光学折射率、高空穴迁移率、极佳的化学惰性,既是热的良导体,又是电的绝缘体,掺杂后可形成P和N型的半导体。
金刚石有如此多优异性能,因而在国民经济上有着广泛的用途。
金刚石从真空紫外光波段到远红外光波段对光线是完全透明的，因此金刚石膜作为光学涂层的应用前景非常好，可用作红外光学窗口和透镜的保护性涂层。
以及在恶劣环境下工作的红外在线监测和控制仪器的光学元件涂层。
在工业制造领域，需要大量轻量化、高强度的材料，用具有高硬度、高耐磨性的金刚石制成的刀具有长寿命、高加工精度、高加工质量等优异特性，而将金刚石薄膜直接沉积在刀具表面不仅价格大大低于聚晶金刚石刀具，而且可以制备出具有复杂几何形状的金刚石涂膜刀具，在加工非铁系材料领域具有广阔的应用前景。
金刚石在室温下具有最高的热导率，又是良好的绝缘体，因而是大功率激光器件、微波器件、高集成电子器件的理想散热材料。
金刚石能掺杂为P和N型的半导体,与现有半导体材料相比，具有最低的介电常数，最高的禁带宽度，较高稳定性,很高的电子及空穴迁移率和最高的热导率,性能远优于Si半导体,是替代Si的理想材料。
cvd纳米金刚石涂层工艺流程
CVD纳米金刚石涂层工艺流程一、概述CVD (化学气相沉积)纳米金刚石涂层工艺是一种先进的表面涂层技术，通过在基材表面沉积纳米级厚度的金刚石薄膜，可以显著提高材料的硬度、耐磨性和耐腐蚀性。
本文将详细介绍CVD纳米金刚石涂层的工艺流程，包括材料选择、表面处理、沉积工艺、质量控制等环节。
二、材料选择1. 基材材料：金属、陶瓷、塑料等材料均可用于CVD纳米金刚石涂层。
常用的基材包括硬质合金、不锈钢、钛合金等。
2. 基材形状：CVD纳米金刚石涂层工艺适用于各种形状的基材，包括平板、管材、复杂形状零件等。
3. 表面粗糙度：基材表面粗糙度对涂层的质量有重要影响，一般要求基材表面粗糙度在Ra<0.4um。
三、表面处理1. 清洗：将基材进行去油、除尘、去氧化处理，以保证涂层与基材之间的良好结合。
2. 粗糙化处理：对于一些表面平整的基材，可以采用砂喷或喷丸处理，增加表面粗糙度，有利于涂层附着。
3. 防粘接处理：在表面处理之后，可以在基材表面进行一些特殊的处理，以增强涂层与基材之间的黏附力。
四、CVD纳米金刚石涂层工艺1. 基材预热：将基材置于CVD反应室中进行预热，通常温度在800-1000摄氏度之间。
2. 气氛控制：在反应室中控制好气氛，通常使用氢气和甲烷混合气体，通过精确控制气氛比例和流量来控制沉积速率和涂层质量。
3. 沉积过程：在预热后的基材表面开始沉积金刚石薄膜，通过化学气相反应在基材表面沉积碳原子，形成金刚石晶粒，不断沉积形成厚度可控的金刚石薄膜。
4. 控制工艺参数：沉积过程中需要严格控制温度、压力、气氛比例、沉积时间等工艺参数，以确保获得高质量的纳米金刚石涂层。
五、质量控制1. 涂层厚度检测：使用X射线衍射仪、激光剥蚀仪等设备对涂层厚度进行检测。
2. 显微结构分析：通过光学显微镜、扫描电子显微镜等设备对涂层显微结构进行分析。
3. 涂层性能测试：对涂层的硬度、耐磨性、耐腐蚀性等性能进行测试，确保涂层符合要求。
金刚石膜沉积工艺流程
金刚石膜沉积工艺流程金刚石膜沉积是一种重要的表面涂层技术，可提供高硬度、高耐磨和高热导率的涂层，因此被广泛应用于工具刀具、模具和电子器件等领域。
本文将介绍金刚石膜沉积的主要工艺流程。
一、前处理1. 表面清洗：在进行金刚石膜沉积之前，需要先对底材进行彻底的清洗。
通常采用酸碱溶液进行清洗，可以去除杂质和氧化物，确保涂层与底材的良好附着力。
2. 表面处理：接下来，进行表面处理以增加涂层的结合力和附着力。
常见的表面处理方法包括机械研磨、喷砂和离子打磨等，这些方法可以改善底材表面的粗糙度和活性，有利于涂层的附着。
二、制备金刚石膜前体1. CVD法：化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition，CVD）是制备金刚石膜的常用方法。
通过在高温高压条件下，使含有碳源的气体（如甲烷）与载气（如氢气）反应，使金刚石晶粒在底材表面生长形成膜。
2. PVD法：物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）也可用于制备金刚石膜的前体。
该方法采用高能电子束或离子束轰击含有碳源的固体金刚石靶，使其蒸发或溅射，然后在底材表面成核和生长。
三、金刚石膜沉积1. CVD法：将制备好的金刚石膜前体放置在CVD反应室中，通过控制温度、气体流量和压力等参数，使金刚石晶粒在底材表面沉积生长。
反应时间根据需求可以从几小时到几十小时不等。
2. PVD法：将制备好的金刚石膜前体放置在真空腔室中，通过电子束或离子束轰击金刚石靶，使其沉积在底材表面。
PVD法的沉积速率较快，通常几分钟到几小时就可以完成。
四、后处理1. 退火处理：在金刚石膜沉积完成后，进行退火处理以减少残余应力和提高涂层的晶格质量。
退火温度和时间根据具体情况进行调整，一般在1000℃以上进行。
2. 表面处理：根据涂层的具体应用需求，可以进行表面处理以增强涂层的性能。
例如，采用离子注入、等离子体增强化学蒸发等方法可以改善涂层的摩擦系数和抗腐蚀性能。
高速生长CVD金刚石单晶及应用
ｈｇ ａｅｇ ｏ ｈ ａ ｄａ ｐｉａｉｎ ｆ ＶＤ ｓｎ ｌ ｃｙ ｔｌ ｉ ｎ ｓ（ Ｃ ） ｉｈｒｔ ｒｗｔ ｎ ｐ ｌ ｔ ｓｏ ｃ ｏ Ｃ ｉｇｅ ｒ ｓａ ｄａ － ｍｏ ｄ Ｓ Ｄｓ ．Ｗｅｈ ｖ ｎ ａ ｅｉ—
ｖ ｓ ｉ ｔ ｄ ｔ ｇｈ ｒ ｔ ｏｍ ｏ ｐｉａ ｉ ｌ ｒ ｗｔ ｆ ＳＣＤｓ ｅ ｅ ｄｅ ｔ ０ｎ ｒ ａ ｔｏ ｅ ｓ ｒ ｅ ｔｇａ ｅ ｈｅ ｈｉ ａ ｅ ｈ ｅ ｔ ｘ ａ ｇ ｏ ｈ ｏ ｄ ｐ ｎ ｎ ｅ ｃ ｉ ｎ ｐｒ ｓ ｕ ｅ，
Ｈ ｉ ｈ ｒ ｔ ｒ ｗ ｔ ｆＣＶＤ ｉ ｇ ｅ ｃ ｙ ｔ ｌｄｉ ｍ ｏ ｄ ａ ｄ ｉｓ ａ ｐｌｃ ｔｏ ｇ －ａ ｅｇ ｏ ｈ ｏ ｓｎ ｌ－ ｒ ｓ ａ ａ ｎ ｎ ｔ ｐ ｉ ａ ｉ ｎ
ＷＡＮＧ －ｉｎ 。Ｌ Ｘｉｎｙ 。ＣＨＥ Ｑｉ ａ ｇ Ｖ ａ － ｉ ｌ ＮＧ ｈ ｏｈ ｎ 。Ｚ Ｓ ａ － ｅ ｇ ＨＡＮＧ ｎ 。Ｌ ｎ － ｏ ｇ ＯＵ ａ ｇｔ ｎ Ｑｉｇ ＩＨｏ ｇｄ ｎ ．Ｚ Ｇｕ ｎ －ｉ ａ
ＳＣＤｓ ｈ ｓ ｂ ｅ ｅ ｔｉ ａ ｅ ｎ ｇｒ ａ ｍｐｒ ｖｅ ｏ ｄ．Ｗ ｅ ｄ ｖ ｌ ｐｅ ｅ ｅ ｏ ｄ ａ ＣＶＤ ＳＣＤ ｕｔ ｅ ｉ ｏ ｈｅｃ ｖ ｄ ｍ ｉ— ｃ ｔ ｒｕｓｎｇ ｆ ｒｔ ｕｒ ｅ ｒ
ｒ ｒ ｆ ｃ ｏ ｉ ｈ ｎ ｆ ｍ ｅ ａ ｌ ｔ ｒａ ． ｏ ａ ｅ ｐ ｌ ｉ ｇ ｏ ｔ ｌ ｃ ｍａ ｅ ｉ １ ｓ ｉ Ｋｅ ｗ ｒ ｓ ｈ ｇ — ａ ｅ ｇ ｏ ｈ；Ｃ ｙ ｏ ｄ ： ｉ ｈ ｒ ｔ ｒ ｗｔ ＶＤ ；ｓｎ ｌ － ｒ ｓ ａ ｉ ｍ ｏ ｄ；ａ ｎ ａ ｉ ｇ；ｄ ａ ｎ ｕ ｔ ｒ ｉ ｇ ｅ ｅ ｙ ｔ ｌｄ ａ ｎ ｎ ｅｌ ｎ ｉ ｍｏ ｄ ｃ ｔ ｅ
cvd法合成金刚石分类
cvd法合成金刚石分类CVD法合成金刚石金刚石是一种优质的材料，具有极高的硬度、导热性和化学稳定性，被广泛应用于工业领域。
其中，化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition，CVD）是一种常用的方法来合成金刚石。
本文将介绍CVD法合成金刚石的原理、过程和应用。
一、CVD法合成金刚石的原理CVD法合成金刚石的基本原理是在高温、高压的环境中，利用化学反应使碳原子在衬底表面上沉积，形成金刚石晶体。
具体来说，CVD法合成金刚石的过程包括以下几个步骤：1. 基底处理：选择适合的基底材料，如金刚石膜、石英、硅等。
对基底进行预处理，如去除表面杂质、提高表面平整度等，以便于金刚石的生长。
2. 反应气体：一般采用含有碳源的气体作为反应气体，如甲烷、乙烷等。
同时，还需要添加一些辅助气体，如氢气、氮气等，以调节反应气氛、控制生长速率等。
3. 反应装置：CVD法合成金刚石的反应装置一般包括石英管、加热炉、真空泵等。
在高温、高压环境下，将反应气体引入石英管中，通过加热使其发生化学反应。
4. 生长过程：在石英管内，碳源气体与辅助气体在基底表面上发生反应，释放出碳原子。
这些碳原子会在基底表面扩散并沉积，逐渐形成金刚石晶体。
5. 控制参数：金刚石生长的质量和形貌受到多种参数的影响，如反应温度、气体流量、反应时间等。
通过调节这些参数，可以控制金刚石生长的速率和质量。
二、CVD法合成金刚石的应用CVD法合成的金刚石具有很高的纯度和均匀性，广泛应用于多个领域。
1. 切削工具：金刚石是一种理想的切削工具材料，用于加工高硬度材料，如金属、陶瓷等。
CVD法合成的金刚石具有均匀的结构和优异的切削性能，能够提高切削效率和工件质量。
2. 磨料材料：金刚石磨料具有极高的硬度和耐磨性，可用于制作砂轮、磨粉等磨料工具。
CVD法合成的金刚石磨料具有高纯度和均匀性，能够提高磨削效率和加工精度。
3. 电子器件：金刚石具有优良的导热性和电绝缘性能，可用于制作高功率电子器件，如高功率晶体管、高功率二极管等。
cvd金刚石磁化率的标准
cvd金刚石磁化率的标准
CVD金刚石的磁化率是指在外加磁场作用下，金刚石材料磁化的程度。
磁化率是描述材料磁性的物理量，通常用磁化强度与外加磁场强度之比来表示。
CVD金刚石的磁化率标准可以根据具体应用需求来确定，一般来说，磁化率越高，材料的磁性能越好。
在实际应用中，常用的磁化率标准有以下几种：
1. 高磁化率标准：对于一些需要高磁性能的应用，如磁存储器件、磁传感器等，要求金刚石材料具有较高的磁化率。
一般来说，磁化率大于1.0的金刚石材料可以被认为具有较高的磁性能。
2. 低磁化率标准：对于一些需要低磁性能的应用，如磁屏蔽材料、磁隔离材料等，要求金刚石材料具有较低的磁化率。
一般来说，磁化率小于0.1的金刚石材料可以被认为具有较低的磁性能。
需要注意的是，CVD金刚石的磁化率受到多种因素的影响，包括材料的纯度、晶格结构、晶粒尺寸等。
因此，在实际应用中，需要根据具体要求进行测试和评估，以确定金刚石材料的磁化率是否符合标准要求。
CVD金刚石技术和应用
CVD金刚石技术和应用I. 引言A. CVD金刚石技术的历史回顾B. 本文的目的和意义II. CVD金刚石的制备方法A. CVD金刚石的基本原理B. CVD金刚石的制备流程C. CVD金刚石的制备条件III. CVD金刚石的结构和性质A. CVD金刚石的结构特征B. CVD金刚石的物理性质C. CVD金刚石的化学性质IV. CVD金刚石的应用A. 工具切削领域1. 刀具2. 电子加工3. 磨具B. 研磨领域1. 研磨片2. 研磨液C. 生物医学领域1. 医用刀具2. 人工关节V. CVD金刚石技术的发展趋势A. 大规模制备技术B. 先进加工技术C. 新型材料的开发VI. 结论A. 对CVD金刚石技术的总体评价B. 未来CVD金刚石技术的发展前景VII. 参考文献I. 引言A. CVD金刚石技术的历史回顾金刚石是一种天然的高温高压下形成的矿物，具有硬度大、热稳定性好、化学惰性等诸多优异的物理和化学性质。
金刚石因其卓越的性能被广泛应用于研磨、切削、电子加工等领域。
然而，天然金刚石存在产地有限、成本高昂、形状和尺寸难以控制等问题，制约了其在工业生产中的应用。
为了解决这些问题，人们开始尝试通过化学合成来制备人工合成的金刚石材料。
早在20世纪50年代，人们就已经开始尝试使用高温高压合成技术来制备合成金刚石。
这种方法需要在高温高压下合成金刚石晶体，虽然可以得到高质量的金刚石晶体，但是成本高昂、生产效率低，限制了其在工业生产中的应用。
随着化学气相沉积（CVD）技术的发展，人们开始尝试使用CVD技术来制备金刚石材料。
CVD技术是一种通过在高温、低压下向金属或非金属基材表面沉积金刚石薄膜的技术，相比高温高压合成法，CVD技术具有成本低、生产效率高、适用范围广等优点，逐渐成为了金刚石制备的主要方法。
B. 本文的目的和意义本文主要介绍CVD金刚石技术的制备方法、结构和性质、应用以及发展趋势，旨在深入探讨CVD金刚石技术的原理和应用，为工业生产和科学研究提供参考。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性，平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益，请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间：9:00-18:30)。
Ｃ ＶＤ金 刚 石 比 Ｐ Ｄ 金 刚 石 韧 性 低 ， 裂 、 掉 Ｃ 易 易
４ １ ４ 手 术 刀 ． ．
迄 今 为 止 。我 们 还 未 发 现 国 外 公 司 出 售 Ｃ ＶＤ 金刚 石拉 丝 模 或模 芯 。这可 能 是 金 刚 石 膜 材 料 的 稳
定 性 不够 好 ， 国外难 以承受产 品质 量 的不稳 定 。国 内
有几 个 厂 家生 产 Ｃ ＶＤ金 刚石 模 芯和拉 丝 模 。
第２ ４卷 第 ２期 ２１ ０ ２年 ４月
超 硬 材 料 工 程
Ｓ ＵＰＥＲＨＡＲＤ ＡＴＥ ＡＬ ＥＮＧＩ Ｍ ＲＩ ＮＥＥＲＩ ＮＧ
Ｖｏ ． ４ １２
Ａ ｐｒ ２ ． ０１２
Ｃ ＶＤ 金 岩 ， 磊 ， 敬 晖 ， 真 武 陈 何 玄
Ｃ ＶＤ金 刚石 拉 丝 模 硬 度 高摩 擦 系数 低 ， 洁 度 光
高 ， 以制 成 ０ ０ ｒｍ 孔 径 的 拉 丝 膜 。在 拉 制 不 锈 可 ．２ ａ 钢丝 、 丝 、 丝等 硬 丝时效果 较好 。 钼 钨
以往 的金 刚石 手 术刀 ， 生物 切 片刀 主要 由单 晶 或 金 刚石 制备 。制备 工 艺 难 度 大 ， 原料 和 加工 成 本 高 ， 目前 只有少 数 几个 国 家 可 以制 作 。难 度 主 要 在 于 刀 具 刃 口的研 磨 ， 常 刃 口半 径 非 常 小 ， 般 为 几 十 纳 通 一
４．１ ３ 拉 丝 模 ．
柱 状 晶 ， 有一 定 的 方 向性 ， 具 晶粒 之 间 通 过 几层 碳 原 子 结合 。一 般 Ｐ Ｄ 的机 械 强 度 较 高 ， 以 承 受较 高 Ｃ 可 的机械 冲击 和热 冲击 ， 但硬 度低 ； ＶＤ 金 刚 石机 械 硬 Ｃ 度高 ， 另外 ， ＶＤ金 刚石 的摩 擦 系数 低 于 Ｐ Ｄ。 Ｃ Ｃ
ｃ ｎｎｏ ａ ｉｙ ｉ ｖｏ ｖｅ ｎ ｂｙ ｔ ａ ｉｉ ｎａ ａ ｏ ． ａ ｔｂｅ ｅ ｓｌ ｎ ｌ ｄ ｉ ｒ ｄ ｔｏ ｌｄｉｍ ｎｄ
Ｋｅ ｗｏ ｄ ： ＶＤ ｉ ｍｏ ｄ；ｔ ｃ ｎ ｌ ｇ ；ａ ｐ ｉａ ｉｎ；ｍ ａ ｋ ｔ ｙ ｒｓ Ｃ ｄａ ｎ ｅｈ ｏｏ ｙ ｐ ｌ ｔ ｃ ｏ ｒ ｅ．
ｍ ａ ｓｏ ｉｇ ａ ｓ ｓ ｆｄ ａ ｒ ｍ －ｐｈ ｏｓａ ｄａ，ｗｅ ａ ｅｔ ｙ ｎｇ ｔ ａ ｎ ｏｖ ｒ ｌ ｒ ｖ ｅ ｏ ｙ ｈｅ ｉ ｏｔ ｎｄ ｄａ ｒ ｒ ｉ ｏ ｍ ｋｅａ ｅ ａ ｌ ｅ ｉ ｗ ｎ ｓ ｎｔ ｓ ｓ，
ｍ ａ ｈ ｎ ｎ －ａ ｐ ｉａ ｉ ｎ ｎ ａ ｋ ｔ ｄ ｖ ｌ ｐ ｅ ｔ ｏ ｈ ｍ ｉａ ａ ｏ ｅ ｏ ｉｉ ｎ ｄ ａ ｏ ｄ ｃ ｉ ｉ ｇ ｐ ｌ ｔ ｓ ａ ｄ ｍ ｒ ｅ ｅ ｅｏ ｍ ｎ ｆ ｃ ｅ ｃ ｌ ｖ ｐ ｒ ｄ ｐ ｓｔ ｉ ｍ ｎ ｃ ｏ ｏ
别 是 在 传 统 的佥 刚 石 无 法 涉 足 的 一 些 高技 术应 用领 域 。
关键词 ： ＣｖＤ金 刚 石 ； 术 ； 用 ； 场 技 应 市
中 圈分 类 号 ： Ｑ１ ４ Ｔ ６
文献标 识码 ： Ａ
文 章 编 号 ：６ ３ １ ３ （ ０ ２ ０ —０ ３ —０ １ ７ — ４ ３ ２ １ ）２ ０ ０ ５
（ 京 天 地 东 方 超 硬材 料股 份 有 限公 司 ， 京 １ ０ １ ） 北 北 ０ ０ ８
摘
要 ： 过 大量 文 献 资 料 和 有 关 网 页 ， 述 了近 年 来 国 内外 化 学 气相 沉 积 金 刚 石 的 制 备 、 工 和 应 用 技 通 叙 加
术 研 究 的进 展 、 业 化 现 状 等 。文 章 列举 了大 量 图 片和 数 据 ， 图展 示 近 几 年 Ｃ 商 试 ＶＤ 金 刚 石 有 关 方 面 的 信 息 。文 章 显 示 ， Ｖ 金 刚 石 技 术研 究 和 商业 开发 虽 然都 取 得 了长 足 的 进 步 ， 仍 然 有 巨 大 的 发展 空 间 ， Ｃ Ｄ 但 特
ｆ ｍ （ ＶＤ ｄａ ｎ ） ｖ ｎｔ ｏ ｇ ｒａ ｒｇ ｅｓｈ ｓｂ ｅ ｃ ｉｖ ｄｒｃｎ ｅｒ ，ｔ ｅｅ ｉ ｌ Ｃ ｉｍｏ ｄ ．Ｅ ｅ ｈ ｕ ｈ ｇ ｅｔｐｏ ｒｓ ａ ｅｎ ａｈｅ ｅ ｅ ｅ ｔｙ ａｓ ｈ ｒ
ａ ｅ ｓ ｉ ｘ ｉｉ ｇ ｐ ｏ ｐ ｃ ｓ ｆ ｒ ｔ ｉ ｘ ｒ ｏ ｄ ｎ ｒ ａ ｅ ｉｌ ｅ ｐ ｃａ ｌ ｎ ｔ ｅ ｆｅ ｄ ｔ ａ ｒ ｔｌ ｅ ｃｔ ｒ ｓ ｅ ｔ ｏ ｈ ｓ ｅ ｔ ａ ｒ ｉ ａ ｙ ｍ ｔ ｒａ ， ｓ ｅ ｉ ｌ ｉ ｈ ｉｌ ｈ ｔ ｌ ｎ ｙ
Ｔｅ ｈｎ ｑｕ ｎ ｐ ｌｃ ｔｏ ｆＣＶＤ ａ ｏ ｄ ｃ ｉ ｅ ａ ｄ ａ ｐ ｉａ ｉ ｎ ｏ ｄｉ ｍ ｎ
ＱＩ Ｓ ｎ － ａ Ｎ ｏ ｇ ｙ ｎ，ＣＨＥＮ ｉ Ｌｅ 。ＨＥ Ｊｎ － ｕ 。ＸＵＡＮ ｈ ｎ ｗｕ ｉｇ ｈ ｉ Ｚ ｅ－
（ ｅ ｉｇ Ｔ ａ ｄ ｒｅ ｔ ｕ ｅ －ａ ｄ Ｍａｅ ｉ ｌ Ｃ ． Ｌ ｄ ． ｅ ｎ ０ ０ ８ Ｂ ｉ ｎ ｉ ｎ ｉ ｉｎ ｐ ｒｈ ｒ ｔ ａ ｓ ｏ － ｔ ． Ｂ Ｏｉ ｇ １ ０ １ ｊ Ｏ Ｓ ｒ Ｊ Ａｂ ｔ ａ ｔ Ｕ ｎ ｅ ａ ｅ ｕ ｎ ｅ ｔｇ ｔｏ ｓ ｏ ｕ ｌ ａ ｉ ｎ ｎ ｅａ ｅ ｂ ｉｅ 。ｅ ｕ ｅ ａ ｅ ｓ ｒ ｃ ： ｄ ｒ ｃ ｒ ｆ ｌｉ ｖ ｓ ｉ ａ ｉ ｎ ｆ ｐ ｂ ｉ ｔ ｓ ａ ｄ ｒ ｌｔ ｄ ｗｅ ｓｔ ｓ ｎ ｍ ｒ ｔ ｄ ａ ｃ ｏ