纳米材料的测量方法
纳米材料的电化学性能测试方法
纳米材料的电化学性能测试方法引言：随着纳米科技的不断发展与应用，纳米材料在各个领域展现出了广泛的应用前景。
电化学性能测试是评估纳米材料在电化学设备中的表现的重要方法之一。
本文将介绍纳米材料的电化学性能测试方法，以及相关技术和仪器的应用。
1. 纳米材料的电化学性能测试方法的分类电化学性能测试方法可以分为静态和动态两种。
静态测试方法主要用于测量材料的电化学特性，例如电容、电导率和电阻等参数。
动态测试方法主要用于测量材料在电化学循环中的性能，例如电化学稳定性、电化学容量和充放电效率等参数。
2. 静态测试方法2.1 电容与电导率测试电容与电导率是评估纳米材料导电性能的重要参数。
常用的测试方法有四探针法和电化学阻抗谱法。
四探针法通过测量纳米材料的电阻和几何尺寸来计算电导率。
电化学阻抗谱法则是通过测量纳米材料在交流信号下的阻抗来计算电导率和电容。
这两种方法可以有效评估纳米材料的导电性能，提供详细的电化学特性。
2.2 电阻测试电阻测试是评估纳米材料导电性能的常用方法之一。
通常使用四探针法和Kelvin探针法对纳米材料的电阻进行测量。
四探针法是通过在纳米材料上施加电压，再根据测得的电流和电压计算电阻值。
Kelvin探针法则是通过使用一个独立的探针，将电流与电压测量引线分开，避免了测量误差。
这些方法都能够准确地测量纳米材料的电阻，并为纳米材料的性能评估提供参考。
3. 动态测试方法3.1 电化学稳定性测试电化学稳定性测试是用于评估纳米材料在电化学循环中的耐久性和稳定性的重要方法。
常用的测试方法包括循环伏安法和恒流充放电法。
循环伏安法通过在纳米材料上施加变化的电压信号，测量纳米材料的电流响应，进而评估纳米材料的电化学稳定性。
恒流充放电法则是通过在纳米材料上施加恒定电流，测量充电和放电过程中的电压变化，以评估纳米材料的电化学稳定性。
这些方法可以帮助研究人员确定纳米材料的电化学性能在不同循环次数下的变化情况。
3.2 电化学容量测试电化学容量测试是评估纳米材料在充放电过程中的电容性能的重要方法。
纳米科技材料的性能测试方法与标准规范解读
纳米科技材料的性能测试方法与标准规范解读随着科技的高速发展，纳米科技已经成为各个领域的热门研究方向，纳米材料的性能测试方法和标准规范对于实现材料的精准设计、可靠应用以及产品的质量控制至关重要。
本文将重点介绍纳米科技材料性能测试方法和标准规范的严格解读。
1. 纳米材料的性能测试方法纳米材料与传统材料相比，具有独特的特性和性能，因此需要采用特殊的测试方法进行性能评估。
以下为常用的纳米材料性能测试方法：1.1 纳米材料的粒径测量纳米材料的粒径对于其性能具有重要影响，因此粒径测量是纳米材料性能测试的首要任务。
常用的方法有透射电子显微镜（TEM）、扫描电子显微镜（SEM）和动态光散射（DLS）等。
1.2 纳米材料的结构表征纳米材料的结构对其性能起着至关重要的作用，因此需要采用一系列的结构表征方法进行测试。
例如，X射线衍射（XRD）用于分析晶体结构；拉曼光谱（Raman）用于研究材料的分子振动和晶格动力学等。
1.3 纳米材料的机械性能测试材料的机械性能是其可靠运用的关键指标之一，对纳米材料的机械性能测试方法进行了大量研究。
常用的方法包括纳米压痕测试（Nanoindentation）、扫描探针显微镜（SPM）和纳米拉伸实验等。
1.4 纳米材料的热学性能测试纳米材料的热学性能对于其在能源、催化等领域的应用至关重要。
因此，研究者们开发了一系列测试方法，如差示扫描量热法（DSC）、热导率测试仪和纳米量热仪等。
2. 纳米材料性能测试的标准规范解读为了保证纳米科技材料性能测试的准确性和可比性，各个国家和国际组织制定了相应的标准规范，以规定测试方法和要求。
下面将重点介绍几个重要的标准规范：2.1 ISO/TS 80004-1:2015该标准主要针对纳米材料的术语和定义进行了规范，为纳米科技材料的研究和应用提供了统一的术语和定义。
它为纳米材料的性质表征和测试提供了一个共同的基础。
2.2 ISO/TS 12901-2:2014该标准规范了纳米材料亲水性和疏水性的测试方法和评价准则，以及纳米颗粒在液体中的分散性评价指标，对于纳米材料的应用和环境影响研究具有重要意义。
纳米材料的力学性能研究方法与技巧
纳米材料的力学性能研究方法与技巧引言：纳米材料的力学性能研究是纳米领域中的一个重要课题。
纳米材料由于其特殊的尺寸效应和界面效应，表现出与传统材料截然不同的力学性能。
准确研究纳米材料的力学性能对于设计和制备具有特定性能的纳米材料具有重要意义。
本文将介绍纳米材料力学性能研究的方法和技巧。
一、纳米材料力学性能的测试方法1. 纳米压痕测试：纳米压痕测试是一种常用的纳米材料力学性能测试方法。
该方法通过利用压头对材料表面进行压痕，通过测量压头在样本表面产生的形变来计算材料在纳米尺度下的力学性能参数。
纳米压痕测试可以获得材料的硬度、弹性模量等力学性能参数。
2. 纳米拉伸测试：纳米拉伸测试是另一种常用的纳米材料力学性能测试方法。
该方法通过拉伸样品，测量其应变和应力，通过得到的应力-应变曲线来计算纳米材料的力学性能参数。
纳米拉伸测试可以获得材料的抗拉强度、屈服强度等性能参数。
3. 纳米压缩测试：纳米压缩测试是对纳米材料进行压缩加载，测量力与位移之间的关系，得出纳米材料的力学性能参数。
纳米压缩测试可以用于研究纳米材料的变形行为和力学性能。
二、纳米材料力学性能研究的技巧1. 选取合适的纳米材料：不同类型的纳米材料具有不同的力学性能。
在进行纳米材料力学性能研究前，需要根据具体研究目的选择合适的纳米材料。
考虑纳米材料的结构、成分以及合成方法等因素，选择具有一定代表性的样品进行力学性能测试。
2. 样品制备的标准化：样品制备对于纳米材料力学性能研究的结果具有重要影响。
因此，要确保样品制备的标准化和重复性。
在制备样品时应注意控制纳米颗粒的尺寸、形貌和分散性，避免影响力学性能测试的因素。
3. 合理选择性能测试参数：在进行纳米材料力学性能测试时，需要根据具体样品的特点和测试目的，选择合适的测试参数。
例如，在纳米压痕测试中，应根据样品的硬度范围选择合适的压头，以保证测试结果的准确性。
4. 结合理论计算与实验：纳米材料力学性能的研究需要结合理论计算与实验相结合。
纳米材料粒度测试方法大全
纳米材料粒度测试方法大全目前，纳米材料已成为材料研发以及产业化最基本的构成部分，其中纳米材料的粒度则是其最重要的表征参数之一。
本文根据不同的测试原理阐述了8种纳米材料粒度测试方法，并分析了不同粒度测试方法的优缺点及适用范围。
1.电子显微镜法电子显微镜法是对纳米材料尺寸、形貌、表面结构和微区化学成分研究最常用的方法，一般包括扫描电子显微镜法（SEM）和透射电子显微镜法（TEM）。
对于很小的颗粒粒径，特别是仅由几个原子组成的团簇，采用扫描隧道电镜进行测量。
计算电镜所测量的粒度主要采用交叉法、最大交叉长度平均值法、粒径分布图法等。
优点：该方法是一种颗粒度观测的绝对方法，因而具有可靠性和直观性。
缺点：测量结果缺乏整体统计性；滴样前必须做超声波分散；对一些不耐强电子束轰击的纳米颗粒样品较难得到准确的结果。
2.激光粒度分析法激光粒度分析法是基于Fraunhofer衍射和Mie氏散射理论，根据激光照射到颗粒后，颗粒能使激光产生衍射或散射的现象来测试粒度分布的。
因此相应的激光粒度分析仪分为激光衍射式和激光动态散射式两类。
一般衍射式粒度仪适于对粒度在5μm以上的样品分析，而动态激光散射仪则对粒度在5μm以下的纳米、亚微米颗粒样品分析较为准确。
所以纳米粒子的测量一般采用动态激光散射仪。
优点：样品用量少、自动化程度高、重复性好, 可在线分析等。
缺点：不能分析高浓度的粒度及粒度分布，分析过程中需要稀释，从而带来一定误差。
3.动态光散射法动态光散射也称光子相关光谱，是通过测量样品散射光强度的起伏变化得出样品的平均粒径及粒径分布。
液体中纳米粒子以布朗运动为主，其运动速度取决于粒径、温度和黏度系数等因素。
在恒定温度和黏度条件下, 通过光子相关谱法测定颗粒的扩散系数就可获得颗粒的粒度分布，其适用于工业化产品粒径的检测，测量粒径范围为1nm~5μm的悬浮液。
优点：速度快，可获得精确的粒径分布。
纳米技术 纳米材料电阻率的接触式测量方法 通则
纳米技术，作为当代科技领域的热门话题，其应用领域日益扩大，其中纳米材料的研究和应用备受关注。
而纳米材料的电阻率测量方法，是纳米技术领域中的一个重要的研究内容。
本文将就纳米材料电阻率的接触式测量方法进行介绍和探讨。
一、纳米材料的特点纳米材料是指至少在一个空间维度上具有尺寸小于100纳米的物质。
纳米材料由于其尺寸小、界面效应大、量子尺寸效应显著等特点，使得其具有许多传统材料所不具备的特殊性能，如磁、电、光、力学等性质。
目前，纳米材料已经被广泛应用于电子器件、传感器、生物医药、能源储存等领域。
二、纳米材料电阻率的测量意义纳米材料的电阻率是其重要的物理性质之一，它直接影响着纳米材料在电子器件、电阻传感器等领域的应用。
准确、可靠地测量纳米材料的电阻率是纳米技术研究领域中的一个关键问题。
三、传统电阻率测量方法的局限性以往常用的测量纳米材料电阻率的方法，如四探针法、焦耳热法等存在一些局限性。
四探针法需要制备特殊的探针样品，且对样品的尺寸和形状要求严格；焦耳热法对测量温度和样品形状等要求严格，且具有一定的危险性。
寻求一种准确、简便、可靠的纳米材料电阻率的测量方法显得尤为重要。
四、接触式测量方法的原理接触式测量方法是一种通过将待测材料与标准电极或探针接触，利用电流-电压关系来测定电阻率的方法。
对于纳米材料的接触式测量方法，可选用纳米尺度的电子束或原子力显微镜探针等。
五、接触式测量方法的优势相对于传统的电阻率测量方法，接触式测量方法具有以下优势：接触式测量方法无需特殊的样品制备，减小了实验的难度；接触式测量方法不需要高温或高压环境，能够在常温下进行测量，极大地减小了实验的危险性；第三，接触式测量方法可以快速、准确地获得纳米材料的电阻率。
六、接触式测量方法的应用接触式测量方法已经被广泛应用于纳米材料电阻率的研究中。
包括利用扫描隧道显微镜、原子力显微镜等探针进行接触式测量，通过测得的电流-电压关系来计算纳米材料的电阻率。
纳米材料粒度测试方法大全
纳米材料粒度测试方法大全纳米材料粒度测试是纳米材料研究和应用中非常重要的一项工作，通过准确测量纳米材料的粒度可以了解其物理性质和化学性质，为纳米材料的合成、应用和性能优化提供数据支持。
下面将介绍几种常用的纳米材料粒度测试方法。
1.扫描电子显微镜(SEM)：SEM是一种通过扫描纳米材料表面的高能电子束来观察和测量纳米材料粒度的方法。
该方法具有分辨率高、测量精度高、对纳米材料样品无需特殊处理等特点。
通过SEM观察到的纳米材料外观图像可以用于测量粒径、形貌和分布等参数。
2.透射电子显微镜(TEM)：TEM是一种通过透射电子束观察纳米材料内部结构的方法，也可用于测量纳米材料的粒度。
TEM具有高分辨率，可以观察到纳米尺度的细节。
通过对TEM图像的分析，可以根据纳米材料的投影面积和长度等参数来计算纳米材料的粒径。
3.动态光散射(DLS)：DLS是一种通过检测纳米材料颗粒在溶液中的布朗运动来测量纳米材料粒度的方法。
它利用激光束照射纳米颗粒溶液，测量散射光的强度和角度分布，从而得到纳米材料的尺寸分布。
DLS具有非接触式测量、快速、方便等特点，适用于纳米材料的溶液或悬浮液样品。
4.X射线衍射(XRD)：XRD是一种通过测量材料晶体的衍射角度来确定晶体结构和晶粒尺寸的方法。
对于具有晶体结构的纳米材料，可以通过XRD图谱的峰宽来估算晶粒尺寸。
XRD具有无损测量、精度高等特点，适用于晶体结构明确的纳米材料。
5.傅里叶红外光谱(FTIR)：FTIR是一种通过测量纳米材料在红外波段的吸收光谱来研究纳米材料结构和成分的方法。
纳米材料的粒度也可以通过红外吸收峰的强度和位置进行定性和定量分析。
FTIR具有所需样品量少、分辨率高等特点，适用于纳米材料的表面分析和组成分析。
6.水中悬浮液测定法：将纳米材料置于水中制备悬浮液，通过测量悬浮液的光学性质如透光率等，可以间接测得纳米材料的粒度。
该方法操作简单、快速，可用于大量样品的测量。
7.气相吸附法：纳米材料的比表面积可以通过气相吸附法来测量。
纳米材料的表征方法与技巧
纳米材料的表征方法与技巧纳米材料是一种具有特殊尺寸和结构的材料，其尺寸在纳米级别（10^-9米）范围内。
由于纳米材料具有独特的物理、化学和力学特性，因此对其进行准确的表征是非常重要的。
本文将介绍几种常用的纳米材料表征方法与技巧，以帮助读者更好地了解和研究纳米材料。
1. 扫描电镜（SEM）扫描电镜（Scanning Electron Microscopy，SEM）是一种常用的表征纳米材料形貌和表面形态的方法。
SEM利用电子束照射样品，然后测量样品放出的次级电子、反射电子或散射电子，通过扫描样品的表面，获得高分辨率的表面形貌信息。
SEM能够对纳米材料进行直接观察和分析，可以得到材料的形貌、尺寸、结构以及表面粗糙度等信息。
2. 透射电子显微镜（TEM）透射电子显微镜（Transmission Electron Microscopy，TEM）是一种用于观察纳米材料内部结构的高分辨率技术。
TEM利用电子束通过样品的方式，然后测量透射电子的强度，从而获得材料的原子级别结构和晶格信息。
TEM对于研究纳米材料的晶体结构、晶粒尺寸和界面特性等方面具有很高的分辨率和灵敏度。
3. X射线衍射（XRD）X射线衍射（X-ray Diffraction，XRD）是一种用于分析纳米材料结晶性质的重要手段。
通过照射样品表面的X射线，通过分析和测量样品对X射线的衍射图样，可以确定样品的晶体结构、晶体相对应的晶格参数以及晶粒尺寸等信息。
XRD对于研究纳米材料的晶体结构和晶体相变等方面具有很高的准确性和可靠性。
4. 傅里叶变换红外光谱（FTIR）傅里叶变换红外光谱（Fourier Transform Infrared Spectroscopy，FTIR）是一种用于表征纳米材料的化学组成和官能团的方法。
通过测量样品在红外区域的吸收和散射光谱，可以确定样品中存在的化学键和官能团类型，并帮助研究者了解纳米材料的结构和表面性质。
FTIR对于研究纳米材料的化学组成、官能团修饰以及材料与其他物质之间的相互作用具有重要意义。
举例说明纳米微粒尺寸常用的方法
举例说明纳米微粒尺寸常用的方法纳米微粒尺寸的测量方法有很多种，下面将介绍常用的10种方法。
1. 透射电子显微镜（Transmission Electron Microscopy，TEM）TEM是一种常用的纳米微粒尺寸测量方法。
它通过透射电子束来观察样品的微观结构，可以直接测量纳米级颗粒的尺寸。
2. 扫描电子显微镜（Scanning Electron Microscopy，SEM）SEM是一种常用的纳米微粒尺寸测量方法。
它通过扫描电子束来观察样品的表面形貌，可以间接推测纳米级颗粒的尺寸。
3. 动态光散射（Dynamic Light Scattering，DLS）DLS是一种常用的纳米微粒尺寸测量方法。
它利用光散射的原理，通过测量散射光的强度和时间的变化，来推测颗粒的大小和分布。
4. X射线衍射（X-ray Diffraction，XRD）XRD是一种常用的纳米微粒尺寸测量方法。
它利用材料对X射线的衍射来推测颗粒的晶格结构和尺寸。
5. 原子力显微镜（Atomic Force Microscopy，AFM）AFM是一种常用的纳米微粒尺寸测量方法。
它通过探针与样品表面进行相互作用，测量力的变化来推测颗粒的尺寸。
6. 扫描隧道显微镜（Scanning Tunneling Microscopy，STM）STM是一种常用的纳米微粒尺寸测量方法。
它利用电子的隧穿效应，通过探针与样品表面的距离变化来推测颗粒的尺寸。
7. 粒度分析仪粒度分析仪是一种常用的纳米微粒尺寸测量方法。
它通过测量样品中颗粒的沉降速度、散射光强度等参数，来推测颗粒的尺寸。
8. 静态光散射（Static Light Scattering，SLS）SLS是一种常用的纳米微粒尺寸测量方法。
它利用光散射的原理，通过测量散射光的强度和角度的变化，来推测颗粒的大小和分布。
9. 红外光谱（Infrared Spectroscopy，IR）红外光谱是一种常用的纳米微粒尺寸测量方法。
纳米材料的测量技术
纳米材料的测量技术引言：纳米材料是一种具有特殊性质和应用潜力的材料，其尺寸在纳米尺度范围内。
纳米材料的测量技术是研究和应用纳米材料的基础，对于了解纳米材料的结构、性质和行为具有重要意义。
本文将介绍一些常用的纳米材料测量技术及其应用。
一、透射电子显微镜（TEM）透射电子显微镜是一种利用电子束通过样品的原理来观察纳米材料的结构和形貌的仪器。
通过TEM可以获得纳米材料的高分辨率图像，可以观察到纳米粒子的尺寸、形状和分布情况。
此外，TEM还可以进行能谱分析，得到纳米材料的元素成分信息。
二、扫描电子显微镜（SEM）扫描电子显微镜是一种利用电子束扫描样品表面并获得二维图像的仪器。
与TEM不同，SEM可以观察到纳米材料的表面形貌和粒子的分布情况。
通过SEM可以获得更大范围的图像，对于纳米材料的形貌和粒子分布的研究具有重要意义。
三、原子力显微镜（AFM）原子力显微镜是一种基于原子力相互作用的测量技术，可以对纳米尺度的表面进行高分辨率的三维成像。
AFM可以测量纳米材料的表面形貌、粒子尺寸和表面粗糙度等参数，对于纳米材料的表面性质研究具有重要意义。
四、动态光散射（DLS）动态光散射是一种利用光散射现象测量纳米材料的大小和分布的技术。
通过测量纳米材料在溶液中的光散射强度随时间的变化，可以得到纳米材料的粒子大小分布和聚集情况。
DLS广泛应用于纳米材料的尺寸和稳定性的研究。
五、拉曼光谱拉曼光谱是一种通过测量光散射现象来研究物质的结构和成分的技术。
纳米材料的拉曼光谱可以提供关于纳米材料的结构、晶格振动和化学组成等信息。
拉曼光谱可以用来研究纳米材料的晶格结构、表面增强拉曼散射现象以及纳米材料的表面修饰等。
六、X射线衍射（XRD）X射线衍射是一种通过测量物质对X射线的衍射现象来研究物质的结构的技术。
纳米材料的X射线衍射可以提供关于纳米材料的晶体结构和晶格参数的信息。
X射线衍射可以用来研究纳米材料的晶体结构、晶格畸变以及纳米材料的相变等。
纳米材料的测试与表征
高分子纳米微球研究
沉降法粒度分析
沉降法的原理是基于颗粒在悬浮体系时，颗粒本 身重力(或所受离心力)、所受浮力和黏滞阻力三 者平衡，并且黏滞力服从斯托克斯定律
（F=6πrηv）来实施测定的，此时颗粒在悬浮体
• STM通常被认为是测量表面原子结构的工具，具 有直接测量原子间距的分辨率。 STM还可以操纵 单个原子和分子
STM像
原子操纵
原子力显微镜AFM
• 原子力显微镜(AFM)， 或者扫描力显微镜 （SFM）
• 跟所有的扫描探针显 微镜一样，AFM使用 一个极细的探针在样 品表面进行光栅扫描， 探针是位于一悬臂的 末端顶部，该悬臂可 对针尖和样品间的作 用力作出反应
原子吸收光谱法(AAS)
• 根据蒸气相中被测元素的基态原子对其原子共振 辐射的吸收强度来测定试样中被测元素的含量；
• 适合对纳米材料中痕量金属杂质离子进行定量测 定，检测限低 ，10－10－10－14 g/cm3
• 测量准确度很高 ，1%（3-5%） • 选择性好 ，不需要进行分离检测 • 分析元素范围广 ，70多种 • 不能同时进行多元素分析
• 其特点是样品使用量少，不仅可以获得样品的形 貌，颗粒大小，分布以还可以获得特定区域的元 素组成及物相结构信息
高分辨TEM
• HRTEM是观察材料微观结构的方法。不仅 可以获得晶包排列的信息，还可以确定晶 胞中原子的位置。
• 200KV的TEM点分辨率为0.2nm，1000KV 的TEM点分辨率为0.1nm。
电感耦合等离子体发射光谱法（ICP）
• ICP是利用电感耦合等离子体作为激发源，根据处于激发 态的待测元素原子回到基态时发射的特征谱线对待测元素 进行分析的方法
物理实验技术中的纳米材料测量与应用技巧
物理实验技术中的纳米材料测量与应用技巧纳米材料作为现代物理实验技术中的重要组成部分，具有独特的性质和广泛的应用潜力。
在纳米尺度下，材料的物理、化学和电子性质都会发生显著变化，因此纳米材料的测量与应用技巧相较于宏观材料具有更高的挑战性。
一、纳米材料测量技巧1. 电子显微镜技术电子显微镜是研究纳米材料最常用的工具之一。
透射电子显微镜（TEM）和扫描电子显微镜（SEM）可以提供纳米尺度下材料表面和内部的形貌、结构和成分信息。
通过电子束与材料的相互作用，可以观察到纳米颗粒的形状、大小以及晶体结构等信息，从而研究材料的纳米尺度特性。
2. 原子力显微镜技术原子力显微镜（AFM）是一种利用尖端探针与样品表面间的相互作用力来测量样品表面形貌和本征性质的技术。
AFM可以用于测量材料的纳米结构、表面粗糙度以及磁性、电荷传输等特性。
由于AFM不需要真空环境，因此对于一些非导电或生物材料的测量具有独特的优势。
3. X射线衍射技术X射线衍射是一种通过材料对入射X射线进行衍射来研究材料结构的技术。
纳米材料的结构性质对其物理性质和应用性能至关重要，因此X射线衍射技术在纳米材料的研究中起着重要作用。
通过对衍射图样的解析，可以得到材料的晶体结构、晶格参数、晶体形貌等信息。
二、纳米材料应用技巧1. 纳米电子器件纳米材料的尺寸效应和表面效应使其具有较高的载流子浓度、较大的纵横比、优异的介电性能等特点，这些特性使得纳米材料在电子器件中具有广泛应用。
利用纳米材料制备高性能的纳米场效应晶体管、纳米电极等，能够实现更小尺寸、更高速度的电子器件。
2. 纳米传感器随着纳米材料测量技术的发展，纳米传感器逐渐成为一种以纳米材料为基础的新型传感器技术。
纳米传感器通过材料的尺寸效应、表面效应和形貌效应等特性，能够对温度、湿度、光照等环境参数进行高灵敏度的检测。
纳米传感器在环境监测、医学诊断、食品安全等领域具有广阔的应用前景。
3. 纳米催化剂纳米材料在催化领域具有独特的应用潜力。
纳米材料的性能测试方法与分析技巧
纳米材料的性能测试方法与分析技巧在纳米科技领域中，纳米材料的性能测试是非常重要的。
随着纳米材料的广泛应用，准确评估其性能对于材料的研发和应用具有重要意义。
本文将介绍纳米材料性能测试的常用方法和分析技巧。
1. 粒径分析纳米材料的粒径是其最基本的性能参数之一。
常用的粒径分析方法包括动态光散射（DLS）、激光粒度分析仪（LPSA）和扫描电子显微镜（SEM）等。
其中，动态光散射是一种通过光粒度仪测量颗粒对粒径的分析方法。
激光粒度分析仪可以通过光学原理测量颗粒的大小分布。
扫描电子显微镜则通过高分辨率的图像展示颗粒的形态和大小。
这些方法可以帮助我们了解纳米材料的粒径分布情况，为性能的评估提供依据。
2. 表面形貌分析纳米材料的表面形貌对其性能具有重要影响。
扫描电子显微镜和透射电子显微镜（TEM）是常用的表面形貌分析方法。
扫描电子显微镜可以提供高分辨率的表面形貌图像，而透射电子显微镜则可以提供纳米级别的表面形貌信息。
通过这些方法可以观察到纳米材料的形状、表面结构和晶体结构等信息，为性能的评估提供基础数据。
3. 结构分析纳米材料的结构对其性能具有重要影响。
X射线衍射（XRD）和透射电子显微镜是常用的结构分析方法。
X射线衍射可以通过检测材料的晶体衍射峰来确定其晶体结构和晶格参数。
透射电子显微镜则可以通过对纳米材料的电子衍射图像进行分析，确定其晶体结构和晶格参数。
结构分析可以提供对纳米材料晶体结构的了解，为性能的评估提供依据。
4. 表面化学成分分析纳米材料的表面化学成分对其性能具有重要影响。
常用的表面化学成分分析方法包括能谱分析（EDS）和X射线光电子能谱（XPS）。
能谱分析可以通过分析材料发射的X射线能谱来确定其表面化学成分。
X射线光电子能谱则可以通过分析材料表面的光电子发射能谱来确定其表面化学成分。
这些方法可以帮助我们了解纳米材料的表面化学成分，为性能的评估提供依据。
5. 热性能分析纳米材料的热性能对其应用具有重要意义。
光学测量方法实现在纳米级别量测并可视
光学测量方法实现在纳米级别量测并可视光学测量是一种常用的非接触式测量方法，可以在不破坏被测对象的情况下获取其表面形貌和尺寸信息。
由于光学测量具有高精度、高效率和无损检测等优点，在纳米级别的测量领域得到了广泛应用。
纳米级别的测量是科学研究和工程技术中的重要任务，对于探索纳米世界的新现象和提高纳米器件制造的精度至关重要。
光学测量方法在纳米级别的量测中发挥着重要作用，可以实现非常精确的表面形貌和尺寸量测，并且具有可视化的特点。
在纳米级别的光学测量中，常用的方法有：1. 扫描近场光学显微镜 (SNOM)：这种方法利用纳米尺度的近场光学原理，将光源聚焦到纳米尺度的探针尖端，通过探测光与被测样品相互作用的变化，来实现纳米级别的量测。
通过控制探测器的移动，可以在纳米级别内进行图像扫描，获取高分辨率的纳米级别表面形貌信息。
2. 原子力显微镜 (AFM)：原子力显微镜是一种通过探针与被测样品之间的相互作用力来获取样品表面形貌的测量方法。
它不仅可以在纳米级别内测量样品的表面形貌，还可以实现原子级别的分辨率。
通过探测器的移动和探针的借助，可以实现在纳米级别内的量测并可视化。
3. 散射光学一维和二维显微镜：这种方法利用样品散射的光学特性，通过一维或二维的显微镜来实现纳米级别的量测。
通过对散射光的方向、强度和偏振状态进行测量和分析，可以获取样品表面形貌和尺寸的信息。
而且，这种方法具有实时、快速和无需接触样品的特点，非常适合对纳米级别结构进行量测。
需要注意的是，在纳米级别的光学测量中，仪器的精度和分辨率非常重要。
为了提高测量的准确性和可靠性，通常会采用先进的光学元件、高稳定性的光源和精密的控制系统来构建测量系统。
此外，还需要进行有效的信号处理和数据分析，以提取出真实、准确的纳米级别量测结果。
光学测量方法在纳米级别量测中的应用非常广泛。
例如，在纳米科学和纳米技术中，常用光学测量方法来研究纳米材料的光学性质、光学波导器件的制备和性能评估等。
纳米材料的一般表征方法
纳米材料的一般表征方法纳米材料的表征可以分为以下几个部分：形貌表征：透射电子显微镜（TEM）、扫描电子显微镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）；成份分析：X射线光电子能谱（XPS），电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES)，原子吸收分光光度计(AAS)；结构表征：红外光谱(FT-IR)，拉曼光谱(Raman)，动态光散射（DLS）、纳米颗粒跟踪分析（NTA）、X射线衍射（XRD）；性质表征-光、电、磁、热、力等：紫外-可见分光光度法（UV-Vis），光致发光(PL)。
1、形貌表征：（1）透射电子显微镜（TEM）是把经加速和聚集的电子束投射到非常薄的样品上，电子与样品中的原子碰撞而改变方向，从而产生立体角散射，可以形成明暗不同的影像，进而可以用来呈现纳米材料形貌的一种表征方式。
TEM还可以配备高分辨率透射电子显微镜（High-Resolution TEM），可以用于观察纳米材料的晶格参数，进而推断其晶型。
而有的纳米材料由于结构的特殊性，需要使用冷冻电镜（Cryo-TEM）来对其形貌结构进行观察表征。
（2）扫描电子显微镜（SEM）利用聚焦的很窄的高能电子束来扫描样品，通过电子束与样品间的相互作用，来激发各种物理信息，对这些信息进行收集、放大、再成像以达到对样品微观形貌表征的目的。
SEM也广泛用于纳米材料形貌的表征分析。
（3）原子力显微镜（AFM）可以在大气和液体环境下对样品进行纳米区域的物理性质进行探测（包括形貌），以高倍率观察样品表面，而不需要进行其他制样处理，可用于几乎所有样品（对表面光洁度有一定要求），就可以得到样品表面的三维形貌图象。
2、成份分析：（1）X射线光电子能谱（XPS）为化学研究提供分子结构和原子价态方面的信息，纳米材料通过XPS分析其原子价态，这些信息往往与其自身性能密切相关。
（2）ICP-AES主要用来测定岩石、矿物、金属等样品中数十种元素的含量。
（3）AAS可以用来测定样品中的元素含量。
纳米材料的表征与测试技术
纳米材料的表征与测试技术1纳米材料的表征方法纳米材料的表征主要包括: 1化学成分; 2纳米粒子的粒径、形貌、分散状况以及物相和晶体结构; 3纳米粒子的表面分析。
1.1化学成分表征化学成分是决定纳米粒子及其制品性能的最基本因素。
常用的仪器分析法主要是利用各种化学成分的特征谱线，如采用X射线荧光分析和电子探针微区分析法可对纳米材料的整体及微区的化学组成进行测定。
而且还可以与扫描电子显微镜SEM配合，使之既能利用探测从样品上发出的特征X射线来进行元素分析，又可以利用二次电子、背散射电子、吸收电子信号等观察样品的形貌图像。
即可以根据扫描图像边观察边分析成分，把样品的形貌和所对应微区的成分有机的联系起来，进一步揭示图像的本质。
此外，还可以采用原子l发射光谱AES、原子吸收光谱AAS对纳米材料的化学成分进行定性、定量分析;采用X射线光电子能谱法XPS可分析纳米材料的表一面化学组成、原子价态、表面形貌、表面微细结构状态及表面能态分布等。
1.2纳米徽粒的衰面分析(1)扫描探针显徽技术SPM扫描探针显徽技术SPM以扫描隧道电子显微镜STM ,原子力显徽镜AFM、扫描力显微镜SFM 、弹道电子发射显徽镜BEEM、扫描近场光学显微镜SNOM等新型系列扫描探针显徽镜为主要实验技术，利用探针与样品的不同相互作用，在纳米级乃至原子级的水平上研究物质表面的原子和分子的几何结构及与电子行为有关的物理、化学性质，在纳米尺度上研究物质的特性。
(2)谱分析法①紫外一可见光谱由于(金属粒子内部)电子气(等离子体)共振激发或由于带间吸收，它们在紫外——可见光区具有吸收谱带。
不同的元素离子具有其特征吸收谱。
因此，通过紫外一可见光光谱，特别是与Mie理论的计算结果相配合时，能够获得关于粒子颗粒度、结构等方面的许多重要信息。
此技术简单方便，是表征液相金属纳米粒子最常用的技术。
另外，紫外一可见光谱可观察能级结构的变化，通过吸收峰位置变化可以考察能级的变化。
纳米粉末测试方法
纳米粉末测试方法纳米粉末的测试方法包括以下几种：1、物相分析：将真空干燥的纳米材料粉末样品放入测试玻璃槽中，压平后使用X射线衍射仪进行测试。
2、分散液浓度测试：使用浓硝酸处理纳米材料水分散液，使纳米材料完全溶解，然后采用ICP-AES测试Te元素含量。
3、紫外可见近红外光谱测试：将纳米材料稀释成不同浓度的水分散液，加入到石英比色皿中，然后使用紫外可见分光光度计测量200-1100nm范围内的吸光度。
4、光热转换性能的测试：将纳米材料稀释成一系列浓度的Te纳米针水分散液，取0.1mL分散液加入到0.25mL小离心管中。
然后使用功率为0.8Wcm2的915nm半导体激光器照射小离心管中的水分散液，同时使用热成像相机记录分散液的温度变化。
5、自由基清除测试：使用1,1-二苯基-2-苦基肼(DPPH)测试Te纳米针的清除自由基（抗氧化）的能力。
6、全谱直读等离子体发射光谱测试：采用美国Leemanlabs公司Prodigy7型全谱直读等离子体发射光谱仪（ICP;Inductively Coupled Plasma-Optical Emission Spectr)测量纳米粉体样品中钕离子的含量，通过观察钕离子的特有原子光谱确定其含量用于定量分析。
7、全自动比表面积及孔隙度分析测试：采用美国Micromeritics 公司ASAP 2020M型全自动比表面积及孔隙度分析仪（AutomaticSpecificSurface Area and Porosity Analyzer），通过氮气吸附法测量纳米粉体样品的比表面积。
以上测试方法可以帮助研究人员了解纳米粉末的各种性质，如物相、浓度、光谱特性、光热转换性能、自由基清除能力、元素含量以及比表面积等。
这些性质对于纳米粉末在各个领域的应用具有重要意义。
纳米材料的表征方法(1)
煤灰/硫化物混合颗粒的TEM图象
Sol-gel法合成羟磷灰石, 可分辨出毛发状、长柱状的晶体 轮廓, 但晶面发育不明显 (TEI)
(a) (b)
❖5.2.3 扫描电镜(Scanning Electronic Microscopy， SEM)
❖JSM-6301F场发射扫描电镜
❖SEM image (beetle)
5.1.2. 粒度测试的常用方法
传统方法：显微镜法（0.8-150μm用光学显微镜，小于0.8微
米用电子显微镜）、筛分法、沉降法、电感应法
新发展的方法：激光衍射法、激光散射法、光子相干光谱法
（1nm-5μm）、电超声粒度分析法(5nm-100μm)、电子显 微镜图像法、基于颗粒布朗运动的粒度测量和质谱法、激 光粒度分析法
Bi－系超导氧化物的堆积缺陷层调整 Stacking fault Layer modulation
Electron Diffraction Pattern
晶体
多晶体
非晶体
一、成像原理
透射电子显微镜中，物镜、中间镜，总的放大倍 数就是各个透镜倍率的乘积。
M = M0.Mi.Mp
透镜的成像作用可以分为两个过程： 第一个过程是平行电子束遭到物的散射作用而分裂成为
TEM简介：
高分辨电镜（HRTEM）
透射扫描电镜（STEM）
分析型电镜（AEM）等等。
入射电子束（照明束）也有两种主要形式：
平行束：透射电镜成像及衍射
会聚束：扫描透射电镜成像、微分析及微衍射
透射电子显微镜由三大部分组成： 电子光学系统、真空系统、供电控制系统。
JEM-2010透射电镜
5.2 纳米材料的电子显微分析
5.2.1 电子显微镜
纳米材料的测量技术
纳米材料的测量技术介绍纳米材料是一种维度在纳米尺度的材料，具有独特的物理、化学和生物学特性。
由于其特殊性质，纳米材料的测量技术需要针对其尺寸、形状、结构和性质进行精确的表征和定量分析。
本文将深入探讨纳米材料测量技术的相关内容。
原子力显微镜（AFM）作用原理•AFM是一种基于探针与样品之间的相互作用进行测量的技术。
探针在样品表面扫描并测量其拓扑结构。
•AFM的探针通常是尖端末端有导电体的微型悬臂，通过感应作用和力的测量来确定样品表面的形貌。
应用•AFM可以用于测量纳米材料的形貌和表面结构，可以获取纳米颗粒的尺寸和形状信息。
•AFM还可以用于研究纳米材料的表面力学性能、表面电荷分布等。
透射电子显微镜（TEM）作用原理•TEM是一种通过透射电子形成图像的测量技术。
电子束穿过样品后通过一系列透镜，然后通过对电子的衍射图样进行分析，得到样品的结构信息。
•TEM可以提供纳米材料的高分辨率成像，通常可以达到0.1纳米的分辨率。
应用•TEM主要用于观察纳米材料的晶体结构和晶格缺陷。
它可以揭示纳米材料中晶体的生长机制和缺陷的形成。
•TEM还可以用于观察纳米材料的界面结构和纳米材料的纯度。
扫描电子显微镜（SEM）作用原理•SEM是一种通过扫描样品表面的电子束并检测出射电子来获取图像的测量技术。
•SEM可以提供较大区域的高分辨率图像，可以获得纳米材料的形貌信息，并可进行定量分析。
应用•SEM可用于观察纳米材料的形貌和内部结构，可以揭示纳米材料的深层结构信息。
•SEM还可用于研究纳米材料的表面态，如化学组成、表面形貌和结构。
X射线衍射（XRD）作用原理•XRD是一种通过将X射线照射到样品上并分析衍射图样来测量样品的结构和成分的技术。
•X射线与物质相互作用时，其会发生衍射现象，而衍射图样则可以提供样品的晶体结构信息。
应用•XRD可以用于确定纳米材料的晶体结构、晶格参数和晶体相位。
•XRD还可以用于评估纳米材料的纯度、晶体质量以及结构的改变。
纳米材料的磁学特性测试方法详解
纳米材料的磁学特性测试方法详解纳米材料的磁学特性是其在微观尺度上的磁性行为，对于理解和应用纳米材料具有重要意义。
准确测量纳米材料磁学特性的方法对于研究纳米材料的性质、应用开发和性能改善至关重要。
本文将详细探讨纳米材料磁学特性的测试方法，并介绍几种常用的测试手段。
一、磁化曲线测量法磁化曲线测量法是一种常用的测试纳米材料磁学特性的方法。
该方法通过测量材料在外加磁场作用下的磁化强度，得到磁场和磁化强度之间的关系曲线，称为磁化曲线。
通过分析磁化曲线，可以获取纳米材料的一些重要磁学参数，如饱和磁化强度、剩余磁化强度和矫顽力等。
在磁化曲线测量中，通常采用霍尔效应磁强计、振荡样品磁电位计和超导磁体等设备。
这些设备可以提供高灵敏度和高分辨率的测量结果，并能够在不同温度和磁场条件下进行测试。
二、磁化强度测量法磁化强度测量法是另一种常见的测试纳米材料磁性的方法。
该方法通过测量材料自身的磁化强度来评估其磁学特性。
磁化强度是材料单位体积内磁矩的总和，可以用于表征纳米材料的磁化行为。
常用的磁化强度测量方法包括霍尔效应测量、恢复磁强计和超导量子干涉仪等。
这些方法通过利用霍尔效应、恢复磁强和超导现象等原理，实现对纳米材料磁化强度的准确测量。
三、磁滞回线测量法磁滞回线测量法是一种测试纳米材料磁性的重要方法。
该方法通过在外加磁场下测量材料磁化强度的变化，得到磁滞回线。
磁滞回线可以反映纳米材料的磁滞特性，包括磁化强度的变化程度、剩余磁化强度和矫顽力等参数。
磁滞回线的测量通常使用霍尔效应磁强计、超导恢复磁强计和振荡样品磁电位计等设备。
这些设备能够对纳米材料磁滞回线进行高精度测量，并提供详细的磁滞特性信息。
四、磁顺应力测量法磁顺应力测量法是一种用于测试纳米材料磁学特性的先进方法。
该方法利用纳米材料在外加磁场下的磁顺应力表现，并通过测量材料表面或其它部位的应变变化，得到磁顺应力的信息。
磁顺应力测量常用的方法包括磁弹性测量、弹性光学测量和压电传感测量等。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性，平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益，请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间：9:00-18:30)。
一 1.景深：成像时，像平面不动（像距不变），在满足成像清晰地前提下，物平面沿轴线前后可移动的距离. 是指在样品深度方向可能观察的程度。
2.焦长: 物点固定不动（物距不变），在满足成像清晰地前提下，像平面沿轴线前后可移动的距离，或者说观察屏或照相底版沿镜轴所允许的移动距离。
二.原子力显微镜的三种工作模式
答：原子力显微镜的工作模式是以针尖与样品之间的作用力的形式来分类的。
主要有以下3种操作模式:接触模式(contact mode) ，非接触模式( non - contact mode) 和敲击模式( tapping mode) 。
1、接触模式
1)接触式：
•在接触模式中，针尖始终与样品保持轻微接触，扫描过程中，针尖在样品表面滑动。
通常来说，接触模式都可以产生稳定的、高分辨率的图像。
•在接触模式中，如果扫描软样品的时候，样品表面由于和针尖直接接触，有可能造成样品的损伤。
对于表面坚硬的样品，容易造成针尖的损坏。
所以接触模式一般不适用于研究生物大分子、低弹性模量样品以及容易移动和变形的样品
2)非接触式：
a.在非接触模式中，针尖在样品表面上方振动，始终不与样品接触，探针监测器检测的是范德华力和静电力等对成像样品的无破坏的长程作用力。
b.但当针尖与样品之间的距离较长时，分辨率要比接触模式和轻敲模式都低，而且成像不稳定，操作相对困难.
c.通常不适用于在液体中成像，在生物中的应用也比较少。
3)轻敲式：
a.在轻敲模式，微悬臂在其共振频率附近作受迫振动，振荡的针尖轻轻的敲击样品表面，间断的和样品接触，所以又称为间歇接触模式。
b.轻敲模式能够避免针尖粘附到样品上，在扫描过程中对样品几乎没有损坏。
轻敲模式AFM在大气和液体环境下都可以实现。
c.在液体中的轻敲模式成像可以对活性生物样品进行现场检测、对溶液反应进行现场跟踪等。
三．电子衍射与X衍射相比的优缺点。
答：优点
1）电子衍射能在同一试样上将形貌观察与结构分析结合起来。
2）物质对电子散射主要是核散射，因此散射强，约为X射线一万倍，曝光时间短。
摄取电子衍射花样的时间只需几秒钟，而X射线衍射则需几分钟到数小时。
3）衍射角很小，一般为1-2度。
缺点；
1.电子衍射强度有时几乎与透射束相当，以致两者产生交互作用，使电子衍射花样，特别是强度分析变得复杂，不能象X射线那样从测量衍射强度来广泛的测定结构。
2.此外，散射强度高导致电子透射能力有限，要求试样薄，这就使试样制备工作较X射线复杂；在精度方面也远比X射线低。
四．X射线衍射峰的的特点，及引起X射线衍射峰宽化的原因。
答：特点：
◆完整晶体的衍射峰宽度接近零；
◆纳米粒子某些面间距d的略大略小变化，引起d值分布有一定宽度，晶粒
越细，衍射峰越宽。
◆另外，结晶度低也会引起衍射峰的宽化。
宽化的原因：
◆入射X射线并非严格单色（具有狭小的波长范围）；
◆入射X射线并非严格平行（或多或少具有一定的发散度）；
◆晶体中存在晶格的畸变；
五．吸收光谱、激发光谱和发射光谱的概念，分析吸收光谱和激发光谱的区别。
吸收光谱：高温物体发出的白光通过物质时，某些波长的光被物质吸收后产生的光谱，叫做吸收光谱。
激发光谱：在发光材料的发光光谱中，某一谱带或谱线的发光强度随激发光波长改变而变化的曲线被称为激发光谱。
发射光谱：物体发出的光的能量按波长的分布光谱叫做发射光谱．区别：激发光谱是监测物质被激发后发射的某一个波长下的荧光，扫描各个激发波长对这个固定荧光波长的贡献。
一般而言，激发光谱与紫外-可见吸收光谱的形状是一致的。
但是如果物质的三重态量子产率比较高，那么它被激发后系间窜越的几率很大，荧光激发谱的形状会受到影响，导致与紫外吸收光谱的形状不完全一致。
荧光分析中，一般会选择紫外-可见吸收峰较强的波长作为激发波长来检测荧光光谱。
根据Kasha规则，凝聚相中，所以荧光均由S1态向S0态跃迁而产生，因而激发波长对荧光光谱的测定影响并不是很大。
六．简述两种防止纳米颗粒团聚的方法及原理。
方法1.加入反絮凝剂形成双电层
◆原理：反絮凝剂的选择可依纳米微粒的性质、带电类型等来定，即：选择适
当的电解质作分散剂，使纳米粒子表面吸引异电离子形成双电层，通过双电层之间库仑排斥作用使粒子之间发生团聚的引力大大降低，实现纳米微粒分散的目的。
方法2.加表(界)面活性剂包裹微粒
◆原理：为了防止分散的纳米粒子团聚也可加入表面活性剂，使其吸附在粒
子表面，形成微胞状态，由于活性剂的存在而产生了粒子间的排斥力，使得粒子间不能接触，从而防止团聚体的产生。
七．分别阐述纳米材料吸收光谱出现蓝移和红移的原因。
蓝移：
a、量子尺寸效应：
即颗粒尺寸下降导致能隙变宽，从而导致光吸收带移向短波方向。
Ball等的普适性解释是：已被电子占据的分子轨道能级与未被电子占据的分子轨道能级之间的宽度（能隙）随颗粒直径的减小而增大，从而导致蓝移现象。
这种解释对半导体和绝缘体均适用。
b、表面效应：
纳米颗粒的大的表面张力使晶格畸变，晶格常数变小。
对纳米氧化物和氮化物的研究表明，第一近邻和第二近邻的距离变短，键长的缩短导致纳米颗粒的键本征振动频率增大，结果使红外吸收带移向高波数。
红移：】引起红移的因素很复杂，归纳起来有：
◆1）电子限域在小体积中运动；
◆2）粒径减小，内应力（P=2γ/r，r为半径，γ为表面能）增加，导致电子波
函数重叠；
◆3）存在附加能级，如缺陷能级，使电子跃迁能级间距减小；
◆4）外加压力使能隙减小；
◆5）空位、杂质的存在使平均原子间距增大，导致能级间距变小。
八．阐述至少4种纳米材料的表征技术，并说明其功能与用途。
答：
1.AEM：
1）表面形貌的表征:通过检测探针-样品作用力可表征样品表面的三维形貌，这是AFM 最基本的功能。
由于表面的高低起伏状态能够准确地以数值的形式获取，对表面整体图像进行分析可得到样品表面的粗糙度(Roughness)、颗粒度(Granularity)、平均梯度(StepHeight)、孔结构和孔径分布等参数；对小范围表面图像分析还可得到表面物质的晶形结构、聚集状态、分子的结构、面积和表面积及体积等；通过一定的软件也可对样品的形貌进行丰富的三维模拟显示如等高线显示法、亮度- 高度对应法等，亦可转换不同的视角，让图像更适于人的直观视觉。
2）表面物化属性的表征:AFM 的一种重要的测量方法是力-距离曲线，它包含了丰富的针尖-样品作用信息。
在探针接近甚至压入样品表面又随后离开的过程中，测量并记录探针所受到的力，就得到针尖和样品间的力-距离曲线。
通过分析针尖-样品作用力，就能够了解样品表面区域的各种性质如压弹性、粘弹性、硬度等物理属性；若样品表面是有机物或生物分子，还可通过探针与分子的结合拉伸了解物质分子的拉伸弹性、聚集状态或空间构象等物理化学属性；若用蛋白受体或其它生物大分子对探针进行修饰(functionization)，探针则会具有特定的分子识别功能，从而了解样品表面分子的种类与分布等生物学特性。
2.
3.
利用X射线的波动性和晶体内部结构的周期性进行晶体结构分析
4.SEM：
5.STM: 可用于具有周期性或不具备周期性的表面结构观察，这种可实时观察的
性能可用于表面扩散等动态过程的观察；并且获取表面单原子层的局域结构图象，用于研究局部的表面缺陷、表面重构、表面吸附物质的位置及形貌。
6.光谱
引起宽化的原因-。