硅片清洗及原理.

硅片清洗及原理

硅片的清洗很重要，它影响电池的转换效率，如器件的性能中反向电流迅速加大及器件失效等。因此硅片的清洗很重要，下面主要介绍清洗的作用和清洗的原理。

清洗的作用

1•在太阳能材料制备过程中，在硅表面涂有一层具有良好性能的减反射薄膜，有害的杂质离子进入二氧化硅层，会降低绝缘性能，清洗后绝缘性能会更好。

2. 在等离子边缘腐蚀中，如果有油污、水气、灰尘和其它杂质存在，会影响器件的质量，清洗后质量大大提高。

3. 硅片中杂质离子会影响P-N结的性能，引起P-N结的击穿电压降低和表面漏电，影响P-N结的性能。

4. 在硅片外延工艺中，杂质的存在会影响硅片的电阻率不稳定。

清洗的原理

要了解清洗的原理，首先必须了解杂质的类型，杂质分为三类：一类是分子型杂质包括加工中的一些有机物；二类是离子型杂质，包括腐蚀过程中的钠离子、氯离子、氟离子等；三是原子型杂质，如金、铁、铜和铬等一些重金属杂质。目前最常用的清洗方法有:化学清洗法、超声清洗法和真空高温处理法。

1•目前的化学清洗步骤有两种：

(1有机溶剂(甲苯、丙酮、酒精等—去离子水—无机酸(盐酸、硫酸、硝酸、王水一氢氟酸一去离子水

(2碱性过氧化氢溶液—去离子水—酸性过氧化氢溶液—去离子水

F面讨论各种步骤中试剂的作用

a. 有机溶剂在清洗中的作用

用于硅片清洗常用的有机溶剂有甲苯、丙酮、酒精等。在清洗过程中，甲苯、丙酮、酒精等有机溶剂的作用是除去硅片表面的油脂、松香、蜡等有机物杂质。所利用的原理是相似相溶”

b. 无机酸在清洗中的作用

硅片中的杂质如镁、铝、铜、银、金、氧化铝、氧化镁、二氧化硅等杂质，只

能用无机酸除去。有关的反应如下：

2AI+6HCI=2AICI3+3H2 T

AI2O3+6HCI=2AICI3+3H2O

Cu+2H2SO4= CuSO4 +SC2 T +2H2O

2Ag+2H2SO4=2Ag2SO4+SO2+2H2O

Cu+4HNO3= Cu(NO32 +2NO2 +2H2O

Ag+4HNO3= AgNO3+2NO2+2H2O

Au+4HCI+HNO3=H[AuCI4]+NO T +2H2O

SiO2+4HF=SiF4 T +2H2O

如果HF 过量则反应为:SiO2+6HF=H2[SiF6]+2H2O

H2O2的作用:在酸性环境中作还原剂，在碱性环境中作氧化剂。在硅片清洗中对一些难溶物质转化为易溶物质。如：

As2S5+20 H2O2+16NH4OH=2(NH43AsO4+5(NH42SO4+28H2O

MnO2+ H2SO4+ H2O2= Mn SO4+2H2O+O2

c. RCA清洗方法及原理

在生产中，对于硅片表面的清洗中常用RCA方法及基于RCA清洗方法的改

进,RCA清洗方法分为I号清洗剂(APM和U号清洗剂(HPM。1号清洗剂(APM的配置是用去离子水、30%过氧化氢、25%的氨水按体积比为：5:1:1至5:2:1; H号清洗剂(H PM的配置是用去离子水、30%过氧化氢、25%的盐酸按体积比为:6:1:1至8:2:1。其清洗原理是：氨分子、氯离子等与重金属离子如：铜离子、铁离子等形成稳定的络合物如:[AuCI4]-、[Cu(NH34]2+、[SiF6]2-。

清洗时，一般应在75~85°C条件下清洗、清洗15分钟左右，然后用去离子水冲洗干净。I号清洗剂(APM和U号清洗剂(HPM有如下优点：

(1这两种清洗剂能很好地清洗硅片上残存的蜡、松香等有机物及一些重金属如金、铜等杂质；

(2相比其它清洗剂，可以减少钠离子的污染；

(3相比浓硝酸、浓硫酸、王水及铬酸洗液，这两种清洗液对环境的污染很小，操作相对方便。

2.超声波在清洗中的作用

目前在半导体生产清洗过程中已经广泛采用超声波清洗技术。超声波清洗有以下优点：

(1清洗效果好，清洗手续简单，减少了由于复杂的化学清洗过程中而带来的杂质的可能性；

(2对一些形状复杂的容器或器件也能清洗。

超声波清洗的缺点是当超声波的作用较大时，由于震动磨擦，可能使硅片表面产生划道等损伤。

超声波产生的原理：高频震荡器产生超声频电流，传给换能器,当换能器产生超声震动时，超声震动就通过与换能器连接的液体容器底部而传播到液体内，在液体中产生超声波。

3.真空高温处理的清洗作用

硅片经过化学清洗和超声波清洗后，还需要将硅片真空高温处理，再进行外延生长。真空高温处理的优点：

(1由于硅片处于真空状态，因而减少了空气中灰尘的玷污；

(2硅片表面可能吸附的一些气体和溶剂分子的挥发性增加，因而真空高温易除去；

(3硅片可能玷污的一些固体杂质在真空高温条件下，易发生分解而除去。