纳米压印技术
纳米压印技术
纳米压印技术纳米加工技术—纳米压印摘要：半导体器件的特征尺寸必需急剧减小才能满足集成电路迅速发展的需要，采用纳米加工技术可制备出纳米量级的图案及器件。
纳米压印作为纳米加工技术中具有较大潜力的一种工艺，采用非光学技术手段实现纳米结构图形的转移，有望打破传统光刻技术的分辨率极限。
本文从原理入手，介绍了纳米压印技术的分类、发展及应用。
文中所述内容有助于快速理解纳米压印技术的整体概况，对进一步改善纳米压印工艺的性能有着较重要的意义。
1 引言21世纪以来，由半导体微电子技术引发的微型化革命进入了一个新的时代，即纳米技术时代[1]。
纳米技术指的是制备和应用纳米量级(100nm以下)的结构及器件。
纳米尺度的材料性质与宏观尺度的大为不同。
比如块状金的熔融温度为1063℃，而2nm-3nm的纳米金粒子的熔融温度为130℃-140℃等。
功能结构的纳米化不仅节约了能源和材料，还造就了现代知识经济的物质基础。
纳米技术依赖于纳米尺度的功能结构与器件，而实现结构纳米化的基础是先进的纳米加工技术。
在过去几十年的发展中，纳米加工技术不仅促进了集成电路的迅速发展，实现了器件的高集成度，还可以制备分子量级的传感器操纵单个分子和原子等等。
纳米加工技术是人类认识学习微观世界的工具，通过理解这一技术可以帮助我们更好认识纳米技术以及纳米技术支撑的现代高科技产业。
纳米加工技术与传统加工技术的主要区别在于利用该工艺形成的器件结构本身的尺寸在纳米量级。
可以分为两大类[1]：一类是自上而下(top-down)的加工方式，即复杂的微观结构由平面衬底表面逐层建造形成，也可以理解为在已经存在材料的基础上进行特定加工实现纳米结构和器件。
目前发展较为成熟的纳米加工技术，如光刻(平面工艺)、纳米压印(模型工艺)、探针工艺等都属于此类加工技术。
此类加工方式大多涉及到某种方式的光刻制作图形与图形转移技术，可加工的结构尺寸受限于加工工具的能力。
传统的纳米加工工艺相当成熟，可基本满足各种微观结构的研究与生产需要。
纳米压印技术进展及应用
纳米压印技术进展及应用一、概述纳米压印技术，作为一种前沿的微纳加工技术，近年来在科研与工业界引起了广泛的关注。
该技术通过机械转移的方式，将模板上的微纳结构高精度地复制到待加工材料上，从而实现了对材料表面的纳米级图案化。
与传统的光刻技术相比，纳米压印技术不仅具有超高的分辨率，而且能够大幅度降低加工成本，提高生产效率，因此在微电子、生物医学、光学等众多领域展现出了广阔的应用前景。
纳米压印技术的发展历程可追溯至20世纪90年代中期，由美国普林斯顿大学的_______教授首次提出。
随着研究的深入和技术的不断完善，纳米压印技术已经逐渐从实验室走向了产业化。
纳米压印技术已经能够实现对各种材料的微纳加工，包括硅、金属、聚合物等，并且在加工精度和效率方面均取得了显著的进步。
在应用领域方面，纳米压印技术已经在半导体器件制造、生物医学传感器、光学元件制造等多个领域取得了成功的应用案例。
在半导体器件制造中，纳米压印技术可用于制造微处理器、存储器等微纳器件，提高器件的性能和可靠性；在生物医学领域，纳米压印技术可用于制造仿生材料、生物传感器等，为疾病的诊断和治疗提供新的手段；在光学领域，纳米压印技术可用于制造微纳透镜、光纤等光学元件，提高光学系统的性能。
纳米压印技术作为一种新型的微纳加工技术，具有广泛的应用前景和巨大的市场潜力。
随着技术的不断进步和应用领域的不断扩展，纳米压印技术将在未来发挥更加重要的作用，推动科技和工业的快速发展。
1. 纳米压印技术的定义与基本原理纳米压印技术，作为一种前沿的微纳加工技术，正逐渐在微电子、材料科学等领域展现出其独特的优势。
该技术通过机械转移的方式，实现了对纳米尺度图案或结构的高效、精确复制，为制备具有纳米特征的结构和器件提供了强有力的手段。
纳米压印技术的基本原理在于利用压力和热力学效应，将具有纳米结构的模具上的图案转移到待加工材料表面。
制备一个具有所需纳米结构的模具，这一步骤通常依赖于电子束或光刻技术等高精度加工方法。
NA芯片技术的原理与
需要突破传统的光学检测方法，探索电学、电化学等新型检测手段。
技术优势与限制
高度并行性
NA芯片可以实现高通量、高并行性的 检测，一次可同时分析多个基因或蛋 白质样本。
01
02
灵敏度高
通过优化探针设计和信号转换技术， NA芯片具有较高的灵敏度，能够检测 低浓度的生物分子。
03
快速简便
NA芯片操作简便，检测时间短，适合 用于临床诊断、生物安全监测等领域。
用。
02
NA芯片技术原理
工作原理
生物分子识别
NA芯片通过生物分子识别技术，将特定的核酸序列与芯片上的探 针进行互补结合，实现对目标分子的捕获。
信号转换与检测
捕获目标分子后，芯片上的信号转换器将生物分子信号转换为可检 测的电信号，通过检测设备进行定量和定性分析。
数据处理与分析
芯片检测到的数据经过处理和分析，可提供关于基因组、转录组和 蛋白质组等方面的信息。
根据规格书进行逻辑设 计，包括算法设计、电
路设计等。
布图设计
将逻辑设计转换为物理 版图，进行布局和布线
设计。
制造工艺
晶圆制备
将高纯度硅晶棒切割成晶圆， 进行表面处理和清洗。
薄膜制备
在晶圆表面沉积薄膜材料，如 氧化硅、氮化硅等。
刻蚀工艺
通过物理或化学方法将不需要 的薄膜去除，形成电路和元件 结构。
掺杂与镀膜
NA芯片技术还可以用于智能传感器中，实现对环境参数的快速检测和实时反馈，提高生 产过程的智能化水平。
案例四：物联网领域应用
物联网领域应用
NA芯片技术在物联网领域的应用主要涉及传感器节点、网络通信等方面。通过NA芯片 技术，可以实现物联网设备的智能化和互联互通，促进物联网的发展和应用。
纳米压印概念
纳米压印概念纳米压印是一种新兴的纳米加工技术，也被称为“纳米印刷”。
它利用纳米级的印刷技术，可以在纳米尺度上进行精确的图案制作和复制。
纳米压印技术是一种重要的制备纳米结构材料的方法，具有很高的潜力和广阔的应用前景。
纳米压印的原理是利用压印模具对待加工表面进行压力作用，通过控制压力、温度和时间等参数，将模具上的图案或结构传递到被压制物体上，形成纳米级的结构。
纳米压印可以实现高分辨率、高精度的图案复制，其制备的纳米结构材料具有优异的物理、化学和光学性能。
纳米压印技术可以广泛应用于纳米器件的制备和表面纳米结构的制作。
在纳米电子学领域中，纳米压印可以用于制备纳米级晶体管、纳米线阵列和纳米电极等元器件。
在光学领域中，纳米压印可以制备具有特定光学性质的纳米结构，用于制造光学元件、光子晶体和纳米光学器件等。
在生物医学领域中，纳米压印可以制备具有特定形态和功能的纳米生物材料，用于药物传递、细胞培养和生物传感器等应用。
此外，纳米压印还可以用于制备纳米级图形、纳米标记和纳米阵列等领域。
纳米压印技术具有很多优点。
首先，它可以在大范围内实现纳米结构的高效制备，具有高度的可扩展性和可重复性。
其次，纳米压印可以制备复杂多样的纳米结构，包括多层薄膜、纳米线和纳米孔等。
此外，纳米压印技术还可以在多种材料上实现纳米结构的制备，如金属、半导体和聚合物等。
最后，纳米压印技术相对于传统的制备方法，具有低成本和高效率的优势。
然而，纳米压印技术也存在一些挑战和限制。
首先，纳米压印的模具制备和维护成本较高，需要使用昂贵的设备和材料。
其次，在纳米压印过程中，材料的性质和变形机制会对纳米结构的形成和复制产生影响，需要仔细控制制备条件。
此外，纳米压印技术对材料的选择和性能有一定要求，不适用于所有材料和结构的制备。
纳米压印技术在科学研究和工业生产中都具有重要的应用价值。
在科学研究方面，纳米压印可以帮助研究者深入理解纳米尺度下材料的物理和化学特性，推动纳米科学的发展。
纳米压印技术的发展及分类课件
3 Ref. Chou S Y, Krauss P R, Renstrom P J. Imprint of sub ‐
纳米压印技术的优势
光学光刻的分辨率受限于
纳米压印 ? 设备体积小 ? 成本相对较低 ? 生产效率高 ? 容易制备高深宽比图案
4
纳米压印技术的发展历程
2006, Stephen Chou, et al. 晶圆弯曲
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12
13
? 根据图形转移范围不同，纳米压印可分为全晶片(full wafer)压印、步进压印 和滚动压印。其中，步进压印主 要有步进快闪式(step and flash imprint lithography ，S-FlL) 和步进重复(step and repeat) 这两种压印工艺;滚动(卷对卷 和卷对板)压印工艺适合大规模生产，特别是卷对卷纳米 压印工艺，它是一种高效能、 低成本的连续化生产方式， 特别适合柔性薄膜压印。
纳米压印技术综述
绘梨衣
2018/11/01
1
1. 纳米压印技术的背景 2. 纳米压印技术的分类 3. 纳米压印技术的现状和发展趋势
2
纳米压印技术背景
纳米压印的基本原理：通过模板将图形转移到衬底上，转移 的媒介一般为聚合物薄膜，通过热压或紫外光固话的方法保 留下转移的图形，从而实现微纳结构的制造。
14
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? 根据压印模板不同，纳米压印可分为硬压印和软压印。 其中，硬压印的模板材料主要有石英、硅、氮化硅、金 刚石、类金刚石、复合材料等；软压印的模板材料主要 有PDMS 、PMMA 、PET、h-PDMS 、PUA 、PVA 、PVC、 PTFE、ETFE等聚合物。
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纳米压印技术的研究现状和趋势
纳米压印设备的工作原理
纳米压印设备的工作原理
纳米压印设备是一种利用纳米压印技术实现微纳米结构制备的设备。
其工作原理主要包括以下几个步骤：
1. 模板制备：首先需要制备具有所需微纳米结构的模板，可以通过电子束曝光、激光刻蚀等方法制备出高质量的模板。
2. 涂覆：将待加工的基材表面涂覆上一层称为预浸液的聚合物溶液，以形成一层均匀的涂层。
3. 压印：将制备好的模板与涂覆了预浸液的基材接触，并施加适当的压力，使模板中的微纳米结构转移至基材表面。
压印过程中，预浸液中的聚合物溶液会填充到模板的微纳米结构之间，以进一步增强模板与基材之间的接触。
4. 固化：压印完成后，需要对基材表面的微纳米结构进行固化，使其具有稳定的形状和性质。
固化可以通过热处理、紫外线照射等方式进行，促使预浸液中的聚合物发生交联反应，形成固体结构。
通过以上步骤，纳米压印设备可以实现对基材表面微纳米结构的高精度复制和制备，进而用于一系列领域，如纳米光学器件、纳米电子器件等。
纳米压印技术
2.3 软模板压印（SCIL）
软模板压印技术主要是为了解决在大面积基底 上使用硬质石英模板实现大面积均匀压印这一问题
由于使用很低的压力，很难在 大面积基底上实现均匀的接触
采用常规（PDMS）软模在大面积的直接接触过程中 也需要一定的压力去产生形变来配合基底的 不平整表面，均匀接触和压力下模板的变形成为 一种不可调和的矛盾
1.3 关键工艺步骤
• 1.模板制造 • 2.压印过程（模板处理，加压，脱模过 程） • 3.图形转移过程 • 4.相关材料研究（模板材料，衬底材料， 纳米压印胶）
2. 纳米压印工艺
2.1 热压印
• 首先在某一衬底 上涂一层胶，然 后在一定温度， 一定压力下，把 模板用机械力压 在胶上，降温后 把模板脱出，形 成所需图案。
2.4 逆压印技术
把光刻胶涂在模板上，然后在压在衬底 上利用这种方法非常容易实现多层压印 2.5 滚筒压印技术 把压印技术和滚轴印刷技术结合起来， 实现几平方米面积高产量压印
2. 纳米压印技术应用领域及 前景
应用领域 1.光刻技术替代者 2.集成电路领域 3.光学领域
制作高密度亚波长光栅，应用在金属起偏器上； 制备光子晶体等
4.存储领域
希捷公司采用热压印技术制备高密度光盘位 存储器
5.生物领域
目前，许多发达国家都把纳米压印 技术列入重点发展领域，很多公司都 在投入大量人力、物力开展纳米压印 设备制造，模板制造以及纳米压印的 应用的。纳米压印技术在中国虽然起 步很晚，但进展非常迅速，相信随着 社会的发展和进步，我国的在纳米压 印技术上会更上一层楼。
纳米压印技术
主要内容
1.纳米压印技术简介
1.1 压印技术 1.2 纳米压印技术 1.3 纳米压印关键工艺步骤 2.纳米压印工艺 2.1 热压印技术 2.2 紫外光固化压印（步进-闪光工艺） 2.3 软模板压印技术（SCIL） 2.4 逆压印技术 2.5 滚筒压印技术 3.纳米压印技术应用领域及前景
纳米压印技术
①
③
微 接 触
②
纳米压印技术 以上
• 首先在衬底上涂上一层薄层热塑形高分子材料（如PMMA）。升温并达到 此热塑性材料的玻璃化温度Tg（Glass transistion temperature）之上。热 塑性材料在高弹态下，黏度降低，流动性增强，随后将具有纳米尺度的 模具压在上面，并施加适当的压力。热塑性材料会填充模具中的空腔， 在此过程中，热塑性材料的厚度应较模具的空腔高度要大，从而避免模 具与衬底的直接接触而造成损伤。模压过程结束后，温度降低使热塑性 材料固化，因而能具有与模具重合的图形。随后移去模具，并进行各相 异性刻蚀去除残留的聚合物。接下来进行图形转移。图形转移可以采用 刻蚀或者剥离的方法。刻蚀技术以热塑性材料为掩膜，对其下面的衬底 进行各向异性刻蚀，从而得到相应的图形。剥离工艺先在表面镀一层金 属，然后用有机溶剂溶解掉聚合物，随之热塑性材料上的金属也将被剥 离，从而在衬底上有金属作为掩膜，随后再进行刻蚀得到图形。
模具 高分子热塑性材料 ①衬底 ③
热 塑
②
④
填充模具
各向异性刻蚀
紫外固化——S-FIL (Step-Flash Imprint Lithography)
• 采用对紫外透明的石英玻璃（硬模）或PDMS（软模），光阻胶 采用低粘度、光固化的单体溶液。先将低粘度的单体溶液滴在要 压印的衬底上，结合微电子工艺，薄膜的淀积可以采用旋胶覆盖 的方法，用很低的压力将模版压到晶圆上，使液态分散开并填充 模版中的空腔。透过模具的紫外曝光促使压印区域的聚合物发生 聚合和固化成型。最后刻蚀残留层和进行图形转移，得到高深宽 比的结构。最后的脱模和图形转移过程同热压工艺类似。
纳米压印技术
ห้องสมุดไป่ตู้念
纳米压印技术概述
随着科技的进步和发展，人们从理论和实验研究中发现，当许多材料被加工为具有纳米尺度范围的形状时，会呈现出与大块材料完全不同的性质。
这些特异的性质向人们展现了令人兴奋的应用前景。
而在开发超大规模集成电路工艺技术的过程中，人们已经开发了一些能够进行纳米尺度加工的技术，例如电子束与X射线曝光，聚焦离子束加工，扫描探针刻蚀制技术等。
但这些技术的缺点是设备昂贵，产量低，因而产品价格高昂。
商用产品的生产必须是廉价的、操作简便的，可工业化批量生产的、高重复性的；对于纳米尺度的产品，还必须是能够保持它所特有的图形的精确度与分辩率。
针对这一挑战，美国“明尼苏达大学纳米结构实验室”从1995年开始进行了开创性的研究，他们提出并展示了一种叫作“纳米压印”(nanoimprint lithography) 的新技术[1]。
纳米材料在电子、光学、化工、陶瓷、生物和医药等诸多方面的重要应用而引起人们的高度重视.一纳米材料的概述：从分子识别、分子自组装、吸附分子与基底的相互关系、分子操作与分子器件的构筑，并通过具体的例证加以阐述，包括在STM 操作下单分子反应有机小分子在半导体表面的自指导生长; 多肽-半导体表面特异性选择结合.生物分子/无机纳米组装体、光驱动多组分三维结构组装体、DNA 分子机器。
所谓纳米材料指的是具有纳米量级从分1~100 nm 的晶态或非晶态超微粒构成的分子识别走向分子信息处理和自组织作用的固体物质。
纳米压印技术具有产量高、成本低和工艺简单的优点，是纳米尺寸电子器件的重要制作技术。
纳米压印技术主要包括热压印、紫外压印(含步进—闪光压印)和微接触印刷等。
本文首先描述了纳米压印技术的基本原理，然后介绍了传统纳米压印技术的新进展，如气压辅助纳米压印技术、激光辅助压印技术、静电辅助纳米压印技术、超声辅助纳米压印技术和滚轴式纳米压印技术等。
最后特别强调了纳米压印的产业化问题。
我们希望这篇综述能够引起国内工业界和学术界的关注，并致力于在中国发展纳米压印技术。
纳米压印技术
高保真度
几乎无差别的将掩模板上的图形转移到wafer上.
纳米压印可望成为一种工业化生产技术，从根本上解决各种纳米器件
生产。
2020/3/13
7
微纳科学技术
一.为什么研究纳米压印技术
应用领域：
半导体加工 作量子磁碟 DNA 电泳芯片 GaAs 光检测器 波导起偏器 硅场效应管 2020/3/13
纳米压印技术
(Nanoimprint Lithography)
微纳加工技术及微纳器件
段智勇 2020/3/13
微纳科学技术
主要内容
1. 为什么要研究纳米压印技术.
2. 纳米压印技术实现的方式.
3. 纳米压印技术亟待解决的问题.
4. 课题组研究工作及进展.2020/3132微纳科学技术
一.为什么研究纳米压印技术
2. 图形转移(pattern transfer)
在一块基片(通常是硅片) 上“涂”( spin :旋覆) 上一层聚合物(如 PMMA ，聚甲基丙烯酸甲脂)。
已刻有目标纳米图形的硬“印章”(如二氧化硅“图章”) 在一定的 温度(必须高于聚合物“软化”温度(glass - transition temperature) ，和压力下去“压印”(imprint ) PMMA 涂层。
2020/3/13
Appl. Phys. Lett., 67 (21), 3114 (1995).
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微纳科学技术
二.纳米压印技术实现方式
超声纳米压印技术
热压印的改进，利用超声波加热介质聚合物。 中国台湾清华大学首次提出。
2020/3/13
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微纳科学技术
二.纳米压印技术实现方式
纳米压印光刻技术
纳米压印光刻技术纳米压印技术是美国普林斯顿大学华裔科学家周郁在20世纪1995年首先提出的。
这项技术具有生产效率高、成本低、工艺过程简单等优点,已被证实是纳米尺寸大面积结构复制最有前途的下一代光刻技术之一。
目前该技术能实现分辨率达5nm以下的水平。
纳米压印技术主要包括热压印、紫外压印以及微接触印刷。
纳米压印技术是加工聚合物结构最常用的方法,它采用高分辨率电子束等方法将结构复杂的纳米结构图案制在印章上,然后用预先图案化的印章使聚合物材料变形而在聚合物上形成结构图案。
1、热压印技术纳米热压印技术是在微纳米尺度获得并行复制结构的一种成本低而速度快的方法。
该技术在高温条件下可以将印章上的结构按需复制到大的表面上,被广泛用于微纳结构加工。
整个热压印过程必须在气压小于1Pa的真空环境下进行,以避免由于空气气泡的存在造成压印图案畸变,热压印印章选用SiC材料制造,这是由于SiC非常坚硬,减小了压印过程中断裂或变形的可能性。
此外SiC化学性质稳定,与大多数化学药品不起反应,因此便于压印结束后用不同的化学药品对印章进行清洗。
在制作印章的过程中,先在SiC表面镀上一层具有高选比(38&1)的铬薄膜,作为后序工艺反应离子刻蚀的刻蚀掩模,随后在铬薄膜上均匀涂覆ZEP抗蚀剂,再用电子束光刻在ZEP抗蚀剂上光刻出纳米图案。
为了打破SiC的化学键,必须在SiC上加高电压。
最后在350V的直流电压下,用反应离子刻蚀在SiC表面得到具有光滑的刻蚀表面和垂直面型的纳米图案。
整个热压印过程可以分为三个步骤：(1)聚合物被加热到它的玻璃化温度以上。
这样可减少在压印过程中聚合物的粘性,增加流动性,在一定压力下,就能迅速发生形变。
但温度太高也没必要,因为这样会增加升温和降温的时间,进而影响生产效率,而对模压结构却没有明显改善,甚至会使聚合物弯曲而导致模具受损。
同时为了保证在整个压印过程中聚合物保持相同的粘性,必须通过加热器控制加热温度不变。
压印技术
PDMS模板复制示意图 （a）在模板上印的分类
a 电微接触印刷技术示意图 （a）压印前（b）衬底与模板接触并加电压 （c）压印胶的电荷分布图形化（d）脱模
b
IPS-TU2工艺过程示意图 （a）压印IPS过程（b）IPS转印TU2过程
纳米压印的分类
5.激光辅助压印技术
纳米压印技术
纳米压印的基本原理 纳米压印的基本工艺流程 纳米压印的分类
纳米压印技术基本原理
纳米压印技术基本原理 通过外加机械力，使具有微纳结构的模板 与压印胶紧密贴合，处于黏流态或液态下的压 印胶逐渐填充模板上的微纳结构，然后将压印 胶固化，分离模板与压印胶，就等比例地将模 板结构图形复制到了压印胶上，最后可以通过 刻饰等图形转移技术将压印胶上的结构转移至 衬底上。实质上就是将传统的模具复型技术直 接应用于微纳加工领域。
纳米压印的分类
6.紫外压印和光刻联合技术
紫外压印与光刻技术相结合的方法， 即在紫外固化压印复合模板上部分涂覆了 一层不透光的金属掩膜，并用该掩膜进行 紫外压印，压印过程与紫外固化过程一致。
纳米压印和紫外光刻结合技术示意图 （a）压印前（b）紫外固化压印（c）脱模（d）显影
纳米压印的基本工艺流程
4.图形转移
图形转移工艺是通过刻蚀等技术将压印胶上的结构转移到衬底上。 纳米压印图形的转移与光学曝光和电子束曝光后的图形转移相同，可以 使用化学、物理，或者两者结合的方法，将掩模板上的结构复制到衬底 上。 湿法刻蚀技术是利用溶液与压印衬底材料之间的化学反应，来去除 没有胶保护区域的方法。湿法刻蚀底切现象比较严重，不易在刻蚀过程 中保持与原有压印结构的一致性，尤其是具有较小特征尺寸的纳米级图 形，容易造成比较严重的结构破坏。湿法刻蚀技术在纳米压印图形转移 过程中使用相对较少。 干法刻蚀进行图形转移是比较通行的方法，通常有两种方式：一种 是将聚合物图形作为模板直接刻蚀；另一种是先沉积金属，然后通过溶 脱技术将图形转移至衬底上再刻蚀。直接刻蚀得到的衬底图形结构与模 板互为反版结构，沉积后刻蚀得到的衬底图形结构与模板一致。
纳米压印技术原理
纳米压印技术原理引言：纳米压印技术是一种用于制备纳米结构的先进工艺，它可以在纳米尺度上对材料进行加工和制造。
本文将介绍纳米压印技术的原理及其应用。
一、纳米压印技术的定义纳米压印技术是一种通过对材料施加压力，将纳米尺度的图案或结构转移到另一材料表面的加工方法。
这种技术可以制备出具有纳米特征的结构，具有广泛的应用前景。
二、纳米压印技术的原理纳米压印技术的原理基于压力和热力学效应。
具体步骤如下：1. 制备模具：首先，需要制备一个具有所需纳米结构的模具。
常用的制备方法包括电子束或光刻技术。
2. 涂覆材料：将需要加工的材料涂覆在基板表面。
3. 压印过程：将制备好的模具与涂覆材料的基板接触，并施加一定的压力。
通过压力的作用，模具上的纳米图案被转移到材料表面。
4. 固化和脱模：在压印过程中，涂覆材料可能会发生流动，因此需要对其进行固化以保持所需的纳米结构。
然后，将模具从基板上脱离。
三、纳米压印技术的特点1. 高分辨率：纳米压印技术可以制备出具有纳米级别分辨率的结构，可以满足多种应用的需求。
2. 高效性：纳米压印技术具有高效的加工速度，可以在短时间内制备大面积的纳米结构。
3. 可重复性：纳米压印技术可以实现高度重复性制备，保证产品的一致性和可靠性。
4. 灵活性：纳米压印技术适用于不同类型的材料，包括有机材料、无机材料和生物材料等，具有广泛的应用领域。
四、纳米压印技术的应用纳米压印技术在许多领域都有广泛的应用，包括：1. 光学领域：纳米压印技术可以制备出具有特殊光学性质的结构，用于制备纳米光学器件和光学传感器等。
2. 电子领域：纳米压印技术可以制备出具有特定电子性质的结构，用于制备纳米电子器件和纳米电路等。
3. 生物医学领域：纳米压印技术可以制备出具有特定生物特性的结构，用于制备生物芯片和生物传感器等。
结论：纳米压印技术是一种重要的纳米加工技术，具有高分辨率、高效性、可重复性和灵活性等特点。
它在光学、电子和生物医学等领域有着广泛的应用前景。
三种纳米压印技术总结
苏州光舵微纳科技有限公司三种纳米压印技术总结Hot Embossing (HE)首先在衬底上涂上一层薄层热塑形高分子材料（如PMMA）。
升温并达到此热塑性材料的玻璃化温度Tg（Glass transistion temperature）之上。
热塑性材料在高弹态下，黏度降低，流动性增强，随后将具有纳米尺度的模具压在上面，并施加适当的压力。
热塑性材料会填充模具中的空腔，在此过程中，热塑性材料的厚度应较模具的空腔高度要大，从而避免模具与衬底的直接接触而造成损伤。
模压过程结束后，温度降低使热塑性材料固化，因而能具有与模具的重合的图形。
随后移去模具，并进行各相异性刻蚀去除残留的聚合物。
接下来进行图形转移。
图形转移可以采用刻蚀或者剥离的方法。
刻蚀技术以热塑性材料为掩膜，对其下面的衬底进行各向异性刻蚀，从而得到相应的图形。
剥离工艺先在表面镀一层金属，然后用有机溶剂溶解掉聚合物，随之热塑性材料上的金属也将被剥离，从而在衬底上有金属作为掩膜，随后再进行刻蚀得到图形。
步进-闪光压印（Step- Flash Imprint Lithography），采用对紫外透明的石英玻璃（硬模）或PDMS（软模），光阻胶采用低粘度，光固化的单体溶液。
先将低粘度的单体溶液滴在要压印的衬底上，结合微电子工艺，薄膜的淀积可以采用旋胶覆盖的方法，用很低的压力将模版压到晶圆上，使液态分散开并填充模版中的空腔。
透过模具的紫外曝光促使压印区域的聚合物发生聚合和固化成型。
最后刻蚀残留层和进行图形转移，得到高深宽比的结构。
最后的脱模和图形转移过程同热压工艺类似。
微接触uCP (Micro Contact Transfer Printing)这种工艺采用弹性的印章将硫醇转移到镀金或银的表面上去。
将PDMS倒在包含图形的模具上，过程中模具可由光学或电子束光刻获得，也可以通过衍射栅、微机械结构一集其他微型结构的复制得到。
印章材料的化学前体在模具中固化，聚合成型后从模板中脱离，得到所需印章。
纳米压印技术
目标和结果
1. 石英印章接触压印 2. 进行UV曝光 3. 从基板分离印章 4. 清除残留层 5. 氧蚀剂蚀刻
微接触印刷μCP
T-NIL步骤
聚合物被加热到它的玻璃化温度 以上.
施加压力
模压过程结束后 ,整个叠层被冷却 到聚合物玻璃化温度以下
脱模.脱模时要小心 ,以防止用力 说明过：度玻璃而化温使度模,高聚具物损由高伤弹.态转变为玻璃态的温度.
紫外纳米压印光刻UV-NIL
流程如下：被单体涂覆的衬底和透明印章装载到对准 机中 ,通过真空被固定在各自的卡盘中.当衬底和印章的光学 对准完成后 ,开始接触.透过印章的紫外曝光促使压印区域的 聚合物发生聚合和固化成型.接下来的工艺类似于热压工艺.
目录：
➢ 介绍 ➢ 过程 ➢ 应用 ➢ 未来前景
Conten ts
介绍
纳米压印光刻NIL是制造纳米尺度图案的方
法. 它是一种简单的纳米光刻工艺,具有成本低,产量高,分辨率 高. 它通过压印抗蚀剂的机械变形和随后的工艺形成图案. 印记 抗蚀剂通常是在印迹期间通过热或UV光固化的单体或聚合物 制剂. 控制抗蚀剂和模板之间的粘合以允许适当的释放.
效应的限制,也不受二次电子的限制,不需要任何复杂的辐射化学. 它也是一 种潜在的简单和便宜的技术. 然而,对纳米尺度图案的延续性障碍是目前依 赖于其他光刻技术来生成模板.自组装结构可能为10纳米或更小尺度的周期 性图案的模板提供最终解决方案.
截至2007年10月,东芝是唯一一家经过验证的纳米压印光刻技术,面向22nm及以上的公司.
纳米压印产业发展趋势分析
纳米压印产业发展趋势分析纳米压印技术是一种高精度、高分辨率的加工技术，通过利用纳米级模板将图案或纹理压印到材料表面上。
这项技术在电子、光学、生物医学、能源等领域具有广泛的应用前景。
随着纳米科技的不断发展和应用需求的日益增长，纳米压印产业也迎来了新的发展机遇和挑战。
一、市场需求分析1.1 电子行业需求随着电子产品功能的不断增强和尺寸的不断缩小，对于微小尺寸的电子元件和电路进行高精度加工的需求日益增加。
纳米压印技术的高分辨率和高可控性使其成为电子行业制造微观结构和形成复杂电路的理想选择。
因此，纳米压印技术在智能手机、平板电脑、电子芯片等电子产品的制造过程中具有广阔的市场空间。
1.2 光学行业需求纳米压印技术在光学行业的应用也非常广泛，可以用于制造光学元件、光纤、显示器件等。
纳米压印技术可以实现光学元件表面的多级纳米结构，增强其光学性能。
同时，纳米压印技术还可以用于制作光学薄膜、光子晶体等具有特殊功能的材料，为光学行业的发展提供了新的可能性。
1.3 生物医学行业需求纳米压印技术在生物医学领域的应用也非常广泛。
利用纳米压印技术可以制造具有特定形状和表面纳米结构的生物材料，用于人工血管、人工关节等医疗器械的制造。
此外，纳米压印技术还可以制造具有特殊功能的生物芯片、生物传感器等，用于生物分析和生物检测，为生物医学研究和临床诊断提供了新的手段。
1.4 能源行业需求纳米压印技术在能源领域的应用也具有广阔的前景。
通过利用纳米压印技术制造具有特殊表面纳米结构的材料，可以大幅提高材料的光催化活性，提高光电转换效率。
此外，纳米压印技术还可以用于制造高能量密度的超级电容器、锂离子电池等新型能源器件，为能源存储和转换技术的发展贡献力量。
二、技术发展趋势分析2.1 高分辨率、高可控性纳米压印技术的发展趋势是追求更高分辨率和更好的可控性。
在制造微小尺寸、高精度的微观结构时，分辨率是最基本的要求。
在目前的纳米压印技术中，分辨率已经达到了几十纳米的量级。
第四章纳米压印技术 ppt课件
工成一个压模: 然后在用来绘制纳米
图案的基片上旋涂一层聚合物薄膜，
将其放人压印机加热并且把压模压在
基片上的聚合物薄膜上，再把温度降
低到聚合物凝固点附近并且把压模与
聚合物层相分离，就在基片上做出了
凸起的聚合物图案(还要稍作腐蚀除去
热压印示意图
凹处残留的聚合物)
热压印法的工艺过程分三步: MicroNano System Research Center 压模制备、压印过程、图形转移。
2007年当选为美国国家工程院院士，被称为改革开放后中国 大陆高校毕业生获取美国国家工程院院士的第一人。
MicroNano System Research Center
主要内容
1.纳米压印技术简介 1.1 压印技术 1.2 纳米压印技术 1.3 纳米压印关键工艺步骤
2.纳米压印工艺 2.1 热压印技术 2.2 紫外光固化压印（步进-闪光工艺） 2.3 软模板压印技术（SCIL） 2.4 逆压印技术 2.5 滚筒压印技术
由于不同压印工艺对模板材料的要求不同，为了寻找使用周期更 长的模板材料作为大规模生产，研究人员研究更具灵活性和适应性 的材料作为模板材料。一般通过实验来测试这些通过纳米加工技术 得到的模板的耐用性。
MicroNano System Research Center
1）硬度: 分别进行不同的硬度试验测试，包括硬度划痕试验 和压痕硬度试验. 在硬度划痕试验中，测试莫式硬度。在压痕硬 度试验中，测试维氏硬度和努普硬度。
2) 导热性: 必须考虑到模板和基片这两种材料导热性的差异 。在降温过程中，两者导热性过大的差异，会使图形产生扭曲 变形。通常的选用原则是，导热性越强越好，可以缩短整个加 工周期，这有利于产量的提高. 模板材料随压印工艺而不同:
纳米压印光刻技术
纳米压印光刻技术
纳米压印光刻技术是一种利用光刻技术进行纳米尺度工艺加工
的技术。
它可以将所需图案深度精确地压缩到纳米尺度里。
这种技术具有低成本、高精度和良好的粗糙度特性，是纳米加工技术、晶体学和微纳加工技术领域的重要科学技术。
纳米压印光刻技术可以用于制造复杂的三维微纳细胞结构，如用于碳纳米管的合成或碳量子点的制备等。
它也可以用于制作像半导体或其他准非晶态器件的晶体芯片以及各种微机械元件的微动态系统。
纳米压印光刻技术可以看作是一种特殊的光刻技术，它利用光能量在二维或三维材料表面上刻出任意形状的微细结构。
它包括一系列多步骤，每一步都能获得高精度和精细的结构质量。
在压印光刻技术中，首先需要用一个有形质量的夹具将图案的凸和凹部分进行固定，然后利用一种特殊的光源来产生在夹具上的压力以及相应的凹凸图案，使得介质表面形变，形成所需的精细纳米尺寸结构。
纳米压印光刻技术有三个主要优点：首先，它具有低成本，可以在成本低廉的情况下制造出精确的纳米尺度结构，并且可以在大批量生产中使用；其次，它具有高精度，可以制造出准确度、粗糙度和尺寸范围都满足要求的结构；第三，它可以在高效率下实现复杂的设计，可以灵活的进行结构的改变，并且具有较好的自我修正能力。
纳米压印光刻技术在很多领域都有广泛的应用，其中包括制备复杂的纳米结构及其功能材料、用于通讯、先进制造和计算机技术、用于生物及医学应用器件、用于机器人及生物机器人技术、精密机械自
控制、微型太阳能动力装置、光器件及生物传感器等。
因此，纳米压印光刻技术在纳米尺度加工行业中具有重要的科学价值和社会价值，对于塑造微纳单位结构和制备传感器来说，纳米压印光刻技术已经成为未来发展的关键技术。
纳米压印技术概述与应用
紫外纳米压印(UV-NIL) Austin texas.GrantWilson;1996
1英寸小模板，石英玻璃或金刚石材 料，可以透过紫外光 50nm 室温
1-200N Si片
500nm 紫外感光有机溶剂 (SU-8等)
分辨率高、对准精度高、便于实验研 究、可选真空环境 纳光电器件、纳电子器件、NEMS、 MEMS加工特别适合半导体集成电路 制造
7、分类
纳米压印目前分类： 热压印 (hot embossing lithography，HEL)； 紫外纳米压印(Uybased nanoimprint lithography，UV-NIL)； 微接触印刷 (μm-contact print，μCP)； 步进纳米压印； 激光辅助纳米压印； 滚轴式压印； 金属薄膜直接压印。
紫外纳米压印一个新的发展是采用紫外纳米压印技术和步进技术相结合形成的步进闪光纳 米压印技术，有望成为下一代集成电路的主流技术。紫外纳米压印工艺目前具有的复制能 力可达到10nm。
13、微接触印刷
微接触印刷技术的工艺流程为：首先使用聚二甲基硅氧烷 (PDMS)等高分子聚合物作为掩 模制作材料，采用光学或电子束光刻技术制备掩模板;将掩模板浸泡在含硫醇的试剂中，在 模板上形成一层硫醇膜;再将 PDMS 模板压在镀金的衬底上1020s后移开，硫醇会与金反应 生成自组装的单分子层 SAM，将图形由模板转移到衬底上。
滚轴式纳米压印现有两种工艺：一种是将掩模板直接制作到滚轴上，可以通过直接在金属 滚轴上压印，紫外光固化制得图形。一种是利用弹性掩模套在滚轴上实现，滚轴的转动将 图形连续地压人已旋涂好光刻胶的基板上，紫外光固化，滚轴的滚动实现了压人和脱模两 个步骤，制得图形。
18、金属薄膜直接压印
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截至2007年10月，东芝是唯一一家经过验证的纳米压印光刻技术，面向22nm及以上的公司。
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总结
纳米压印技术是纳米尺寸大面积结构复制的最 有前途的 下一代技术之一 , 这种成本低、效率高的纳米结构制作方法已 逐渐应用于生物医学、半导体加工和数据存储等领域 , 因为传 统热压印技术和紫外压印工艺存在模板成本高、图形转移不稳定、 压印效率低等缺点。
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THANKS
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三种方法的对比
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应用
纳米压印光刻已被用于制造用于电，光， 光子和生物应用的器件。
对 于 电 子 设 备 ， NIL 已 被 用 于 制 造 MOSFET ， O-TFT ，单电子存储器。
对于光学和光子学，已经通过NIL制造亚波长谐振光栅滤波 器，表面增强拉曼光谱（SERS）传感器，波片，抗反射结构 ，集成光子电路和等离子体激元器件进行了深入研究。
注释：
OTFT: Organic thin film transistor有机薄膜晶体管
MOSFET: Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor属氧化物半导体场效电晶体
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未来前景
纳米压印光刻是一种简单的图案转印工艺，既不受衍射也不受散
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T-NIL步骤
聚合物被加热到它的玻璃化温度 以上。
施加压力
模压过程结束后 ,整个叠层被冷 却到聚合物玻璃化温度以下
脱模。脱模时要小心 ,以防止用 说明力：过玻璃度化温而度使，高模聚物具由高损弹伤态转。变为玻璃态的温精品度课。件
紫外纳米压印光刻(UV-NIL)
流程如下：被单体涂覆的衬底和透明印章装载到对准 机中 ,通过真空被固定在各自的卡盘中。当衬底和印章的光 学对准完成后 ,开始接触。透过印章的紫外曝光促使压印区 域的聚合物发生聚合和固化成型。接下来的工艺类似于热压 工艺。
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分类
热塑性纳米压印光刻(T-NIL) 紫外纳米压印光刻(UV-NIL) 微接触印刷（μCP）
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热塑性纳米压印光刻（T-NIL）
在标准的T-NIL工艺中，将薄的抗 蚀刻层（热塑性聚合物）,旋涂在样 品基底上。 然后将具有预定义拓扑图 案的模具与样品接触并将它们在一定 压力下压在一起。 当加热到高于聚合 物的玻璃化转变温度时，模具上的图 案被压入软化的聚合物膜中。 冷却后 ，模具与样品分离，图案抗蚀剂留在 基材上。 可以使用图案转移过程 （ 反应离子蚀刻 ）将抗蚀剂中的图 案转印到下面的基底。
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紫外纳米压印光刻技术
Ultraviolet nanoimprint lithography technology
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目录：
➢ 介绍 ➢ 过程 ➢ 应用 ➢ 未来前景
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介绍
纳米压印光刻（NIL）是制造纳米尺度图案
的方法。 它是一种简单的纳米光刻工艺，具有成本低，产量 高，分辨率高。 它通过压印抗蚀剂的机械变形和随后的工艺 形成图案。 印记抗蚀剂通常是在印迹期间通过热或UV光固化 的单体或聚合物制剂。 控制抗蚀剂和模板之间的粘合以允许 适当的释放。
微接触印刷（μCP）
是软光刻技术的一 种形式，通常使用PDMS模 板上的凹凸图案压膜来在 承印物的表面通过面接触 形成油墨自组装单层膜的 图案，就类似纳米转移印
刷的情况
1. 模板制备 2. 生成PDMS压膜 3. 压膜上墨 4. 将压膜转移到承印物 5. 直接接触
说明：PDMS,比例为10:1的硅橡胶和硅橡胶固化剂
最近紫外压印一个新的发展是提出了步进 - 闪 光压 印。步进 - 闪光压印发明于 Austin（奥斯丁）的 Texas 大 学 ,它可以达到 10 nm 的分辨率。工艺如下图所示
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目标和结果
1. 石英印章接触压印 2. 进行UV曝光 3. 从基板分离印章 4. 清除残留层 5. 氧蚀剂蚀刻
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