掩模管理系统概述
掩膜版行业发展概览
掩膜版行业发展概览掩膜版也被称为屏蔽版、电镀格栅、镀膜网、光刻掩模等，是一种用于光刻工艺中的重要工具。
掩膜版行业在电子制造、光刻、半导体、液晶显示器等领域具有广泛的应用。
本文将从市场规模、行业发展趋势、技术创新等方面对掩膜版行业的发展进行概述。
一、市场规模及行业发展趋势随着电子行业的快速发展，掩膜版行业也得到了迅猛的发展。
掩膜版作为光刻工艺的关键环节，其市场需求与光刻技术的应用逐渐扩大。
尤其是随着新一代电子产品的推出，例如智能手机、平板电脑、电视机等，对于高精度掩膜版的需求也越来越大。
据相关数据显示，全球掩膜版市场规模已经超过10亿美元，并且呈现逐年增长的趋势。
亚洲地区是全球掩膜版市场的主要消费地区，主要集中在中国、韩国、台湾等地。
中国作为全球最大的电子制造业基地之一，也是全球最大的掩膜版生产和消费国家之一1.新一代高精度掩膜版的需求不断增加：随着电子行业对高精度宽容度、低成本的掩膜版的需求日益增长，掩膜版行业将会朝着高精度、高质量的方向发展。
2.技术创新带动行业升级：随着科技的发展，掩膜版行业也在不断推陈出新。
例如，近年来，三维掩膜版、射频掩膜版等新型掩膜版不断出现，并逐渐替代传统掩膜版。
技术创新带动着行业的升级和发展。
3.产能扩大，市场竞争加剧：由于市场需求的不断增加，掩膜版制造企业纷纷扩大产能。
然而，随着新的竞争对手的加入，市场竞争也变得更加激烈。
为了获得更大的市场份额，企业需要降低成本、提高产品质量和技术水平。
4.化学品替代热度增加：传统掩膜版在制造过程中使用的一些化学物质可能对环境和人体健康造成危害。
因此，越来越多的企业开始开发和使用环保、无害的替代品。
二、技术创新及应用领域1.三维掩膜版技术创新：传统的掩膜版制造主要是二维结构，无法满足一些特殊的要求。
因此，三维掩膜版技术的发展成为行业的一个重要方向。
通过三维掩膜版制造技术，可以实现更加复杂和精密的图形，满足电子行业对产品微尺度特性的要求。
CBT仿真模拟室使用管理制度和简介
航空港客货运模拟CBT实训室简介（用于行政楼改造机房）航空港客货运模拟CBT实训室，是航空服务系学生进行软件模拟训练场所，实用面积为60平米，配备电脑、超短焦投影机和无线协作系统等，可同时供18人使用。
本实训室运用计算机仿真的手段，模拟真实航空运输的流程，对机场地勤、旅客登机流程、民航安全检查、民航订座系统、旅客运输、离港值机、危险品航空运输及违禁品识别与处置等进行模拟训练操作，从而达到改善学习环境和提高学习效率的目的。
航空港客货运模拟CBT实训室简介（用于2号车间新建机房）航空港客货运模拟CBT实训室，是航空服务系学生进行软件模拟训练场所，实用面积为108平米，配备电脑、超短焦投影机和无线协作系统等，可同时供50人使用。
本实训室运用计算机仿真的手段，模拟真实航空运输的流程，对机场地勤、旅客登机流程、民航安全检查、民航订座系统、旅客运输、离港值机、危险品航空运输及违禁品识别与处置等进行模拟训练操作，从而达到改善学习环境和提高学习效率的目的。
什么是机场地勤机场地勤是指向航空公司、机场等相关机构为旅客提供的各种服务，如机楼问询、电话问询、广播、航班信息发布、接听旅客投诉电话、值机服务、安检服务、联检服务、引导服务、行李服务、候机楼商业服务等。
什么是客票服务客票服务是为旅客提供包括订座、售票、变更客票、退票及行李票遗失等相关服务。
客票服务是旅客运输服务工作的第一步，同时也是航空公司客运营销的主要工作和组织旅客运输服务的重要环节。
什么是民航安全技术检查民航安全技术检查简称民航安检，是指在民用机场实施的，为防止劫（炸）飞机和其他危害航空安全事件的发生，保障旅客、机组人员和飞机安全所采取的一种强制性、技术性检查。
什么是值机值机是民航旅客地面服务的一个重要组成部分，是为旅客办理乘机手续，接受旅客托运行李，引导旅客上下飞机等旅客服务工作的总称。
其工作内容包括办理乘机手续、办理行李托运、查验旅客机票和身份证件、回答问讯、拍发业务电报及特殊旅客保障服务等。
苏大维格光刻机的原理
苏大维格光刻机的原理引言：苏大维格光刻机是一种常用于半导体制造工艺中的关键设备，它通过光刻技术实现对硅片上微米级结构的精确制作。
本文将介绍苏大维格光刻机的原理及其在半导体工艺中的应用。
一、光刻技术概述光刻技术是一种通过光敏感物质的光化学反应来制作微米级结构的方法。
在光刻过程中，光刻胶被涂覆在硅片表面，然后使用光刻机将光刻胶上的图案通过光源的照射进行显影、暴光、退火等处理，最终形成所需的微米级结构。
二、苏大维格光刻机的基本原理苏大维格光刻机采用的是投影式光刻技术，它的基本原理是通过将掩模上的图案投影到硅片上，利用光刻胶的光敏化反应将图案转移到硅片上。
1. 光源系统苏大维格光刻机采用的是紫外光源，通常使用的是高压汞灯。
高压汞灯的特点是光谱范围广，适用于不同的光刻胶材料。
2. 掩模系统掩模是光刻过程中起到图案传输作用的关键部件，它上面刻有所需的微米级图案。
苏大维格光刻机的掩模系统采用了高精度的掩模台，能够对掩模进行精确的定位和对准。
3. 投影系统苏大维格光刻机的投影系统采用了光学透镜和反射镜的组合，通过将掩模上的图案投影到硅片上。
投影系统的关键是保证光学系统的分辨率和光学畸变控制。
4. 显影系统在光刻胶上暴光后，需要进行显影处理。
苏大维格光刻机的显影系统采用了旋涂式显影装置，通过旋转硅片来实现显影剂的均匀覆盖和显影。
5. 定位系统苏大维格光刻机的定位系统采用了双重定位技术，即通过视觉定位和机械定位相结合的方式来实现对硅片和掩模的精确定位。
三、苏大维格光刻机在半导体工艺中的应用苏大维格光刻机在半导体工艺中有着广泛的应用，主要包括以下几个方面：1. 制作光刻胶图案苏大维格光刻机能够将掩模上的图案投影到光刻胶上，并通过显影、暴光等处理形成所需的微米级结构。
这些结构可以用于制作晶体管、电容器等微电子器件。
2. 制作光掩膜光掩膜是半导体工艺中常用的掩模，用于传输图案到硅片上。
苏大维格光刻机能够将掩模上的图案进行投影，通过显影、暴光等处理形成所需的图案。
屏蔽门系统的功能是什么
引言概述:屏蔽门系统是一种用于进出口人员身份验证和访问控制的安全设备。
它主要通过使用传感器和控制器来监测和管理人员进出门禁区域。
屏蔽门系统的目标是提供高效、安全的出入管理，确保只有授权人员可以进入特定区域。
本文将深入探讨屏蔽门系统的功能，包括人员验证、访问控制、监控和报警、数据记录和分析、以及未来的发展趋势。
正文内容:1. 人员验证：1.1 身份验证技术：屏蔽门系统使用多种身份验证技术，如指纹、虹膜、人脸识别等，确保只有授权人员可以通过。
1.2 快速验证：屏蔽门系统具备快速验证功能，可在短时间内验证大量人员，提高进出门禁区域的效率。
1.3 安全级别调整：系统可根据不同区域的安全需求，调整验证的严格程度，以确保高安全级别的区域只能被高级别人员访问。
2. 访问控制：2.1 门禁权限管理：屏蔽门系统具备门禁权限管理功能，可以根据不同人员的权限划分，对其进行分类管理。
2.2 实时监控：系统可以实时监控人员进出门禁区域，并进行实时记录，确保门禁区域的安全性和可控性。
2.3 时间限制：系统允许对不同人员设置时间限制，确保只有在特定时间段内才能进入门禁区域。
3. 监控和报警：3.1 实时监控：屏蔽门系统配备摄像头和传感器，可以实时监控门禁区域内的活动，以防止不明人员进入。
3.2 报警系统：系统配备报警装置，一旦有未授权的人员尝试进入，系统会立即发出警报，提醒安全人员。
3.3 远程监控：屏蔽门系统支持远程监控功能，安全人员可以通过网络实时监控门禁区域的情况。
4. 数据记录和分析：4.1 人员记录：屏蔽门系统可以记录进出门禁区域的人员信息，包括时间、身份信息等。
4.2 安全分析：系统可以对进出门禁区域的数据进行分析，识别潜在的安全风险或异常情况，并提供相应的报告和建议。
4.3 数据共享：屏蔽门系统可以将数据实时共享给其他安全设备或系统，从而实现安全信息的交流和整合。
5. 未来的发展趋势：5.1 智能化技术：屏蔽门系统将会越来越多地应用智能化技术，如人工智能和大数据分析，提高人员验证和访问控制的准确性和效率。
医院全院PACS系统需求文件
******全院PACS系统需求文件医学影像存储与传输系统（PACS）一、检查报告系统（RIS）功能要求1)检查预约(1)检查排班: 设置某检查科室某台设备或某类检查在未来某段时间可预约的检查人次。
包括检查时间段(如:10:00-10:30)，该检查时间段最多可安排检查人次。
检查排班周期可以是长期的，也可是一段时间内临时的。
并可设置一周内某几天是工作日。
(2)预约安排：读取检查科室的排班表，自动将当前检查申请安排在最近的空闲检查时间段。
可根据病人需要手工更改检查时间段。
安排后可以手工填写预约单，也可以自动打印预约单(含注意事项)。
可打印某段时间内的预约汇总表。
(3)HIS预约接口：可以与HIS连接，直接从HIS安排检查预约或接受HIS电子检查申请单。
检查科室确认后向HIS回传确认信息。
2)检查登记(1)预约签到：对于已预约病人，根据预约信息签到并安排检查。
并可补充登记检查信息。
(2)检查登记：对于未预约病人，直接根据检查申请单登记并安排检查。
可通过门诊/住院号、磁卡、医保卡或查询选择住院(门诊)病人调出HIS中病人的基本信息或电子申请单。
(3)检查收费：住院病人可接收病区输入的检查项目，确认后直接记帐收费。
门诊病人可显示HIS中已收费的项目供检查科室确认收费正确与否。
检查科室可自己增加某些检查项目并收入确认。
(4)原始申请单扫描：对于未实现电子化申请单的科室。
可在检查登记时扫描并长期保存原始申请单。
(5)条码管理：可为每一次检查分配一个唯一的条码。
可在支持条码的影像设备上依据条码读取检查信息。
在报告输入等界面也可使用条码查询。
(6)绿色通道病人处理：对于因各种紧急或特殊情况未正常挂号、登记、收费的病人提供特别处理流程。
非特殊病人必须先收费后检查。
(7)登记信息确认：登记时病人信息可实时通过语音向病人播放。
包括病人姓名、性别、年龄等(可由用户自行设置)。
方便病人确认信息正确性。
3)检查分诊(1)自动分诊：在检查登记后，系统根据已设定条件自动将病人分诊到相应检查设备(检查间)。
掩模管理的综合自动化控制系统的软件设计
Ｎ Ｏ． ２０
掩模管理的综合 自动化控制系统的软件设计
陈景 锋 ， 蒋德 松
（ 美大 学 轮机 工程 学 院，福 建 厦 门 ３ １２ ） 集 ６０ １
摘 要 ： 绍 了基于 欧姆 龙 Ｃ １ Ｈ—Ｐ ４ Ｈ可编 程逻 辑控 制器 的掩 模 管理 综合 自动化控 制 系统的软件 设 计 。该 软件采 用模 介 ＳＧ Ｃ Ｕ ５
Ｓ ｆ ｒ ｅ ｉ ｎｏ ｔ ｇ ａ ｅ ｕ ｏ ｔ ｎ ｃ ｎ ｒ ｌ ｙ ｔｍ ｒ ｈ ｔ ａ ｋ ｍａ ａ ｅ ｎ ｏ ｔ ｅｄ ｓｇ ｆｉ ｅ ｒ ｔ ｄａ ｔ ｍａｉ ｏ ｔｏ ｓｅ ｆ ｏ ｏｍ ｓ ｎ ｇ ｍｅ ｔ ｗａ ｎ ｏ ｓ ｏ ｐ
ＣＨＥ Ｊｎ —ｅ ｇ ＪＡ ＮＧ —ｏ ｇ Ｎ ｉｇ ｆ ｎ ， Ｉ Ｄｅ ｓ ｎ
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半导体工艺讲 掩模和光刻
半导体工艺讲解(1)--掩模和光刻（上）概述光刻工艺是半导体制造中最为重要的工艺步骤之一。
主要作用是将掩膜板上的图形复制到硅片上，为下一步进行刻蚀或者离子注入工序做好准备。
光刻的成本约为整个硅片制造工艺的1/3，耗费时间约占整个硅片工艺的40～60%。
光刻机是生产线上最贵的机台，5～15百万美元/台。
主要是贵在成像系统（由15～20个直 径为200～300mm的透镜组成）和定位系统（定位精度小于10nm）。
其折旧速度非常快，大约3～9万人民币/天，所以也称之为印钞机。
光刻部分的主 要机台包括两部分：轨道机（Tracker），用于涂胶显影；扫描曝光机（Scanning )光刻工艺的要求：光刻工具具有高的分辨率；光刻胶具有高的光学敏感性；准确地对准；大尺寸硅片的制造；低的缺陷密度。
光刻工艺过程一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。
1、硅片清洗烘干（Cleaning and Pre-Baking）方法：湿法清洗＋去离子水冲洗＋脱水烘焙（热板150～2500C,1～2分钟，氮气保护）目的：a、除去表面的污染物（颗粒、有机物、工艺残余、可动离子）；b、除去水蒸气，是基底表面由亲水性变为憎水性，增强表面的黏附性（对光刻胶或者是HMDS-〉六甲基二硅胺烷）。
2、涂底（Priming)方法：a、气相成底膜的热板涂底。
HMDS蒸气淀积，200～2500C,30秒钟；优点：涂底均匀、避免颗粒污染； b、旋转涂底。
缺点：颗粒污染、涂底不均匀、HMDS用量大。
目的：使表面具有疏水性，增强基底表面与光刻胶的黏附性。
3、旋转涂胶（Spin-on PR Coating）方法：a、静态涂胶（Static）。
硅片静止时，滴胶、加速旋转、甩胶、挥发溶剂（原光刻胶的溶剂约占65～85%,旋涂后约占10～20%）；b、动态（Dynamic）。
低速旋转（500rpm_rotation per minute）、滴胶、加速旋转（3000rpm）、甩胶、挥发溶剂。
光刻机概念板块
光刻机概念板块
光刻机是一种用于半导体工艺制造的设备，主要用于将芯片电路图案转移到硅片上的过程。
下面是光刻机的概念板块的一些介绍：
1. 光源系统：光刻机的光源系统产生了用于光刻曝光的光线，通常是使用紫外线光源。
光源的稳定性和功率是确保曝光质量的关键因素。
2. 掩模系统：掩模是用于传递芯片电路图案到硅片上的光刻引导器。
掩模系统包括掩模盘、对位系统和掩模检查系统等部件，以确保掩模的准确位置和质量。
3. 对位系统：对位系统用于确保掩模与硅片的准确对位。
它通常使用激光干涉仪或其他精密测量设备进行对位校正，以保证曝光的准确性。
4. 曝光系统：曝光系统是将光源发出的光线通过掩模传递到硅片上的部分。
光刻机中常用的曝光方式包括步进式和连续式曝光。
步进式曝光逐步将掩模图案移动到不同的位置上，然后进行曝光；连续式曝光则是在整个硅片上进行连续的曝光。
5. 底片系统：底片系统用于支撑和固定硅片，以确保硅片在曝光过程中的稳定性和平整度。
6. 清洗系统：清洗系统用于清洗硅片和掩模，以去除曝光过程中产生的残留物，以确保曝光质量。
总的来说，光刻机的概念板块包括光源系统、掩模系统、对位系统、曝光系统、底片系统和清洗系统。
这些板块共同作用，确保光刻机能够准确地将芯片电路图案转移到硅片上，以实现半导体芯片的制造。
浅谈图像处理中掩膜（mask）的意义
浅谈图像处理中掩膜（mask）的意义
刚开始涉及到图像处理的时候，在opencv等库中总会看到mask这么⼀个参数，⾮常的不理解，在查询⼀系列资料之后，写下它们，以供翻阅。
什么是掩膜（mask）
数字图像处理中的掩膜的概念是借鉴于PCB制版的过程，在半导体制造中，许多芯⽚⼯艺步骤采⽤光刻技术，⽤于这些步骤的图形“底⽚”称为掩膜（也称作“掩模”），其作⽤是：在硅⽚上选定的区域中对⼀个不透明的图形模板遮盖，继⽽下⾯的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。
图像掩膜与其类似，⽤选定的图像、图形或物体，对处理的图像（全部或局部）进⾏遮挡，来控制图像处理的区域或处理过程。
光学图像处理中,掩模可以是胶⽚、滤光⽚等。
数字图像处理中,掩模为⼆维矩阵数组,有时也⽤多值图像。
数字图像处理中,图像掩模主要⽤于：
①提取感兴趣区,⽤预先制作的感兴趣区掩模与待处理图像相乘,得到感兴趣区图像,感兴趣区内图像值保持不变,⽽区外图像值都为0。
②屏蔽作⽤,⽤掩模对图像上某些区域作屏蔽,使其不参加处理或不参加处理参数的计算,或仅对屏蔽区作处理或统计。
③结构特征提取,⽤相似性变量或图像匹配⽅法检测和提取图像中与掩模相似的结构特征。
④特殊形状图像的制作。
掩膜是⼀种图像滤镜的模板，实⽤掩膜经常处理的是遥感图像。
当提取道路或者河流，或者房屋时，通过⼀个n*n的矩阵来对图像进⾏像素过滤，然后将我们需要的地物或者标志突出显⽰出来。
这个矩阵就是⼀种掩膜。
以上这篇浅谈图像处理中掩膜(mask)的意义就是⼩编分享给⼤家的全部内容了，希望能给⼤家⼀个参考，也希望⼤家多多⽀持。
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6) 洁净度和防静电设计 ¾ 材料：设备选用超硬铝和不锈钢制造，不影响洁净度。 ¾ 风浴：设备内部通过进风、出风而产生正负压的方式，防止微粒进出，保证
洁净度。版库系统前部放版部分设计为正压，防止微粒进入，版库后部升降 部分、传输机械手和配电箱内设计为负压，防止产生的微粒溢出。 ¾ 润滑：全部运动部件采用洁净润滑油，型号：KY3250。 ¾ 防静电：铝材料表面阳极化处理，不锈钢机壳可靠接地。
实验表明：采用四象限探测的方法可满足掩膜版的对准要求。由于四象限预
5
对准部分需要的对准精度较高，作为精密测试系统，为保证其最后能达到较高的 微米级的对准精度，预对准系统中的关键部件—四象限的选型主要查阅了很多厂 商的产品：为达到所需测量精度，本着选取四象限的性能指标较高、分化区尺寸 较小、且配有相应的信号调理电路板的原则，最后选定Pacific Limited. Co.的四 象限：QP50-6-18，及其相应的信号处理板QP50-6SD。
两个版库和机械手的控制由一台 PLC 作为控制器，PLC 通过运动控制模块 向伺服驱动器发出伺服电机速度信号，由伺服放大器控制伺服电机速度，利用电 机的旋转编码器信号作为速度反馈，实现速度闭环。由运动控制模块实现位置控 制，利用光栅尺信号作为位置反馈，实现各轴的位置控制。机械手运动的 X、Y、 Z 轴驱动电机采用三菱公司带绝对编码器的 HC-KFS 系列交流伺服电机。图 8 为 分系统的控制系统结构图。
(3) 下掩膜版过程 ¾ 机械手运动到 R-chuck 上方； ¾ R-chuck 气动吸附松开； ¾ R-pins 上升； ¾ R-pins 气动吸附掩膜板； ¾ R-pins 抬起掩膜板，脱离 R-chuck； ¾ 版叉移到掩膜板下方，G-pins 伸出； ¾ R-pins 下降，G-pins 接版、气动塞伸出； ¾ R-pins 缩回掩膜台； ¾ 机械手运动到达放版位置；
经过研究，整个控制系统采用上下位机控制模式，鉴于对控制系统的可靠性 要求很高，而且系统中的逻辑控制较多，控制系统的现场控制器选用 PLC。因此， 上位机采用研华工控机，下位机采用 PLC，上位机与下位机之间通过网络联结。
上位机用于接受其它部分的数据，例如，上掩膜板指令，下掩膜板指令，上 哪一块掩膜板，版库中的掩膜板信息数据库等。上位机还用于将相关指令发送给 相应的 PLC 控制器，读取版库和机械手的状态等。条形码阅读器的输出通过两 个 RS232 口接入 PLC。两组四象限信号通过 A/D 模块接入 PLC，信号处理在 PLC 上完成。
掩膜机械手取版
*
条码检测
*
预对准处粗定位
**
上版升降台换位
*
预对准
*
R-chuck 处粗定位
*
Hale Waihona Puke 精细预对准*7R-pins 接版 R-chuck 接版 机械手复位
* * *
表 5 掩膜管理下版节拍规划
R-chuck 处定位 R-pins 接版 机械手接版
5s 3s 3s 1s 4s 3s 1s 1s 3s *
掩模管理系统概述
根据掩膜管理系统的功能要求、技术指标要求和位置空间要求，进行概念设 计和总体设计，确定总体组成和各部件功能、功能仿真、系统管理流程、单元部 件技术要求、单元部件机构方案，在此基础上，进行各部件机构设计、控制系统 软硬件设计、控制节拍设计，完成了掩模版库系统、掩模传输机械手、四象限预 对准探测系统和集散式控制系统等关键技术，完成了掩模管理系统的设计、加工、 装配、集成、调试、部分测试工作。
一、掩膜管理系统取得的主要成果
1) 系统总体技术方案 掩膜管理系统由机械、检测和控制系统组成。 机械系统包括掩膜版库系统、掩膜传输机械手和辅助设备。掩膜版库系统主
要包括标准版盒、版盒标准机械接口(SMIF)、版匣升降台、开盒机构和保险机构， 其功能是：配合机械手自动完成上掩膜版和下掩膜版的过程。掩膜传输机械手包 括：掩膜版叉、多自由度掩膜传输精密定位机构。其功能是：完成上掩膜版和下 掩膜版的输送和对准精密定位。辅助设备主要包括：掩膜版库支撑臂、传输机械 手支架、底座、风浴系统、走线机构、配电箱、外壳、连接件等。
传输机械手支架采用不锈钢整体焊接而成，整体外壳采用不锈钢板，并密封， 保证洁净度要求。底座充分考虑整体重心的位置，进行设计，并采用铝材整体铸 造，不产生锈蚀和腐蚀。
气流管路包括版库系统的进气和出气管道、传输机械手系统的出气管道、配 电箱的进气和出气管道，各进气、出气管道汇总到洁净间的洁净进气和出气管道， 并采用压力阀控制压力在 200mm 水柱。
7) 掩膜管理系统时间规划 根据上述流程和技术指标，进行时间规划和节拍设计。
¾ 上版时间：60s ¾ 工作时间：20s ¾ 具体节拍如表 4、表 5。
表 4 掩膜管理上版节拍规划
4s 2s 5s 3s 1s 1s 4s 15s 3s 15s 3s 3s 5s
掩膜状态检测
*
版库复位
*
机械手版盒内定位
*
图 2 版盒系统
图 3 开闭盒机构
¾ 版匣升降台 根据技术要求和技术方案，确定版盒驱动、机构、技术指标。
驱动及机构形式如表 1。机构如图 4。
表 1 版库升降系统驱动及机构形式
自由度
驱动方式
机构形式 控制方式 行程控制
Z
交流伺服电 齿形带+精密
机+光电码盘
导轨
伺服
上极限点+零 点+下极限点
¾ 保险机构 采用齿形带传动带动保险轮，保险轮上按照角度均布可使版叉通 过的圆孔。采用版匣升降台驱动电机驱动，确保版匣落下一层，保险轮转过 一格，版叉才能伸入版匣取放版，如图 5。
左极限点+零 点+右极限点
上极限点+零 点+下极限点
左极限点+ 零点+右极 限点
4
图 7 掩膜传输定位机构
(3) 辅助机构的研制 版库支撑臂用于支撑版库，采用活动轴与传输机械手支架相连，内部维修时
可将支撑臂沿着转轴逆时针旋转 90º，便于主体设备维护。为提高摆臂刚度，采 用连接块将版库支撑臂与传输机械手支架固连。
¾ 掩膜传输定位机构 根据功能要求，应具有 6 个自由度，经研究确定 4 个自
由度电动定位，2 个自由度手动定位调平，传输定位机构不仅完成传输，还
要完成精密定位。其驱动及机构形式如表 3。根据技术要求和技术方案，确
定版盒驱动、机构、技术指标。结构如图 7。
表 3 掩膜传输机械手驱动及机构形式
自由度
X
走线机构包括掩膜系统走线、掩膜传输机械手的走线，采用走线管将各部分 连接起来，注意走线口与各部分接口处的密封。配电箱安置在传输机械手支架内 部，整个电气系统与机械系统一体。
掩膜系统各部分整体外壳均采用不锈钢板，并密封。连接件采用铝件，螺丝 螺母采用不锈钢件。
4) 检测系统设计 ¾ 状态检测
为提高传感器的可靠性与使用寿命，选择光电传感器用于运动限位和掩膜板 存在检测传感器。运动的限位采用Omron公司的槽形光电传感器EE-SX670，掩 膜板检测传感器选用Omron公司的反射式光电传感器E3Z-LS61。运动控制速度检 测采用三菱电机自带的17位编码器（131072p/rev），位置检测采用Renishaw公司 的光栅检测组件，分辨率：0.1µm。 ¾ 条码阅读器
2
¾ 气动塞缩回； ¾ 机械手下降，槽两侧接版； ¾ 机械手复位； ¾ 上版升降台落下 1 个模版间隔位置（定位模版）。
3) 机构设计 (1) 掩膜版库系统的研制 ¾ 版盒系统 采用了 Asyst 公司研制的 6 英寸标准版盒，它包括版盒（密封承
放版匣）、版匣（承放掩膜版）、版库标准机械接口（SMIF），内可承放 6 块 掩膜版。如图 2。 ¾ 定位和开闭盒机构 采用三点定位销将版库定位，采用步进电机驱动，设计 了拉杆机构将版盒 4 个插拴打开和关闭，如图 3。开盒电机型号： BS86HB65-04，步距角：1.8º，保持转矩：2.5N·m。
控制系统主要包括：流程控制、信息处理、硬件控制、输入输出控制。 系统组成如图 1。确定了系统组成和各部分功能，对系统工作过程进行仿真。
版盒系统
传输机械手
机械手外壳
版
掩
库
膜
升
控
降
制
系
系
统
统
版
传
库
输
支
机
撑 臂
械 手
支
架
图 1 掩膜管理系统组成
1
2) 掩膜管理流程 根据功能要求和仿真研究，确定如下管理流程： (1) 初始化过程： ¾ 版库内掩膜状态检测； ¾ 升降到版盒顶部，版盒底部与整个版盒锁紧； ¾ 更换版盒； ¾ 版库内掩膜状态检测； ¾ 版库复位。
(2) 上掩膜版过程： ¾ 掩膜机械手沿 Y 向伸入版库； ¾ 机械手抬起，使掩膜版与版盒脱离； ¾ 版盒落入版叉，气动塞伸出，顶住掩膜版； ¾ 机械手沿 Y 向移出版库； ¾ 条码阅读器读取条码，核对条码； ¾ 机械手运动到预对准位置； ¾ 上版升降台落下 1 个模版间隔位置（定位模版）； ¾ 四象限探测，预对准； ¾ 机械手运动到 R-chuck 上方； ¾ 四象限探测掩膜板与镜头关系，精细预对准； ¾ R-pins 从掩膜台上升起，接版，真空吸附； ¾ 气动塞缩回； ¾ R-pins 下降，气动松开； ¾ 掩膜板放入 R-chuck； ¾ 机械手复位。
预对准系统中的另一关键部件——激光器的选型主要查阅了很多国内外厂 商的产品：在特定的工作条件下：特定的米字线尺寸工作距离、四象限型号、为 尽可能多地获得米字型光斑的偏移信息，得到四象限探测最好的分辨力。最后选 择了Edmund公司的LASER DIODE PREMIER，功率：5mw，波长：655nm。 5) 控制系统