亲水型气相法二氧化硅的原材料

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二氧化硅的气相法

二氧化硅的气相法

二氧化硅的气相法二氧化硅的气相法是一种制备高纯度二氧化硅的方法,该方法主要基于气相沉积技术,通过将硅源物质在高温下分解产生的气体在表面上沉积形成二氧化硅薄膜。

本文将从以下几个方面详细介绍二氧化硅的气相法。

一、原理及适用范围1.1 原理二氧化硅的气相法是基于化学反应原理实现的。

当硅源物质在高温下分解时,会产生含有SiO2分子的气体,在表面上沉积形成薄膜。

该方法主要依赖于热分解反应和表面扩散过程。

1.2 适用范围该方法适用于制备高纯度、高质量的二氧化硅材料,特别是在微电子和光学领域中应用广泛。

二、实验步骤2.1 实验设备和试剂实验设备:石英管炉、反应室、真空泵等。

试剂:SiCl4等硅源物质。

2.2 实验操作步骤(1)将SiCl4等硅源物质放入反应室中。

(2)将反应室加热至高温状态,使硅源物质分解产生含有SiO2分子的气体。

(3)将产生的气体在表面上沉积形成二氧化硅薄膜。

(4)待反应完成后,关闭石英管炉和真空泵,取出制备好的二氧化硅样品。

三、实验优点与不足3.1 实验优点① 该方法可以制备高纯度、高质量的二氧化硅材料;② 制备过程简单,操作方便;③ 制备出来的二氧化硅材料具有较好的均匀性和致密性。

3.2 实验不足① 该方法需要高温条件下进行,对设备和试剂要求较高;② 制备过程中易受到环境污染影响,影响产品质量;③ 该方法无法制备厚度较大的二氧化硅薄膜。

四、应用前景及展望4.1 应用前景二氧化硅是一种重要的功能材料,在微电子、光学、生物医学等领域有着广泛的应用。

随着科技的不断发展,二氧化硅材料的需求量也在逐年增加。

二氧化硅的气相法制备技术具有高纯度、高质量、制备工艺简单等优点,将在未来得到更广泛的应用。

4.2 展望随着科技和工艺的不断进步,二氧化硅的气相法制备技术也将得到不断改进和完善。

未来,该方法将更加稳定、可靠,并且能够制备出更多种类、更高质量的二氧化硅材料。

同时,该方法还可以与其他制备技术相结合,实现更多样化、高效率的生产模式。

亲水气相二氧化硅与疏水二氧化硅

亲水气相二氧化硅与疏水二氧化硅

亲水气相二氧化硅与疏水二氧化硅近年来,亲水气相二氧化硅和疏水二氧化硅材料的研究受到了越来越多的关注。

这两种材料在很多领域都有广泛的应用前景,例如水处理、储能、生物医学等。

本文将围绕这两种材料进行阐述。

一、亲水气相二氧化硅亲水气相二氧化硅又称湿态气相合成SiO2(WAS)材料,它是一种新型的光催化材料,是以硅烷和水蒸气为原料,经过高温化学反应而制备得到的。

这种材料表面的O-H基团具有很强的亲水性,能显著增强光催化反应的效果。

该材料的应用领域非常广泛,例如:水处理、光催化降解有机物、应用于太阳能光催化水分解制氢等。

其中,水处理领域是该材料的主要应用方向之一。

亲水气相二氧化硅被广泛应用于水中重金属离子的吸附和去除、有机物污染物的降解等。

研究表明,这种材料的光催化效果、吸附和去除效果都非常优越,同时具有良好的稳定性和重复使用性。

二、疏水二氧化硅疏水二氧化硅是一种具有厚壁层的SiO2材料,具有很好的疏水性能。

所谓疏水性能,就是指材料表面具有不易被水潮湿、不吸水的性质,而且能够有效地阻止液体与材料间的接触。

疏水二氧化硅的研究主要针对其在油水分离、海水淡化等领域的应用。

当液体经过具有疏水性的二氧化硅时,材料表面的微观结构会发生变化,从而使油水等液体无法与材料表面接触,从而实现油水分离。

在海水淡化领域,疏水二氧化硅的应用可以有效地将淡水和海水分离,提高淡水的产率。

总结亲水气相二氧化硅和疏水二氧化硅是两种非常有前途的材料。

亲水气相二氧化硅主要应用于水处理、光催化降解有机物等领域,而疏水二氧化硅则主要应用于油水分离、海水淡化等领域。

这两种材料的研究与应用对于环保和可持续发展都具有非常重要的意义。

气相二氧化硅的制备方法

气相二氧化硅的制备方法

气相二氧化硅的制备方法气相二氧化硅是由卤硅烷(如四氯化硅、四氟化硅、甲基三氯化硅等)在氢、氧火焰中高温水解,生成二氧化硅粒子,然后骤冷,颗粒经过聚集、分离、脱酸等后处理工艺而获得产品。

在二十世纪六十一七十年代,气相二氧化硅主要是以四氯化硅为原料,生产工艺容易控制,但生产成本较高。

随着有机硅单体工业的发展,其副产物一甲基三氯硅烷等的处理问题成了束缚其发展的瓶颈。

一般,它们被用于硅树脂和防水涂料制造,但是用量有限。

因此,急需找到新的出路。

到八十年代,已经开发出以有机硅单体副产物或这种副产物和四氯化硅混合物为原料,制备气相二氧化硅的工艺,这种生产工艺成本较低,经济效益较好。

气相二氧化硅的制备原理如下式:SiCl4+2H2+O2__燃烧__Si02+H2O+4HCICH3SiCl3+2H2+302___燃烧__Si02+3HCI+CO2+2H2O气相二氧化硅新工艺的出现,改变了气相二氧化硅工业的发展模式,使得气相二氧化硅工业和有机硅单体工业之间的关系更加密切,它解决了有机硅单体工业副产物的处理问题,在气相二氧化硅生产过程中的副产物(盐酸)可返回有机硅单体合成车间,用于单体的合成,而生产的气相白炭黑产品则大部分用于有机硅产品的后加工,这样形成了资源的循环利用。

因此,气相二氧化硅生产企业大多选择在大型有机硅单体公司附近设厂,二者密切合作,相互促进发展。

图1是气相二氧化硅工业和有机硅工业资源循环利用示意图,图1是相互密切关联的有机硅公司和气相二氧化硅公司,它们都是相互在附近设厂,相互促进发展,取得了极好的社会经济效益。

2.气相白炭黑在硅橡胶中的应用2.1气相白炭黑在高温硫化(HTV)硅橡胶中的应用气相白炭黑的使用可以分为有机硅材料和其它领域,其中在有机硅材料领域中的用量占气相二氧化硅总用量近60%,硅橡胶是有机硅材料中使用气相白炭黑最多的材料,其添加量可高达50%以上。

气相白炭黑在HvT硅橡胶中主要起补强作用,由于硅橡胶分子链非常柔顺,链间相互作用力较弱,因此未经补强的硅橡胶强度非常低(不超过0.4 M Pa),没有实用价值,必须经过补强之后才能使用,而用气相白炭黑补强的硅橡胶,其强度可提高40倍。

瓦克亲水系列气相二氧化硅技术参数

瓦克亲水系列气相二氧化硅技术参数

瓦克亲水系列气相二氧化硅技术参数000000001瓦克WACKER气相二氧化硅HDKV15产品性质是一种人工合成的,亲水型的,无定形二氧化硅,由火焰水解法制备而成。

特殊性质高纯度白色粉末状。

产品应用HDKV15在多种有机系统中均可用作为增稠和触变添加剂,包括不饱和聚酯树脂,涂料,印刷油墨,胶粘剂等。

HDKV15可用来作为弹性体,主要是硅橡胶的补强填料。

在粉末涂料,食品材料等方面,可用作为增加流动性的助剂。

产品数据主要性能方法数值二氧化硅含量1)DINENISO3262-1999.8%烧失量2)(1000℃/2h)DINENISO3262-192%二氧化硅密度DIN51757大约2.2g/cm3折光系数1.46硅烷醇基团密度2SiOH/nm2物化性能方法数值BET-表面积DINISO9277/DIN66132130-170m2/g浓度4%的分散液pH值DINENISO787-93.8-4.3填充密度DINENISO787-11大约40g/l干燥失重3)(105℃,2h)DINENISO787-21.5%筛余量(根据Mocker40μm)DINENISO787-180.04%1)以1000℃下煅烧两小时后的物质为基准2瓦克WACKER气相二氧化硅HDKN20产品性质是一种人工合成的,亲水型的,无定形二氧化硅,由火焰水解法制备而成。

比表面积为200平方米/克,粒径12纳米。

应用与特性●油漆和涂料:EP-,UP-,PU-,丙烯酸树脂、PMMA/MMA、PVC塑溶胶●不饱和聚酯树脂、层压树脂和胶衣●HTV高温硫化硅橡胶与RTV2K双组分室温硫化硅橡胶●胶粘剂与密封胶:PIB,PU,丙烯酸树脂,丁基橡胶,聚硫橡胶,RTV硅酮密封剂●印刷油墨●电缆绝缘胶和电缆凝胶●胶体电池●食品与化妆品特性●控制液体系统、粘合剂、聚合物等的流变性与触变性●用作防沉降、增稠、防流挂的助剂●HRC高温硫化硅橡胶与RTV-2K双组份室温硫化硅橡胶的补强●改善粉末的性质,提高流动性和抗结块性流变(增稠/触变):●涂料:EP-,UP-,PU-,丙烯酸树脂、PMMA/MMA、PVC塑溶胶--●密封剂:PIB,PU,丙烯酸树脂,丁基橡胶,聚硫橡胶,RTV硅酮密封剂●薄膜:水合纤维素、PER、PI、PVC、PA、PE、PP、PVCF●胶衣:层压树脂、UP、MF、PF树脂●铸膜树脂:PU、EP、丙烯酸树脂,RTV硅橡胶●电缆料:HTV硅橡胶、PVC、PU、PE●电缆凝胶:矿物油、聚丁烯润滑油、聚丙二醇、硅油●泡沫塑料和聚合物:EPS、PVC、PP、SAP、PA、EP●粘合剂:EP、UP、PP、PU、PVAc、氯丁橡胶●硅橡胶:RTV-1C、RTV-2C、LSR(VMS)●氟橡胶●天然橡胶产品数据主要性能方法数值二氧化硅含量1)DINENISO3262-1999.8%烧失量2)(1000℃/2h)DINENISO3262-192%二氧化硅密度DIN51757大约2.2g/cm3折光系数1.46硅烷醇基团密度2SiOH/nm2物化性能方法数值BET-表面积DINISO9277/DIN66132170-230m2/g浓度4%的分散液pH值DINENISO787-93.8-4.3填充密度DINENISO787-11大约40g/l干燥失重3)(105℃,2h)DINENISO787-21.5%筛余量(根据Mocker40μm)DINENISO787-180.04%1)以1000℃下煅烧两小时后的物质为基准3瓦克WACKER气相二氧化硅HDKT30产品性质是一种人工合成的,亲水型的,无定形二氧化硅,由火焰水解法制备而成。

气相法的二氧化硅

气相法的二氧化硅

气相法的二氧化硅气相法是一种制备二氧化硅(SiO2)的常用方法,其原理是通过控制气体中硅和氧的浓度,在高温条件下使其发生反应生成SiO2。

下面将介绍气相法制备二氧化硅的一些相关内容。

1. 气相法制备二氧化硅的原理气相法制备二氧化硅的基本原理是通过硅源和氧源在高温条件下进行反应生成SiO2。

常用的硅源包括硅酸盐、氯硅烷等,而常用的氧源则是氧气。

在反应过程中,硅源和氧源通过适当的条件(如温度、反应时间、反应压力等)进行热分解、氧化等反应生成SiO2。

2. 气相中硅和氧的反应机制在气相中,硅源和氧源反应生成SiO2的机制主要包括三个步骤:气相氧化、混合氧化和干燥。

气相氧化是指硅源和氧源在高温条件下进行氧化反应生成二氧化硅。

简单来说,硅酸盐或氯硅烷在高温条件下与氧气反应,产生二氧化硅和其他副产物。

这一步骤一般需要控制反应温度、反应压力和反应时间等参数,以保证二氧化硅的纯度和产率。

混合氧化是指将气相中的硅和氧完全混合,使反应更全面地进行。

在混合氧化过程中,反应温度一般较高,以保证反应的充分进行。

此外,还需要通过适当的装置,如混合器和均热器,来保证气相中硅和氧的均匀混合。

干燥是指将制备得到的二氧化硅从气相中分离出来,并去除其中的水分和其他杂质。

干燥的方法主要包括传统的烘干和高温煅烧,以及一些新的干燥技术,如超临界流体干燥和微波干燥等。

干燥的目的是保证二氧化硅的纯度和物理性质。

3. 气相法制备二氧化硅的应用领域气相法制备二氧化硅具有良好的物理和化学性质,因此在许多领域得到广泛应用。

(1)光学和光电子器件:二氧化硅具有良好的透明性和抗光热性,常用于制备光学和光电子器件,如光纤、光电元件、液晶显示器等。

(2)催化剂:由于二氧化硅具有较大的比表面积和活性位点,常用于制备高活性的催化剂,如催化剂载体、催化剂底物等。

(3)材料添加剂:二氧化硅作为材料添加剂,可以改善材料的性能,如增强抗氧化性、阻燃性、耐磨性等。

(4)生物医药:二氧化硅在生物医药领域有广泛应用,如制备药物载体、生物传感器、组织工程材料等。

气相二氧化硅生产工艺

气相二氧化硅生产工艺

气相二氧化硅生产工艺
气相二氧化硅是一种用于微电子制造、光纤制造和太阳能电池等高科技领域的重要材料。

以下是气相二氧化硅生产工艺的步骤及过程。

首先,原料的制备。

气相二氧化硅的主要原料是硅源,一般采用硅化物作为硅源,如硅酮和三甲基硅烷。

原料需要经过净化和纯化处理,以提高二氧化硅的纯度。

其次,反应器的准备。

反应器通常采用化学气相沉积(CVD)工艺,需要准备特殊的反应器设备。

反应器的材料需要具备良好的耐高温性能和化学稳定性,常用的材料有石英和陶瓷。

然后,反应器的预处理。

预处理过程包括保养、清洗和烘烤等步骤,以确保反应器内的环境干净、无杂质,并使反应器达到理想的工作温度。

接下来是气相沉积。

气相二氧化硅的生产依赖于气相沉积技术,该过程是在特定的温度和压力下,将硅源气体中的硅原子和氧源(如氧气或二氧化氮)气体通过化学反应生成二氧化硅,然后在反应器壁上沉积下来。

最后是后处理。

在沉积结束后,需要进行后处理步骤,包括冷却、清洗和检测等工序。

冷却过程是将反应器内的温度降至室温以下,以防止二氧化硅再次反应。

清洗过程是将反应器内的残留物清洗干净,以保证下一次生产的品质。

检测过程是对生产的二氧化硅进行质量检查,以确保产品符合要求。

综上所述,气相二氧化硅的生产工艺包括原料的制备、反应器的准备、反应器的预处理、气相沉积和后处理等步骤。

这些步骤的精确控制和操作能力对于获得高质量的二氧化硅产品至关重要。

气相法二氧化硅的制备

气相法二氧化硅的制备

化 硅产 品质量 的控制
七 的生产 过程 中 ,有许 多技 术指 标 用于 反应 产 品的质 量水 平 ,其 中比较 重要 的指 标有 硅 : 、水分 含量 、筛 余物 和金 属氧 化物 含 量等 。表 1是气 相二 氧化 硅 国家标 准对 该 产 品的 她 。气相 二氧 化硅 的比表 面积对 其性 能 及使 用效 果影 响 比较大 ,因此在 工 业生产 中 , 定 只的大 小 的划分 产 品 的牌号 。由于气 相二 氧化 硅在 制 备过 程 中是有 卤硅 烷水解 缩 聚而 形 召 有许 多硅羟基 ,导 致产 品极 性较 高 ,容 易 吸附 空气 中 的水分 和反应 过 程 中产 生的 副产 K 含 量过 高 ,在 很 多领 域 ( 分 胶粘 剂 、涂料 等 领域 ) 的应 用将 受 到影 响 。因此一 般都 要 l 勺 水分 (0  ̄ 15C)小 于 1 %。同样 如果 不对 产 品进行 脱酸 ,将 极 大地 影 响产 品的应 用 , . 5 气 二氧 化硅 产 品 的 p 相 H值 (%水悬 浮液 )大于 36以上 ,可 以通 过 高温脱 附来 脱 除二 4 . l 勺 氯化 氢 。而 筛余 物则 反 映 了产 品粒 径 的均 匀性 ;通 过控 制原 料 的配 比 以及 氢气 和 空气 同粒径 的二氧 化硅 产 品 。金 属氧 化 物 的含 量 则 反映 了产 品 的纯度 ,这 对 产 品的 电学性 兵 性等都有极大的影响,因此都规定产 品的金属氧化物含量保持较低的水平。
以 甲基 三 氯化硅 和 四氯化 硅 的混 合物 为原 料 制备 气相 二 氧化 硅 的工艺 , 种工艺 成 本较 低 , 这 社会 经 济效益
较好。甲基三氯化硅的反应原理如方程式 ()所示 。近年来 ,随着 多晶硅工业的发展 ,生产过程中产生 2 大 量 的 副产物 四氯 化硅 ,导致 四氯化 硅价 格 大幅 度下 降 , 反 甲基 三氯 化硅价 格 却 大幅 上升 ,所 以 以四氯 相 化 硅为 原料 制备 气相 二 氧化 硅 的工艺 又 成为 主 流 。 此外 还 有专 利报 道利 用有 机 硅 甲基单 体 副产物 中 的高 沸 物和低沸物以及氟硅化合物为原料来制取气相二氧化硅的方法 。

卡博特气相二氧化硅

卡博特气相二氧化硅

气相二氧化硅 A200是一种比表面积为200m2/g的亲水型的气相法二氧化硅。

CAS NO:112 945-52-5 ex.7物理化学数据出厂给出的数据为典型值而非生产参数气相二氧化硅 A380是一种比表面积为380m2/g的亲水型的气相法二氧化硅。

CAS NO:112 945-52-5 ex.7气相二氧化硅 R972是由比表面积为130m2/g的亲水性的气相法二氧化硅为基础,经DDS(二甲基二氯硅烷出厂给出的数据为典型值而非生产参数是由比表面积为200m2/g的亲水性的气相法二氧化硅为基础,经DDS(二甲基二氯硅烷气相二氧化硅 R974气相二氧化硅 R202是经二甲基聚硅氧烷改良后的疏水性气相法二氧化硅。

CAS NO: 67 762-90-7气相二氧化硅 R812S 是由AEROSIL300经HMDS(六甲基二硅氮烷)后处理的疏水型气相法二氧化硅。

CAS 特硅。

CAS NO:112 945-52-5 ex.7631-86-9硅。

CAS NO:112 945-52-5 ex.7631-86-9为基础,经DDS(二甲基二氯硅烷)处理后的疏水型气相法二氧化硅。

CAS NO: 60 842-32-2为基础,经DDS(二甲基二氯硅烷)处理后的疏水型气相法二氧化硅。

CAS NO: 68 611-44-9为基础,经D4(八甲基环四硅氧烷)处理后的一种疏水型气相法二氧化硅。

CAS NO: 68 583-49-3块性能。

CAS NO: 67 762-90-7的疏水型气相法二氧化硅。

CAS NO: 68 909-20-6和光学性能。

卡博特m-5 气相法二氧化硅

卡博特m-5 气相法二氧化硅

卡博特M-5是一种常用的气相法用于制备二氧化硅(SiO2)材料。

该方法通过化学气相沉积(CVD)或物理气相沉积(PVD)等气相反应过程,在适当的工艺条件下生成二氧化硅薄膜或涂层。

卡博特M-5方法的主要步骤包括以下几个方面:
原料准备:准备用于二氧化硅制备的适当原料,例如硅源化合物(如二氧化硅前驱体),并进行预处理和纯化。

反应装置准备:根据具体的反应条件和要求,准备相应的反应装置和设备,包括气体供应系统、反应室、加热源、气体排放系统等。

气相反应过程:将预处理的原料引入反应装置中,控制适当的温度、压力和气体流量等参数,通过化学反应或物理过程,在表面沉积或形成二氧化硅材料。

控制和监测:在反应过程中,监测和控制关键参数,如温度、压力、气体流量等,以确保所得到的二氧化硅材料具有所需的性质和质量。

后处理和表征:对制备得到的二氧化硅材料进行后处理和表征,例如表面清洗、退火、薄膜厚度测量、表面形貌观察等,以评估材料的性能和质量。

需要注意的是,具体的操作步骤和工艺参数可能因不同的实验条件和设备而有所不同。

因此,在具体实施卡博特M-5气相法制备二氧化硅之前,建议参考相关的科学文献、制备手册或专业指导,以获得更详细和准确的操作指南。

二氧化硅生产工艺流程

二氧化硅生产工艺流程

二氧化硅生产工艺流程二氧化硅是一种重要的无机化合物,广泛应用于电子、光电子、光学、化工、制陶等工业领域。

二氧化硅生产工艺流程主要包括原料制备、气相法制备和溶胶凝胶法制备三个部分。

一、原料制备二氧化硅生产的原材料主要是硅石和石英砂。

硅石主要含有SiO2、Al2O3、Fe2O3等成分,硅石经过破碎、洗涤等处理,得到粒径在1-10mm的硅石颗粒。

石英砂是天然的二氧化硅矿物,经过破碎、筛分等处理,得到粒径在40-100目的石英砂。

二、气相法制备气相法制备是一种将硅石和石英砂氧化制备二氧化硅的方法。

该工艺流程主要包括四个步骤:煅烧、还原、氧化和冷凝。

1. 煅烧将硅石和石英砂分别进行煅烧,使其产生化学反应,生成气态的SiO2和CO2。

反应式为SiO2 + C → SiO + CO2。

2. 还原将气态的SiO还原为固态的SiO2,反应式为SiO + H2 → Si + H2O。

3. 氧化将SiO2氧化为SiO2,反应式为SiO2 + O2 → SiO2。

4. 冷凝将气态的SiO2冷却,使其凝结成为微米级的二氧化硅颗粒。

三、溶胶凝胶法制备溶胶凝胶法制备是一种将硅源溶解在溶剂中,制备二氧化硅的方法。

该工艺流程主要包括两个步骤:溶胶制备和凝胶制备。

1. 溶胶制备将硅源密度较小的SiO2粉末溶解在适当的溶剂中,如水、乙醇等,形成溶胶。

2. 凝胶制备将溶胶加入酸性催化剂中,形成凝胶。

凝胶经过干燥、热处理等步骤,得到二氧化硅产品。

二氧化硅生产工艺流程包括原料制备、气相法制备和溶胶凝胶法制备三个部分。

不同的制备方法适用于不同的生产需求,如气相法制备适用于大规模生产,溶胶凝胶法制备适用于小规模精细生产。

二氧化硅的生产工艺流程是一个复杂的过程,需要严格的操作控制和质量检测,以保证产品的质量和稳定性。

亲水型气相二氧化硅

亲水型气相二氧化硅

亲水型气相二氧化硅
亲水型气相二氧化硅是指一种新型的非晶合成气相二氧化硅,它具有良好的水溶性和可控性。

该材料主要由二氧化硅原子和水分子组成,其表面带有水分子,因此具有亲水性。

由于水分子在表面上占据了一定空间,因此使得气相二氧化硅表面有较强的抗污性能,可以有效减少大气中的污染物的侵入。

亲水型气相二氧化硅具有优异的物理和化学性能,可以作为空气滤过材料、水处理剂及无机药物等应用。

它具有高分子量、低聚合度、低颗粒含量、高表面积等优点,在污染物的吸附、高效分离和抗菌等方面具有重要意义。

此外,由于它具有良好的耐腐蚀性、耐热性和耐磨性,因此可以用于高温、腐蚀和磨损条件下的工业应用。

由于亲水型气相二氧化硅具有优良的物理和化学性能,因此在多种应用领域中受到广泛的重视。

它可以用于空气净化器的滤芯,用于捕集有害气体污染物,如苯、甲苯、硫化氢等,以降低大气污染。

此外,亲水型气相二氧化硅还可以用作水处理剂,用于净化水源中的有害物质,如重金属离子和微生物等,从而保护水资源。

另外,亲水型气相二氧化硅可以用作无机药物,用于治疗肿瘤和其他疾病。

它可以通过改变表面电荷和形貌,
使药物更容易渗入细胞内部,从而提高药物的有效性。

此外,亲水型气相二氧化硅还可以用作陶瓷材料,用于制造耐高温、耐腐蚀和耐磨损的装置及其他部件。

总之,亲水型气相二氧化硅是一种新型的非晶合成气相二氧化硅,具有优异的物理和化学性能,可以用于空气净化、水处理、药物治疗和陶瓷制造等多种领域,具有重要的应用价值。

我国气相法二氧化硅生产取得进展

我国气相法二氧化硅生产取得进展

e, l美国 C b t以 及 日本德 山曹达 等少 数几 家公 司控 制全球 市场 全球 每年 消耗 的 4 - ao . 0多万 吨气相 法二 氧化硅 中 , 这 几家 公司 就生产 了 l 仅 5万吨 。 管如此 , 尽 面对全 球气 相法 二氧化 硅 高遣 增长 的 市场 需求 , 这几 家行 业巨头公 司还 在 不断实 施扩 产计 划 。 D g sa 司 目前正 如 e us 公 在德 国和 法 国新建 两个大 型的 生产基地 , 井准备 进一步 授 资其他 地 区 。
据 介绍 , 进储 存 罐 的硅胶 不用 补 充 , 放 也不 用 更换 目前 , 家庭 用取 暖 油罐 的容积 , 如装 上硅 胶 , 产生 的热 量 已够一 个家 庭取 暖 。
我 国气相法二氧化硅生 产取 得进展
气相珐 二 氧 化硅 ( 叉称 气相法 自炭黑 ) 0 依 赖进 口的局 面可望 改变 。 8
31 Biblioteka 维普资讯 年的吉化电石厂, 也面临类似的环保问题。
经 过技 术创 新和 攻关 , 国 已在 蓝星 星火化工 厂 附近 建设 了 50吨 / 我 0 年气 相 自炭黑 的试 验 型 装置 , 去年 年底 利用 该 厂的有 机 硅单体 副 产物 和 配套原 材料 , 生产 出高 质量 的气相法 二
突 出 。2 0 年 7月 国务院批 准 执行 的《 00 当前 国家重 点鼓 励发 展 的产 业 、 品和 技 术 目录 》 产 中 列入 了气 法相 自炭黑工 业 化 项 目。 国外气 相法 二氧 化 硅 工业 经 过 4 O多年 的发展 , 已达 到很 高 水 平 , 国 D g sa W ak 德 e u s 、 c
无法 与之抗 衡的情 况 下 , 口气相 法二氧 化硅 产 品占据 中 国 8 的市 场 进 0 有 机硅 单体 工业 必 然 存在 的副 产物 一 甲基 三氯 硅烷 和高低 沸 物 , 气 相 法二 氧 化 硅 的 是 主体原材 料 , 在其 生产过 程 中的副产 物氯 化氢又 可返 回作 为有 机硅 单体 的原材 料 , 气相法 而 二 氧化硅 又是 有机 硅工业 后 加工 产 品的主要 补强材 料 正 因为 这 样 , 国外有机 硅公 司 D w— o

气相法白炭黑相关标准概述

气相法白炭黑相关标准概述

附件1:气相法白炭黑相关标准概述1 气相法白炭黑概况气相法白炭黑(又名气相二氧化硅)是利用卤硅烷经氢氧焰高温水解制得的一种精细、特殊的无定形二氧化硅产品,该产品的原生粒径在7- 40nm 之间,比表面积一般在100m,/g ---400m'/g范围内,产品纯度高,sio:含量不小于99.8%,是一种极其重要的无机纳米粉体材料。

由于其优越的稳定性、补强性、增稠性和触变性,在橡胶、塑料、蓄电池、涂料、医药、农业和CMP等领域得到了广泛的应用。

气相法白炭黑一般有亲水型和疏水型两种产品,其中疏水型产品是利用亲水型产品通过表面化学处理而获得。

自1941年德国Degussa公司成功开发出气相法白炭黑的生产技术以来,目前全世界的气相法白炭黑年生产能力已超过20万吨,而且生产技术高度集中,主要由德国Degussa, Wacker,美国Cabot 及日本Tokuyama等少数几家公司控制全球市场,技术也控制得非常严密。

世界上气相法白炭黑发展的一个基本模式是生产企业与有机硅单体和后加工企业密切结合,气相法白炭黑生产厂家利用有机硅单体厂生产过程中的副产物为主要料制备气相法白炭黑,而在气相法白炭黑生产过程中所产生的副产物HCl则返回有机硅单体厂用于有机硅的合成,此外气相法白炭黑产品出来之后又大量用于有机硅产品的后加工,这样形成一个资源利用、相互促进发展的良性循环。

所以在全球最大的有机硅企业Dowcorning和GE公司单体工厂附近有最大的气相法白炭黑生产企业Cabot和Degussa公司,而Wacker公司则本身是两大类产品的生产企业。

(国内气相法白炭黑早期主要用于军工领域,但现在大量用于民用工业,如有机硅材料、电器、电子、胶粘剂、涂料、油墨、造纸等领域,为传统产品的升级换代提供了坚实的基础。

据初步统计,我国目前气相法白炭黑的总用量已经超过11000吨/年,并以极快的速度增长,预计到201。

年将达到20000吨/年。

疏水型气相法二氧化硅

疏水型气相法二氧化硅

疏水型气相法二氧化硅概述疏水型气相法二氧化硅是一种常见的制备纳米级二氧化硅颗粒的方法。

该方法主要通过气相反应,在合适的条件下,将硅源气体与氧气反应生成二氧化硅。

通过控制反应条件,可以得到疏水型的二氧化硅颗粒,具有许多优越的物理和化学性质,被广泛应用于领域。

制备过程1. 原料准备要制备疏水型气相法二氧化硅,需要准备以下原料: - 硅源气体:常用的硅源气体有硅酸酯化合物、硅烷化合物等。

- 氧气:作为氧化剂参与反应。

2. 反应条件控制制备疏水型气相法二氧化硅时,需要控制以下反应条件: - 温度:通常在500-1000℃之间,不同的温度可以得到不同性质的二氧化硅。

- 压力:影响反应速率和颗粒得率的重要因素。

- 反应时间:根据不同的需求,反应时间可以有所调整。

3. 反应过程制备疏水型气相法二氧化硅的反应过程可以分为以下几个步骤: #### 3.1 气相反应将硅源气体和氧气混合后,通入反应器中进行气相反应。

在适当的温度和压力下,硅源气体和氧气发生反应生成二氧化硅。

这一步骤是整个制备过程的核心。

3.2 疏水处理得到的二氧化硅颗粒表面通常会带有羟基等亲水官能团。

为了使其具备疏水特性,需要进行疏水处理。

常见的疏水处理方法包括化学处理和热处理等。

3.3 表面修饰通过表面修饰可以改变二氧化硅颗粒的性质,使其具备特定的功能。

常用的表面修饰方法包括硅烷偶联剂修饰、化学修饰等。

4. 性质和应用疏水型气相法制备的二氧化硅颗粒具有以下特点和应用: - 高纯度:通过精确控制反应条件,可以得到高纯度的二氧化硅颗粒。

- 同质分散性:颗粒大小均匀,分散性好,适用于纳米材料的制备。

- 疏水性:经过疏水处理,颗粒表面具备疏水性,可以应用于涂料、塑料等疏水材料的制备。

- 生物相容性:经过表面修饰,可以使二氧化硅颗粒具备生物相容性,可应用于生物医学领域。

结论疏水型气相法二氧化硅是一种重要的纳米材料制备方法。

通过精确控制反应条件,可以得到具有各种特性的二氧化硅颗粒,广泛应用于各个领域。

亲水气相二氧化硅与疏水二氧化硅

亲水气相二氧化硅与疏水二氧化硅

亲水气相二氧化硅与疏水二氧化硅简介二氧化硅是一种常见的材料,广泛应用于化工、材料科学和生物医药等领域。

根据表面特性和亲水性质的不同,二氧化硅可以分为亲水气相二氧化硅和疏水二氧化硅。

本文将探讨这两种二氧化硅的性质、制备方法及应用领域。

亲水气相二氧化硅性质亲水气相二氧化硅具有良好的亲水性质,即具有亲水基团,能与水相互作用。

其表面可以吸附水分子,并使水分子形成一层稳定的水合壳。

这种亲水性使其在一些应用中具有独特的优势。

制备方法亲水气相二氧化硅的制备方法多种多样。

以下是其中的一种常见方法:1.溶胶-凝胶法:通过将硅源(如硅酸酯)溶解在有机溶剂中形成溶胶,加入水解剂使溶胶发生凝胶化反应。

凝胶经过干燥和煅烧处理后得到亲水气相二氧化硅。

应用领域亲水气相二氧化硅在以下领域具有广泛的应用:1.化妆品:亲水气相二氧化硅常用作化妆品中的填充剂和稳定剂,能够提高产品的质感和稳定性。

2.药物传递:亲水气相二氧化硅可以作为药物载体,能够提高药物的溶解度和稳定性,从而提高药效。

3.涂料:亲水气相二氧化硅可以成为涂料中的填料,改变涂料的性质和表面特性,提高涂料的附着力和耐久性。

疏水二氧化硅性质疏水二氧化硅表面具有疏水性质,即不亲水,与水相互作用较弱。

这种疏水性质使其在某些特定的应用中发挥重要作用。

制备方法疏水二氧化硅的制备方法也具有多样性。

以下是其中的一种常见方法:1.疏水化处理:通过将亲水二氧化硅表面进行疏水化处理,例如利用有机硅化合物或有机聚合物修饰二氧化硅表面,使其表面产生疏水基团,从而具备疏水性质。

应用领域疏水二氧化硅在以下领域有重要的应用:1.涂料防水:疏水二氧化硅可以作为涂料中的防水剂,提高涂层的防水性能,使得涂料具有更好的耐候性。

2.高温润滑:疏水二氧化硅可用于高温润滑剂中,能够减少磨擦损失和摩擦系数,提高润滑效果。

3.疏水膜:由疏水二氧化硅制备的薄膜可以应用于光电子器件中,用于改善器件的稳定性和透明度。

总结亲水气相二氧化硅和疏水二氧化硅是二氧化硅的两种不同表面性质。

亲水气相二氧化硅结构

亲水气相二氧化硅结构

亲水气相二氧化硅结构亲水气相二氧化硅(Hydrophilic Vapor Phase Silica,HVPS)是一种特殊的二氧化硅纳米材料,具有亲水性,广泛应用于纳米材料、生物医药、环境保护等领域。

它的结构和性质使其在水相中具有良好的分散性和稳定性,使其成为一种优秀的功能材料。

亲水气相二氧化硅的结构主要由纳米粒子组成,其中纳米粒子的表面密布着硅氧键。

这些硅氧键通过氢键和水分子相互作用,从而使纳米粒子表面具有良好的亲水性。

此外,亲水气相二氧化硅的表面还具有一定的孔隙结构,可以提供较大的比表面积,进一步增强其与水相中其他物质的作用能力。

亲水气相二氧化硅的制备通常采用溶胶-凝胶法。

首先,硅源将被溶解在有机溶剂中,生成溶胶。

然后,通过添加盐类或酸碱等溶剂调节pH 值,形成凝胶。

接下来,通过干燥和碳化等处理,得到二氧化硅纳米材料。

在这个过程中,通过选择合适的溶剂和控制反应条件,可以调节纳米粒子的大小和形状,从而得到不同结构和性质的亲水气相二氧化硅。

亲水气相二氧化硅的孔隙结构也是其优异性能的重要因素之一、纳米粒子表面的孔隙具有较大的比表面积,可以吸附大量的水分子和其他物质,从而增强了纳米粒子与水相中其他物质的作用能力。

此外,孔隙结构还可以提供一定的储存空间,使亲水气相二氧化硅能够在水相中承载和释放一些分子,具有载体的功能。

亲水气相二氧化硅还可以通过控制其结构和形态,进一步调控其亲水性能。

例如,通过控制硅源和溶剂的比例,可以调节形成的纳米粒子的大小和形状。

较小的纳米粒子通常具有较大的比表面积和较高的孔隙率,因此具有更好的亲水性能和吸附能力。

此外,还可以通过添加一些功能化修饰剂,如硅烷偶联剂等,进一步增强亲水气相二氧化硅的性能。

总之,亲水气相二氧化硅作为一种特殊的纳米材料,具有良好的亲水性能和分散稳定性。

其结构由硅氧键和孔隙结构组成,通过与水分子的相互作用,使其在水相中具有良好的分散性和稳定性。

亲水气相二氧化硅在纳米材料、生物医药、环境保护等领域具有广泛的应用前景。

亲水气相二氧化硅

亲水气相二氧化硅

亲水气相二氧化硅
由气液相互作用制备亲水气相二氧化硅的纳米粒,这种方法的优点是制备过程简单、纯度高、成本低且可以制备出粒径分布均匀、表面官能团足量且活性性强的亲水气相二氧化硅。

此种材料在催化剂、药物载体、色谱填料等多个领域有着广泛应用。

首先要述说的是,亲水气相二氧化硅(HAGS)的制备工艺大致可分为原料预处理、气化、二氧化硅粒子的合成、收集和后处理等步骤。

原料预处理是将原料经过粉碎、混合、筛选等工艺处理,使其成为适合于气化装置的物料。

气化是在高温下使原料发生气化反应,生成二氧化硅气态分子。

合成是指在特定的反应条件下,二氧化硅气态分子聚合生长而成的纳米颗粒。

收集步骤则是通过气固分离技术将生成的粒子收集起来。

后处理是对收集的粒子进行适当的处理,以改善其应用性能。

这种纳米粒的特点是具有极佳的亲水性,同时在物理与化学属性上也表现出优良的稳定性。

正因为其出色的水亲性,亲水气相二氧化硅在世界钟爱水相技术的生物医药或环保领域有着不可或缺的重要作用。

此外,亲水气相二氧化硅的高亲水性也使得其在水剂的配制和使用中有着优良的应用前景。

亲水气相二氧化硅的开发应用已经从实验室走向了工业化生产阶段,并在催化剂和色谱分析领域得到了广泛的应用。

例如,作为催化剂,亲水气相二氧化硅的独特物理化学性质使其在环境治理、石油化工等多个领域有着极高的应用价值。

作为色谱填料,由于其对疏水或者亲水物质的分离效率很高,所以常被用于分离和浓缩生物大分子、药物和环境污染物。

此外,亲水气相二氧化硅还可以作为功能性涂层被应用于光电子学、生物学和能源工程等广泛领域。

气相二氧化硅目数

气相二氧化硅目数

气相二氧化硅目数
摘要:
一、气相二氧化硅的概述
二、气相二氧化硅的分类
三、气相二氧化硅的应用领域
四、气相二氧化硅的制备方法
五、我国气相二氧化硅的发展现状及前景
正文:
气相二氧化硅(Fumed Silica)是一种高纯度、高孔隙度的无机材料,其粒径分布广泛,主要分布在1-100nm 之间。

气相二氧化硅因其独特的物理和化学性质,在众多领域具有广泛的应用。

根据粒径和孔径的不同,气相二氧化硅可分为以下几类:
1.亲水性气相二氧化硅
2.疏水性气相二氧化硅
3.活性气相二氧化硅
4.惰性气相二氧化硅
气相二氧化硅的应用领域十分广泛,包括且不限于以下几个方面:
1.涂料和油墨:作为颜料的载体,提高涂料和油墨的遮盖力、附着力和耐磨性。

2.橡胶和塑料:作为补强剂、增量剂和抗结块剂,提高橡胶和塑料的力学性能、耐磨性和抗老化性。

3.电子材料:作为电子元器件的封装材料,提高其绝缘性、耐热性和抗氧化性。

4.催化剂和载体:作为催化剂的载体,提高催化剂的活性和稳定性。

5.生物医学:作为药物载体和生物活性材料,实现药物的缓释和靶向传输。

气相二氧化硅的制备方法主要有两种:
1.硅酸钠法:以硅酸钠为原料,通过加热分解生成气相二氧化硅。

2.硅烷法:以硅烷为原料,通过热解或燃烧生成气相二氧化硅。

我国气相二氧化硅产业经过数十年的发展,已形成较为完整的产业链和产业体系。

在政策扶持、技术进步和市场需求的共同推动下,我国气相二氧化硅行业呈现出良好的发展势头。

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亲水型气相法(Hydrophilic Vapor Phase Deposition,简称HVPE)生产的二氧化硅(SiO2)常用的原材料是硅源和氧源。

1. 硅源:HVPE法生产的二氧化硅的主要硅源是氯硅烷(例如三氯硅烷、六氯硅烷等)。

氯硅烷在高温下分解产生氯化氢和硅粉末,硅粉末进一步与氧气反应形成二氧化硅。

2. 氧源:氧气(O2)是HVPE法中的主要氧源。

在HVPE过程中,氧气和硅源反应生成二氧化硅。

通常,氧气以气体形式供给到反应室中。

在HVPE工艺中,硅源和氧源通过控制温度、压力和反应条件等参数进行反应,生成二氧化硅薄膜。

这种方法可以在较低温度下制备高质量的二氧化硅薄膜,并具有较高的生长速率和优异的透明性。

需要注意的是,具体选择的硅源和氧源可能会因不同的工艺和设备而有所不同。

在实际生产中,根据具体要求和条件,可能会采用不同的硅源和氧源组合来实现二氧化硅的生长。

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