6第六章+图形转移
图形的移动、复制、旋转与缩放
提高操作效率的技巧和方法分享
使用快捷键
熟练掌握图形编辑软件中的快捷键操 作，可以大大提高图形移动、复制、 旋转和缩放的效率。
批量处理
对于需要进行大量相同操作的图形，可以使 用批量处理功能，一次性完成多个图形的移 动、复制、旋转和缩放等操作，提高工作效 率。
Байду номын сангаас
利用图层功能
在图形编辑软件中，通过合理地使用图层 功能，可以方便地对不同图层上的图形进 行移动、复制、旋转和缩放等操作。
图形的移动、复制、旋转与缩放
contents
目录
• 图形基本操作概述 • 图形移动技术 • 图形复制技术 • 图形旋转技术 • 图形缩放技术 • 综合应用与案例分析
01 图形基本操作概述
移动、复制、旋转与缩放定义
01
02
03
04
移动
将图形从当前位置移动到另一 个位置，不改变图形的形状和
大小。
复制
移动位置
将光标移动到需要粘贴的位置。
粘贴操作
执行“编辑”菜单中的“粘贴”命令，或 按下Ctrl+V组合键进行粘贴，完成异位复 制。
批量复制技巧分享
多选图形
使用选择工具按住Shift键选中多 个需要复制的图形。
复制操作
执行“编辑”菜单中的“复制” 命令，或按下Ctrl+C组合键进行
复制。
粘贴操作
在需要粘贴的位置执行“编辑” 菜单中的“粘贴”命令，或按下 Ctrl+V组合键进行粘贴，完成批
坐标变换
通过计算将图形的当前坐 标转换为目标位置的坐标。
更新图形位置
用新的坐标值更新图形的 位置属性，实现移动效果。
相对位置移动法
图形转换 幼儿园 教案
图形转换-幼儿园教案教学目标1.能够正确地认识各种图形。
2.能够使用旋转和翻转操作对图形进行转换，并比较转换前后的区别。
3.能够将所学知识应用于实际生活中。
教学内容1. 图形认知•教师介绍各种常见的图形，如正方形、三角形、矩形、圆形等，并让幼儿观察、感受和描述各自的特征和几何属性。
2. 图形转换2.1 旋转转换•教师通过示范将一张图形放在转盘上，向不同的方向转动，让幼儿观察，描述旋转后的图形形态。
•教师让幼儿自己进行旋转操作，再与同学分享观察到的变化。
•教师帮幼儿总结旋转转换的基本规律，如旋转90度可得到相似但不同的图形。
2.2 翻转转换•教师通过示范将图形沿水平或垂直轴翻转，让幼儿观察，描述翻转后的图形形态。
•教师让幼儿自己进行翻转操作，再与同学分享观察到的变化。
•教师帮幼儿总结翻转转换的基本规律，如沿水平轴翻转可得到关于水平线对称的图形。
3. 应用实践•教师将一些有趣的图形和图形拼图游戏带到课堂上，鼓励幼儿用所学知识进行图案转换和拼图，培养他们的观察和操作能力。
•教师还可以在幼儿园的日常活动中，引导幼儿发现和应用所学的图形转换知识，培养他们的创新思维和实践能力。
教学方法•感性认识与理性认识相结合•示范和参与式教学•互动讨论和体验式学习•应用实践和兴趣激发相结合教学评估•对幼儿进行日常观察和记录，了解其在课堂上的学习情况和表现，及时调整教学方法和策略。
•运用小测试、测验等形式，对学生所掌握的知识进行简单的检验和评估，及时发现和纠正不足，加强知识巩固。
教学注意事项•教师应注重示范和引导，让幼儿充分感受图形转换的乐趣和妙处。
•教师应注意统筹教学内容，避免学习过程中过于枯燥和单调。
•教师应注重引导幼儿与同学互动，促进合作学习和师生互动。
三年级下册第六章《图像的变化》教案讲解
小学信息技术江西科学技术出版社三年级下册《图像的变化》教学设计一、教学内容《图像的变化》是《小学信息技术》三年级第6章的内容，本节课主要学习在画图软件中对图片进行翻转、旋转的方法。
从教材中的教学内容来看，看似比较简单，但是如果在教学中只让学生单纯为掌握知识而教，会造成学生处理信息的盲目性，因此，在这节课的教学中，采用“任务驱动教学法”，增加完成类似“任务”的能力，提高自主学习能力，让学生在掌握知识与技能的同时掌握科学的学习方法，是在学生学习了选择、复制、粘贴的方法之后的一节综合实践课。
二、学生分析三年级学生在学习本课前已经对计算机有了初步的认识，能够熟练使用画图工具箱里的各种工具，所有这些都对本课的学习打下了良好的基础。
三年级的学生思维活跃，学习能力和动手能力都很强，但学生综合运用知识的能力不是很强。
通过本课的学习，将信息技术运用于学生生活实际，一方面可以提高学生的学习兴趣，另一方面也可培养学生综合运用知识的能力和审美能力。
三、教学目标1.知识与技能目标（1）掌握“图像”菜单中“翻转/旋转”命令的使用方法。
（2）通过尝试操作培养学生发现问题、分析问题、解决问题的能力以及锻炼学生的自主探索和综合实践操作的能力。
（3）发挥学生的设计才能和创意，培养学生欣赏他人作品以及评价他人作品的能力。
（4）通过交流评价，让学生增强自信心并充分发挥想象力，创作有自己特色的作品，并体验成功的快乐。
2、过程和方法目标：通过师生间的交流，给学生以方法、以鼓励。
3. 情感态度和价值观目标：（1）、鼓励学生向别人展示自己的作品，培养他们的自信心。
（2）、培养学生学会与他人合作的意识。
（3）、及时的对学生进行思想道德教育，培养学生乐于助人的高尚品德。
四、教学重点、难点及突破方法：重点：熟练使用“图像”菜单中“翻转/旋转”命令。
难点:能掌握“翻转/旋转”命令的使用技巧。
为了突破教学重难点，本课我的教学设计是以“强化实践”为本，为此我增加了课堂互动练习，把学习的主动权交给学生，让学生在实践中去发现问题、去寻找解决问题的方法。
画图复制和翻转计算机PPT课件
A 怎样将图片添加到画图
B
C
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D
在画图中不小心出错了可以怎么办！
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使用手帕的五大理由
• 环保：保护森林，节约稀缺的水和能源 • 卫生：自身的手帕比起许多不知由来的纸巾更安全可靠 • 美观：避免了将纸巾末残留在面部的尴尬 • 实惠：一条手帕可使用多年，更经济实惠 • 温情：在手帕加上你设计的小东西，让它成为一份很棒的礼品，送给别人。
①用选定工具框住图像 ②单击编辑菜单项选择复制 ③单击编辑菜单项选择粘贴
①用选定工具框住图像
②单击图像菜单项选择翻转/旋转
③在翻转/旋转对话框中选择一种 翻转方式，按确定。
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ห้องสมุดไป่ตู้
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谢谢 欢迎大家提出宝贵的意见!
执教：吉安师范附属小学 刘星礼
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那幅作品更漂亮
作品一
作品二
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复制图像的操作步骤
①用选定工具框住图像 ②单击编辑菜单项选择复制 ③单击编辑菜单项选择粘贴
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翻转图像的操作步骤
①用选定工具框住图像 ②单击图像菜单项选择翻转/旋转 ③在翻转/旋转对话框中选择一种 翻转方式，按确定。
小学图形转化知识点总结
小学图形转化知识点总结图形转化是小学数学中的一个重要知识点，它涉及到图形的平移、旋转、对称等运动和性质变化。
通过图形转化，孩子们可以更好地理解和掌握空间的变化和性质，培养他们的观察、思维和逻辑能力。
本文将从平移、旋转和对称三个方面进行详细的总结和阐述。
一、平移平移是指将图形沿着直线方向移动一段距离，并且移动前后的图形形状、大小、面积都不发生改变。
在小学数学中，平移是孩子们最早接触到的图形转化运动之一，它是理解和掌握图形转化的重要基础。
1. 平移的概念平移是指图形在平面内沿着直线方向移动一段距离，并且移动前后的图形形状、大小、面积等不发生改变。
平移的特点是保持图形原有的大小和形状不变，只改变了图形的位置。
2. 平移的性质（1）保持距离不变：平移不改变图形上各点之间的距离关系。
（2）保持角度不变：平移不改变图形上各角度的大小。
（3）保持面积不变：平移不改变图形的面积。
（4）保持方向不变：平移不改变图形的方向。
3. 平移的实现方法（1）利用格子纸：让孩子们在格子纸上画出一个图形，并标出各顶点的坐标，在移动时按照规定的方向和距离逐个将顶点的坐标进行平移，然后再用尺规直尺重新连线，形成平移后的图形。
（2）利用软件工具：在课堂教学中可以使用计算机相关的软件工具，如geogebra等，在屏幕上进行平移操作，更直观地展示图形的平移运动。
4. 平移的应用平移在日常生活和实际应用中有着广泛的应用，如建筑设计、地图制作等领域都需要经常进行图形的平移操作，因此小学生通过学习图形的平移运动，可以更好地理解和应用在实际生活中的相关知识。
二、旋转旋转是指图形绕着一个固定点或者直线进行转动，并且在转动过程中图形的大小、形状不发生改变。
旋转是小学数学中的另一个重要图形转化运动，通过旋转运动，孩子们可以更好地理解图形的转动和性质。
1. 旋转的概念旋转是指图形绕着一个固定点或者直线进行转动，转动过程中保持图形的大小、形状和面积不变。
4《半导体工艺》课程教学大纲2016
《半导体工艺技术》教学大纲（中文）一、课程名称（中英文）中文名称：半导体工艺技术英文名称：Semiconductor Manufacturing二、课程编码及性质课程编码：0800021课程性质：专业核心课，必修课三、学时与学分总学时：32学分：2.0四、先修课程大学物理，固体电子学基础，微电子学概论五、授课对象可供电子封装技术专业和材料科学与工程专业学生选修。
六、课程教学目的（对学生知识、能力、素质培养的贡献和作用）本课程是本专业的核心课程之一，其教学目的主要包括：1、了解集成电路工艺的发展历史和发展前沿，掌握行业方向和动态：2、掌握集成电路制造工艺及原理：3、掌握集成电路制造相关领域的新技术和新设备：4、培养工艺分析、设汁以及解决工艺问题和提髙产品质量的能力。
表1课程目标对毕业要求的支撐关系七、教学重点与难点：教学重点：重点要求学生掌握不同半导体工艺技术的原理和控制因素，通过这些工艺的组成来实现一定的器件结构。
教学难点：掌握器件结构和丄艺之间的关系，及其半导体工艺的组合应用。
八、教学方法与手段:教学方法：（1）采用现代化教学方法（含PPT演示，设备照片，影像资料等），阐述不同半导体工艺技术的原理和控制因素，保证主要教学内容的完成，这部分以课堂讲授为主；（2）适时安排课堂小测试和作业，使所学知识点能够融会贯通。
教学手段：（1）先介绍不同半导体工艺技术的原理和控制因素;（2）将器件与工艺结合起来，掌握一些器件的工艺实现方法。
（3）将器件性能与工艺、结构联系起来，初步了解器件的分析和设计思路。
九、教学内容与学时安排（1）总体安排教学内容与学时的总体安排，如表2所示。
（2）具体内容各章节的具体内容如下：1.半导体加工环境与衬底（4学时）了解半导体工业的发展历史，掌握微电子工艺对环境的基本要求：空气、水、气、化学试剂等。
掌握晶体生长技术（直拉法、区熔法），硅圆片制备及规格，晶体缺陷，硅中杂质。
2.热氧化（4学时）掌握SiCh结构及性质，硅的热氧化方程及其厚度计算方法，影响氧化速率的因素, 场氧化工艺，氧化缺陷，氧化工艺及设备。
《图形复制与移动》课件
图形复制
适用于需要重复使用相同图形的 情况，例如制作宣传海报、排版
文章等。
图形移动
适用于需要调整图形位置的情况 ，例如设计布局、拼图等。
联系
在某些情况下，图形复制和移动 可以同时使用，例如在制作拼图 游戏时，需要将相同的拼图块移 动到正确的位置，并复制多个拼
图块以完成拼图。
04
图形复制与移动的实例展示
ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
复制的实例
实例1
在PPT中创建一个矩形 ，然后通过复制操作得
到两个相同的矩形。
实例2
在Excel中制作一个表格 ，通过复制操作快速生
成多个相同的表格。
实例3
在Photoshop中绘制一 个图案，通过复制操作
应用于整个图片。
实例4
在AutoCAD中绘制一条 线段，通过复制操作快 速绘制出多个相同的线
段。
移动的实例
01
02
03
04
实例1
在PPT中创建一个形状，然后 通过拖拽操作将其移动到另一
个位置。
实例2
在Word中插入一个图片，通 过拖拽操作将其移动到另一个
位置。
实例3
在AutoCAD中绘制一个三维 模型，通过旋转和平移操作改
变其位置。
实例4
在Flash中创建一个动画角色 ，通过帧移动操作使其在场景
在设计领域，移动是一种基本的操作，用 于调整图形的位置和排列。在游戏开发中 ，移动是实现游戏角色和物体的动态行为 的关键。在数据可视化中，通过移动图表 元素，可以更清晰地展示数据之间的关系 和趋势。
03
图形复制与移动的区别与联 系
定义上的区别
图形复制
将一个或多个图形从一个位置复 制到另一个位置，保持图形不变 ，数量增加。
图形转移教材
度
2020/10/7
其中：聚乙烯保护膜是覆盖在感光胶层上的保护膜，防止灰尘等污物
粘污干膜 阻止干膜胶层粘附在下层PET上； 聚脂类透明覆片（PET）作用：
1、避免干膜阻剂层在未曝光前 遭刮伤； 2、在曝光时阻止氧气侵入光阻胶层，破坏游离基，引起感光
下降 培训教材
9
Kai Ping Elec & Eltek
2020/10/7
培训教材
16
5.3.2 贴膜
Kai Ping Elec & Eltek
贴膜时，先从干膜上剥下聚乙烯保护膜，然后在加热 加压条件下将干膜抗蚀剂粘膜在覆铜箔板上。
2020/10/7
培训教材
17
贴膜示意图
Kai Ping Elec & Eltek
-聚乙烯膜收 卷辊筒
-装干膜 下辊筒
-聚乙烯膜收卷辊筒 -装干膜上辊筒
5.2 光阻胶层的主要成分及作用
光阻胶层的主要成分
作用
粘结剂(成膜树脂)
起抗蚀剂的骨架作用,不参加化学反
应 光聚合单体
在光引发剂的存在下,经紫外
光照射下
发生聚合反应,生成体型聚合
物,感光
部分不溶于显影液,而未曝光
部ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ可通
过显影除去
光引发剂
在紫外光照射下，光引发
剂吸收紫外
光能量产生游离基，游离基
进一步引
Kai Ping Elec & Eltek
切料
板面清洁处理
贴干膜 曝光 涂湿膜 曝光
显影、蚀 刻、退膜
2020/10/7
培训教材
5
四、工艺原理
Kai Ping Elec & Eltek
运用CAD进行图形迁移和复制绘制的步骤和工具
运用CAD进行图形迁移和复制绘制的步骤和工具CAD（计算机辅助设计）软件在工程设计、建筑设计以及制图等领域有着广泛的应用。
在使用CAD软件进行设计时，经常会遇到需要迁移和复制绘制图形的情况。
下面将介绍运用CAD进行图形迁移和复制绘制的步骤和工具。
1. 图形迁移：图形迁移是指将已绘制的图形移动到其他位置的操作。
以下是图形迁移的具体步骤：步骤1：选择需要迁移的图形。
可以使用选择工具、窗口选择或者框选等方式进行选择。
步骤2：点击编辑菜单中的“移动”命令，或者使用快捷键"M"。
步骤3：指定基点。
基点是移动的参考点，可以是图形上的任意点。
在命令行中选择“基点”选项，然后在图形上点击鼠标选择基点。
步骤4：指定目标点。
目标点是图形移动到的位置。
在命令行中选择“目标”选项，然后在图形上点击鼠标选择目标点。
步骤5：完成移动操作。
2. 图形复制：图形复制是将已绘制的图形进行重复绘制的操作。
以下是图形复制的具体步骤：步骤1：选择需要复制的图形。
可以使用选择工具、窗口选择或者框选等方式进行选择。
步骤2：点击编辑菜单中的“复制”命令，或者使用快捷键"C"。
步骤3：指定基点。
基点是复制的参考点，可以是图形上的任意点。
在命令行中选择“基点”选项，然后在图形上点击鼠标选择基点。
步骤4：指定复制的方式。
可以选择直接输入要复制的个数，也可以选择直接拖动鼠标进行复制，还可以选择按一定距离进行复制。
步骤5：完成复制操作。
在CAD中，除了以上的基本步骤外，还有一些常用工具能够提高图形迁移和复制绘制的效率。
例如：1. 复制阵列工具：在复制多个图形时，可以使用复制阵列工具进行更灵活的复制操作，包括直线阵列、圆形阵列、路径阵列等等。
2. 对称工具：在图形迁移时，如果需要进行对称移动，可以使用对称工具，按照指定的对称轴进行移动。
3. 偏移工具：在图形迁移时，如果需要在一定距离上进行移动，可以使用偏移工具，指定移动距离后即可完成操作。
图形转换知识点总结
图形转换知识点总结图形转换是计算机图形学中的重要内容之一，它是指通过计算机对图像进行变换或处理的过程，从而得到新的图像。
图形转换技术在计算机视觉、计算机图形学、计算机辅助设计等领域有着广泛的应用。
在计算机图形学中，图形转换技术通常包括平移、旋转、缩放和剪切等基本操作，以及复合变换、透视变换和变形等高级操作。
本文将主要从图形转换的基本概念、基本操作和高级操作三个方面进行总结。
一、图形转换的基本概念1. 图形转换图形转换是指将一个图形通过一定的数学变换，得到一个新的图形的过程。
在计算机图形学中，通过改变原始图像的像素值，可以实现对图形的平移、旋转、缩放和剪切等操作，从而获得所需的图形效果。
2. 坐标系统在图形转换中，通常采用笛卡尔坐标系来描述图形的位置和形状。
坐标系通常由两个轴（x轴和y轴）和一个原点组成，其中x轴和y轴分别表示水平和竖直方向，原点是坐标系的起点，用来表示坐标为(0,0)的位置。
3. 变换矩阵在图形转换中，变换矩阵是描述变换操作的一种数学工具，它通过矩阵乘法的方式来表示图形的平移、旋转、缩放和剪切等操作。
变换矩阵通常由一个2*2的矩阵和一个2*1的向量组成，其中矩阵用来表示图形的旋转和缩放操作，向量用来表示图形的平移操作。
4. 变换公式在计算机图形学中，图形的平移、旋转、缩放和剪切等操作通常可以通过一定的数学公式来描述。
例如，图形的平移操作可以通过如下的公式来表示：x'=x+dxy'=y+dy其中，(x,y)表示图形的原始坐标，(x',y')表示图形的新坐标，(dx,dy)表示平移的距离。
通过这样的公式，我们可以实现对图形的平移操作。
5. 变换顺序在图形转换中，变换的顺序通常会影响最终的效果。
一般来说，平移、旋转和缩放等操作应该按照从右到左的顺序进行，也就是说，先进行缩放操作，再进行旋转操作，最后进行平移操作。
这样可以避免由于变换顺序不当而导致的图形效果不符合预期的问题。
Photoshop CS6 (6)
6.1.2 复制与粘帖图像
要在操作过程中随时按照需要 复制图像，就必须掌握图像的复制 方法。在复制图像前，需要选择要 复制的图像区域，即创建所需图像 的选区，然后使用移动工具复制图 像。 选择【移动工具】 ，将光标放 在选区中，光标变为剪刀图标，如 上图，按住Alt键，光标变成叠加图 标，如中图，单击鼠标左键并按住 Alt键不放，拖曳选区中的图像到合 适位置，释放鼠标和Alt键，完成图 像内的复制，按快捷键Ctrl+D，取消 选择，效果如下图。此方法复制的 图像保持在同一图层内。
在【图像】>【图像旋转】下拉菜单中包含用于旋转画布的 命令，如上图，执行这些命令可以旋转或翻转整个图像。下左 图为原图，下右图所为执行【水平翻转画布】命令的图像效果。
6.5 图像的变换与变形
移动、旋转、缩放、扭曲、斜切等是处理图像的基本方法。 其中移动、旋转和缩放被称为变换操作，扭曲和斜切称为变形操 作。通过执行【编辑】菜单下的【自由变换】命令和【变换】命 令，可以改变图像的形状。在之前的学习中已经知道图像变换的 基础知识，接下来来学习具体如何操作。
6.3.3 显示全部
在文档中置入一个较大的图像文件，或使用移动工具将一个 较大的图像拖入一个较小文档时，图像中一些内容就会位于画布 之外，不会显示出来，如左图。执行【图像】>【显示全部】菜单 命令，Photoshop会通过判断图像中像素的位置，自动扩大画布， 显示全部图像，如右图。
6.4 旋转画布
6.3.2 新建大小
当勾选【相对】后，【宽度】和【高度】中的数值将代表实际 增加或者减少的区域的大小，而不再代表整个文档的大小，此时输 入正值表示增加画布，输入负值则减小画布。 【定位】选项主要用来设置当前图像在重设画布上的位置，下3 图为设置不同的方向再增加画布后的效果。
图形转化知识点总结
图形转化知识点总结一、平移变换平移是指将图形沿着直线方向移动相同的距离。
平移不改变图形的大小和形状，只是改变了图形的位置。
平移变换可以用矢量表示，设平移的向量为(v1, v2)，则图形上的每个点(x, y)经过平移变换后的坐标为(x+v1, y+v2)。
平移变换可以简单地用平移向量(v1,v2)实现：(x, y) → (x+v1, y+v2)。
二、旋转变换旋转变换是指将图形绕着一个点旋转一定的角度。
旋转变换不改变图形的大小和形状，只是改变了图形的方向。
设旋转角度为θ，则图形上的每个点(x, y)经过旋转变换后的坐标为(x*cosθ-y*sinθ, x*sinθ+y*cosθ)。
三、镜像变换镜像变换是指将图形沿着一条直线进行翻转。
镜像变换不改变图形的大小和形状，但改变了图形的对称性。
设镜像轴为直线ax+by+c=0，则(x,y)经过镜像变换后的坐标为(x-2*(ax+by+c)*a/(a^2+b^2), y-2*(ax+by+c)*b/(a^2+b^2))。
四、组合变换在实际应用中，通常需要对图形进行多种变换的组合，例如先进行平移，然后进行旋转，最后进行镜像。
组合变换可以通过矩阵相乘来实现，设矩阵A表示平移变换，矩阵B表示旋转变换，矩阵C表示镜像变换，则将图形进行组合变换的过程可以表示为C*B*A*V，其中V为图形上的点的坐标。
四、图形转化的应用图形转化在计算机图形学、计算机辅助设计(CAD)、计算机游戏等领域有着广泛的应用。
在计算机图形学中，我们可以通过编程实现对图形的平移、旋转、镜像等变换，以及它们的组合变换，从而实现对图形的灵活操作。
在CAD软件中，用户可以通过平移、旋转、镜像等变换操作来设计和修改图形。
在计算机游戏中，图形转化可以使得游戏中的角色和场景呈现更加生动和多样的效果。
总结通过本篇文章的介绍，我们对图形转化有了一个较为全面的了解。
图形转化包括平移、旋转、镜像等基本变换，以及它们的组合变换。
图形转移
内层制作影像工序，外层制作影像工序，外层丝印工序。
三、工艺制作流程
❖ 以内层图形转移工序为例：
板面处理
贴干膜
（方法一）
涂湿膜
（方法二）
曝显蚀退 光影刻膜
菲林制作
三、工艺制作流程
❖ 以外层图形转移工序为例：
板
贴
面 处
干
曝
显
图
形
退
蚀
褪
电
理
膜
光
影
镀
膜
刻
锡
菲林制作
三、工艺制作流程
❖ 以外层丝印图形转移工序为例：
贴膜后板子须停留时间15分钟以上，24小时以内。 如果停留时间不够： 干膜中所加入的附着力促进剂没有与铜完全发生作 用而黏结不牢，造成菲林松。 若停留时间太久： 就会造成反应过度附着力太强而显影剥膜困难。
四、工艺制程原理
四、工艺制程原理
64..21.干1 干膜膜结结构构（光致抗蚀剂干膜） ：
PE 聚乙烯保护膜 （25μm）
四、工艺制程原理
❖ 曝光能量的确定：
严格讲，以时间来计量曝光是不科学的。
曝光光能量公式：E=It
式中：
E ---- 总的曝光能量，mj/cm2
I ---- 灯光强度， mw/cm2
t ---- 曝光时间，s
从上述可知,总曝光能量E随灯光强度I和时间t而变化。若t 恒定，光强I 发生变化，总曝光能量E也随之改变。而灯 光强度随着电源压力的波动及灯的老化而发生变化，于
100,000
100,000
注:以美国联邦标准 Fed STD 209B作为分级的规范
。
四、工艺制程原理
❖ 曝光室操作环境环境控制： 1、温、湿度要求： 温度：20 ±2℃， 湿度：50 ±10RH% 2、“洁净室”建立： 净化等级达到10K-100K级 3、照明光源要求： 因湿膜属于感光性材料，工作区应采用黄光。
图形变换教案：学习如何进行图形的旋转、平移、翻转等变换操作
图形变换教案：学习如何进行图形的旋转、平移、翻转等变换操作随着现代数字技术的发展，图形处理已经成为了计算机科学、计算机图形学、视觉计算等领域中非常重要的一个分支。
在图像编辑、游戏开发、虚拟现实等应用中，图形变换是非常基础且实用的操作。
本教案将从图形变换的基础知识出，逐渐引导学生掌握图形的旋转、平移、翻转等变换操作，实现对图形进行美化和变换等多种操作。
一. 图形变换基础知识1. 图形的坐标系图形的坐标系是指在数学中表达图形位置和形状的方法。
通常情况下，我们可以将其看作一个平面二维坐标系统，其中X轴为水平方向，Y轴为垂直方向。
因为计算机系统中，屏幕上的图形也用坐标系进行表示，这样就可以直接转化为计算机屏幕上的显示操作。
2. 图形坐标系的原点图形坐标系的原点通常是左上角，横坐标为X轴，纵坐标为Y 轴，以此为依据来进行图形位置和形状的表达。
在数学和计算机图形学中，坐标系的原点通常是左上角，而在物理学中，坐标系的原点通常是图形的中心。
3. 图形变换图形变换是指对图形进行位置、形状、尺寸等方面的变化操作。
根据需要，变换可以被分为不同的类型，如缩放、旋转、平移、镜像、反转等。
二. 图形变换操作1. 图形的平移平移是指将图形沿着X轴和Y轴方向移动指定的距离，并保持其形状和大小不变。
这里有一个重要的概念，就是“向量”，即在两点之间的连线。
在图形平移中，向量的概念非常重要。
图形平移通常由向量表示。
2. 图形的旋转旋转是指将图形绕着某个点旋转一定角度或者以某个点为中心旋转，以达到指定的位置。
语言中，通常将旋转概念描述成“+ n”度或者“-n”度，n为指定的旋转角度。
图形旋转通过矩阵变换实现。
3. 图形的缩放缩放是指将图形按指定比例进行伸缩变换，以实现图形的放大或者缩小。
在一定程度上，缩放可以通过平移和旋转等操作实现。
4. 图形的镜像镜像是指将图形沿着X轴或Y轴进行对称变换，从而实现图像的反转效果。
镜像在电影效果、游戏开发等领域得到了广泛的应用。
CAD中的图形移动和调整技巧
CAD中的图形移动和调整技巧在使用CAD软件时，图形的移动和调整是非常基础而且常用的操作。
掌握这些技巧可以提高工作效率并且使设计更加准确。
本文将介绍几种常用的图形移动和调整技巧。
1. 平移图形平移是将图形在平面上沿指定方向移动一定距离的操作。
在CAD软件中，通过选择图形，并指定平移距离和方向来完成平移操作。
具体步骤如下：a. 选择需要平移的图形。
可以使用“选择”工具或者命令来选择图形。
b. 输入“移动”命令，或者点击工具栏上的“移动”按钮。
c. 指定平移的基点，即图形需要移动的起点。
d. 指定平移的目标点，即图形需要移动到的终点。
2. 旋转图形旋转是将图形按照指定角度绕着指定轴线进行旋转的操作。
在CAD软件中，通过选择图形，并指定旋转角度和轴线来完成旋转操作。
具体步骤如下：a. 选择需要旋转的图形。
b. 输入“旋转”命令，或者点击工具栏上的“旋转”按钮。
c. 指定旋转的基点，即图形需要绕着旋转的轴线的起点。
d. 指定旋转的目标点，即图形需要绕着旋转的轴线的终点。
3. 缩放图形缩放是按照指定比例改变图形大小的操作。
在CAD软件中，通过选择图形，并指定缩放比例来完成缩放操作。
具体步骤如下：a. 选择需要缩放的图形。
b. 输入“缩放”命令，或者点击工具栏上的“缩放”按钮。
c. 指定缩放中心点，即图形需要缩放的中心位置。
d. 指定缩放比例，可以输入具体的比例，也可以通过点击鼠标来选择比例。
4. 对称图形对称是将图形以某个轴线为对称轴进行镜像操作的操作。
在CAD软件中，通过选择图形，并指定对称轴来完成对称操作。
具体步骤如下：a. 选择需要对称的图形。
b. 输入“对称”命令，或者点击工具栏上的“对称”按钮。
c. 指定对称轴，即图形需要以哪条轴线为对称轴来进行镜像。
5. 删除重叠图形当图形重叠时，可能会出现设计错误或者无法正常显示的情况。
在CAD软件中，可以通过删除重叠图形来解决这个问题。
具体步骤如下：a. 选择需要删除重叠图形的区域。
2024小学数学六年级人教版上册《图形的移动与变换》教案
2024小学数学六年级人教版上册《图形的移动与变换》教案一、教学目标通过本节课的学习，学生应能够：1. 理解图形的移动和变换的概念；2. 掌握图形的平移、旋转和翻转的方法和技巧；3. 运用所学的知识解决与图形移动和变换有关的问题；4. 培养学生的观察能力、想象力和创造力。
二、教学内容本节课主要内容如下：1. 图形的移动：平移；2. 图形的变换：旋转、翻转；3. 运用图形移动和变换解决问题。
三、教学重点1. 图形的平移方法和技巧；2. 图形的旋转方法和技巧；3. 图形的翻转方法和技巧。
四、教学准备1. 教材：《数学（六年级上册）》人教版；2. 教具：纸、铅笔、直尺、教学板。
五、教学步骤1. 导入（约5分钟）通过出示一些简单的图形，引导学生思考图形的移动和变换。
例如，出示一个正方形图形，问学生如何将其移动到另一个位置，如何将其旋转或翻转等。
2. 学习图形的平移（约15分钟）a. 引入平移的概念，并给出平移的定义。
解释平移的基本步骤和方法。
b. 通过示范和练习，让学生学会如何进行平移操作。
例如，给出一个图形，在纸上进行平移，让学生模仿操作。
同时，引导学生观察平移前后图形的变化。
3. 学习图形的旋转（约15分钟）a. 引入旋转的概念，并给出旋转的定义。
解释旋转的基本步骤和方法。
b. 通过示范和练习，让学生学会如何进行旋转操作。
例如，给出一个图形，在纸上进行旋转，让学生模仿操作。
同时，引导学生观察旋转前后图形的变化。
4. 学习图形的翻转（约15分钟）a. 引入翻转的概念，并给出翻转的定义。
解释翻转的基本步骤和方法。
b. 通过示范和练习，让学生学会如何进行翻转操作。
例如，给出一个图形，在纸上进行翻转，让学生模仿操作。
同时，引导学生观察翻转前后图形的变化。
5. 运用所学知识解决问题（约15分钟）出示一些与图形移动和变换有关的问题，让学生运用所学知识解决。
例如，给出一个图形的移动轨迹，让学生预测图形经过的平移、旋转和翻转操作。
图形的转移的概念
图形的转移的概念图形的转移是指将一个图形从原来的位置或状态移动到另一个位置或状态的过程。
在几何学中，转移可以是平移、旋转、镜像等操作，也可以是缩放、扭曲等变换。
在计算机图形学中，转移常常指的是将一个图像从一个像素坐标位置复制到另一个位置的操作。
平移是一种图形转移，它是指将一个图形沿着平行于坐标轴方向移动固定的距离。
在二维笛卡尔坐标系中，平移可以通过给图形的所有顶点增加一个固定的偏移量来实现。
例如，当把一个正方形沿x轴方向平移10个单位时，正方形的四个顶点的新坐标分别是（x+10, y），（x+10, y+10），（x, y+10），（x, y）。
旋转是另一种图形转移，它是指将一个图形绕一个固定的点旋转一定的角度。
在二维笛卡尔坐标系中，旋转可以通过将图形的每个顶点绕着旋转中心点按照一定的顺序旋转一定的角度来实现。
例如，当将一个正方形绕原点逆时针旋转45度时，正方形的新位置可以通过将每个顶点的坐标(x, y)变换为(x*cos(45)-y*sin(45), x*sin(45)+y*cos(45))来计算。
镜像是图形转移的另一种形式，它是指将一个图形沿一条直线或平面进行对称。
在二维笛卡尔坐标系中，镜像可以通过改变图形的坐标来实现。
例如，当将一个正方形关于y轴进行镜像时，只需要将正方形的所有顶点的x坐标取负值即可。
缩放是一种改变图形大小的转移，它是指将一个图形的各个部分同时按照一个比例因子进行变换。
在二维笛卡尔坐标系中，缩放可以通过改变图形的顶点坐标来实现。
例如，当将一个正方形按照2的倍数进行放大时，正方形的顶点坐标可以按照(2x, 2y) 的方式计算得到。
扭曲是一种改变图形形状的转移，它是指将一个图形的各个部分按照非线性的方式进行变换。
在二维笛卡尔坐标系中，扭曲可以通过改变图形的坐标来实现。
例如，当将一个正方形扭曲成一个椭圆形时，可以通过改变正方形的顶点坐标来实现。
在计算机图形学中，图形的转移是非常重要的，它可以用于图像处理、计算机动画、计算机辅助设计等领域。
图形的移动ppt课件
图形的运动（变换）方式 平移有旋转、 轴、对称 。 在图形的变化中，只改变了图 形的位置和方向，图形的大小和
形状未发生变化。
图形的移动
移
（一）图形的平移
图形的平移只改变了图形的位置，图形的大小和形状 没有发生改变。
确定了将一个图形还原到原来的位置使用平移的条件。
（二）平移图形
1.平移图形时首先确定关键点。 2.明确平移的方向和距离。
图形的移动
二、旋 转
（二）确1旋.与定转旋关转图键中线形心相段连的的方线法段：。
2.能快速、准确确定位置的线段。 1.确定关键线段。 2.确定旋转中心—旋转点固定不变。 3.明确旋转的方向。
图形的移动
1.图形ABC如何旋转到图形AB`C`的？
A
B`
图形ABC绕点A逆时针旋转90⁰ C
B
得到图形AB`C`。
平移时图形上每个点都沿同一方向移动相同的距离。
图形的移动
1.请说说 图形A是如 何平移到 图形B的？
先向下平 移4格， 再向右平 移6格
A
B
图形的移动
2.画出梯 形ABCD 向下平移 5格,再向 左平移6 格后的图 形
A
B
D
C
A1
B1
D1
C1
3.平行四边形ABCD经平移后，A平移了5cm，那C平
A Q
B CO
图形的移动
二、画一画 1.将图形A绕点O顺时针旋转90⁰，得到图形B。 2.将图形B向右平移4格，得到图形C。 3.以直线MN为对称轴，画出图形C的轴对称图形D.
M
A
O
B
C
D
N 图形的移动
图形的移动
移了（5cm）。
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直写式电子束光刻
直写式电子束光刻（EBL ）系统多用 来制造掩模版。也可用来在晶圆片上 直写产生图形。 大部分直写系统使用小电子束斑， 相对晶圆片进行移动，一次仅对图形 曝光一个像素。 直写EBL 系统可分为光栅和矢量扫描 两类。
典型光学光刻工艺
涂胶前烘对准与曝光曝光后烘烤显影坚膜显影检查
前烘，softbake
目的：蒸发光刻胶中的溶剂
溶剂能使涂覆的光刻胶更薄， 但吸收热量且影响光刻胶的 黏附性 过多的烘烤使光刻胶聚合， 感光灵敏度变差 烘烤不够影响黏附性和曝光
对准
对准方法： 预对准，通过硅片上的 notch或者flat进行激光自动对 准 通过对准标志，位于切割槽 上。另外层间对准，即套刻精 度，保证图形与硅片上已经存 在的图形之间的对准。
曝光
曝光中最重要的两个参数： 曝光能量（Energy） 焦距（Focus）
如果能量和焦距调整不好， 就不能得到要求的分辨率 和大小的图形。表现为图 形的关键尺寸超出要求的 范围
曝光后烘烤（post-exposure bake） 作用： 减少驻波效应 激发化学增强光刻胶的 PAG产生的酸与光刻胶上 的保护基团发生反应并移 除基团使之能溶解于显影
典型的汞灯线光谱
最常用的两种波长：436nm（g线）365nm（i线） 生产中，0.35um这一代技术的主宰是i线步进光刻机，0.35um以后的各代要 求有更短的波长和新光源一般是一种惰性气体和一种卤化合物）， 正常情况下它们处于非激发态时不会发生反应，不过当这些元素（比如 Kr和NF3）受激时，发生化学反应生成（比如说）KrF。当激发态分子返 回基态时发出深紫外的光子，同时分子分解。
实际上，光源灯的辐照量中 只有很小一部分能够到达晶 圆片上，因此光源光学系统 的设计有4个主要目标： ①收集尽可能多的光辐照； ②使整个曝光场辐照强度均 匀； 使用小角度发散光； ④光源必须选择曝光波长
③对辐照射线进行整形处理，
6.1.3 曝光系统
光学曝光中，通常先把图形做在掩模版上，再将掩模版上的图形转移到硅片 上。掩膜版一般衬底材料为熔融石英，淀积在衬底材料上的一般为铬，也有 氧化铁的掩膜版。 掩模版的制造通常经过CAD系统辅助的版图设计，仿真模拟和设计规则检查 等步骤后，由制版机将设计信息写到光刻版上。
6.1.4 光刻胶
光刻胶通常有三种成分，树脂或基体材料、感光化合物（PAC， Photoactive Compound）、以及可以控制光刻胶机械性能（如基体 粘滞性）并使其保持液体状态的溶剂。 正胶: PAC主要由长链聚合物构成，曝光导致长链断链，更容易在 显影剂中溶解。 负胶：PAC的曝光使得聚合物间产生交联，因此曝光过的光刻胶在 显影剂中溶解的很慢，而未曝光的光刻胶溶解得很快。 负胶 正胶
g线 (436nm) i线 (365nm)
248nm 193nm 157nm
按照工作 波长分类
DUV光刻 EUV (13.5nm) X射线 (5Å) 电子束光 刻(0.62Å) 离子束光 刻(0.12Å)
多数光刻系统采用弧光灯作为主要光源。 高压弧光灯： 通过在两个电极间加一个高压电脉冲， 使管内气体电离，产生等离子体。 工作时，有两个发光源。一个是电弧中 的高温电子作为高热灰体辐射源。典型 温度是40000K量级，对应于波长是75nm 的峰值发射，非常深的紫外光，大多在 离开灯外壳前被吸收。 另一个发光源是汞原子本身与高能电子 碰撞，激发汞原子中的电子进入高能态， 然后跃迁回低能态时发射出波长相应于 其能量跃迁的光线。 典型的高压短电弧汞灯
ARC工艺
检查绝大多数光刻胶线条的显微照片会显示出光刻胶边缘存在螺 纹形状。这些螺纹形状是由实像的表面驻波造成的。驻波是由入 射光与反射光间的相长与相消造成的，如右图所示。 应用抗反射涂层(ARC)可以完全消除驻波图形。
6.2 非光学光刻
主要内容 6.2.1 电子束光刻 6.2.2 X射线光刻
6.2.1 电子束光刻
针对表面反射效应的解决办法： 改变沉积速率以控制薄膜的反射率 避免薄膜表面高度差，表面平坦化 处理(CMP) 光刻胶下涂覆抗反射的聚合物(Antireflect coating, ARC)
下图左侧为传统工艺，右侧为涂有抗反射聚合物工艺。 可以看到侧壁的反射完全被消除，尺寸控制的非常好。
传统工艺
W2
图形达到夫琅禾费衍射。 由图可知，间隙越大，图形退化越严重，当特征 尺寸小于 就不能再分辨了。 对于20um的间隙，曝光波长为436nm（g线）， 接近式光刻能够分辨的最小特征尺寸是3.0um左 右
投影式：
现今硅片光学曝光最主要的方法是投影式曝光。一般光学系统将光刻版上的 图像缩小4x或5x倍，聚焦并与硅片上已有的图形对准后曝光，每次曝光一小 部分，曝完一个图形后，硅片移动到下一个曝光位置继续对准曝光。 主要优点：有接触式的分辨率，但不产生缺陷 常用投影光刻机系统的类型有扫描光刻机、分步重复光刻机和扫描分步重复 光刻机等。
n NA2
意味着增加分辨率会减小聚焦深度，因此分辨率和聚焦深度之间必须做某 些折中。
套刻对准
实际光刻过程中需要多套光刻版，不同层之间会存在有一定的位移误差。 对准系统将版图套准到硅片上图形的能力称为套准精度，形成的图形层和 前一层图形的最大相对位移称为套准容差。
对准标记
置于掩膜版和硅片上用于确定位置和方向的定位图形。
目前22nm节点光刻解决方案：193nm浸入式+二次曝光
2.掩模版工程
为了改善缺陷密度和分辨率，有两种针对光刻版制造的方案：光学临 近效应纠正（OPC，Optical Proximity Correction）和相移掩模（PSM， Phase Shift Mask）。 光学临近效应纠正（OPC，Optical Proximity Correction） 投影系统的孔径和镜头的大小和形状 均会造成一部分来自掩模版的特征信 息损失，导致方角变圆角，线宽不等， 窄线条终端缩短等。原则上，这些效 应可以通过调整光刻版上特征的尺寸 和形状进行一定程度的补偿。
相移掩模（PSM，Phase Shift Mask） 一块包含有衍射栅格的掩模被相移材料以两倍的栅周期覆盖，并保持每 隔一个孔就以这种方式覆盖这种相移材料，材料的厚度和折射率要保证 经过它的光相对于未通过它的光恰好有180°的相移。
相长干涉 相消干涉
3. 表面反射和驻波的抑制
穿过光刻胶的光会从晶圆片表面反射出来，从而改变投入光刻胶的光 学能量。当晶圆片表面有高度差时，表面反射会导致线条的缺失，无 法控制图形。
光学原理图
数值孔径： 数值孔径是描述聚光镜和物镜的性能参数。
NA n sin( )
α是物镜接收角的一半，n是物镜与晶圆片之 间媒介的折射率。
物镜
瑞利（Rayleigh）判据： 大多数IC制造的光刻机的分辨率是受收集和再次形成光的图形的光学链能 力的限制，用瑞利判据表示： Wmin k1 NA k1是一个常数，取决于光刻胶的灵敏度，一般为0.75的量级。 典型情况下，k1取值范围为0.4~0.8，理论极限为0.25，意味着，NA为0.6 ，波长为365nm光源的光刻机可以形成0.2μm的图形。 聚焦深度： 在保持图形聚焦的前提下，沿着光路方向晶圆片移动的距离是聚焦深度。
6.1.6 光刻技术的发展
1.浸没式光刻机（immersion lithography）
根据瑞利判据 ，要提高分辨率，可以通过增大数值孔径NA 来实现。 ，传统曝光设备在镜头与硅片之间的介质是空气， 空气的折射率是1，如果采用一种高折射率的介质代替空气，那么NA 就能够提高，浸液式光刻机因运而生。 一种实现方式是在硅片一 侧设置一个喷嘴，将液体 注入到镜头下面，在另一 侧设置一个吸嘴将液体吸 回，形成液体流动。
投影机-掩膜版对准标记（Retical Alignment, RA） 在投影掩膜版的左右两侧，与安装在步进光刻机机身上的对准 标记对准。 整场对准标记（Global Alignment, GA） 在第一次曝光时被光刻在硅片左右两边，被用于每个硅片的粗 对准。 精对准标记（Fine Alignment, FA） 每个场曝光时被光刻，用于每个硅片曝光场和投影掩膜版的对 准调节
显影 显影液溶剂溶解掉光刻 胶中软化部分 从掩膜版转移图形到光 刻胶上 三个基本步骤: 显影、漂洗、干燥
坚膜,hard bake 作用 完全蒸发掉光刻胶里面 的溶剂 提高光刻胶在离子注入 或刻蚀中保护下表面的能 力 进一步增强光刻胶与硅 片表面之间的黏附性 减少驻波效应
图形检测 检测要点 对准问题： 重叠和错位，掩膜旋转， 圆片旋转，X方向错位，Y 方向错位 临界尺寸 表面不规则： 划痕、针孔、瑕疵和污 染物
接近式：
接近式光刻机是掩模版同光刻胶间隔10~50μm，所以缺陷大大减少。
k g
主要优点：避免晶圆片与掩模直接接触，缺陷少 主要缺点：分辨率下降，存在衍射效应。 衍射效应：
右图为接近式光刻系统中，表面光强度与晶圆片 位置的函数关系，间隙g从g=0线性增加到g=15μm。 当 g 系统处于菲涅耳衍射的进场范围，接 2 近边缘有小幅震荡。当间隙增加，达到 g W
电子束从电子枪发出，经过 束流限制光阑，透镜组，偏 转器等结构，被整形成窄束 流，最终落在晶圆片上。
直写EBL系统主要缺点在于 产率低。直写EBL系统产率 在每小时一片硅片的量级， 而光学步进机可达每小时大 于50片。
D0
曝光效果所允 许的最大剂量
完全除去正胶 膜所需要的最 小剂量
以正胶为例
D100
实际曝光中，部分区域（曝光区域边缘）的光刻胶受到的 曝光剂量在D0和D100之间，在显影过程中只有部分溶解， 因此显影后留下的胶层侧面有一定的斜坡。