电力电子半导体器件(GTR).ppt

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使用时要求:发射结正偏,集电结反偏。
二、GTR与普通晶体管区别
1.普通晶体管:信号晶体管,用于放大信号; 要求增益适当,fT高,噪声系数低,线性度好,温度漂移 和时间漂移小。工作于放大区,以载流子运动为出发点, 分析载流子扩散、漂移、复合现象。电流控制特性为线性 关系。
2.GTR:用于功率开关; 要求容量足够大,高电压,大电流,适当增益,较高工作 速度,较低功率损耗。
第四章 电力晶体管
§4.1 GTR结构
双极型大功率、高反压晶体管——GTR (巨型晶体管) Giant Transistor 三层半导体材料,两个PN结(NPN型、PNP型)。
一、工艺特点
三重扩散;叉指型基极和发射极; 特点:发射区高浓度掺杂
基区很薄(几um—几十um)
N-掺杂浓度低,提高耐压能力 N+集电区收集电子
TC=250C VCE=2V
TC=250C,VCE=-2V
③管子温度相同时,VCE越大,β越大。
④β随温度增加而增加,大电流下,β随温度增加而减小。
⑤GTR反接时,β很小。
4.最大额定值——极限参数 由GTR材料、结构、设计水平、制造工艺决定。
①最高电压额定值: BVCEO,BVCBO,BVCES,BVCER,BVCEX
③最高结温TJM 塑封,硅管:1250~1500C; 金属封装,硅管:1500~1750C; 高可靠平面管:1750~2000C;
④最大功耗PCM PCM = VCE• IC 受结温限制,使用时注意散热条件。
例:3DF20型GTR各最大额定值参数:
二、动态特性与参数 动态特性是GTR开关过程的瞬态性能,称开关特性;主要受
单臂桥式电路模块
E2
单相桥式电路模块;三相桥式电路模块;
§4.2 GTR特性与参数
一、静态特性与参数 1.共射输出特性:
临界饱和
发射结正偏 集电结反偏 VCES很小
放大区 严禁工作
断态,漏电流很小
2.饱和压降: 如图:GTR深饱和时,等效电路; VBES:基极正向压降
通态下,B-E极电压;
VCES:饱和压降 通态下,C-E极电压;
ICM定义:a.以β值下降到额定值1/2到1/3时,对应IC值。 b.以结温和耗散功率为尺度确定ICM。
最大脉冲电流额定值: 直流ICM的1.5~3倍定额;引起内部引线熔断的集电极电流; 引起集电结损坏的集电极电流。
基极电流最大额定值IBM: 内部引线允许流过的最大基极电流,约为(1/2~1/6)ICM
2.关断时间toff: toff = ts + tf ts:存储时间,过剩载流子从体内抽走时间,由反向驱动电 流大小决定。(3~8us) tf:下降时间,取决于结电容、正向集电极电流大小。(1us)
说明:为加速开通,采用过驱动方法,但基区过剩大量载流子, 关断时,载流子耗散严重影响关断时间; 减小关断时间,可选用电流增益小的器件,防止深饱和, 增加反向驱动电流。
增加N-漂移区,由它的电阻率和厚度决定器件阻断能力, 但阻断能力提高,使饱和导通电阻增大,电流增益降低。
一般: β 约10—20
工作状态:开关状态(导通、截止;开通、关断)
饱和压降低 漏电流小
时间短
四、达林顿GTR
为提高电流增益,由两个或两个以上晶体管复合组成。
驱动管
ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
输出管
NPN型
PNP型
特点:
O:另一极开路;S:短路;R:外接电阻;X:反向偏置;
Va::IB=0时,IC电流急剧 增加时电压;
Vb::IE=0时,IC电流急剧 增加时电压;
一般:
另:BVEBO集电极开路时,发射结最高反向偏置电压。 几伏,典型值8V。
②最大电流额定值: 大电流下,三种物理效应会使GTR电气性能变差,甚至损坏器件。 集电极电流最大额定值ICM:
3.共射电流增益 β:反映GTR的电流放大能力,IC与IB比值。
①GTR正向偏置时,βF随IC减 小而减小,基区复合电流占的
比例增大。
②随IC增大,β增大,IC增大 到一定程度β=βmax,IC再增 大,由于基区大注入效应、基 区扩展效应,β开始下降。
TC=1250C,VCE=2V
TC=250C VCE=400V
VD1引入,加速V2、V1的同时关断, 引出B2极可另外控制。
五、GTR模块
将GTR管芯、稳定电阻R1R2、加速二极管VD1、续流二极管VD2 组成一个单元。将几个单元组合在一个外壳内——模块。
利用集成工艺将上述单元集成于同一硅片上,器件集成度高, 小型轻量化,性能/价格比高。
C1
B1 E1C2
B2
结电容(势垒电容、扩散电容)充、放电和两种载流子运动影 响。 如图:TC40U—400型GTR动态特性实验电路和电流波形
电路参数: VCC=200V;RC=10Ω ; RB1=4.7Ω ; RB2=1.2Ω ;
1.开通时间ton: ton = td + tr (ns级,很小) td:延迟时间,基极电流向发射结电容充电。大小取决于结 电容大小、驱动电流大小和上升率,及反偏时电压大小。 tr:上升时间,取决于稳定电流和驱动电流大小。
一般,由于发射区高浓度掺杂,rES可忽略; VCES的大小, 关系器件导通功率损耗。达林顿管,VCES、VBES较大。
饱和压降特性曲线
基极正向压降特性曲线
TC35-400型GTR:电流50A, β = 5;
VCES随IC电流增大而增大;IC不变时,随温度增加而增加。 VBES随IC电流增大而增大;小电流下,随温度增大而减小, PN结负温度系数。大电流下,随温度增大而增大。
3.大电流工作下,普通晶体管出现的新特点: ①基区大注入效应:引起电流增益下降。 ②基区扩展效应:使基区注入效率降低,增益β下降,fT减小。 ③发射极电流集边效应:引起电流局部集中,产生局部过热。
因此,GTR在结构上应采取适当措施,减小上述效应。
三、单管GTR
采用三重扩散,台面型结构;可靠性高,对二次击穿特性 有改善,易于提高耐压,易于耗散体内热量。
①电流增益β增大: β ≈ β1 β2 ,达几十倍~几千倍; ②饱和压降VCES增大:VCES ≈ VCES1+VBES2
V2管无法饱和导通,VCE2=VCES1 ,反偏状态;导通损耗增大。 ③开关速度慢:开通时,V1驱动V2;
关断时,V1先关断,V2才能关断,且V2关断 无泻流通路。
改进:
R1、R2稳定电阻,提高温度稳定 性和电流通路。
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