MOS管学习

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MOS管使用详解

MOS管使用详解

MOS管使用详解MOS管,即金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET),是一种常见的半导体器件,被广泛应用于电子和电力领域。

它具有快速开关速度、低功耗、低电压操作和压阻性质等独特的特点,适用于大功率电子开关、放大和模拟电路。

MOS管由沟道、源极和漏极组成。

其关键部分是氧化物层,它与金属门电极形成电容,控制沟道的电导性。

当施加正电压到门电极时,形成的电场向下压缩氧化层,使得沟道导电性增加。

通过改变门电极电压可以调节沟道的导电性,实现对信号的放大、开关和反向操作。

MOS管主要有两种类型:增强型MOSFET(enhancement-mode MOSFET)和耗尽型MOSFET(depletion-mode MOSFET)。

增强型MOSFET的沟道在零偏压下不存在,需要通过施加电压才能形成,所以它的开关特性更加理想。

而耗尽型MOSFET的沟道在零偏压下存在,需要施加负电压来消除导通,所以它开关特性相对较差。

MOS管的特点在于其高电压驱动能力和低控制电流。

它有能量转换效率高、噪声低、体积小等优点。

此外,MOS管的开关速度快,因此在高频应用和功率放大器中被广泛使用。

MOS管的应用有很多,其中包括功率放大器、交流转直流电源、逆变器、开关电源等。

在功率放大器中,MOS管可以通过改变门电极电压来控制其输出电流。

在交流转直流电源中,MOS管可以作为整流器和开关器件,在高效率和低功耗方面具有优势。

在逆变器中,MOS管可以将直流电能转换为交流电能,并且能够实现频率和幅度的调整。

在开关电源中,MOS管具有较低的开关损耗和温升,可以提高系统效率和可靠性。

MOS管的性能可以通过工艺技术的改进得到进一步提升。

例如,改变材料的结构和组成,可以改善电子迁移率和热传导性能。

此外,改变氧化层的厚度和材料可以调节电容和开关速度。

同时,MOS管的尺寸的缩小也能够提高其集成度和开关速度。

总结起来,MOS管作为一种重要的半导体器件,具有许多优点和广泛的应用。

MOS管学习简介

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(4)转移特征 漏源电压Vds一定旳条件下,栅源电压Vgs对漏极电流id旳控制特征。
可根据输出特征曲线作出移特征曲线。 例:作Vds =10V旳一条转移特征曲线
i D (mA)
4 3
2 1
uGS=6V
uGS =5V uGS =4V uGS=3V
10V
i D (mA)
4
3
2
1
u
DS
(V)
UT
2 46
开关管导通时,驱动电路应能提供足够大旳充电电流使栅源电压上升 到需要值,确保开关管迅速开通且不存在上升沿旳高频震荡。
开关管导通期间驱动电路能确保MOSFET栅源间电压保持稳定使其可 靠导通。
关断瞬间驱动电路能提供一种低阻抗通路供MOSFET栅源间电压迅速 泻放,确保开关管能迅速关断。
关断期间驱动电路能够提供一定旳负电压防止受到干扰产生误导通。 驱动电路构造尽量简朴,最佳有隔离 。
形成导电沟道,MOS管处于截止状态。
N+
N+
(2) Vgs≥ VGS(th) ,出现N沟道
栅源之间加正向电压 由栅极指向P型衬 底旳电场 将接近栅极下方旳空穴向下排 斥 形成耗尽层
再增长Vgs 纵向电场
P衬底
b
将P区少子(电子)汇集到P区表面
形成源漏极间旳N型导电沟道 假如此时加有漏源电压,就能够形成漏 极电流id
Qgs:栅源充电电量。
Qgd:栅漏充电电量。
Ciss:输入电容,将漏源短接,用交流信号测得旳栅极和源极之间旳电容 。Ciss= CGD + CGS 。对器件旳开启和关断延时有直接旳影响。
Coss:输出电容,将栅源短接,用交流信号测得旳漏极和源极之间旳电容 。Coss = CDS +CGD 。

N-MOS学习

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N沟道增强型MOSFET ——Notes全称:N-Metal-Oxide-SemiconductorN沟道增强型MOSFET :由于这种结构在Vgs=0时,Id=0,称这种MOSFET为增强型区别于P沟道MOS,符号箭头方向是相反的,箭头内指是N沟道的MOS。

N-MOS的截面图:D:漏极(drain)S:源极(source)G:栅极(gate)在单个N-MOS封装中,常会有寄生二极管的存在,其位置如图。

集成电路中,则没有寄生二极管N-MOS的工作原理特殊参数V ds:漏极和栅极间的电压,MAX值最为有用(耐压)V gs:栅源电压作为控制电压V gs(th):开启电压,刚刚产生导电沟道所需的栅源电压VgsI d:漏极电流,I dm指MOS能带负载最大电流gm:低频跨导,在VDS为某一固定数值的条件下,漏极电流的微变量和引起这个变化的栅源电压微变量之比称为跨导极间电容:栅源电容CGS 、栅漏电容CGD和漏源电容CDS;CGS和CGD约为1~3pF,CDS约在0.1~1pF之间RGS:直流输入电阻,MOS管的RGS可以很容易地超过1kΩN-MOS的特性:Vgs大于V gs(th)就会导通,适合用于源极接地时的情况(低端驱动)工作原理描述(1)V gs=0,没有导电沟道此时栅源短接,源区,衬底和漏区形成两个背靠背的PN结,无论Vds的极性怎样,其中总有一个PN结是反偏的,所以d,s之间没有形成导电沟道,MOS管处于截止状态。

(2)V gs≥ V gs(th),出现N沟道栅源之间加正向电压→ 由栅极指向P型衬底的电场→ 将靠近栅极下方的空穴向下排斥→ 形成耗尽层再增加V gs→ 纵向电场将P区少子(电子)聚集到P区表面→ 形成源漏极间的N型导电沟道→ 如果此时加有漏源电压,就可以形成漏极电流id(3)输出特性曲线MOS的输出特性曲线是指在栅源电压Vgs> VGS(th)且恒定的情况下,漏极电流id与漏源电压Vds之间的关系,可以分为以下4段:线性区当Vds很小时,沟道就像一个阻值与Vds无关的固定电阻,此时id与Vds成线性关系过渡区随着Vds增大,漏极附近的沟道变薄,沟道电阻增大,曲线逐渐下弯。

版图学习

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版图学习一.MOS管工艺(1)普通MOS管这种结构很容易和多晶硅电阻混淆,判别方法是:1.多晶硅是否放置在有源区上面;2.看多晶硅有几个端口引出。

高宽长比MOS器件:(2)叉指MOS管叉指MOS管判断的关键是看多晶硅层,观察它有几个输入。

(3)耐高压MOS管该晶体管为Extended-Drain, High-V oltage transistor,为非自对准工艺,版图示意如上。

这种晶体管使用n阱作为轻掺杂的漏极。

这种结构为源漏不对称的MOS管,具体实现高压原理不是很清楚。

(4)功率开关MOS管版图上的一半面积都用来做电路中的一个关键器件——功率开关MOS,版图示意如上。

源漏区域为矩阵结构,且漏极也做在n阱中,为非自对准工艺,因此判断这个晶体管是waffle transistor和Extended Drain HV transistor的结合,可承受高压大电流。

另外,在版图中,NMOS和PMOS可通过如下规则判断:1、对于数字电路,CMOS中的P管W/L大,N管W/L小2、源极接Vdd的一般为PMOS,接Vss的一般为NMOS3、模拟电路不完全服从以上规律。

可结合电路结构来分析。

如差分放大器尾电流接Vss,则差分对及尾电流MOS器件为NMOS,负载管则可以基本判定为PMOS二.BJT工艺基本规则:从版图上来看,晶体管的集电极和发射极具有相同的颜色。

BJT工艺一般分为VNPN和LPNP两种工艺,其中VNPN又分两种:Standard VNPN 和double-base VNPN(1)VNPN(2)double-base VNPN(3)LPNP其他形式的版图:(4)LNPN这种结构与一般VNPN结构的区别在于,后者一般是用P-SUB制作,而它采用的是N-SUB,P-WELL的工艺。

在版图中,NPN管和PNP管可通过如下规则判断:纵向管:除极特殊的情况外,NPN管的C极接向电源正极,PNP的C极接向电源负极。

MOS管电路工作原理及详解

MOS管电路工作原理及详解

MOS管电路工作原理及详解MOS管,全称金属氧化物半导体场效应管(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor),是一种重要的半导体器件,广泛应用于各种电路中,如放大、开关和逻辑电路等。

其工作原理和详解如下。

MOS管是一种固态电子器件,由金属栅、氧化物绝缘层和半导体管道构成。

工作时,栅极的电势可以控制管道中的电流流动。

当栅极电压Vgs为零,即不施加任何电压时,MOS管处于截止状态,不导电。

当施加正电压到栅极,即Vgs > 0时,形成一个正电场,吸引电子进入通道,导致N型沟道中电子增加,电荷密度增加,电流开始流动,MOS管进入导通状态。

而当施加负电压到栅极,即Vgs < 0时,形成一个负电场,把放在绝缘氧化物界面的电子吸引到栅极区域,减少沟道中电子数目,导致电流减小,MOS管进入截止状态。

因此,通过改变栅极电压,可以控制MOS管的导电特性。

MOS管有两种类型:P型MOS(PMOS)和N型MOS(NMOS)。

在PMOS 中,栅极为N型半导体,通道为P型半导体;而在NMOS中,栅极为P型半导体,通道为N型半导体。

两种类型的MOS管具有不同的导通方式。

对于PMOS,当栅极电压为负值(Vgs < 0),P型沟道会形成一个电子空穴击穿区域,通道中的电子将被拉入空穴区域,电流减小。

而当栅极电压为正值(Vgs > 0),击穿区域的电子将会被驱逐回通道,创造一个恢复的电子空穴区域,电流增加。

所以,PMOS管的导通与栅极电压是相反的。

对于NMOS,当栅极电压为负值(Vgs < 0),P型沟道中的电子将被排斥到源极区域,通道被堵塞,电流减小。

而当栅极电压为正值(Vgs > 0),电子将被吸引到沟道并形成导电路径,电流增加。

因此,NMOS的导通与栅极电压是一致的。

MOS管的导通特性由其工作区域决定,通常可分为三个区域:截止区、饱和区和线性区。

MOS管的种类和结构、正确用法

MOS管的种类和结构、正确用法

学过模拟电路,但都忘得差不多了。

重新学习MOS管相关知识,大多数是整理得来并非原创。

如有错误还请多多指点!先上一张图一句话MOS管工作原理NMOS的特性,Vgs大于一定的值就会导通,适合用于源极接地时的情况(低端驱动),只要栅极电压达到一定电压(如4V或10V,其他电压,看手册)就可以了。

PMOS的特性,Vgs小于一定的值就会导通,适合用于源极接VCC时的情况(高端驱动)。

但是,虽然PMOS可以很方便地用作高端驱动,但由于导通电阻大,价格贵,替换种类少等原因,在高端驱动中,通常还是使用NMOS。

在使用MOS管设计开关电源或者马达驱动电路的时候,大部分人都会考虑MOS的导通电阻,最大电压等,最大电流等,也有很多人仅仅考虑这些因素。

这样的电路也许是可以工作的,但并不是优秀的,作为正式的产品设计也是不允许的。

1,MOS管种类和结构MOSFET管是FET的一种(另一种是JFET),可以被制造成增强型或耗尽型,P沟道或N沟道共4种类型,但实际应用的只有增强型的N沟道MOS管和增强型的P沟道MOS管,所以通常提到NMOS,或者PMOS指的就是这两种。

至于为什么不使用耗尽型的MOS管,不建议刨根问底。

对于这两种增强型MOS管,比较常用的是NMOS。

原因是导通电阻小,且容易制造。

所以开关电源和马达驱动的应用中,一般都用NMOS。

下面的介绍中,也多以NMOS为主。

MOS管的三个管脚之间有寄生电容存在,这不是我们需要的,而是由于制造工艺限制产生的。

寄生电容的存在使得在设计或选择驱动电路的时候要麻烦一些,但没有办法避免,后边再详细介绍。

在MOS管原理图上可以看到,漏极和源极之间有一个寄生二极管。

这个叫体二极管,在驱动感性负载(如马达、继电器),这个二极管很重要,用于保护回路。

顺便说一句,体二极管只在单个的MOS管中存在,在集成电路芯片内部通常是没有的。

MOS管的正确用法1三极管和MOS管的基本特性三极管是电流控制电流器件,用基极电流的变化控制集电极电流的变化。

MOS管教程学习教程

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请回答: 哪个脚是S(源极)?
哪个脚是D(漏极)?
G(栅极)呢?
是P沟道还是N沟道MOS?
第4页/共58页
如果接入电路, D极和S极,哪一个该接输 入,哪个接输出?
你答对了吗?
电路符号 再来一个,试试看:
第5页/共58页
哪个脚是S(源极)?
哪个脚是D(漏极)?
G(栅极)呢?
是P沟道还是N沟道MOS? 依据是什么?
回顾前面的例子,你找到它们的规律了吗?
小提示: MOS管中的寄生二极管方向是关键。
第16页/共58页
电路符号
小结:“MOS管用作开关时在电路中的连接方法”
NMOS管:
D极接输入; S极接输出。
PMOS管:
S极接输入; D极接输出。
输出端 S极
G极
N沟道
输入端 S极
G极
P沟道
D极 输入端
导通时
第17页/共58页
如果MOS管用作隔离时,(不论N沟道还是P沟道), 寄生二极管的方向一定是和主板要实现的单向导通方向 一致。
笔记本主板上用PMOS做隔离管的最常见,但也有极少 的主板用NMOS来实现。
第32页/共58页
电路符号
5 做个挑错游戏吧
有没有发现过笔记本电路图上的MOS管也有画错的?
通过前面的学习, 我们来做个挑错 游戏吧, 看看你能发现多 少错误?
N沟道: UG>US时导通。 (简单认为)UG=US时截止。
P沟道: UG<US时导通。 (简单认为)UG=US时截止。
但UG比US大(或小)多少伏时MOS管才会饱和导通呢?
第19页/共58页
电路符号
饱和导通问题:
UG比US大(或小)多少伏时MOS管才会饱和导通呢?

MOS管基本认识(快速入门)

MOS管基本认识(快速入门)

MOS管基本认识(快速入门)1、三个极的判定:G极(gate)—栅极,不用说比较好认。

S极(source)—源极,不论是P沟道还是N沟道,两根线相交的就是。

D极(drain)—漏极,不论是P沟道还是N沟道,是单独引线的那边。

2. N沟道与P沟道判别:箭头指向G极的是N沟道;箭头背向G极的是P沟道。

3. 寄生二极管方向判定:不论N沟道还是P沟道MOS管,中间衬底箭头方向和寄生二极管的箭头方向总是一致的:要么都由S指向D,要么都有D指向S。

4. MOS开关实现的功能1>信号切换;2>电压通断。

5. MOS管用作开关时在电路中的连接方法关键点:1>确定那一极连接输入端,那一极连接输出端2>控制极电平为?V 时MOS管导通3>控制极电平为?V 时MOS管截止NMOS:D极接输入,S极接输出PMOS:S极接输入,D极接输出反证法加强理解NMOS假如:S接输入,D接输出由于寄生二极管直接导通,因此S极电压可以无条件到D极,MOS管就失去了开关的作用。

PMOS假如:D接输入,S接输出同样失去了开关的作用。

6. MOS管的开关条件N沟道—导通时Ug> Us,Ugs> Ugs(th)时导通P沟道—导通时Ug< Us,Ugs< Ugs(th)时导通总之,导通条件:|Ugs|>|Ugs(th)|7. 相关概念BJT :Bipolar Junction Transistor 双极性晶体管,BJT是电流控制器件;FET :Field Effect Transistor 场效应晶体管,FET是电压控制器件. 按结构场效应管分为:结型场效应(简称JFET)、绝缘栅场效应(简称MOSFET)两大类按沟道材料:结型和绝缘栅型各分N沟道和P沟道两种.按导电方式:耗尽型与增强型,结型场效应管均为耗尽型,绝缘栅型场效应管既有耗尽型的,也有增强型的。

总的来说场效应晶体管可分为结场效应晶体管和MOS场效应晶体管,而MOS场效应。

MOS管知识最全收录技术参数详解!MOS管的种类及结构

MOS管知识最全收录技术参数详解!MOS管的种类及结构

MOS管知识最全收录技术参数详解!MOS管的种类及结构MOS管,即金属(Metal)—氧化物(Oxide)—半导体(Semiconductor)场效应晶体管,是一种应用场效应原理工作的半导体器件;和普通双极型晶体管相比,MOS管具有输入阻抗高、噪声低、动态范围大、功耗小、易于集成等优势,在开关电源、镇流器、高频感应加热、高频逆变焊机、通信电源等高频电源领域得到了越来越普遍的应用。

MOS管的种类及结构MOS管是FET的一种(另一种为JFET结型场效应管),主要有两种结构形式:N沟道型和P沟道型;又根据场效应原理的不同,分为耗尽型(当栅压为零时有较大漏极电流)和增强型(当栅压为零,漏极电流也为零,必须再加一定的栅压之后才有漏极电流)两种。

因此,MOS管可以被制构成P沟道增强型、P沟道耗尽型、N沟道增强型、N沟道耗尽型4种类型产品。

图表1 MOS管的4种类型每一个MOS管都提供有三个电极:Gate栅极(表示为“G”)、Source源极(表示为“S”)、Drain漏极(表示为“D”)。

接线时,对于N沟道的电源输入为D,输出为S;P沟道的电源输入为S,输出为D;且增强型、耗尽型的接法基本一样。

图表2 MOS管内部结构图从结构图可发现,N沟道型场效应管的源极和漏极接在N型半导体上,而P沟道型场效应管的源极和漏极则接在P型半导体上。

场效应管输出电流由输入的电压(或称场电压)控制,其输入的电流极小或没有电流输入,使得该器件有很高的输入阻抗,这也是MOS管被称为场效应管的重要原因。

MOS管工作原理1N沟道增强型场效应管原理N沟道增强型MOS管在P型半导体上生成一层SiO2薄膜绝缘层,然后用光刻工艺扩散两个高掺杂的N型区,从N型区引出电极(漏极D、源极S);在源极和漏极之间的SiO2绝缘层上镀一层金属铝作为栅极G;P型半导体称为衬底,用符号B表示。

由于栅极与其它电极之间是相互绝缘的,所以NMOS又被称为绝缘栅型场效应管。

实验三-MOS管参数仿真及Spice学习

实验三-MOS管参数仿真及Spice学习

实验三-MOS管参数仿真及Spice学习一、实验介绍本次实验的主要内容是对MOS管参数进行仿真,并通过Spice软件进行电路模拟,掌握MOS管参数和Spice软件的使用方法。

本实验主要包括以下内容:1.MOS管参数的基本概念和理论知识2.PSpice软件的使用方法3.MOS管参数的仿真实验二、MOS管参数的基本概念和理论知识MOSFET(金属氧化物半导体场效应晶体管)是一种常用的半导体器件,广泛应用于数字电路、模拟电路和功率电子器件等领域。

MOS管中最常用的参数有场效应迁移率,漏极电阻,漏极导纳,截止电压等。

下面分别介绍这些参数的定义和作用。

1.1 场效应迁移率场效应迁移率是描述MOS管输出特性的重要参数,通常用符号μ表示,单位为cm2/Vs,是指电子在沟道中移动的速度与电场强度之比。

MOS管的场效应迁移率与沟道电阻、沟道长度、衬底材料等因素有关,一般情况下,迁移率越高,MOS管的性能越好,但也需要考虑其他因素的影响。

1.2 漏极电阻漏极电阻是指当MOS管工作在 saturation 区时,漏极电压变化时引起的漏极电流变化的比值,通常用符号rds表示,单位为欧姆。

MOS管的漏极电阻直接影响其输出电压的变化范围,漏极电阻越大,输出信号的电压变化范围就越小,反之亦然。

1.3 漏极导纳漏极导纳是指MOS管漏极电阻的导纳值,通常用符号Gds表示,单位为S (西门子)。

MOS管的漏极导纳与漏极电阻成反比,漏极电阻越小,漏极导纳越大,输出信号的电压变化范围也就越大。

1.4 截止电压截止电压是指当MOS管工作在截止区时,栅源电压达到的最大值,超过这个值后MOS管就会进入饱和状态,通常用符号VGS(off)表示,单位为伏特。

MOS管的截止电压与其工作状态有关,在设计电路时需要合理选择MOS管的截止电压,以确保电路的正常工作。

以上是MOS管常用的几个参数,这些参数的选择和设计对电路的性能和稳定性都有很大的影响,需要仔细考虑。

MOSFET基本原理讲解学习

MOSFET基本原理讲解学习

Principle of MOSFET功率场效应管(Power MOSFET)也叫电力场效应晶体管,是一种单极型的电压控制器件,不但有自关断能力,而且有驱动功率小,开关速度高、无二次击穿、安全工作区宽等特点。

由于其易于驱动和开关频率可高达500kHz,特别适于高频化电力电子装置,如应用于DC/DC变换、开关电源、便携式电子设备、航空航天以及汽车等电子电器设备中。

但因为其电流、热容量小,耐压低,一般只适用于小功率电力电子装置。

一、电力场效应管的结构和工作原理电力场效应晶体管种类和结构有许多种,按导电沟道可分为P沟道和N沟道,同时又有耗尽型和增强型之分。

在电力电子装置中,主要应用N沟道增强型。

电力场效应晶体管导电机理与小功率绝缘栅MOS管相同,但结构有很大区别。

小功率绝缘栅MOS管是一次扩散形成的器件,导电沟道平行于芯片表面,横向导电。

电力场效应晶体管大多采用垂直导电结构,提高了器件的耐电压和耐电流的能力。

按垂直导电结构的不同,又可分为2种:V形槽VVMOSFET和双扩散VDMOSFET。

电力场效应晶体管采用多单元集成结构,一个器件由成千上万个小的MOSFET组成。

N沟道增强型双扩散电力场效应晶体管一个单元的部面图,如图1(a)所示。

电气符号,如图1(b)所示。

电力场效应晶体管有3个端子:漏极D、源极S和栅极G。

当漏极接电源正,源极接电源负时,栅极和源极之间电压为0,沟道不导电,管子处于截止。

如果在栅极和源极之间加一正向电压U GS,并且使U GS大于或等于管子的开启电压U T,则管子开通,在漏、源极间流过电流I D。

U GS超过U T越大,导电能力越强,漏极电流越大。

二、电力场效应管的静态特性和主要参数Power MOSFET静态特性主要指输出特性和转移特性,与静态特性对应的主要参数有漏极击穿电压、漏极额定电压、漏极额定电流和栅极开启电压等。

{{分页}}1、静态特性(1)输出特性输出特性即是漏极的伏安特性。

实验三 MOS管参数仿真及Spice学习

实验三 MOS管参数仿真及Spice学习

实验三MOS管参数仿真及Spice学习刘翔一、实验内容和要求。

实验内容:(1)使用S-Edit绘制电路图,将其转换成Spice文件。

(2)利用T-Spice的对话框添加仿真命令。

(3)利用W-Edit观察波形。

实验要求:(1)利用Tanner软件中的S-Edit、T-Spice和W-Edit,对NMOS管的参数进行仿真。

NMOS器件的T-Spice参数仿真内容如下:a. MOS管转移特性曲线(给定VDS、W、L,扫描VGS)。

b. MOS管输出特性曲线(给定VGS、W、L,扫描VDS)。

c. 温度对MOS管输入/输出特性的影响(给定VGS、VDS、W、L,扫描Temp)。

d. MOS管W对输入/输出特性的影响(给定VGS、VDS、W/L,扫描W)。

e. MOS管L对输入/输出特性的影响(给定VGS、VDS、W/L,扫描L)。

f. MOS管W/L对输入/输出特性的影响(给定VGS、VDS、L,扫描W)。

g. MOS管开关电路输入/输出波形(输入一定频率的方波)。

h. 在MOS管开关电路输入/输出波形中找出传输时间、上升时间和下降时间。

i. MOS管开关电路传输特性曲线。

j. MOS管W/L对传输特性的影响(给定L、扫描W)。

k. 在MOS管传输特性曲线上找出测量输入、输出电压门限,计算噪声裕度。

(2)记录操作步骤,截取相应图片,完成实验报告。

二、实验环境、Tanner软件简介及SPICE命令。

实验环境:Tanner(S-Edit、T-Spice、W-Edit)SPICE命令的插入:Edit —Insert Command命令或工具栏中的,打开T-Spice Command Tool(T-Spice命令工具)对话框,可以在活动输入文件中插入命令。

三、实验流程框图。

四、实验步骤。

1.在S-Edit中绘制电路原理图,导出SPICE文件。

(1)新建一个文件file-new,新建一个模块,module-new,添加所需要的工艺库。

分享MOS管参数详细解密

分享MOS管参数详细解密

分享MOS管参数详细解密MOS管是一种金属-氧化物-半导体场效应管,由于其结构简单,并且具有高频特性、低功耗、低热噪声等优点,因此在现代电子领域得到了广泛的应用。

在使用MOS管的过程中,了解其参数是非常重要的,下面将对MOS管的常见参数进行详细解密。

1. 阈值电压(Vth):阈值电压是指当MOS管工作在饱和区时,门极与源极电压之间的电压差值。

高于阈值电压时,MOS管处于导通状态;低于阈值电压时,MOS管处于截止状态。

阈值电压决定了MOS管的开启和关闭条件,也决定了其工作的灵敏度和稳定性。

2. 静态工作点(Q-point):静态工作点是指MOS管处于直流偏置状态时的工作点。

通过调整静态工作点可以改变MOS管的放大倍数、电流增益等性能指标。

3. 转导系数(gm):转导系数是指MOS管输出电流与输入电压之间的比值。

转导系数越大,表明MOS管的放大能力越强。

4. 输入电阻(Rin):输入电阻是指MOS管的输入端所呈现的电阻值。

输入电阻越大,说明MOS管对输入信号的影响越小,输入信号不容易被损耗或变形。

5. 输出电阻(Rout):输出电阻是指MOS管的输出端所呈现的电阻值。

输出电阻越小,表示MOS管的输出信号对负载的影响越小,输出信号不容易失真。

6. 饱和电流(Idsat):饱和电流是指MOS管工作在饱和区时的电流值。

饱和电流的大小决定了MOS管的输出能力和工作状态。

7.增益带宽积(GBW):增益带宽积是指MOS管的放大倍数和频率响应之间的乘积。

增益带宽积越大,表示MOS管在宽频带范围内具有更好的放大性能。

8. 压摆率(Slew Rate):压摆率是指MOS管输出电压的变化速率。

压摆率越大,表示MOS管的响应速度越快,能够更快地对输入信号进行放大和驱动。

9.电压放大倍数(Av):电压放大倍数是指MOS管输入电压与输出电压之间的比值。

电压放大倍数越大,表明MOS管的放大能力越强。

以上是一些常见的MOS管参数,了解这些参数的含义和作用,有助于我们更好地理解和应用MOS管。

MOS管快速入门

MOS管快速入门

1、三个极的判定G极(gate)—栅极,不用说比较好认。

S极(source)—源极,不论是P沟道还是N沟道,两根线相交的就是。

D极(drain)—漏极,不论是P沟道还是N沟道,是单独引线的那边。

2、N沟道与P沟道判别箭头指向G极的是N沟道箭头背向G极的是P沟道3、寄生二极管方向判定不论N沟道还是P沟道MOS管,中间衬底箭头方向和寄生二极管的箭头方向总是一致的:要么都由S指向D,要么都有D指向S。

4、 MOS开关实现的功能1>信号切换2>电压通断5、MOS管用作开关时在电路中的连接方法关键点:1>确定那一极连接输入端,那一极连接输出端2>控制极电平为?V 时MOS管导通3>控制极电平为?V 时MOS管截止NMOS:D极接输入,S极接输出PMOS:S极接输入,D极接输出反证法加强理解NMOS假如:S接输入,D接输出由于寄生二极管直接导通,因此S极电压可以无条件到D极,MOS管就失去了开关的作用。

PMOS假如:D接输入,S接输出同样失去了开关的作用。

6、MOS管的开关条件N沟道—导通时Ug> Us,Ugs> Ugs(th)时导通。

P沟道—导通时Ug< Us,Ugs< Ugs(th)时导通。

总之,导通条件:|Ugs|>|Ugs(th)|。

7、相关概念BJTBipolar Junction Transistor 双极性晶体管,BJT是电流控制器件;FETField Effect Transistor 场效应晶体管,FET是电压控制器件.按结构场效应管分为:结型场效应(简称JFET)、绝缘栅场效应(简称MOSFET)两大类按沟道材料:结型和绝缘栅型各分N沟道和P沟道两种.按导电方式:耗尽型与增强型,结型场效应管均为耗尽型,绝缘栅型场效应管既有耗尽型的,也有增强型的。

总的来说场效应晶体管可分为结场效应晶体管和MOS场效应晶体管,而MOS场效应晶体管又分为N沟耗尽型和增强型;P沟耗尽型和增强型四大类。

mos管工作原理详细讲解

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金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)是一种重要的半导体器件,广泛应用于电子设备中。

MOSFET的工作原理基于对导电通道的控制。

结构和材料
MOSFET由一个半导体基底(衬底)组成,通常是硅或氮化镓。

在基底上形成两个高度掺杂的区域(源极和漏极),其之间是一个电隔离层,称为栅极氧化物。

工作原理
MOSFET的工作原理可以分为三个基本模式:
1. 截止模式
当栅极与源极之间没有电压(VGS = 0)时,MOSFET处于截止模式。

栅极氧化物阻止电流在源极和漏极之间流动,因为没有载流子可通过导电通道。

2. 线性模式(三极管模式)
当栅极电压逐渐增加(VGS > 0)时,MOSFET进入线性模式。

在栅极氧化物和基底的界面处形成一个反型层(导电通道),允许电流在源极和漏极之间流动。

导电通道的宽度随栅极电压的增加而增长。

3. 饱和模式
当栅极电压进一步增加(VGS > Vth,阈值电压)时,MOSFET 进入饱和模式。

导电通道的宽度达到最大值,此时电流在源极和漏极之间不再受栅极电压的影响。

电流主要由漏极-源极电压(VDS)控制。

MOSFET特性
MOSFET的特性由其漏极电流-栅极电压(IDS-VGS)和漏极电流-漏极电压(IDS-VDS)的关系决定。

应用
MOSFET广泛应用于各种电子设备中,包括:数字逻辑电路
放大器
开关
电源管理
优点
MOSFET具有许多优点,包括:
高输入阻抗
低功耗
快速开关能力
易于集成
可靠性高。

一文详解MOS管,看完后醍醐灌顶!

一文详解MOS管,看完后醍醐灌顶!

一文详解MOS管,看完后醍醐灌顶!MOS管学名是场效应管,是金属-氧化物-半导体型场效应管,属于绝缘栅型。

本文就结构构造、特点、实用电路等几个方面用工程师的话简单描述。

其结构示意图:解释1:沟道上面图中,下边的p型中间一个窄长条就是沟道,使得左右两块P 型极连在一起,因此mos管导通后是电阻特性,因此它的一个重要参数就是导通电阻,选用mos管必须清楚这个参数是否符合需求。

解释2:n型上图表示的是p型mos管,读者可以依据此图理解n型的,都是反过来即可。

因此,不难理解,n型的如图在栅极加正压会导致导通,而p型的相反。

解释3:增强型相对于耗尽型,增强型是通过“加厚”导电沟道的厚度来导通,如图。

栅极电压越低,则p型源、漏极的正离子就越靠近中间,n衬底的负离子就越远离栅极,栅极电压达到一个值,叫阀值或坎压时,由p型游离出来的正离子连在一起,形成通道,就是图示效果。

因此,容易理解,栅极电压必须低到一定程度才能导通,电压越低,通道越厚,导通电阻越小。

由于电场的强度与距离平方成正比,因此,电场强到一定程度之后,电压下降引起的沟道加厚就不明显了,也是因为n 型负离子的“退让”是越来越难的。

耗尽型的是事先做出一个导通层,用栅极来加厚或者减薄来控制源漏的导通。

但这种管子一般不生产,在市面基本见不到。

所以,大家平时说mos管,就默认是增强型的。

解释4:左右对称图示左右是对称的,难免会有人问怎么区分源极和漏极呢?其实原理上,源极和漏极确实是对称的,是不区分的。

但在实际应用中,厂家一般在源极和漏极之间连接一个二极管,起保护作用,正是这个二极管决定了源极和漏极,这样,封装也就固定了,便于实用。

我的老师年轻时用过不带二极管的mos管。

非常容易被静电击穿,平时要放在铁质罐子里,它的源极和漏极就是随便接。

解释5:金属氧化物膜图中有指示,这个膜是绝缘的,用来电气隔离,使得栅极只能形成电场,不能通过直流电,因此是用电压控制的。

在直流电气上,栅极和源漏极是断路。

MOS管的米勒效应-讲的很详细讲解学习

MOS管的米勒效应-讲的很详细讲解学习

MOS 管的米勒效应- 讲的很详细米勒效应的影响:MOSFE的栅极驱动过程,可以简单的理解为驱动源对MOSFE的输入电容(主要是栅源极电容Cgs)的充放电过程;当Cgs达到门槛电压之后,MOSFET就会进入开通状态;当MOSFE开通后,Vds开始下降,Id开始上升,此时MOSFET 进入饱和区;但由于米勒效应,Vgs会持续一段时间不再上升,此时Id已经达到最大,而Vds还在继续下降,直到米勒电容充满电,Vgs又上升到驱动电压的值,此时MOSFE进入电阻区,此时Vds彻底降下来,开通结束。

由于米勒电容阻止了Vgs的上升,从而也就阻止了Vds的下降,这样就会使损耗的时间加长。

(Vgs上升,则导通电阻下降,从而Vds下降)米勒效应在MOS区动中臭名昭著,他是由MOS管的米勒电容引发的米勒效应,在MOS?开通过程中,GS电压上升到某一电压值后GS电压有一段稳定值,过后GS电压又开始上升直至完全导通。

为什么会有稳定值这段呢?因为,在MOS 开通前,D极电压大于G极电压,MO资生电容Cgd储存的电量需要在其导通时注入G 极与其中的电荷中和,因MO究全导通后G极电压大于D极电压。

米勒效应会严重增加MOS勺开通损耗。

(MOST不能很快得进入开关状态)所以就出现了所谓的图腾驱动!!选择MOS寸,Cgd越小开通损耗就越小。

米勒效应不可能完全消失。

MOSFE中的米勒平台实际上就是MOSFE处于“放大区”的典型标志用用示波器测量GS电压,可以看到在电压上升过程中有一个平台或凹坑,这就是米勒平台。

米勒效应指在MOS管开通过程会产生米勒平台,原理如下。

理论上驱动电路在G级和S级之间加足够大的电容可以消除米勒效应。

但此时开关时间会拖的很长。

一般推荐值加O.ICiess的电容值是有好处的。

下图中粗黑线中那个平缓部分就是米勒平台。

删荷系数的这张图在第一个转折点处:Vds开始导通。

Vds的变化通过Cgd和驱动源的内阻形成一个微分。

MOS基础和选型学习资料

MOS基础和选型学习资料

目次1 MOS基础知识和分类 (2)1.1 N沟道增强型MOS管 (2)1.1.1 N沟道增强型MOS管的结构 (2)1.1.2 N沟道增强型MOS管的工作原理 (2)1.1.3 N沟道增强型MOS管的特性曲线、电流方程及参数 (3)1.2 N沟道耗尽型MOS管 (3)1.2.1 N沟道耗尽型MOS管的结构 (3)1.2.2 与N沟道增强型MOS管的区别 (4)1.3 P沟道MOS管 (5)1.3.1 P沟道MOS管与N沟道MOS管的区别 (5)1.3.2 P沟道MOS管特性比较 (5)2 MOS选型 (5)2.1 首先确定选用N MOS还是P MOS (6)2.1.1 MOS做低频物理开关 (6)2.1.2 MOS做高频开关 (6)2.2 确定主要参数 (7)2.2.1 确定Vds (7)2.2.2 确定Id (7)2.2.3 预估MOS的功耗,大致确定MOS的温升 (7)2.2.4 MOS的寄生参数 (8)MOS基础和选型1 MOS基础知识和分类1.1 N沟道增强型MOS管1.1.1 N沟道增强型MOS管的结构图 1.1 结构示意图在一块掺杂浓度较低的P型硅衬底上,制作两个高掺杂浓度的N+区,并用金属铝引出两个电极,分别作漏极d和源极s。

然后在半导体表面覆盖一层很薄的二氧化硅(SiO2)绝缘层,在漏——源极间的绝缘层上再装上一个铝电极,作为栅极g。

图(a)、(b)分别是它的结构示意图和代表符号。

代表符号中的箭头方向表示由P(衬底)指向N(沟道)。

P沟道增强型MOS管的箭头方向与上述相反,如图(c)所示。

1.1.2 N沟道增强型MOS管的工作原理vGS对iD及沟道的控制作用a)vGS=0 的情况从图 1.1 (a)可以看出,增强型MOS管的漏极d和源极s之间有两个背靠背的PN结。

当栅——源电压vGS=0时,即使加上漏——源电压vDS,而且不论vDS的极性如何,总有一个PN结处于反偏状态,漏——源极间没有导电沟道,所以这时漏极电流iD≈0。

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MOS管学习笔记主要内容●MOS管的种类及结构●MOS管的工作原理●MOS管的主要参数●MOS管的驱动MOS 管的种类及结构MOS 管的全称是:Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor (金属氧化物半导体场效应管)导电载流子的带电极性N 沟道(电子型)P沟道(空穴型)导电沟道形成机理增强型(E 型)耗尽型(D型)组合共有4种类型分类在实际应用中,只有N 沟道增强型和P 沟道增强型,这两种中比较常用的是NMOS 管,原因是导通电阻小,且容易制造。

结构以一块掺杂浓度较低,电阻率较高的P型硅半导体薄片作为衬底,利用扩散的方法在P型硅中形成两个高掺杂的N+区。

然后在P型硅表面生长一层很薄的二氧化硅绝缘层,并在二氧化硅表面及N+型区的表面上分别安装三个铝电极——栅极g,源极s和漏极d,这样就形成了N沟道增强型MOS管。

符号剖面图(1)Vgs=0,没有导电沟道此时栅源短接,源区,衬底和漏区形成两个背靠背的PN 结,无论Vds 的极性怎样,其中总有一个PN 结是反偏的,所以d,s 之间没有形成导电沟道,MOS 管处于截止状态。

(2)Vgs≥ V GS(th ),出现N 沟道栅源之间加正向电压由栅极指向P 型衬底的电场将靠近栅极下方的空穴向下排斥形成耗尽层MOS 管的工作原理NMOS 的特性:Vgs 大于一定的值就会导通,适合用于源极接地时的情况(低端驱动)---s 二氧化硅P 衬底g DD V +N d +b N V GG i d 再增加Vgs 纵向电场将P 区少子(电子)聚集到P 区表面形成源漏极间的N 型导电沟道如果此时加有漏源电压,就可以形成漏极电流i d 定义:开启电压V GS(th )——刚刚产生导电沟道所需的栅源电压Vgs(3)输出特性曲线MOS的输出特性曲线是指在栅源电压Vgs> V GS(th)且恒定的情况下,漏极电流i d与漏源电压Vds之间的关系,可以分为以下4段:a.线性区当Vds很小时,沟道就像一个阻值与Vds无关的固定电阻,此时i d与Vds成线性关系,如图OA段所示b.过渡区随着Vds增大,漏极附近的沟道变薄,沟道电阻增大,曲线逐渐下弯。

当Vds增大到Vdsat(饱和漏源电压)时,漏端处可动电子消失,此时沟道被夹断,如图AB段所示。

线性区和过渡区统称为非饱和区。

c.饱和区当Vds> Vdsat时,沟道夹断点向左移,漏极附近只剩下耗尽区,此时i d 几乎与Vds无关而保持i dsat不变,曲线为水平直线,如图BC段所示。

d.击穿区V ds继续增大到BV ds时,漏结发生雪崩击穿,i d急剧增大,如图CD段所示。

以Vgs 为参考量,可以得到不同Vgs下,漏极电流i d与漏源电压Vds 之间的关系曲线族,即为MOS管的输出特性曲线。

将各曲线的夹断点用虚线连接起来,虚线左侧为可变电阻区,右侧为饱和区。

Vgs< V GS(th)时,称为截止区(4)转移特性漏源电压Vds 一定的条件下,栅源电压Vgs 对漏极电流i d 的控制特性。

可根据输出特性曲线作出移特性曲线。

例:作Vds =10V 的一条转移特性曲线i (mA)D GS =6V u u =5VGS =4Vu GS u =3V GS uDS (V)D i (mA)10V 12341432(V)uGS246U T4种类型的MOSFET特性曲线小结MOS管的主要参数极限参数I D:最大漏源电流。

是指场效应管正常工作时,漏源间所允许通过的最大电流。

MOSFET的工作电流不应超过I D。

此参数会随结温度的上升而有所减额。

I DM:最大脉冲漏源电流。

反映了器件可以处理的脉冲电流的高低,此参数会随结温度的上升而有所减小。

P D:最大耗散功率。

是指场效应管性能不变坏时所允许的最大漏源耗散功率。

使用时,场效应管实际功耗应小于P DSM并留有一定余量。

此参数一般会随结温度的上升而有所减额。

V GS:最大栅源电压。

是指栅源间反向电流开始急剧增加时的V GS值T j:最大工作结温。

通常为150℃或175℃,器件设计的工作条件下须确应避免超过这个温度,并留有一定裕量。

T STG:存储温度范围。

静态参数V(BR)DSS:漏源击穿电压。

是指栅源电压V GS为0时,场效应管正常工作所能承受的最大漏源电压。

加在场效应管上的工作电压必须小于V(BR)DSS。

它具有正温度特性。

故应以此参数在低温条件下的值作为安全考虑。

V(BR)DSS/△T j:漏源击穿电压的温度系数,一般为0.1V/℃。

R DS(on):在特定的V GS(一般为10V)、结温及漏极电流的条件下,MOSFET导通时漏源间的最大阻抗。

它是一个非常重要的参数,决定了MOSFET导通时的消耗功率。

此参数一般会随结温度的上升而有所增大。

故应以此参数在最高工作结温条件下的值作为损耗及压降计算。

V GS(th):开启电压(阀值电压)。

当外加栅极控制电压V GS超过V GS(th)时,漏区和源区的表面反型层形成了连接的沟道。

应用中,常将漏极短接条件下I D等于1毫安时的栅极电压称为开启电压。

此参数一般会随结温度的上升而有所降低。

I DSS:饱和漏源电流,栅极电压V GS=0、V DS为一定值时的漏源电流。

一般在微安级。

I GSS:栅源驱动电流或反向电流。

由于MOSFET输入阻抗很大,I GSS一般在纳安级。

动态参数g fs:跨导。

是指漏极输出电流的变化量与栅源电压变化量之比,是栅源电压对漏极电流控制能力大小的量度。

Q g:栅极总充电电量。

MOSFET是电压型驱动器件,驱动的过程就是栅极电压的建立过程,这是通过对栅源及栅漏之间的电容充电来实现的。

Q gs:栅源充电电量。

Q gd:栅漏充电电量。

C iss:输入电容,将漏源短接,用交流信号测得的栅极和源极之间的电容。

C iss= C GD+C GS。

对器件的开启和关断延时有直接的影响。

C oss:输出电容,将栅源短接,用交流信号测得的漏极和源极之间的电容。

C oss= C DS+C GD。

C rss:反向传输电容,在源极接地的情况下,测得的漏极和栅极之间的电容C rss= C GD。

对于开关的上升和下降时间来说是其中一个重要的参数T d(on):导通延迟时间。

从有输入电压上升到10%开始到V DS(V out)下降到其幅值90%的时间(如下图示)。

T r:上升时间。

输出电压V DS(V out)从90%下降到其幅值10%的时间。

T d(off):关断延迟时间。

输入电压下降到90%开始到V DS (V out)上升到其关断电压时10%的时间。

T f:下降时间。

输出电压V DS(V out)从10%上升到其幅值90%的时间,参照下图所示。

如果电压超过漏源极限电压将导致器件处在雪崩状态EAS :单次脉冲雪崩击穿能量,说明MOSFET 所能承受的最大雪崩击穿能量IAR :雪崩电流EAR :重复雪崩击穿能量I S :连续最大续流电流(从源极)I SM :脉冲最大续流电流(从源极)V SD :正向导通压降T rr :反向恢复时间Q rr :反向恢复充电电量T on :正向导通时间(基本可以忽略不计)●雪崩击穿参数●体内二极管参数MOS 管的驱动●开关管导通时,驱动电路应能提供足够大的充电电流使栅源电压上升到需要值,保证开关管快速开通且不存在上升沿的高频震荡。

●开关管导通期间驱动电路能保证MOSFET 栅源间电压保持稳定使其可靠导通。

●关断瞬间驱动电路能提供一个低阻抗通路供MOSFET 栅源间电压快速泻放,保证开关管能快速关断。

●关断期间驱动电路可以提供一定的负电压避免受到干扰产生误导通。

●驱动电路结构尽量简单,最好有隔离。

在进行驱动电路设计之前,必须先清楚MOS 管的模型、MOS 管的开关过程、MOS 管的栅极电荷以及MOS 管的输入输出电容、跨接电容、等效电容等参数对驱动的影响。

驱动电路的好坏直接影响了电源的工作性能及可靠性,一个好的MOSFET 驱动电路的基本要求是:POWER MOSFET 等效模型POWER MOSFET 寄生参数C iss= C GD+ C GSC oss= C DS+C GDC rss= C GDPOWER MOSFET 导通过程T0~T1:驱动通过R GATE对C gs充电,电压V gs以指数的形式上升T1~T2:V gs达到MOSFET开启电压,MOSFET进入线性区,I d缓慢上升,至T2时刻I d到达饱和或是负载最大电流。

在此期间漏源极之间依然承受近乎全部电压Vdd 。

T2~T3:T2时刻I d达到饱和并维持稳定值,MOS管工作在饱和区,V gs固定不变,电压V ds开始下降。

此期间C gs不再消耗电荷,VDD 开始给Cgd提供放电电流。

T3~T4:电压V ds下降到0V,VDD继续给Cgs充电,直至Vgs=V DD,MOSFET完成导通过程。

说明Vgs的各个阶段的时间跨度同栅极消耗电荷成比例(因△Q = I G△T,而I G在此处为恒流源之输出)。

T0 ~ T2跨度代表了Ciss(V GS+ C GD)所消耗的电荷,对应于器件规格书中提供的参数Qgs(Gate to Source Charge)。

T2 ~ T3跨度代表了C GD(或称为米勒电容)消耗的电荷,对应于器件规格书中提供的参数Qds(Gate to Drain (“Miller”) Charge)。

T3时刻前消耗的所有电荷就是驱动电压为Vdd、电流为Id的MOSFET所需要完全开通的最少电荷需求量。

T3以后消耗的额外电荷并不表示驱动所必须的电荷,只表示驱动电路提供的多余电荷而已。

开关损失:在MOSFET导通的过程中,两端的电压有一个下降的过程,流过的电流有一个上升的过程,那么这段时间里,MOS管损失的是电压和电流的乘积,称为开关损失。

导通损耗:MOS管在导通之后,电流在导通电阻上消耗能量,称为导通损耗。

整体特性表现:驱动电量要求:△Q t0 ~ t4= (t4-t0 )IG = VG(CGS + CGD)+ VDDCGD驱动电流要求:IG =△Q t0 ~ t4 /(t4-t0 )≈△Q t0 ~ t3 / (t3-t0 )≈Qg/(Td(on) + Tr)驱动功率要求:Pdrive=∫t4-t0 vg(t)ig(t)≈VG△Q≈VG〔VG(CGS+CGD)+ VDDCGD〕驱动电阻要求:RG = VG / IG一般地可以根据器件规格书提供的如下几个参数作为初期驱动设计的计算假设a) Qg(Total Gate Charge):作为最小驱动电量要求。

b)相应地可得到最小驱动电流要求为IG ≈Qg/(td(on)+tr)。

c)Pdrive=VG *Qg作为最小驱动功率要求。

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