研磨与抛光的区别
精密研磨与抛光(精密加工)
表面平滑
在抛光过程中，工件表面逐渐被 磨平，最终达到镜面或高度平滑
的效果。
表面改性
在抛光过程中，工件表面可能会 发生物理或化学变化，如表面层 晶格结构的变化或表面化学成分
的改变。
抛光工艺参数
压力
抛光压力是影响抛光效果的重要参数，压力过大会导致工件表面 损伤，过小则抛光效率低下。
02
精密研磨技术
研磨材料
01
02
03
04
刚玉
常用作研磨材料，具有高硬度 和耐磨性，适用于硬材料的研
磨。
碳化硅
具有高硬度和高韧性，适用于 研磨硬而脆的材料。
氧化铝
具有较好的韧性和耐磨性，适 用于研磨软材料和中等硬度的
材料。
天然磨料
如河砂、海砂等，可用于粗研 磨和抛光。
研磨机理
切削作用
研磨材料表面上的磨粒在压力作 用下切入工件表面，切削出微小
智能化的发展
智能检测与监控系统
通过引入传感器和智能化检测技术，实现对 研磨与抛光过程的实时监测和数据采集，提 高加工过程的稳定性和可靠性。同时，通过 数据分析与处理，优化加工参数，提高加工 效率和表面质量。
自动化生产线
通过集成机器人、自动化设备和智能化管理 系统，构建自动化生产线，实现研磨与抛光 过程的自动化和连续化生产。这将大幅提高 生产效率，降低人工成本，提升企业竞争力
总结词
高分子材料的研磨与抛光是实现高分子材料表面高精度和高光洁度的重要手段。
详细描述
高分子材料的研磨与抛光主要采用金刚石、刚玉等硬质材料作为磨料，通过研磨、抛光等工艺去除高 分子材料表面的凸起和划痕，以提高其表面质量和性能。高分子材料的研磨与抛光广泛应用于塑料、 橡胶、涂料等领域。
第5章 超精密研磨与抛光(康仁科) 大连理工大学
固结磨料研磨
圆柱面和球面的研磨
5.5.1 液中研磨
磨料：微细的 磨料：微细的Al2O3磨粒 磨粒 研具： 研具：聚氨酯 加工液：过滤水、蒸馏水、 加工液：过滤水、蒸馏水、净化水 机理：将研磨操作浸入在含有磨粒的研磨剂中 机理： 进行，借助水波效果， 进行，借助水波效果，利用浮游的微细磨粒进 行研磨加工。以磨粒的机械作用为中心， 行研磨加工。以磨粒的机械作用为中心，由加 工液进行磨粒的分散，起缓冲和冷却作用。 工液进行磨粒的分散，起缓冲和冷却作用。 应用：加工硅片，可以得到完全高质量的镜面。 应用：加工硅片，可以得到完全高质量的镜面。
研具
磨粒
加工液 工件、 工件、研具相对速度 加工压力 加工时间 环境
温 度 尘 埃
室温设定温度± 室温设定温度±0.1℃ ℃ 利用净化槽、 利用净化槽、净化操作台
5.4 超精密平面研磨和抛光
超精密研磨和抛光是加工误差<0.1 µm，表面粗 糙度Ra<0.02 µm的加工方法。 用于制造高精度高表面质量的零件，如大规模 集成电路的硅片，不仅要求极高的平面度，极 小的表面粗糙度，而且要求表面无变质层、无 划伤。光学平晶、量块、石英振子基片平面， 除要求极高平面度、极小表面粗糙度外，还要 求两端面严格平行。
5.5 新原理的超精密研磨抛光
传统的研磨抛光方法是完全靠微细磨粒的机械 作用去除被研磨表面的材质， 作用去除被研磨表面的材质，达到很高的加工 表面。 表面。 最近出现新原理的研磨抛光方法其工作原理有 些已不完全是纯机械的去除， 些已不完全是纯机械的去除，有些不用传统的 研具和磨料。 研具和磨料。这些新的研磨抛光方法可以达到 分子级和原子级材料的去除， 分子级和原子级材料的去除，并达到相应的极 高几何精度和无缺陷无变质层的加工表面。 高几何精度和无缺陷无变质层的加工表面。
3.2研磨与抛光解析
2）研磨/抛光机按转速是否可调分为调速研磨/抛光 机和定速研磨/抛光机两种： 调速研磨/抛光机有高、中、低三种转速， 1200r/min以下为低速，1600r/min左右为中速 ，2000r/min左右为高速。市场上常见到的中高 速研磨/抛光机，简称高速研磨/抛光机，转速范围 在1750~3000r/min；还有一种中低速研磨/抛 光机，简称中速研磨/抛光机，转速范围在 1200~1600r/min研磨/抛光机。定速研磨/抛光 机也称单速研磨/抛光机，一般是转速为 1200r/min的低速研磨/抛光机。
（2）抛光剂 抛光剂其实也是一种研磨剂，是一种含颗粒 更细的摩擦材料的研磨剂。抛光剂根据摩擦材料颗 粒或功效的大小分为微抛、中抛和深抛三种。微抛 是用于去除极细微的车漆损伤，一般指刚刚发生的 漆面污染及酸性侵蚀（鸟粪、落叶等），但这类的 轻微损伤目前可使用含抛光剂的蜡来取代微抛。从 这一点上讲，微抛存在的意义并不是很大。中抛和 深抛主要是用来处理不同程度的发丝划痕。中抛主 要适用于对透明漆的抛光，深抛主要适用于对普通 漆的抛光。
（8）研磨和抛光注意事项 1）研磨和抛光必须在室内进行，避免风沙落 在漆面造成划伤。 2）研磨剂、抛光剂使用前应用力摇匀，以保 持良好作用。 3）操作中，研磨/抛光机必须避开电镀饰件、 喷漆饰条及车窗防雨密封条等，以免这些地 方受损。
习题3.2
1.填空题 1）漆面研磨是通过____，并配合____在车身漆面 ____产生摩擦，以去除____、 ____等缺陷所进 行的作业。 2）研磨剂按使用范围不同分为____和____；根据 切割方式可分为____、 ____和____三种。
毛料盘与海绵盘相比各有所长。从历史上讲 ，毛料盘是先出现的，其特点是切割能力强，在没 有研磨剂的情况下，毛料仍有一定的摩擦能力。透 明漆出现以后，因在透明漆上使用毛料盘稍有不慎 ，便会造成划痕，这样厂家就研制了海绵盘，它比 毛料柔和，适于做透明漆的研磨和抛光。但毛料盘 与有些研磨抛光剂搭配，研磨和抛光效果比海绵还 好，所以至今市场上两种材料的盘都存在，而且都 很畅销。因海绵盘易控制，较保险，适合操作技术 不高的人员使用。对于极有经验的专业人员来说， 用毛料盘在透明漆上研磨和抛光也能取得很好的效 果。
研磨与抛光
第5章模具的研磨与抛光模具的研磨与抛光是以降低零件外表粗糙度，提高外表形状精度和增加外表光泽为主要目的，属光整加工，可归为磨削工艺大类。
他们研磨与抛光在工作成形理论上很相似，一般用于产品、零件的最终加工。
现代模具成形外表的精度和外表粗糙度要求越来越高，特别是高精度、高寿命的模具要求到μm级的精度。
一般的磨削外表不可防止要留下磨痕、微裂纹等缺陷，这些缺陷对一些模具的精度影响很大，其成形外表一部分可采用超精密磨削加工到达设计要求，但大多数异型和高精度外表大都要进行研磨与抛光加工。
对冲压模具来讲，模具经研磨与抛光后，改善了模具的外表粗糙度，利于板料的流动，减小流动阻力，极大地提高了成形零件的外表质量，特别是对于汽车外覆盖件尤为明显。
经研磨刃口后的冲裁模具，可消除模具刃口的磨削伤痕，使冲裁件毛刺高度减少。
塑料模具型腔研磨、抛光后，极大地提高型腔外表质量，提高成形性能，满足塑件成型质量的要求、塑件易于脱模。
浇注系统经研磨、抛光后，可降低注射时塑料的流动阻力。
另外研磨与抛光可提高模具接合面精度，防止树脂渗漏，防止出现沾粘等。
电火花成型的模具外表会有一层薄薄的变质层，变质层上许多缺陷需要用研磨与抛光去处。
另外研磨与抛光还可改善模具外表的力学性能，减少应力集中，增加型面的疲劳强度。
研磨的基本原理与分类研磨是一种微量加工的工艺方法，研磨借助于研具与研磨剂〔一种游离的磨料〕，在工件的被加工外表和研具之间上产生相对运动，并施以一定的压力，从工件上去除微小的外表凸起层, 以获得很低的外表粗糙度和很高的尺寸精度、几何形状精度等，在模具制造中，特别是产品外观质量要求较高的精密压铸模、塑料模、汽车覆盖件模具应用广泛。
1.研磨的基本原理1〕物理作用研磨时，研具的研磨面上均匀地涂有研磨剂，假设研具材料的硬度低于工件，当研具和工件在压力作用下做相对运动时，研磨剂中具有尖锐棱角和高硬度的微粒，有些会被压嵌入研具外表上产生切削作用〔塑性变形〕，有些则在研具和工件外表间滚动或滑动产生滑擦〔弹性变形〕。
精密研磨与抛光(精密加工)
7.1 研磨 7.2 抛光 7.3 精密研磨与抛光的主要工艺因素 7.4 精密研磨抛光新技术 7.5 曲面研磨抛光技术
2013-9-22
第7章 精密研磨与抛光
在超精密加工中，超精密切削和超精密磨削的实
现在很大程度上依赖于加工设备、加工工具以及相关 技术的支持，并受到加工原理及环境因素的影响和限 制，要实现更高精度的加工十分困难。 超精密研磨抛光具有独特的加工原理，对加工设 备和环境因素要求不高，可以实现纳米级甚至原子级 的加工，已经成为超精密加工技术中一个十分重要的 部分。 精密研磨与抛光加工涉及的材料：金属材料，硅 、砷化镓等半导体材料，蓝宝石、铌酸锂等光电子材 2013-9-22 料，压电材料，磁性材料，光学材料等。
第1节 研磨
一、研磨加工的机理
研磨加工：利用硬度比被加工材料更高的微米级磨粒， 在硬质研磨盘作用下产生微切削和滚扎作用，实现被 加工表面的微量材料去除，使工件的形状、尺寸精度 达到要求值，并降低表面粗糙度、减小加工变质层的 加工方法。 1.研磨时磨料的工作状态 1）磨粒在工件与研具之间发生滚动，产生滚轧效果； 2）磨粒压入到研具表面，用露出的磨粒尖端对工件表 面进行刻划，实现微切削加工； 3）磨粒对工件表面的滚轧与微量刻划同时作用。
金属抛光
硅晶片抛光 化合物半导体材料抛光 金属材料抛光 一般材料抛光 金属模抛光
纤维
2013-9-22
非织布（毛形状有：放射状、网络状、同心圆状和螺旋状等。 槽的形状、宽度、深度和间距等根据工件材料性质、 形状及研磨面的加工精度而选择。 研具开槽的作用： 1)存储多余磨粒，防止磨 料堆积而损伤工件表面； 2)作为向工件供给磨粒的 通道；
3)作为及时排屑的通道， 防止研磨表面被划伤。
模具的研磨与抛光
1.述模具研磨与抛光的目的。
2.简述研磨与抛光的基本原理及分类。
3.何选择研磨工具和确定研磨余量？4.确定是否选用抛光工艺的依据是什么？5.抛光方向如何选择？抛光中可能产生的缺陷是什么？简述产生的主要原因及防止措施。
1.主要目的：降低零件表面粗糙度、提高表面形状精度和增加表面光泽。
2.研磨机理：研磨时，研具的研磨面上均匀的涂有研磨剂，当研具和工件在压力作用下做相对运动时，研磨剂对工件表面产生微切削作用，从而时工件得到高的尺寸精度和低的表面粗糙度值；当采用氧化铬、硬脂酸等研磨剂时，研磨剂和被加工表面产生化学作用，形成一层极薄的氧化膜，这层氧化膜很容易被磨掉，在研磨过程中氧化膜不断迅速形成，又很决被磨掉，如此反复，使被加工表面的粗糙度值降低。
研磨的分类：（1）按按研磨抛光中的自动化程度划分：1）手工研磨；2）半机械研磨；3）机械研磨。
（2）按研磨剂的使用条件：1）湿研磨；2）干研磨；3）半干研磨。
抛光的机理：抛光是利用柔性抛光工具和微细磨料颗粒或其他拋光介质对工件表面进行的修饰加工，去除前工序留下的加工痕迹（如：刀痕、磨纹、麻点、毛刺）。
抛光不能提高工件的尺寸精度或几何形状精度，而是以得到光滑表面或镜面光泽为目的。
抛光与研磨的机理是相同的，人们习惯上把使用硬质研具的加工称为研磨，而使用软质研具的加工称为抛光。
抛光的分类：按照不同的抛光要求，可分为普通抛光和精密抛光。
3.研具的选择：根据被加工工件的材料性能及其加工表面的形状来选择研具的材料、类型及硬度等参数。
研磨余量的确定：零件在研磨前的预加工，需有足够的尺寸精度、几何形状精度和表面粗糙度。
对表面积大或形状复杂且精度要求高的工件，研磨余量应取较大值。
预加工的质量高，研磨量取较小值。
研磨余量还应结合工件的材质、尺寸精度、工艺条件及研磨效率等来确定。
研磨余量尽量小，一般手工研磨不大于10μm，机械研磨也应小于15μm。
4.是否选用抛光工艺的依据：前道工序加工后得到的工件的表面粗糙度没有达到零件的粗糙度要求或者加工表面存在划伤和压痕等表面缺陷。
超精密研磨与抛光
研磨速度
适当的研磨速度能够提高研磨 效率，同时也有助于控制表面 粗糙度。
研磨时间
研磨时间的长短会影响工件表 面的粗糙度和研磨效率，需要 根据实际情况进行调整。
03
抛光技术
抛光材料
抛光布
常用的抛光布材料包括棉布、细 帆布、化纤布等，具有良好的耐 磨性和柔软性，能够承受抛光过
程中的摩擦和压力。
抛光液
通过超精密研磨与抛光技术，可以加工出具有高精度、低 表面粗糙度的金属表面，提高金属材料的耐磨性、耐腐蚀 性和抗疲劳性能。该技术还可以用于加工金属材料的特殊 结构，如纳米级涂层、微纳颗粒等。
05
技术挑战与未来发展
技术挑战
01
02
03
04
加工精度要求高
超精密研磨与抛光需要达到纳 米级甚至更高级别的加工精度 ，对设备、工艺和材料的要求 极高。
研磨液
为了降低表面粗糙度和提高研磨效率，通常会使用 研磨液，如硅溶胶、氧化铝悬浮液等。
研磨垫
研磨垫是超精密研磨中常用的辅助工具，能够提供 均匀的研磨压力和稳定的研磨效果。
研磨机理与过程
80%
微观切削
研磨过程中，研磨砂纸上的磨粒 在压力作用下切入工件表面，通 过微观切削的方式去除材料。
100%
表面塑性流动
具体而言，超精密研磨与抛光技术可以对光学元件的表面进行纳 米级别的加工和修饰，使其表面达到原子级的光滑度，减少散射 和反射，提高光的透过率和成像质量。同时，该技术还可以加工 出具有特殊光学性能的元件，如非球面透镜、光波导等。
半导体材料
半导体材料是现代电子工业的基础，其质量和性能对电子器 件的性能和可靠性有着至关重要的影响。超精密研磨与抛光 技术是半导体材料加工的关键技术之一，主要用于加工硅片 、锗片、砷化镓等半导体材料。
抛光工艺分类
抛光工艺分类
]
一、静态抛光：
1、机械抛光：
（1）研磨：磨料涂布，运用砂轮组织研磨表面，研磨强度大，粗糙度高，光滑度低。
（2）砂磨：砂磨是使用砂轮或沙液磨洗表面，来改善表面光滑度的方式。
（3）抛光：通过抛光机械，以不锈钢纤维刷、棉花纤维刷等为工件表面精细加工，以提高表面光滑度的方法。
2、化学抛光：
（1）氧化抛光：将表面氧化物通过化学方式消除，使表面光洁度提升的方法。
（2）消光抛光：使用消光抛光剂淬火处理，以此来维护和保养表面光洁度的技术。
3、物理抛光：
（1）激光抛光：将穿透性激光投射到表面，熔融、凝结和汽化材料，使表面光洁度提高的方法。
（2）氩弧抛光：使用发出的氩弧，将表面材料汽化，并将其熔点凝聚到表面，使表面光洁度提高的方式。
二、动态抛光：
1、机械抛光：
（1）磨削：使用砂轮或其他切削工具，以提高表面光洁度的方式。
（2）抛光：使用抛光机械，以细小的刀具对表面做精细的加工，以改善表面光洁度的方式。
2、化学抛光：
（1）氯化抛光：通过氯化反应去除表面氧化物，提升表面光洁度的方式。
（2）电化学抛光：使用电解液作用于表面，维持表面状态，改善表面光洁度的方式。
研磨与抛光的步骤
研磨与抛光的步骤第一步：准备工作在进行研磨与抛光之前，首先要进行一些准备工作。
清洁物体表面，去除杂物和灰尘，以确保研磨过程中不会产生污染物。
同时，检查表面有无明显的破损或凹凸不平的地方，这些地方需要提前修复。
选择合适的研磨和抛光材料，如砂纸、研磨布、研磨膏等。
第二步：研磨研磨是将研磨材料与物体表面进行摩擦，通过磨削和磨蚀的方式去除表面的瑕疵和不平整，使得表面变得光滑细腻。
研磨过程中，可以选择不同粒度的研磨材料，从粗研磨到细研磨，逐渐使表面变得光滑。
首先，使用粗砂纸或研磨布对表面进行初步的研磨。
将砂纸或研磨布固定在研磨工具上，以适当的压力和速度进行研磨，注意保持均匀的力度和方向。
在研磨的过程中，可以根据需要调整研磨材料的粗细度，以达到理想的研磨效果。
接下来，逐渐降低研磨材料的粗细度，使用细砂纸或研磨布进行再次研磨。
与初步研磨相比，这一步骤更加注重细节和平整度，需要进行更加耐心和仔细的操作。
根据表面的不同要求，可以反复进行多次细研磨，直到达到期望的效果为止。
第三步：抛光抛光是在研磨的基础上进一步提高光亮度和细致度的操作。
通过抛光，可以使得表面达到更高的抛光性能和精度，使得物体表面呈现出非常光滑和亮度较高的效果。
抛光主要是通过使用抛光材料和工具，通过创造细微的研磨颗粒来进行操作。
首先，选择合适的抛光材料和抛光工具。
抛光材料可以选择抛光膏、抛光液等，抛光工具可以是抛光盘、抛光刷等。
在选择抛光材料和工具时，要根据表面的材质和形状以及抛光的要求进行合理的选择。
然后，将抛光材料涂抹在抛光工具上，以适当的速度和压力进行抛光。
在进行抛光的过程中，可以采用不同的抛光方法，如旋转抛光、振动抛光、手工抛光等，根据不同的实际情况选择最适合的抛光方法。
最后，完成抛光后要对物体表面进行清洁，去除抛光材料的残留物，使得表面保持干净和光滑。
如果需要进一步提高抛光效果，可以进行后续的涂层处理，如镀膜、喷涂等。
总结起来，研磨与抛光步骤主要包括准备工作、研磨和抛光三个方面。
抛光工作原理
抛光工作原理
抛光是一种通过物理和化学手段改善物体表面光洁度和光亮度的工艺。
其工作原理基于磨擦和研磨的作用。
下面将详细介绍抛光的工作原理：
1. 表面磨擦：抛光中最主要的工作原理是运用摩擦力将物体表面的凹凸部分磨平。
抛光过程中，使用粒度较细的磨料或磨具与物体表面相互磨擦，使凹凸不平的部分逐渐被磨平，从而改善表面的平整度。
2. 研磨作用：除了磨擦，抛光还利用研磨效应对物体表面进行改善。
研磨是通过强力的摩擦和磨料颗粒的切削作用，将物体表面的微小颗粒和瑕疵去除，从而使表面更为光滑、均匀。
3. 化学作用：除了物理的磨擦和研磨作用外，抛光还常常伴随着化学操作。
在抛光过程中，可能会使用一些化学品，如抛光液或溶液来改善物体表面的质地和光洁度。
这些化学品具有去除氧化层、清洁污渍以及改善表面镜面反射能力的功能。
4. 设备选用：抛光工作原理还与所使用的抛光设备密切相关。
常见的抛光设备主要包括砂轮抛光机、电动抛光机和手工抛光工具等。
根据不同的工作要求和材料特性，选择适当的抛光设备对于获得理想的抛光效果至关重要。
总结起来，抛光的工作原理主要包括磨擦作用、研磨效应和化学作用。
通过这些手段，抛光可以有效地改善物体表面的光洁度和光亮度，从而使物体外观更为美观。
金相试样的研磨与抛光
金相试样的研磨与抛光绝大多数金属及合金可以使用相同的研磨和抛光步骤进行试样制备。
硬度高的材料磨制的粗抛时比低的施加稍大的压力，主要的区别在最终抛光。
某些金属材料及合金要求指定的砂轮和镶嵌材料组合，但绝大多数可以按同样的步骤处理。
研磨：研磨有许多方法，从在固定的砂纸上手工磨试样到使用自动装置均可。
方法的选择取决于试样的数量和类型，经济性以及磨平和统一性的要求。
研磨应从能磨平试样并消除前道操作（比如切割）影响的最细的砂纸，磨盘或磨石开始。
接下来的步骤应能在短时间内消除前一步骤的影响。
研磨分为两个阶段，磨平或粗磨（绝大多数金属材料用稳定的精密的金相切割机切出的端面可忽略此步骤）和细磨。
精密的金相切割机切出的端面磨平或粗磨（截取试样端面粗糙时需进行此步）：磨平或粗磨[240#及更粗]在皮带，旋转的轮盘或磨石上完成。
有些方法中，金刚石磨料被用于刚性台板上做粗磨。
磨平目的实现以下几点：磨平不规则的或损坏的切面；去除切割损伤，氧化及镶嵌前其他的表面问题；去除大量的试样材料，获得一个理想的抛光平面；磨平镶嵌（尤其机械镶嵌或冷镶嵌试样）表面；精磨：精磨应去除磨平或粗磨步骤引起的试样损伤（精密切割时可能引起的试样损伤）。
试样要么接连在细砂纸上（用水冲走研磨碎渣，同时起冷却液作用）要么在刚性盘或含有适宜磨料的布上磨光。
所有研磨工序完成后，应彻底清洁试样。
最好在含有腐蚀抑制剂的水/肥皂溶液中超声波清洗。
抛光：抛光和研磨的区别在于使用分散磨料（粒度≤6μm）嵌入一个适当润滑的支撑面。
磨料、润滑剂和抛光织物往往根据金属和检验项目来选择。
抛光可分为粗抛和细抛(终抛)阶段。
粗抛光往往足以达到做显微硬度和晶粒尺寸等常规检验的要求，当需要精抛光时，需要借助金刚石或氧化物悬浮液或两者同时使用。
精抛光磨料的种类和粒度完全是由试样的硬度决定的。
例如，1μm 的金刚石对于各种钢精抛光都适用，但是，软钢和有色金属材料往往需要一个额外的氧化物颗粒悬浮液或SiO2 或Al2O3 悬浮液的抛光步骤。
汽车漆面研磨与抛光方法
汽车漆面研磨与抛光方法一般汽车表面经喷涂之后，可能会出现粗粒、流痕、反白、砂纸痕、橘皮等漆膜表面的细小缺陷，为了弥补这些缺陷，通常在喷涂后使用汽车抛光研磨剂，来进行研磨抛光处理，这样可以提高漆膜的镜面效果，达到平滑、光亮、艳丽的要求。
使用汽车抛光研磨剂是通过抛光机加研磨剂、抛光膏磨去漆面表层来完成的，可以去除漆表面氧化层和细小划痕，一般原厂车漆厚度是可以经受6到7次的抛光处理的。
漆面研磨抛光是汽车美容的精髓，掌握了研磨抛光几乎等于掌握了汽车美容。
它是一种技术，更是一种艺术。
一．研磨剂功能主区分133****13321.研磨剂在形式上分工业用及汽车用，汽车用又分板喷用（不得含硅油）及漆面美容使用，一般车漆用，及进口车使用。
2.在功能上区分，分为水性研磨剂，油性遮盖研磨剂，树脂遮盖研磨剂三类。
3.功能变化上来说计有：研磨蜡（如去污蜡），魔泥（火山泥），研磨清洁剂（如爆白，碱性研磨清洁剂）4.含硅油不含硅油：板喷业，不得使用含硅油研磨剂，硅油在高温挥发后，会沾附在漆房周遭，破坏漆的凝结，造成烤漆漆面成针孔状。
含硅的蜡，因打蜡温度不高，硅挥发不易，所以打蜡位置只要离开漆房5米，或予以隔离即可。
最好以人工上蜡。
二．研磨剂在使用位置区分：1.漆面用（完美还原用，镀膜前用，快速美容油性/树脂遮盖用）2.大灯用3.镀铬条，金属件用4.玻璃用三．研磨剂切削力区分1.研磨材区分为：硅藻土（SiO2•nH2O表示，矿物成分为蛋白石及其变种）及氧化铝（a-Al2O3-纳米六方晶体VK-L30F，300纳米，颗粒接近球型，y-Al2O3-纳米四方晶体VK-L50Y，50纳米，,二氧化铈（VK-Ce02，200纳米，软质陶瓷）3大类。
（洗面乳，牙膏使用研磨材：树脂材料，核桃膜，工业用研磨材，非汽车美容使用不在讨论范围），二氧化铈是玻璃清洁及研磨抛光最佳选择。
133****13322.以切削划痕能力做区分，划痕标准是以能去除某个号数水砂纸来定义。
数控车床——教学案例十一研磨和抛光
教学案例十一研磨和抛光知识目标⒈学会研磨工艺；⒉学会抛光工艺；技能目标⒈掌握研磨方法；⒉掌握抛光方法；⒊能研磨工件；⒋能抛光工件。
任务描述手柄，如图11-1所示，材料：45#钢，分析零件加工工艺，编写工艺卡，加工该零件。
图11-1手柄任务分析如图11-1所示，手柄材料为45钢，加工时，注意保证零件的表面研磨和抛光均匀。
知识准备⒈研磨研磨可以改善工件的形状误差，获得很高的精度，同时还可以得到极小的表面粗糙度值。
在车床上常用手工研磨和机动研磨组合的方法对工件的内、外圆表面进行研磨。
⑴研磨工具的材料研具材料应比工件材质软，且组织要均匀，最好有微小的针孔，以使研磨剂嵌入研具作表面，提高研磨质量。
研具材料本身又要求较好的耐磨性，以使研具尺寸、形状稳定，从而保证研磨后工件的尺寸和几何形状精度。
常用的研具有以下几种：①灰铸铁。
灰铸铁是较理想、最常用的研具材料，适用于研磨各种淬火钢工件。
②铸造铝合金。
一般用于研磨铜料等工件。
③硬木材。
用于研磨软金属。
④轴承合金（巴氏合金）。
常用于软金属的精研磨。
⑵研磨剂研磨剂由磨料、研磨液及辅料混合而成。
①磨料。
一般磨料有以下几种，见表11-1。
表11-1常见磨料特点及适用场合目前工厂常用的是氧化铝和碳化硅两种微粉磨料。
这种磨料的粒度号用W+阿拉伯数字表示。
其中W表示微粉，阿拉伯数字代表磨粒的最大尺寸。
例如W14表示磨粒尺寸为10～14μm的微粉原料。
②研磨液。
光有磨料不能进行研磨，还必须加配研磨液和辅助材料：常用的研磨液为10号机油、煤油和锭子油。
加配研磨液是为了使微粉能均匀地分布在研具表面，同时还可起冷却和润滑作用。
③辅助材料。
加配辅助材料的目的是使工件表面形成氧化膜，以加速研磨过程。
所以辅助材料必须采用黏度大和氧化作用强的物质，混合脂则能满足此要求。
常用的辅助材料有硬脂酸、油酸、脂肪酸和工业甘油等。
为了方便，一般工厂都是在微粉中加入油酸、混合脂（或黄油、凡士林）以及少量煤油配置而成研磨膏。
研磨和抛光的原理和作用
研磨和抛光的原理和作用
研磨和抛光是一种通过摩擦和磨削来改善物体表面质量和光洁度的工艺。
它们常用于金属、陶瓷、玻璃、塑料等材料的加工和表面处理中。
研磨的原理是利用磨料颗粒与被加工物体表面的相互作用，通过磨削去除表面的不平整、氧化层、污染物等，从而得到更加平整、光滑的表面。
研磨可以采用手工或机械方式进行，常用的工具有砂纸、砂轮、研磨机等。
在研磨过程中，磨料颗粒与物体表面之间的摩擦力会产生热量，因此需要适当的冷却润滑剂来降低摩擦热的影响。
抛光是在研磨的基础上进一步提高表面光洁度和亮度的工艺。
它通常使用细小的磨料颗粒和抛光剂来进行，通过不断地磨削和摩擦，消除微小的划痕和凹陷，使表面更加光滑。
抛光的过程可以手工进行，也可以使用抛光机等设备。
抛光常用于制造高精度光学元件、珠宝、汽车零部件等领域，以提高产品的外观质量和光学性能。
总而言之，研磨和抛光通过磨削、摩擦和磨料颗粒的作用，改善物体表面的平整度和光洁度，从而达到提高质量和美观的目的。
抛光机、研磨机、打磨机的区别
抛光机、打磨机、研磨机这三类型机械其实是完全分歧类型的机械, 很多人会发生混包括一些权威的平台都发生了混同的情况, 甚至同等认之.其实三者虽然原理相近, 也差多功能, 然则却存在较年夜的不同, 因为它们几乎不存在竞争的关系.下面我们将就三者的不同进行详细说明, 以方便我们进行识别.抛光机：东莞金铸机械主要采纳抛光轮摩擦配合抛光蜡使金属等概况到达光洁甚至镜面的效果.电念头带动装置在抛光机上的海绵或羊毛抛光盘高速旋转, 由于抛光盘和抛光剂共同作用并与待抛概况进行摩擦, 进而可到达去除漆面污染、氧化层、浅痕的目的.抛光机较研磨机和打磨机而言种类繁多, 年夜类主要分为手动抛光机和自动抛光机.手动抛光机种类较为单一, 主要就是一个机电和单轴组成配合抛光轮进行抛光.自动抛光机由于对效率的最求专业性更强, 针对分歧的产物就会有分歧的机械, 造成了自动抛光机种类较多.例：五金产物、平面类产物、圆管、方管等等产物概况抛光处置, 可以是金属概况究竟镜面的效果.是概况处置中可以到达最光亮的效果的一种加工设备.研磨机：又称震动研磨机, 通过工件与石子等研磨料摩擦减少工件概况毛刺、边刺的打磨方式, 多为滚筒式式外形设计.适用于中小尺寸工件的概况抛光、倒角、去除毛边、磨光、光泽打光处置, 处置后不破坏零件的原有形状和尺寸精度, 可消除零件内部应力, 并提高了零件概况光洁度、精度.例如, 目前最经常使用的有佛珠、小型压铸件、螺丝帽等产物的概况初步处置, 都需要用到这种震动研磨机.打磨机：按动力分类可分为气动打磨机和电动打磨机, 按机械规模可分为坐式打磨机和手提式打磨机.适用于铁板、木材、塑料, 轮胎业概况研磨, 船舶、汽车、磨具、航空业精细抛光, 去毛边, 除锈, 去油漆等作业.铁板、木板、熟料等一般用坐式打磨机, 而汽车、船舶等较年夜型概况打磨一般采纳手提式进行.通过上诉的了解我们不难发现, 在行业中我经常混淆的三种机械其实在加工领域上存在着巨年夜的不同, 我们在区分的时候也可以根据其具体加工领域或者说制品的最终效果来区别.抛光顾名思义是需要加工产物到概况光亮, 研磨则是对产物表皮的杂质和毛刺进行处置到达光滑, 打磨主要是让产物概况平整.。
模具制造工艺20.型腔的抛光和研磨,其它加工方法
5.2.5型腔的研磨和抛光模具型腔 (型芯)经切削加工后，表面上残留有切削痕迹。
为了去除切削加工痕迹和提高模具表面质量，需要对其进行研磨抛光。
抛光和研磨在型腔加工中所占工时比重很大，是提高模具质量的重要工序，它不仅对成形制件的尺寸精度，表面质量影响很大，也影响模具的使用寿命。
研磨抛光的方法主要有：机械研磨和抛光、超声波抛光和电解抛光，这里主要讲机械研磨和抛光原理和工艺方法，超声波抛光和电解抛光在学习单元六中讲。
一、研磨的原理和目的1．研磨的原理研磨是在工件和工具(研具)之间加入研磨剂，在一定压力下由工具和工件间的相对运动，驱动大量磨粒在加工表面上滚动、滑擦，去除微细的金属层而使加工表面的粗糙度减小。
研磨加工时，在研具和工件表面间存在有分散的磨料或研磨剂，在两者之间施加一定的压力，并使其产生复杂的相对运动，这样经过磨粒的切削作用及研磨剂的化学和物理作用，在工件表面上即可去掉极薄的一层余量，获得较高的尺寸精度和较低的表面粗糙度。
根据实验表明，磨粒的切削作用如图5-68a所示，分为滑动切削作用和滚动切削作用两类。
前者磨粒基本固定在研具上，靠磨粒在工件表面移动进行切削；后者磨粒基本上是自由状态的，在研具和工件间滚动，靠滚动来切削。
在研磨脆性材料时，除上述作用外，还有如图5-68b 所示的情况，磨粒在压力作用下，使加工面产生裂纹，随着磨粒的运动，裂纹不断地扩大、交错，以致形成碎片，成为切屑脱离工件。
图5-68 研磨时磨粒的切削作用研磨时的金属去除过程，除磨粒的切削作用外，还常常由于化学或物理作用所致。
在湿研磨时，所用的研磨剂中除了有磨粒外，还常加有油酸、硬脂酸等酸性物质，这些物质会使工件表面产生一层很软的氧化物薄膜，钢铁成膜时间只要0.05s，氧化膜厚度约2～7μm。
凸点处的薄膜很容易被磨粒去除，露出的新鲜表面很快地继续氧化，继续被去掉，如此循环，加速了去除的过程。
除此之外，研磨时在接触点处的局部高温高压，也有可能产生局部挤压作用，使高点处的金属流入低点，降低了工件表面粗糙度。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性，平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益，请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间：9:00-18:30)。
研磨与抛光的区别
很早以前看过这样一个报道，说是德国、日本等几个国家的科学家耗时5年时间，花了近千万元打造了一个高纯度的硅-28材料制成的圆球，这个1kg纯硅球要求超精密加工研磨抛光，精密测量（球面度，粗糙度，质量..），可谓是世界上最圆的球了。
关于这个圆球的故事
我们明天会具体的介绍一下
今天我们主要是想通过这个视频
来介绍一下超精密抛光工艺
我们经常把研磨和抛光放在一起讲，因为零件经过这两个工序的粗糙度已经十分小了。
首先咱们了解一下它们的区别。
研磨与抛光的区别
研磨利用涂敷或压嵌在研具上的磨料颗粒，通过研具与工件在一定压力下的相对运动对加工表面进行的精整加工。
研磨可用于加工各种金属和非金属材料，加工的表面形状有平面，内、外圆柱面和圆锥面，凸、凹球面，螺纹，齿面及其他型面。
加工精度可达IT5～IT1，表面粗糙度可达Ra0.63～0.01微米。
抛光是利用机械、化学或电化学的作用，使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法。
两者的主要区别在于：抛光达到的表面光洁度要比研磨更高，并且可以采用化学或者电化学的方法，而研磨基本只采用机械的方法，所使用的磨料粒度要比抛光用的更粗，即粒度大。
现代电子工业，超精密抛光是灵魂
超精密抛光技术在现代电子工业中所要完成的使命，不仅仅是平坦化不同的材料，而且要平坦化多层材料，使得几毫米见方的硅片通过这种‘全局平坦化’形成上万至百万晶体管。