X射线光电子能谱20150421
X射线光电子能谱
荷电效应
• 用XPS测定绝缘体或半导体时,由于光电子的连续发射而得不到 足够的电子补充,使得样品表面出现电子“亏损”,这种现象称 为“荷电效应”。 • 荷电效应将使样品出现一稳定的表面电势VS,它对光电子逃离有 束缚作用。
其中 ES=VSe 为荷电效应引起的能量位移,使得正常谱线向低动能端偏移, 即所测结合能值偏高。 荷电效应还会使谱锋展宽、畸变,对分析结果产生一定的影响。
位移。
对于半导体、绝缘体,在测量化学位移前应首先决定荷 电效应对峰位位移的影响。
化合态识别-光电子峰
Ti及TiO2中2p3/2峰的峰位及2p1/2和2p3/2之间的距离
化合态识别-光电子峰 C1s在不同化学状态下半峰高宽的变化
CF4
C6H6
CO
CH4
半峰高宽(eV)
0.52
0.57
0.65
0.72
荷电效应的来源主要是样品的导电性能差。
荷电电势的大小同样品的厚度、X射线源的工作参数等
因素有关。
实际工作中必须采取有效的措施解决荷电效应所导致的
能量偏差。
荷电效应的解决-中和法
制备超薄样品;
测试时用低能电子束中和试样表面的电荷,使Ec<0.1eV,
这种方法一方面需要在设备上配置电子中和枪,另一方面荷电效 应的消除要靠使用者的经验。
M5 M4 M3 M2 M1 L3 L2 L1 K
典型XPS谱
O 1s
Ti(CN)x/ Al film
X轴——电子束缚能或动能 Y轴——光电子的强度 N(E)/E
Counts [a.u.]
Ti 2p
N 1s
x射线光电子能谱
x射线光电子能谱X射线光电子能谱技术(XPS)是电子材料与元器件显微分析中的一种先进分析技术,而且是和俄歇电子能谱技术(AES)常常配合使用的分析技术。
由于它可以比俄歇电子能谱技术更准确地测量原子的内层电子束缚能及其化学位移,所以它不但为化学研究提供分子结构和原子价态方面的信息,还能为电子材料研究提供各种化合物的元素组成和含量、化学状态、分子结构、化学键方面的信息。
它在分析电子材料时,不但可提供总体方面的化学信息,还能给出表面、微小区域和深度分布方面的信息.另外因为入射到样品表面的X射线束是一种光子束,所以对样品的破坏性非常小。
这一点对分析有机材料和高分子材料非常有利。
以X射线为激发光源的光电子能谱,简称XPS或ESCA处于原子内壳层的电子结合能较高,要把它打出来需要能量较高的光子,以镁或铝作为阳极材料的X射线源得到的光子能量分别为1253.6电子伏和1486.6电子伏,此范围内的光子能量足以把不太重的原子的1s电子打出来。
周期表上第二周期中原子的1s电子的XPS谱线见图1。
结合能值各不相同,而且各元素之间相差很大,容易识别(从锂的55电子伏增加到氟的694电子伏),因此,通过考查1s的结合能可以鉴定样品的化学元素。
除了不同元素的同一内壳层电子(inner shell electron)(如1s电子)的结合能各有不同的值而外,给定原子的某给定内壳层电子的结合能还与该原子的化学结合状态及其化学环境有关,随着该原子所在分子的不同,该给定内壳层电子的光电子峰会有位移,称为化学位移(chemical shift)。
这是由于内壳层电子的结合能除主要决定于原子核电荷而外,还受周围价电子的影响。
电负性比该原子大的原子趋向于把该原子的价电子拉向近旁,使该原子核同其1s 电子结合牢固,从而增加结合能。
如三氟乙酸乙酯CF3COOC2H5中的四个碳原子分别处于四种不同的化学环境,同四种具有不同电负性的原子结合。
由于氟的电负性最大,CF键中碳原子的C(1s)结合能最高(图2)。
X射线光电子能谱
XPS 特点及实验方法
• 一般是把粉末样品粘在双面胶带上, • 块状样品可直接夹在样品托上或用导电胶带粘在样
品托上。 其它方法:
1.压片法:对疏松软散的样品可用此法。 2.溶解法:将样品溶解于易挥发的有机溶剂中,然 后将其滴在样品托上让其晾干或吹干后再进行测量。 3.研压法:对不易溶于具有挥发性有机溶剂的样品, 可将其少量研压在金箔上,使其成一薄层,再进行 测量。
西)人,因吉州原属庐陵郡,因此他又以“庐陵欧阳修”自居。谥号文忠,世称欧阳文忠公。北宋政治家、文学家、史学家,与韩愈、柳宗元、王安石、苏洵、苏轼、苏辙、曾巩合称“唐宋八大家”。后人又将其与韩愈、柳宗元和苏轼合称“千古文章四大家”。
关于“醉翁”与“六一居士”:初谪滁山,自号醉翁。既老而衰且病,将退休于颍水之上,则又更号六一居士。客有问曰:“六一何谓也?”居士曰:“吾家藏书一万卷,集录三代以来金石遗文一千卷,有琴一张,有棋一局,而常置酒一壶。”客曰:“是为五一尔,奈何?”居士曰:“以吾一翁,老于此五物之间,岂不为六一乎?”写作背景:宋仁宗庆历五年(1045年),
面化学性质的变化(如氧化还原反应)。 ③ 擦磨、刮剥和研磨。对表理成分相同的样品可用
SiC(600#)砂纸擦磨或小刀刮剥表面污层;对粉末样 品可采用研磨的方法。 ④ 真空加热。对于能耐高温的样品,可采用高真空 下加热的办法除去样品表面吸附物。 ⑤ XPS的灵敏度很高,待测样品表面,绝对不能用 手接触。
• 电子结合能是体系的初态原子有n个电子和终态原子有 n-1个电子(离子)和一自由光电子间能量的简单差 Eb = E(n-1)–E(n)
• 如果原子的初态能量发生变化,例如,与其它原子化学 成键,则此原子中的电子结合能Eb就会改变,Eb的变化 Δ Eb称为化学位移。
第八章-X射线光电子能谱(XPS)
3.俄歇电子能谱法(AES)是用具有一定能量的电子束(或X射 线)激发样品俄歇效应,通过检测俄歇电子的能量和强度, 从而获得有关材料表面化学成分和结构的信息的方法。
4. X射线光电子能谱法(XPS),采用能量为1000~1500eV 的X射线源,能激发内层电子, 使物质光电离、光电子发 射,研究其激发过程及其能量关系,各种元素内层电子的 结合能是有特征性的,因此可以用来鉴别化学元素。又称 为化学分析用电子能谱法(ESCA)。
KE = hv - BE
3 元素不同,其特征的电子键能不同。测量电子动能KE , 就得到对应每种元素的一系列BE-光电子能谱,就得到 电子键能数据。
4 谱峰强度代表含量,谱峰位置的偏移代表价态与环境的 变化-化学位移。
Ag的光电子能谱图(MgK激发)
➢ Core level electrons are ejected by the xray radiation
X射线
K1 K2 K’ K3 K4 K5 K6 K
Mg 靶
能量(eV)
相对强度
1253.7
67.0
1253.4
33.0
1258.2
1.0
1262.1
9.2
1263.1
5.1
1271.0
0.8
1274.2
0.5
1302.0
2.0
Al 靶
能量(eV)
相对强度
1486.7
67.0
1486.3
33.0
1492.3
2p 2s
发射出的光电子Ejected Photoelectron
Free Electron Level Fermi Level
L2,L3 L1
X射线能谱、X射线光电子能谱(XPS)
X射线能谱、X射线光电子能谱(XPS)在通常的光谱方法中,主要研究光和物质的相互作用后产生的光信息。
在电子能谱法中,却采用单色光源(如X射线、紫外光)或电子束去照射样品,使其电子受到激发而发射出来,然后测量这些这些电子的能量关系及其强度的关系,从中获得有关信息。
根据激发能源的不同,可以得到不同的电子能谱法。
用X射线作为激发源的称X射线光电子能谱法(X-ray photoctron spectorscopy ,XPS)。
用紫外光作为激发源的称为紫外光电子能谱法(UV photoctron spectorscopy,UPS)。
若用电子束或X射线作为激发源测量样品激发后产生的俄歇电子,成为俄歇电子能谱法(anger electron spectroscopy,AES)。
近年来,X射线光电子能谱法在化学分析中得到了广泛的应用,因此它又称为化学分析用电子能谱法(electron spectroscopy for chemical analysis 简称为ESCA)。
目前,电子能谱法已在化学、物理、生物等各个领域中得到广泛应用,并逐渐显示出它在表面分析和结构鉴定中的巨大潜力。
基本原理:光电效应基本组成:真空室、X射线源、电子能量分析器辅助组成:离子枪主要功能:成分分析、化学态分析采谱方法:全谱、高分辨率谱分析方法:定性分析、定量分析表面组成:包括表面元素组成、化学价态及其在表层的分布等,后者涉及元素在表面的横向及纵向(深度)分布;表面结构包括表面原(分)子排列等;表面电子态包括表面能级性质、表面态密度分布、表面电荷密度分布及能量分布等;表面形貌指“宏观”外形,当分析的分辨率达到原子级时,可观察到原子排列,这时表面形貌分析和表面结构分析之间就没有明确的分界。
表面分析技术的特点:是用一个探束(电子、离子、光子或原子等)入射到样品表面,在两者相互作用时,从样品表面发射及散射电子、离子、中性粒子(原子或分子)与光子等。
X射线光电子能谱(XPS)
X射线光电子能谱(XPS)X射线光电子能谱是利用波长在X射线范围的高能光子照射被测样品,测量由此引起的光电子能量分布的一种谱学方法。
样品在X射线作用下,各种轨道电子都有可能从原子中激发成为光电子,由于各种原子、分子的轨道电子的结合能是一定的,因此可用来测定固体表面的电子结构和表面组分的化学成分。
在后一种用途时,一般又称为化学分析光电子能谱法(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis,简称)。
与紫外光源相比,X射线的线宽在以上,因此不能分辨出分子、离子的振动能级。
此外,在实验时样品表面受辐照损伤小,能检测周期表中除和以外所有的元素,并具有很高的绝对灵敏度。
因此是目前表面分析中使用最广的谱仪之一。
7.3.1 谱图特征图7.3.1为表面被氧化且有部分碳污染的金属铝的典型的图谱。
其中图(a)是宽能量范围扫描的全谱,主要由一系列尖锐的谱线组成;图(b)则是图(a)低结合能端的放大谱,显示了谱线的精细结构。
从图我们可得到如下信息:1.图中除了和谱线外,和两条谱线的存在表明金属铝的表面已被部分氧化并受有机物的污染。
谱图的横坐标是轨道电子结合能。
由于X射线能量大,而价带电子对X射线的光电效应截面远小于内层电子,所以主要研究原子的内层电子结合能。
由于内层电子不参与化学反应,保留了原子轨道特征,因此其电子结合能具有特定值。
如图所示,每条谱线的位置和相应元素原子内层电子的结合能有一一对应关系,不同元素原子产生了彼此完全分离的电子谱线,所以相邻元素的识别不会发生混淆。
这样对样品进行一次宽能量范围的扫描,就可确定样品表面的元素组成。
2.从图7.3.1(b)可见,在和谱线高结合能一侧都有一个肩峰。
如图所标示,主峰分别对应纯金属铝的和轨道电子,相邻的肩峰则分别对应于中铝的和轨道电子。
这是由于纯铝和中的铝所处的化学环境不同引起内层轨道电子结合能向高能方向偏移造成的。
这种由于化学环境不同而引起内壳层电子结合能位移的现象叫化学位移。
X射线光电子能谱法
如下表由此可进行元素相对定量分析添加zro前后催化剂表面元素分析催化剂表面元素摩尔分数相对摩尔比cuznalcuzncualcop112951078962120135samp101349921550146245催化剂4auger电子峰由于auger峰与激发源能量无关可通过改变激发源光电子谱峰发生位置变化而auger峰位置不变即可分由于特定元素的auger谱线能量也是特定的所以auger峰经电子微分线路处理后可以进行元素的定性分析
(3)元素的特征峰强度 两种元素i,j原子比
ni/nj=Ii/Ij·Sj/Si
其中 Ii、Ij为元素相应特征峰的峰面积; Sj/Si为元素i,j相应特征峰的灵敏度因子比,其与基 体无关。 适用于含该原子的所有材料,可由标样实验得出。如下表 由此可进行元素相对定量分析
添加ZrO2前后催化剂表面元素分析
添加ZrO2前后CuZnAlO催化剂Cu2p3的XPS窄扫描谱图
(2)元素的特征峰——最强光电子线 每种元素的原子各个能级对应一个特征峰; 每种元素的原子都有1、2个代表自己的最强特征峰,其 为该元素的主峰;如Ag3d 研究发现,各种元素的最强特征峰很少重叠; 根据最强特征峰出现的位置进行元素定性分析
2.2 光电子能量公式 由能量分配图可得:
hv = Eb + Ws + Ek
Eb Ws Ek
电子结合能,即相应轨道上的电子结合能 样品逸出功 电子动能
由接触电势机理图可得: Ws - Wi= e(Vi-Vs)=Ek‘ – Ek 即 Ws + Ek = Wi + Ek’
可得 实用的光电子能量公式如下: Eb = hv - EK’ - Wi
4.2 价态分析
依据:元素原子内层光电子峰的化学位移和峰形变化。 e.g. Pd/C催化剂在Ar+刻蚀前后的XPS谱图图 结论:刻蚀后Pd3d向低能端位移,且峰形变窄,说明刻蚀 后Pd从氧化态向金属态过渡。 局限性:对于化学位移不大的体系(<0.5eV),谱峰仅发生 宽化;对虽有一定程度的位移,但变价原子含量较低的 体系,也不易区分。
X射线光电子能谱及其应用简介
2021/10/10
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电子能谱仪简介
电子能谱仪主要激发源、电子能量分析器、探 测电子的监测器和真空系统等几个部分组成。
2021/10/10
hv=Ek+Eb+Φ
即Eb= hv- Ek-Φ
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XPS的基本原理
化学位移 1. 定义
由于化合物结构的变化和元素氧化状态的变化引起谱峰 有规律的位移称为化学位移
2. 化学位移现象起因及规律 (1)原因
内层电子一方面受到原子核强烈的库仑作用而具有一定 的结合能,另一方面又受到外层电子的屏蔽作用。因而元素 的价态改变或周围元素的电负性改变,则内层电子的结合能
2、降低活性残余气体的 分压。因在记录谱图所 必需的时间内,残留气 体会吸附到样品表面上, 甚至有可能和样品发生 化学反应,从而影响电 子从样品表面上发射并 产生外来干扰谱线。
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XPS应用
表面元素定性分析
计数/ 任意单位
这是一种常规分析方法,一般利用 XPS谱仪的宽扫描程序
首先考虑消除荷电位移
O 1s
Ti(CN)X/Al 薄膜
C 1s
Ti 2p N 1s
Al 2ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ Al 2p
对于绝缘样品,必须进行校准
一般来说,只要该元素存在,其所有 的强峰都应存在
600
500
400
300
200
100
0
结合能/eV
高纯Al基片上沉积的Ti(CN)x薄膜的XPS谱 图,激发源为MgKα
X射线光电子能谱
实验技术X 射线光电子能谱3郭 沁 林(中国科学院物理研究所 北京凝聚态物理国家实验室 北京 100080)摘 要 X 射线光电子能谱(X 2ray phot oelectr on s pectr oscopy,XPS )技术也被称作用于化学分析的电子能谱(elec 2tr on s pectr oscopy for che m ical analysis,ESC A ).XPS 属表面分析法,它可以给出固体样品表面所含的元素种类、化学组成以及有关的电子结构重要信息,在各种固体材料的基础研究和实际应用中起着重要的作用.文章简要介绍了XPS 仪器的工作原理和分析方法,并给出了XPS 在科学研究工作中的应用实例.关键词 X 射线光电子能谱(XPS ),电子能谱,表面分析X 2ray photoelectron spectroscopy3G UO Q in 2L in(B eijing N ational L aboratory for Condensed M atter Physics,Institute of Physics,Chinese A cade m y of Sciences,B eijing 100080,China )Abstract X 2ray photoelectron s pectroscopy (XPS ),als o called electron s pectroscopy for chem ical analysis (ESCA ),is widely used both in basic research and in analysis of materials,particularly in surface analysis .U 2sing XPS we can obtain infor mation on the elemental surface compositi on (excep t for H and He ),and the elec 2tr onic structure of the materials involved .This paper will briefly review the p rinci p le of XPS,basic qualitative and quantitative data analysis methods,and s ome app licati on examp les .Keywords X 2ray phot oelectron spectroscopy (XPS ),electr on s pectr oscopy,surface analysis3 国家自然科学基金(批准号:10574153)资助项目2007-03-08收到 Email:qlguo@aphy .i phy .ac .cn1 引言自德国物理学家伦琴1895年发现X 射线以来,与其有关的分析技术不断问世,X 射线光电子能谱(X 2ray phot oelectr on s pectr oscopy,XPS )分析法就是其中的一种,它在材料的基础研究和实际应用中都起着非常重要的作用.当X 射线与样品相互作用后,激发出某个能级上的电子,测量这一电子的动能,可以得到样品中有关的电子结构信息,这就是XPS 方法的最简单描述.XPS 的早期实验室工作可追溯到上世纪40年代.到了60年代末,出现了商品化的XPS 仪器.随着真空技术的发展,1972年有了超高真空的XPS 仪器.在XPS 的研发过程中,瑞典Upp sala 大学的Siegbahn K M 教授作出了特殊的贡献,为此他获得了1981年的诺贝尔物理学奖.物质的物理、化学性质与原子排列和电子结构紧密相关,同样的碳元素由于组成分子的结构不同而形成不同性质的石墨或金刚石就是很好的实例.应用XPS 技术,可以测出固体样品中的元素组成、化学价态,得到许多重要的电子结构信息.XPS 在金属、合金、半导体、无机物、有机物、各种薄膜等许多固体材料的研究中都有很多成功应用的实例.本文简要介绍XPS 的基本工作原理、数据分析(包括定性和定量分析的主要依据)要点,并给出一些测试分析和研究实例.2 X 射线光电子能谱(XPS )原理简介XPS 是测量电子能量的谱学技术[1—3].我们知道,原子是由原子核及绕核运动的电子组成.电子在一定的轨道上运动,并具有确定的能量.当一束有足够能量(hν)的X 射线照射到某一固体样品(M )上时,便可激发出某原子或分子中某个轨道上的电子,使原子或分子电离,激发出的电子获得了一定的动能E k ,留下一个离子M +.这一X 射线的激发过程可表示如下:M +h ν→M ++e -,e -被称为光电子.若这个电子的能量高于真空能级,就可以克服表面位垒,逸出体外而成为自由电子.图1(a )给出了这一过程的示意图.光电子发射过程的能量守恒方程为E K =hν-E B ,式中E K 为某一光电子的动能,E B 为结合能.这就是著名的爱因斯坦光电发射方程,它是光电子能谱分析的基础.在实际分析中,采用费米能级(E F )作为基准(即结合能为零),测得了样品的结合能(BE )值,就可判断出被测元素.由于被测元素的BE 变化与其周围的化学环境有关,根据这一变化,可推测出该元素的化学结合状态和价态.图1 (a )X 射线引发的芯能级电离;(b )俄歇电子产生过程在X 射线引发的芯能级电离过程中,还涉及到俄歇(Auger )电子的发射,如图1(b )所示.样品由于X 射线的入射而产生电离,在电离的过程中,某壳层形成空穴,当邻近轨道的电子填充这个空穴时,多余的能量又将某轨道上的另一个电子击出,这就是俄歇电子.这一电子是Auger P 在1925年的X 射线实验中发现的[4].可见,俄歇电子涉及到3个能级,其动能取决于元素的种类.图1(b )中表示的是电离过程中在K 壳层形成空穴,L 壳层的电子向空位跃迁时,释放的能量将邻近轨道的另一个电子击出,此过程即K L 1L 23俄歇电子的发射过程,可简写为K LL,依此类推.在XPS 分析中常用到俄歇电子,在专用的俄歇电子能谱中,俄歇电子可用作元素鉴定,且迅速准确.图2给出XPS 仪器的简单示意图.当具有一定能量的X 射线与物质相互作用后,从样品中激发出光电子,带有一定能量的电子经过特殊的电子透镜到达分析器,光电子的能量分布在这里被测量,最后由检测器给出光电子的强度.由PC 机组成的数据系统用于收集谱图和数据处理.由于电子能谱中所测的电子动能在电子伏特(e V )范围,电子从样品到达分析器之间不能与任何物质相互作用,这就需要包括各种真空泵在内的高真空或超高真空系统[5].图2的虚线范围内表示系统必须在真空条件下工作.在实际测量中,真空一般在10-8—10-11mbar 范围.XPS 通常用A l 或Mg 靶作为X 射线源(其能量分别是1486.6e V 和1253.6e V ),用以激发元素各壳层(内壳层和外壳层)的电子.同步辐射源也常用作XPS 的入射源.由于X 射线不能聚焦,早期的XPS 仪器空间分辨率较差.随着科学技术的飞速发展和仪器厂商对新技术的开发应用,近年来XPS 的空间分辨率有很大的提高,可以到几个微米.用XPS 可以对选定的某一元素进行图像扫描,即给出化学相,得到元素的空间分布情况.XPS 技术对样品的损伤很小,基本是无损分析.但是,在X 射线的长时间照射下,可能引发元素的价态变化,在实际工作中应引起足够的重视.XPS 所探测的样品深度受电子的逃逸深度所限,一般在几个原子层,故属表面分析方法.图2 XPS 工作示意图3 X 射线光电子能谱定性分析3.1 光电子能谱主线具有足够能量的X 射线与样品相互作用时,可以将元素中不同轨道上的电子同时激发,在XPS 谱实验技术图中表现出系列谱线,如图3给出的是以Mg Kα(h ν=1253.6e V )为X 射线源的金属银(Ag 的电子构型是1s 22s 22p 63s 23p 63d 104s 24p 64d 105s 1)表面的XPS 全谱图.XPS 谱图的横坐标通常以BE 给出,纵图3 Ag 的XPS 全谱图坐标是强度,一般以计数/秒(C /s )为单位(图3中纵坐标强度为任意单位).在图3的XPS 谱图中,可以看到一系列的谱线,它们分别对应于各自的不同电子轨道,其中强度最高的3d 5/2谱线被称为Ag 的主线,它是元素定性的主要依据.一般情况下,来自同一壳层的光电子,总角量子数越大,谱线的强度越大.常见的强光电子线有1s,2p 3/2,3d 5/2,4f 7/2,5d 5/2等.除了强光电子线以外,还有来自原子其他壳层的光电子线,这些光电子线比起它们的最强光电子线来说都要弱一些,在元素定性分析中起着辅助的作用.XPS 的谱线数据有标准手册可查[6],主线的BE 值在定性中起着关键作用.手册中给出的标准谱图主要来自单元素.在多元素的情况下,被测主线可能会与其他谱线重合,这时可以用次主线.在实际应用中,所测样品并非单元素标准样品,标准手册中的数据往往不够用,需查找文献或测量已知样品以作对比.在图3中,还可以看到Ag 的MNN 俄歇电子峰(在880—1000e V 区间),俄歇电子在实际的谱图分析中非常有用.3.2 多重分裂线从原子内层发射出来的光电子是自旋相反的一对电子中的一个,因而可以至少采取两种方式形成空穴,留下一个未成对的电子.若外层电子轨道上原来就有未成对的电子,其自旋方向正好与光电离后新产生的内层未配对电子的自旋方向相反,就会产生自旋耦合,使能量降低;如果二者自旋平行,则有较高的能量状态.光电离产生的未配对电子的自旋方向可能平行,也可能相反,可取两种终态,导致光电子线的多重分裂.多重分裂可以发生在不同的轨道.对不同的元素,多重分裂的距离也不相同,而且还与元素的化学环境有关.过渡金属元素常常可以通过主要分裂线(2p 1/2和2p 3/2,3d 3/2和3d 5/2等)的能级间距、能量位置和谱线的形状来进行化学态的鉴定.3.3 能量损失线部分光电子在超越固体表面的过程中,不可避免地要经历各种非弹性散射,因而损失能量,其结果是在XPS 谱图上主峰低能端出现不连续的伴峰,称之为能量损失线.当光电子能量约在100—1500e V时,它经历的非弹性散射的主要方式是激发固体中自由电子的集体振荡,产生等离激元(p las mon ).它的频率为ωp =(4πn e e 2/m e )1/2,式中n e 为材料的价电子密度,m e 为电子的质量,e 为电子电荷.这种形式振荡的能量是量子化的,其能量E p =ωp .对一般金属,n e =1023,ωp ≈1017/s,ωp ≈10e V,由此可见,等离激元所造成的光电子能量损失是相当大的.在光电发射中,还存在表面等离激元损失,其振荡频率为体内等离激元振荡的1/2,即E s =E p /2.近年来,在金属纳米颗粒的研究中发现,表面等离子的能量随纳米颗粒形状和尺寸的变化而位移.3.4 价电子线在费米能级(BE =0)到BE 为15e V 之间的能量范围产生的光电子线往往是来自分子或原子的价电子轨道.由固体的价带上产生的光电子,被称为价电子线.它们往往因强度低和信号弱而被忽视,紫外光电子能谱(UPS )是分析价电子态的主要方法.近年来,用XPS 研究有机化合物和聚合物的工作不断增加,它们的价电子谱愈来愈引起人们的关注,并认为以XPS 分析价电子较之UPS 有更多的优点.3.5 伴峰———X 射线卫星线和携上线常用的X 射线源(阳极材料)是Mg 或A l Kα1,2,其中混杂有K α3,4,5,6和K βX 射线,分别由阳极材料原子中的L 2和L 3能级上的6个状态不同的电子和M 壳层的电子跃迁到K 层上产生的荧光X 射线效应,统称为X 射线家族射线.样品原子在受实验技术到X射线照射时,除了发射特征X射线所激发的光电子外,家族中其他X射线也同样能激发光电子,这些光电子往往有较高的动能,因而在光电子主线的结合能的低能端产生强度较小的伴峰,即卫星线.卫星线离光电子主线的距离和谱线的强度因阳极材料的不同而异.携上线是光激发与光电离作用同时发生的现象.由于内层电子的光电发射引起终态弛豫,常导致外层电子的激发.这种激发使X射线源的光子除了使用较大的能量激发出内层光电子外,还有一部分能量被原子吸收,使另一壳层的电子激发到更高能级的壳层.携上线对应的光电子的动能比正常的光电子的动能低.在光电子主线的结合能的高能端,离主线约几个电子伏特的能量位置产生携上峰.携上现象在顺磁性化合物中很普遍,有的携上线的强度甚至可以同光电子能谱的主线相比拟,有时还可能有多个携上线出现.在CuO样品中观测到的Cu2p 谱线所伴随的携上峰就是一个典型实例.3.6 化学位移和俄歇参数原子在不同的化学环境下引起的某能级上的电子结合能位移被称为化学位移.有几种模型可以描述化学位移,如离子型化合物模型、电荷势能模型和等效原子核模型等.有兴趣的读者可以进一步阅读有关的专著[1—3].在XPS中,常伴有俄歇电子的发射.当俄歇跃迁不涉及价带电子时,由于化学环境不同,内壳层电子能级发生微小的变化,造成俄歇电子能量有微小的变化,即谱图上的峰位有微小的移动,这也是化学位移.如果俄歇跃迁涉及价带电子,当化学环境变化时,情况就更加复杂,不仅俄歇峰的能量会发生位移,而且峰形也会有变化.俄歇电子从产生处到表面的逸出过程中,由于能量损失引起低能侧出现伴峰,这种效应有时也与化学环境有关.在实际分析中,引入一个俄歇参数α,定义为最锐的俄歇谱线的动能(EK )与光电子谱主线的结合能(EB)之和,即:α=EK+E B.α在某些元素的价态分析中起重要作用,如Cu和Cu2O的BE(Cu2p)值比较接近,但它们的α值相差约2e V,很容易辨别.4 X射线光电子能谱定量分析XPS的定量分析较为复杂,其光电子峰的强度受到许多因素的影响,主要涉及分析器的传输率、仪器常数、元素中某轨道的角度不对称因子、原子轨道的光电离截面、元素在一定深度区间的浓度、电子的非弹性平均自由程、所测光电子与表面法线间的出射角等因素.例如,在Perkin-El m er公司出版的数据分析用标准手册中[6],光电子峰的面积强度I可以表示为I=nfσθyλA T,式中n为在每立方厘米体积样品中某元素的原子数目,f为每平方厘米上的X射线光强,σ为原子轨道的光电截面,θ为入射光和被测电子间的角度有效因子,y为光电子的光电过程效率,λ为非弹性平均自由程,A为所测样品的面积,T为电子的检测效率.在实际分析中,常用到原子的灵敏度因子S,上式可以写成:I=nfσθyλA T=nS.在XPS的标准手册中,给出了各元素中最强峰的S 值,当计算表面不同元素的比值时,可用下式:n1n2=I1/S1I2/S2;当计算某元素在表面的百分原子含量cx时,则用下式:c x=n x∑in i=I x/S x∑iI i/S i.不同原子的S值可在标准手册中查到,在实际应用中,要注意不同型号仪器给出的S值有所不同.电子从表面层逸出的深度与该电子的动能有关.假设样品的表面垂直于分析器,电子的逃逸深度是d,改变样品的角度(固定X射线和分析器),也就改变了样品的探测深度(见图4),利用这一点可以对超薄膜样品的厚度进行测量.图4 样品的角度变化改变表面测量深度实验技术5 X射线光电子能谱应用实例5.1 Cu在V2O3(0001)薄膜表面的生长我们在超高真空条件下,以Mo(110)为衬底制备出了5—8n m厚的钒氧化物薄膜[7,8,9],并用XPS 和其他分析方法对此薄膜进行了原位表征.图5给出了这一薄膜的XPS区间扫描图,BE值为515.3 e V和530.0e V的谱峰分别来自V2p3/2和O1s发射,在BE值约522e V的位置时,可以明显地观察到一个不对称的宽峰,这是V2p1/2和O1s的X射线卫星峰叠加所致,与XPS标准手册上的数据对比后,可以认定所制得的薄膜是V2O3.用低能电子衍射法观测到薄膜表面属1×1六方对称结构,证明薄膜是以(0001)面生长的有序V2O3.在此基础上,将Cu原子在UHV中沉积在V2O3(0001)薄膜表面,用XPS方法检测了Cu2p电子的结合能随Cu含量在表面不断增加时的谱图变化(见图6),实验结果证明,Cu在表面以类单层加岛状模式生长.图6中的谱线从下到上表示Cu沉积量不断增加,最下面的Cu含量只有百分之几的Cu单层量.可以看出,Cu 2p3/2和Cu2p1/2的BE值随Cu的含量增加没有明显的变化.但从图7的俄歇参数随Cu含量增加的能量变化可以看到,在Cu含量低的时候有明显的不同.数据分析表明,随着Cu含量的增加,表面的Cu聚集成大的颗粒,逐渐趋于体相的性质.在Cu的含量较低时,Cu与基底的氧发生相互作用,Cu以一价(Cu1+)存在.当Cu的含量在表面大于一定的量时, Cu以金属态(Cu0)存在.用低能电子衍射还观测到Cu在V2O3(0001)表面以(111)面取向水平旋转30°外延生长.这一研究对了解Cu与V2O3(0001)之间的界面信息很有帮助.5.2 Ce O2(111)和Ce2O3(0001)的氧化还原机理研究Ce O2是非常重要的氧化物材料,它被广泛应用于电子器件、陶瓷、玻璃,化工和催化等许多领域.我们在超高真空条件下成功地制备出了有序二氧化铈(Ce O2(111))薄膜,并用X射线光电子能谱仪深入地研究了该薄膜在不同温度和不同氧压下的还原、氧化过程[10].图8中的曲线a是Ce O2(111)薄膜在加热前的XPS谱图.在真空条件下,将样品加热至1000K时,会导致表面的Ce(I V)还原到Ce(III) (图8中的曲线b),而在700K氧气氛下,又可使Ce图5 氧化钒的XPS谱图图6 Cu/V2O3(0001)/Mo(110)的XPS谱图图7 随Cu含量增加引起的Auger参数变化(III)氧化至Ce(I V)(图8中的曲线c).它的氧化还原机理源于样品中晶格氧在不同条件下的释放与储存.非常有趣的是,用低能电子衍射方法观测到以上不同价态的样品具有同样的二维对称衍射斑点,都属于六方对称表面结构.实际上,这一过程可引起表实验技术面结构在Ce O 2(111)与Ce 2O 3(0001)之间相互转变.可见,样品的深入分析研究还需配合其他分析技术.不同价态和不同结构的样品有截然不同的物理和化学性质.这一研究成果有助于在原子结构层次上对氧化铈的物理、化学性质进行解释,有助于新材料的研制与开发.图8 氧化铈的Ce 3d 芯电子XPS 谱图6 结束语XPS 能快速测量除H 和He 以外的所有元素,且基本属于无损分析.XPS 分析技术能给出样品的元素组成、化学价态以及有关的电子结构重要信息,在固体材料的制备和表征中起着重要的作用.但受多种因素的影响,XPS 的灵敏度和空间分辨率还不够高,其定量分析的准确性较差.另外,XPS 仪器必须在超高真空条件下工作,要用到真空系统和各种真空泵,仪器价格昂贵.因真空条件和电子的特性所限,分析的样品只能是低蒸汽压的无磁固体材料.由于XPS 是表面分析方法,样品的表面处理和制备对实验结果有很大的影响.在真空中配合离子刻蚀技术,可以对所测样品进行深度剖析,但离子束对样品的破坏应引起足够的重视.在实际应用中,结合多种探测技术(如用X 射线衍射法分析样品的结构形式,用各种电镜和扫描隧道微探针分析法观测表面形貌),对未知样品进行综合分析和研究尤为重要,只有对样品进行全面的了解和探究,才能为新材料的研制提供有价值的信息.参考文献[1]陆家和,陈长彦.表面分析技术.北京:电子工业出版社,1987[Lu J H,Chen C Y .Surface Analysis Techniques .Bei 2jing:Publishing House of Electr onics I ndustry,1987][2]B riggs D (桂琳琳等译).X 射线与紫外光电子能谱.北京:北京大学出版社,1984[B riggs D.Handbook of X 2ray andU ltravi olet Phot oelectr on S pectr oscopy .Heyden &Son L td,1977][3]B riggs D,Seah M P .Practical Surface Analysis,Vol .1,Au 2ger and X -ray Phot oelectr on Spectr oscopy .2nd Editi on,John W iley &Sons,Salle +Sauerl nder,1990[4]Auger P .J.Phys .Radium,1925,6:205[5]W utzM ,Adam H,W alcherW.Theory and Practice of Vacu 2um Technol ogy .Friedr .V ie weg &Sohn,B raunschweig/W ies 2baden,1989[6]Moudler J F,Stickle W F,Slbol P E et al .Handbook of X 2rayPhot oelectr on Spectr oscopy .Perkin 2El m er,Eden Prairie,MN,1992[7]Xiao W ,Xie K,Guo Q et al .Journal of Physical Che m istry B,2002,106:4721[8]Guo Q,Ki m D Y,Street S C et al .J.Vac .Sci .Technol .A,199917:1887[9]Guo Q,W ang E G .Science and Technol ogy of Advanced Ma 2terials,2005,6:795[10]Xiao W ,Guo Q,W ang E G .Che m ical Physics Letters,2003,368:527・物理新闻和动态・对安第斯山脉形成的探索地球上所有的地壳活动都是由地壳上“潜没地带”所引起的,所谓“潜没地带”是指一个板块受力可下降到地幔内另一个板块之下的地区.最近,澳大利亚国立大学的地球物理学家W.Schellart 教授领导的一个研究组开展了对真正意义上的三维潜没地带随时间运动的计算机模拟研究.他们收集从动力学、地震和化学中得到的大量现代数据采用流体力学和固体力学的方程将它外推到4千万年以前,再建立一定的模型对地壳板块间的运动进行计算.他们发现板块间的侧向距离可影响潜没地带的运动和形状,主要表现在两个方面,一是两板块相遇时地沟的曲率,另一个是潜没地带在碰到侵蚀时的变化趋势.当两板块的侧距处于300—1200公里的范围时,地沟边界处的曲率呈凹形,且侵蚀风化得很快.若两板块间的侧距大于4000公里时,地沟边界处的曲率是凸形,且侵蚀风化很慢.计算还表明,潜没地带的中心处在五百万年到一千万年间是在不断地升高的.在地球上具有这种特征的地区是南美玻利维亚附近的Nazca 板块的运动.W.Schellart 教授研究组的模拟计算发现,南美地区受到很强的压力,促使南美板块向西发生运动.这可能就是在2亿年前开始的安第斯山脉形成的原因.(云中客 摘自Nature,2007,446:308)。
X射线光电子能谱
基本概念
结合能(Binding Energy) -----原子能级中电子的结合能, 其值等于把电子从 所在的能级转移到Fermi能级时所需的能量
化学位移(Chemical shift) -----原子的内壳层电子结合能随原子周围化学环境 变化的现象
X射线光电子能谱仪的基本构造
s壳层不发生自旋分裂 p,d,f壳层分裂成两个能级 谱图上是单峰 在谱图上出现双峰.
两峰的面积比一般为
2p1/2 2p3/2 = 1 2 3d3/2 3d5/2 = 2 3 4f 5/2 4f7/2 = 3 4
4500
N1s
Intensity / a.u.
4000
样品 光电子 能量 分析器
探测器 X射线源 AlK或MgK 超高真空系统 优于10-9Torr
数据处理 系统
Kratos AXIS ULTRA 光电子能谱仪
特点 :
⑴固体样品用量小,不需要进行样品前处理,从而 避免了引入或丢失元素所造成的误分析 ⑵表面灵敏度高,一般信息深度5nm ⑶分析速度快,可多元素同时测定 ⑷可以给出原子序数3-92的元素信息,以获得元素 成分分析 ⑸可以给出元素化学态信息,进而可以分析出元素 的化学态或官能团 ⑹样品不受导体、半导体、绝缘体的限制等 ⑺是非破坏性分析方法。结合离子溅射,可作深度 剖析
880
860
840
820
800
780
Binding Energy / eV
克服荷电效应的方法:
把样品制成尽可能薄的薄片 把非导电样品与导电样品紧密混合 在样品表面蒸镀极薄的导电层 在样品室安装低能电子中和枪
校正荷电效应的方法:
现代材料分析测试技术第12章X射线电子能谱
光源、样品室、电子能量分析器、检测器都必须在高真
空条件下工作; 真空度:1.33?10-6 Pa 。
5、ESCA的进样方式:
固体进样:最常用和方便的进样方式。样品厚度<0.5mm, 面积为 5mm?16mm;
液体、气体样品:可在进样时先蒸发而冷冻在样品托的面 上进行能谱分析。
粉末样品:通过铜网、金属片或粘全剂压成薄片再进样。
(1)半球型电子能量分析器 改变两球面间的电位
差,不同能量的电子依次通 过分析器,分辨率高;
(2)筒镜式电子能量分析器 (CMA) 同轴圆筒,外筒接负压
、内筒接地,两筒之间形成 静电场;
灵敏度高、分辨率低; 二级串联;
3、检测器
产生的光电流:10-3~10-9;电子倍增器作为检测器; 单通道电子倍增器; 多通道电子倍增器;
3、内量子数j大的峰比j小
的峰强;
( j = l±1/2;自旋裂分峰)
元素的电子结合能
二、 谱峰的位移
1、物理位移 :原子所处的环境不变,而是因为各种物理因素 引起电子结合能的改变使谱峰发生位移。如常见的荷电效应 、压力效应、固体的热效应。在 ESCA中应尽量避免和消除物 理位移,保证化学分析的准确性。
导电固体样品与仪器的金属样品之间总是保持良好的电接
触,相互间电子迁移到平衡时,两者的Fermi能级处在同一水
平。固体样品功函数 ? 样 与仪器材料的功函数
一个电势差 ? V ? ?样 ? ?仪 。
?
仪
不同,产生
导电样品谱仪电子能级图
非导电样品谱仪电子, 于是在表面形成了电荷能Ech ,于是有
气体样品
吸收X射线产生光电子过程的能量符合如下关系:
h? ? Ek ? Eb ? Er (4)
X射线光电子能谱(XPS)
化学位移
Inst. Of Photoelectronics
➢ 谱峰的物理位移和化学位移
物理位移:固体的热效应与表面荷电的作用引起的谱峰位移
化学位移:原子所处化学环境的变化引起的谱峰位移
产生原因:
(1)价态改变:内层电子受核电荷的库仑力和荷外其他电子
的屏蔽作用;电子结合能位移Eb;
• 氧化作用使内层电子结合能上升,氧化
(2)筒镜式电子能量分析器
(CMA)
同轴圆筒,外筒接负压、内
筒接地,两筒之间形成静电
场;
灵敏度高、分辨率低;二级
串联;
X射线光电子能谱仪
Inst. Of Photoelectronics
➢ 检测器
• 产生的光电流:10-3~10-9mA;
• 电子倍增器作为检测器;
• 单通道电子倍增器;多通道电子倍增器;
给出表面的化学组成,原子排列,电子状态等信息。
• 对于XPS和AES还可以对表面元素做出一次全部定性和定量
分析,还可以利用其化学位移效应进行元素价态分析;利
用离子束的溅射效应可以获得元素沿深度的化学成份分布
信息。
• 此外,利用其高空间分别率,还可以进行微区选点分析,
线分布扫描分析以及元素的面分布分析。
电子的能量是特征的。
• 因此,我们可以根据光电子的结合能定性分析物质的元
素种类。
X射线光电子能谱仪
Inst. Of Photoelectronics
样品
光电子
能量分析器
探测器
X射线源
AlK或MgK
超高真空系统
优于10-9mbar
数据处理系统
Inst. Of Photoelectronics
X射线光电子能谱
X射线光电子能谱的应用
例子:确定二氧化钛膜中+4价和+3价的比例。
X射线光电子能谱的应用
(3)材料表面不同元素之间的定量
方法
对试样做XPS分析,得到窄区谱。 根据峰面积和灵敏度因子,利用公式计算各元素 的相对含量。
X射线光电子能谱的应用
(4)化学结构分析
依据:原子的化学环境与
化学位移之间的关系;
X光电子能谱仪实验技术
能量损失峰 ( Energy loss )-----是由于光电子在穿过样品表 面时同原子(或分子)之间发生非弹性碰撞损失能量后在谱 图上出现的伴峰.
X光电子能谱仪实验技术
X射线卫星峰 (X-ray satellites )----由特征X射线主线以外 的其它伴线产生的.
90000 80000 70000 60000 50000 40000 30000 20000 540
供能量设置范围的依据。
X射线光电子能谱的应用
2. 方法 (1)对样品进行快速扫描,获取全谱; (2)对谱图中各谱线的结合能进行能量校正; (3)校正后的结合能和标准数据(或谱线)对 照,确定各谱线的归属,即确定各谱线代 表的元素。
X射线光电子能谱的应用
图7-30 二氧化钛涂层玻璃试样的XPS谱图
原子电荷和官能团有关。
X射线光电子能谱的基本原理
XPS谱图分析中原子能级的表示方法 XPS谱图分析中原子能级的表示用两个数字和一个
小字母表示。例如:3d5/2
第一个数字3代表主量子数(n) ,
小写字母代表角量子数 ; 右下角的分数代表内量子数j
j l 1/ 2
l—为角量子数,l = 0, 1, 2, 3 ……,
h?ebwsevivsekerh?入射光子能量已知值ek光电过程中发射的光电子的动能测定值eb内壳层束缚电子的结合能计算值ws样品的功函数evivs样品和源缝之间的接触电势差对光电子加速所做的功er反冲能量xx射线光电子能谱的基本原理wswievivsh?ebwiekerekh?ebw光电子能量公式w仪器工作常数wi谱仪功函数样品和谱仪间的接触电位差等于样品与谱仪功函数之差数据处理系统能量分析器探测器xx射线源alk??或mgk??超高真空系统优于109mbar光电子样品xx射线光电子能谱的基本原理x射线光电子能谱仪的基本构造光电离几率和xps的信息深度1光电离几率?定义光电离几率光电离截面?
第12章 X射线光电子能谱
23
24
1 X射线源 X射线源由加热的灯丝和阳极靶组成。XPS适用的X射线, 主要考虑谱线的宽度和能量,目前常用的有Al和Mg的Kα射 线。 2 电子能量分析器 电子能量分析器是XPS的中心部件,其功能是测量从样品表 面激发出的光电子的能量分布。 3检测器 4 超高真空系统 5 能谱仪校准
25
1.全扫描和窄扫描 1.全扫描和窄扫描
18000 16000 14000 12000 10000
Co2p OkLL Fe2p
的原因。
FeLMM
FeLMM O1s
FeLMM
C1s
Co3s Fe3s
Cps
c
8000 6000 4000 2000 800 600 400 200 0
b a
2.定性分析 2.定性分析
4000
Cps
3000
刻 刻刻
2000
1000 526 528 530
B.E./ev
532
534
536
由于发射光电子的还原作用,Fe元素和Co元素分别被还原为FeO和CoO, Fe2p3/2从710.9ev变为 710.4ev,Co2p3/2从780.3ev变为 780.7ev,Co在9.0ev处卫 星峰消失,Co2p3/2峰变宽强度减弱,说明Co2O3被还原为CoO,在样品b 中存在 Co3+。Ar+刻蚀后,O1s主峰位电子结合能仍为530.0ev,未发生变化,次峰位电 35 子结合能从531.3ev变为531.6ev。
B.E./ev
27
3.定量分析 与俄歇电子能谱相同,
Cx = Ix / S x
∑I
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(2)XPS信息深度 样品的探测深度通常用电子的逃逸深度度量。 电子逃逸深度λ(Ek):逸出电子非弹性散射的 平均自由程。
λ:金属0.5~3nm;氧化物2~4nm ;
有机和高分子4~10nm 。 通常:取样深度
d = 3λ
11
XPS中的电离过程
光电离过程:即光电效应。 电子束电离:电子束强度比起X射线源可以打几十个数 量级,并可以高度聚焦,以利于提高测量的分辨率和进行 微区分析。
→ A*+ + e − hv + A A − −中性原子 hv--入射光子能量 e − − −发射出的光电子 A*+ − −处于激发态的离子
6
光子的一部分能量用来克服轨道电子结合能( EB),一 部分能量用来克服逸出功(Ws),余下的能量便成为 发射光电子(e- ) 所具有的动能 ( EK),这就是光电 效应。用公式表示为:
4
X射线起源于轫致辐射,可被认为是光电效应的 逆过程,即: 电子损失动能 ⇒ 产生光子(X射线)
慢电子 EK2 EK1 光子 hν
原子核 快电子
EK 1 − EK 2 = hν
5
光电效应
由德国物理学家赫兹于1887年发现
具有足够能量的入射光子(hν) 同样品相互作用时, 光子把它的全部能量转移给原子、分子或固体的某一束缚 电子,使之电离。(光电离过程)
3. 检测器
用电子倍增器检测电子数目。电子倍增器是 一种采用连续倍增电极表面的静电器件,内壁具有 二次发射性能。电子进入器件后在通道内连续倍增, 增益可达 109
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4.真空系统
1、减少电子在运动过程中同残留气体分 子发生碰撞而损失信号强度。 2、降低活性残余气体的分压。因在记录 谱图所必需的时间内,残留气体会吸附 到样品表面上,甚至有可能和样品发生 化学反应,从而影响电子从样品表面上 发射并产生外来干扰谱线。 298K吸附一层气体分子所需时间:10-4Pa 时为1秒;10-7Pa时为1000秒
XPS现象基于爱因斯坦于1905年揭示的光电效应,爱因斯坦由于这方 面的工作被授予1921年诺贝尔物理学奖;
X射线是由德国物理学家伦琴(Wilhelm Conrad Röntgen,l845-1923 )于1895年发现的,他由此获得了1901年首届诺贝尔物理学奖。
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X射线光电子能谱( XPS ,全称为Xray Photoelectron Spectroscopy)是 一种基于光电效应的电子能谱,它是 利用X射线光子激发出物质表面原子的 内层电子,通过对这些电子进行能量 分析而获得的一种能谱。 这种能谱最初是被用来进行化学分析 ,因此它还有一个名称,即化学分析 电子能谱( ESCA,全称为Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)
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样品的制备
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样品
粉末样品 10~100mg 薄片或薄膜样品
约Φ10mm×1mm 15mm×10mm×1mm
约
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样品要充分干燥 粉末样品要尽量细 薄膜样品表面要平整 不要用手摸样品表面
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化学位移
1. 定义 由于化合物结构的变化和元素氧化状态的变化引起谱峰有规 律的位移称为化学位移 2. 化学位移现象起因及规律 (1)原因 内层电子一方面受到原子核强烈的库仑作用而具有一定的结 合能,另一方面又受到外层电子的屏蔽作用。因而元素的价态改 变或周围元素的电负性改变,则内层电子的结合能改变。 (2)规律 当元素的价态增加,电子受原子核的库仑作用增加,结合能 增加;当外层电子密度减少时,屏蔽作用将减弱,内层电子的结 合能增加;反之则结合能将减少。
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电负性: O>S>H N1s结合能值: -NO2>-SO2NH->
N
例1 有机化合物中氮原子的化学结构分析
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例2 BeF2和BeO中的 Be具有相同的氧化数 (+2), 电负性F>O, 所以Be在BeF2中比在 BeO中具有更高的氧 化态。
氧化态增加→化学位移 增加
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例3 电负性 F>O>C>H 四个碳原子在分 子中所处的化学 环境不同 所以在谱图上出 现四个位移不同 的C1s峰
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1.X射线激发源
XPS中最常用的X射线源主要由灯丝、栅极和阳极 靶构成。 X射线源的主要指标是强度和线宽,一般采用Kα 线,因为它是X射线发射谱中强度最大的。在X射线光 电子能谱中最重要的两个X射线源是Mg和Al的特征Kα 射线。
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要获得高分辨谱图和 减少伴峰的干扰,可以采 用射线单色器来实现。即 用球面弯曲的石英晶体制 成,能够使来自X射线源 的光线产生衍射和“聚 焦”,从而去掉伴线等, 并降低能量宽度,提高谱 仪的分辨率。
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X光电子能谱的应用
利用XPS测定元素的电子结合能及谱峰的强度,可以鉴定除了 H, He之外的全部元素。利用XPS的化学位移可以获得固体表 面的化学状态、固体表面吸附(或反应)物的状态,研究分 子与分子之间相互作用的机理、催化作用机理、聚合物表面 结构及其改性等。
XPS的定性和定量分析
能够对原子序数为3~92的元素进行定性和定量分析。不仅 可以给出元素的种类和含量,还可以给出元素的化学状态。 XPS的定量分析的关键是要把XPS谱仪测得的信号强度转 变成元素的含量,即将谱峰的峰面积(谱峰的强度)转变 成元素的浓度。主要包括标样法、元素灵敏度因子法和基 本理论模型法。
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元素的定性和定量分析
绝对灵敏度:10-18g 相对灵敏度:0.1% 1. 定性分析 (1)先找出C1s、O1s 峰 (2)找出主峰位置,注意自旋双峰,如 p1/2,3/2; d3/2,5/2;f5/2,f7/2,并注意两峰的强度比 (3)与手册对照
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2. 定量分析 假定在分析的体积内样品是均匀的,则这种 从特定的谱线中所得到的光电子数可用谱线包括的 面积 I 表示,则元素的原子密度为:
I ρ= S
两种元素的浓度比:
S---原子灵敏度因子-可查
ρ1 I1 / S1 = ρ2 I 2 / S2
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对多种元素中的某一元素浓度:
ρx I x / Sx = Cx = ∑ ρi ∑ I i / Si
i
注意: (1)不适用非均匀样品; (2)对过渡金属,不同的化学状态有不同的原子灵 敏度因子; (3)上式的误差10-20%
X射线光电子能谱
X-Ray Photoelectron Spectroscopy (XPS)
主 要 内 容
XPS的基本原理 光电子能谱仪简介 化学位移及其影响因素 X射线光电子能谱的应用
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XPS的基本原理
XPS是由瑞典Uppsala大学的K. Siegbahn及其同事历经近20年的潜心 研究于60年代中期研制开发出的一种新型表面分析仪器和方法。鉴于 K. Siegbahn教授对发展XPS领域做出的重大贡献,他被授予1981年诺 贝尔物理学奖;
XPS谱图分析中原子能级的表示用两个数字和一个小 字母表示。例如:3d5/2
第一个数字3代表主量子数(n) ;
小写字母代表角量子数 ; 右下角的分数代表内量子数j
l—为角量子数,l = 0, 1, 2, 3 ……,
j = l ± 1/ 2
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注意:
在XPS谱图中自旋-轨道偶合作用的结果, 使 l 不等于0(非s轨道)的电子在XPS谱图上出 现双峰,而S轨道上的电子没有发生能级分裂, 所以在XPS谱图中只有一个峰。
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XPS的特点
在实验时样品表面受辐照损伤小,能检测周期 表中除 H 和 He 以外所有的元素,并具有很高 的绝对灵敏度。 相邻元素的同种能级的谱线相隔较远,相互干 扰较少,元素定性的标识性强。 能够观测化学位移,化学位移同原子氧化态、 原子电荷和官能团有关。
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XPS谱图分析中原子能级的表示方法
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筒镜式电子能量分析器 同轴圆筒,外筒接负压、内筒接地,两筒之间形 成静电场; 灵敏度高、分辨率低。
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• 分辨率
分 辨率 =∆E / Ek ×100%
∆Ε---光电子能谱的半高宽即绝对分辨率 Ek---通过分析器电子的额动能 W---狭缝宽度
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∆E / Ek = (W / 2r ) + α 2 / 2
XPS采用能量为1000~1500ev 的射线源,能激发内 层电子。各种元素内层电子的结合能是有特征性 的,因此可以用来鉴别化学元素; UPS采用 16~41ev的真空光电子作激发源。与X射 线相比能量较低,只能使原子的价电子电离,用 于研究价电子和能带结构的特征; AES大都用电子作激发源,因为电子激发得到的 俄歇电子谱强度较大。
谱带强度
固体表面XPS谱带强种元素,谱带强度反映了元素的浓度或含量。对于不 同种元素,谱带强度并不能直接给出元素之间量的关系,这是 因为影响谱带强度的因素是复杂的,主要包括: 1)仪器因素; 2) 样品因素; 3) 电离过程。
电子能谱中,谱带的强度与组成元素原子的 n 和 l 有关。对于同一 种元素,主量子数小的谱带的强度大于主量子数达的谱带的强度, 即1s谱带的强度大于2s谱带的强度。
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在入射光子能量一定的前提下,同一原子中半径越 小的壳层,σ越大; 电子的结合能与入射光子的能量越接近,σ越大; σ越大说明该能级上的电子越容易被光激发,与同 原子其它壳层上的电子相比,它的光电子峰的强度 越大。
价电子对X射线的光电截面远小于内层电子,所 以XPS主要研究的内层电子的结合能。
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XPS谱图的表示
1. XPS谱图的表示 横坐标:动能或结合能,单位是eV,一般以结合能 为横坐标。 纵坐标:相对强度(CPS)。 结合能为横坐标的优点: 结合能比动能更能反应电子的壳层结构(能级结构), 结合能与激发光源的能量无关