厂务系统
智慧厂务系统建设方案
智慧厂务系统建设方案随着工业生产自动化、信息化的不断发展，智慧厂务系统（Smart Factory）已经成为一个重要的发展方向。
智慧厂务系统建设可以帮助企业提高生产效率，降低生产成本，提升产品品质和研发能力等方面带来重要的帮助和支持。
在本文中，我们将从概念、应用场景、建设流程、技术选择等方面全面探讨智慧厂务系统的建设方案。
一、概念智慧厂务系统是指利用物联网、云计算、大数据等信息技术手段，以生产基础设施为中心，以数据为纽带，以智能控制为核心，构建全面、集成化、智能化的工厂管理系统。
智慧厂务系统可以包括生产计划、生产执行、品质管理、设备维护、库存管理等各项工厂业务的管理和控制。
二、应用场景智慧厂务系统的应用场景一般包括以下几个方面：1. 生产管理和控制：包括生产计划、生产控制、调度、异常处理等各个方面，通过数据和智能算法实现工厂生产的高效管理和控制。
2. 设备智能化管理：利用物联网技术和传感器技术，将工厂内的各种设备连接起来，通过云平台进行数据分析和处理，实现设备的智能化管理和控制。
3. 供应链管理：通过物联网技术和大数据技术，实现对整个供应链的实时监控和管理，提高供应链的透明度和效率。
4. 品质管理：通过智能算法和数据分析实现对产品的质量控制和管理，提高产品的品质水平和生产效率。
5. 知识库和协同工作：通过集成协同工作平台和知识库，实现员工之间的协同和知识共享，提高工作效率和质量。
三、建设流程智慧厂务系统建设的流程通常包括规划、建设和上线三个阶段：1. 规划阶段：该阶段主要是对工厂的生产、品质、设备、库存等各个方面进行深入研究和分析，确定系统的需求和目标，制定建设方案和项目计划。
2. 建设阶段：该阶段主要是进行系统的设计、开发、测试和部署，包括硬件和软件的选型和采购、系统界面和架构的设计、代码的编写和测试、系统的部署和验证等步骤。
3. 上线阶段：该阶段主要是对系统进行全面测试和调试，确保系统正常运行并达到预期目标。
厂务系统概述简单中文介绍
1.2 气体系统在制程中的功能
CDA 压缩干燥空
气
GN2 一般氮气
搬运器/仪器之气压缸/一般冲吹 Purge/洁净冲吹
PN2 纯化氮气
Purge/空间填充/超洁净冲吹
其他B-GAS 大宗气体
制程需求/空间填充/超洁净冲吹
S-GAS 特殊气体
制程填充需求/制程需求
1.3 化学系统在制程中的功能
Chemical 化学药品
冷冻式 干燥机
吸附式 干燥机
精密 过滤器
GN2/PN2
大气
氮气 产生器
液氮槽
蒸发器
使用点 减压站
一/二次管 二次盘
CQC
过滤器 纯化器
使用点
一/二次管 二次盘
CQC
3.6 其他大宗气体/特气系统简略流程
O2
液氧储槽 蒸发器 减压站 过滤器 纯化器
CQC
He/Ar/Kr/H2…
钢瓶/Bundle Trunker
减压站
过滤器
使用点 纯化器 CQC
一/二次管 二次盘
一/二次管 二次盘
Specialty Gas
使用点
钢瓶
Cabinet 气瓶柜
管线
VMB/P 阀箱
管线
使用点
3.7 高真空/排气系统简略流程
Pumping Line
机台制程 Chamber
高真空 管路
真空泵
高真空 管路
Scrubber
GEX
机台出口 Damper
化学品 供应槽车
化学品 储槽
传送系统
供应槽
废液 回收槽
回收管线
使用点
VMB/P
分配系统 化学管路
3.10 废水收集系统简略流程
认识厂务系统种类
厂务系统有哪些Cleanroom System [ 洁净室系统]a,内装修工程：（高架地板工程、洁净室隔墙板系统、铝合金龙骨吊顶/ceiling grid、无尘涂装、环氧地坪等）、压差控制系统、ESD防静电等；b,循环空调系统：（包括部分供热与通风系统，比如MAU/OAC、AHU、FFU、DDC、FCU、粗、中、高、超高过滤器、化学过滤器etc.、送气风机、排气风机etc.）；c,FOUNDATION：防震机座、粉尘监测智能系统/DMS系统、风淋室、传递窗、层流罩、洁净工作台、洁净洗手器、洁净衣架、洁净电梯、正压洁净楼梯间系统、化学品储存冷库和压缩机etc.Mechanical System [ 机械系统]中央动力，Central utility：Mechenical（热水、冷冻水、软水、工艺设备冷却水PCW、生产上水、自来水﹑饮用水、一般蒸汽和洁净蒸汽等管路供应系统；锅炉、冷冻机、冷却塔、空压机等厂务设施）Specialty Gas and Bulk Gas [ 特殊气体和大宗气体]a,Bulk Gas：GAS YARD气站，CQC（N2/H2/O2/Ar/He/天然气）【包括普通和超纯/精制气体】，压缩空气（CDA）--有些FAB还将机台用CDA和厂务设备用CDA 供应系统分开，呼吸空气供应系统等；b,Specialty Gas System ( 部分特性有重迭)：（1）易燃性气体(Flammable Gas)（2）毒性气体（Toxic Gas）（3）腐蚀性气体（Corrosive Gas）（4）惰性气体(Inert Gas)（5）氧化性气体（Oxide Gas）（6）低压/保温气体（Heat G as)Water Treatment System [ 水处理系统]a,超纯水供应系统、热/温纯水供应系统、一次纯水（RO水）供应系统etc.b,工艺废水处理（酸、碱、含氟排水、slurry/cmp、研磨排液、温排水、纯水回收、一般排水、TMAH显影液、H2O2、硫酸排液、磷酸排液、NH3排液etc. ）c,办公用给排水系统：饮用水供应、自来水供应、生活污水处理、雨水排放系统etcExhaust System[工艺排气系统]a,工厂SCRUBBER:酸、碱、有机VOC、粉尘、一般排气etc.[有些FAB还包括了紧急排烟/事故排风系统]b,LOCAL SCRUBBER（一般附属于工艺设备）：依其原理大概可分成下列几类(1)电热水洗式; (2)燃烧水洗式(3) 填充水洗式;(4)干式吸附式。
IC FAB 厂务系统简介
IC FAB 廠務系統簡介2. Electrical power supply condition :2-1. Voltage & Loading :480V : 60Hz ±0.5Hz, 3 phase 4 wire（R,S,T,G）208V : 60Hz ±0.5Hz, 3 phase 4 wire（R,S,T,G）208V : 60Hz ±0.5Hz, 3 phase 5 wire（R,S,T,N,G）120V : 60Hz ±0.5Hz, 1 phase 3 wire（L,N,G）※If tool loading of 208V is greater than 400A, we suggest to use480V power source.※Process tool should follow IEEE standard 466 -electrical power voltage requirement.As attachment-1.2-2. Type :Normal Power : without supply when power outageEmergency Power : can sustain power failure more than 10 minutesDynamic UPS : continuously supply even thought power outage3. EMI：＜10mG dc &＜1mG ac, and maximum 0.2 mG variation over 5 minutes nearsensitive equipment.4. ESD：4-1. Raised floor and concrete floor = 10E6~5×10E8Ω/□4-2. Clean room wall = 10E6~5×10E8Ω/□4-3. Voltage : ＜100 V level4-4. Photo area : discharge time: +1000V to +100V under emitter＜40 sec.5. Grounding : ≦1Ω6. Noise : ≦60 NC7. Illumination : 750 ~ 800 lux for C/R；but photo area 500 ~ 600 lux with yellow light10. Drain :10-1.『HF-S Drain』: the waste water contain fluorine ion, [F-] ＞200 mg/l10-2.『HF-W Drain』: the waste water contain fluorine ion, [F-] ＜200 mg/l10-3.『IPA Waste』: the waste liquid contain IPA and concentration [IPA]＞80%10-4.『Solvent Waste』: the waste liquid contain solvent and concentration [Solvent] ＞80% 10-5.『DA（Waste Drain）』: DA is dedicated to followed condition.A. The waste water contain TOC and concentration [TOC]＞2mg/lB. The waste water contain acid or alkali but not first acid rinse waterC. Conductivity＞800μs/㎝but not first acid rinse water10-6.『FDA Drain』: is dedicated to first acid rinse water10-7.『DG（general drain）』: DG is dedicated to followed condition.A. The waste water doesn't contain fluorine ion.B. [TOC]＜2mg/lC. Conductivity＜800μs/㎝but not hot water10-8.『DAH Drain』: hot drain water with [TOC]＜2mg/l and conductivity＜800μs/㎝and without fluorine ion.10-9.『Oxide Slurry Drain』: is dedicated to CMP oxide waste water10-10.『Metal Slurry Drain』: is dedicated to CMP metal waste water10-11.『Cu-W Drain』: is dedicated to CMP copper waste water10-12.『Cu-S Drain』: is dedicated to electroplating waste for Cu process10-13.『H2SO4-S』: the waste liquid contain H2SO4 and concentration [H2SO4]＞80%10-14.『H3PO4-S』: the waste liquid contain H3PO4 and concentration [H3PO4]＞80%10-15. Other waste collection systems are dedicated to specialty chemical waste such as EKC, coater, T-12…etc.Typical Power Design Goals for Semiconductor Process Equipment Voltage: 120/208, 277/480 variations as defined by CEBMA curve (IEEE Standard 446)RCFSUB-FABExhaustMUAoutdoor airULPA ChamberEQ-2Clean RoomHc\潔淨室air 品質管理f2.PPT, @2002/01/08.Fab Air Quality ManagementSMIF FOUPEQ-1Local Chemical FilterRCFChemical Filtermicro-environment Chemical FilterMUA Chemical Filter23511. Wafer Operation Area.2. RCF CF 前.3. RCF CF 後.4. MUA CF 前.5. MUA CF 後.儀器與方法1. IMS. (HF,Cl2,NH4OH,VOC/ppb)2. TLD-1. (Cl2 / ppb)3. CCT/ERM. (Å/hr, Å/day)4. Cu/Silver Coupon. (Å/day, Å/week)5. Metal Wafer Queue Time.6. Others. (CD, Defect, Lens,…)1FFUChemical Filter11. Air Velocity.2. Temp./Humidity.333功能與應用1. 晶片保護. (Alarm, OCAP/MRB,…), [ERT]2. Chemical Filter 之Lifetime 管理. [治標]3. 污染洩漏源管理.(Pattern,Map,...) [治本]4. CR 微污染有效管理. (計劃實驗), [持續改善]5. MUA 空氣品質管理. [提昇品質]6. 人員衛生品質管理. [特殊應用]杜絕漏源人人有責4WwaferSMIF/FOUP: Standard Mechanical Inter-Face, Front Opening Unified Pod.Fab Layout (air quality monitor)15112552434323Hc\潔淨室air 品質管理5.ppt1. Wafer Operation Area.2. RCF/FFU CF 前.3. RCF/FFU CF 後.4. MUA CF 前.5. MUA CF 後.RCFSUB-FABExhaustMUAoutdoor airULPA ChamberEQ-2Clean RoomHc\潔淨室particl e 理f2.PPT, @2002/05/13.Fab Particle ManagementSMIF FOUPEQ-1231. Wafer Exposure Area.2. ULPA 後.3. Mfg Working Area4. MUA 後.儀器與方法1. Particle Counter. (.1um)2. Particle monitor. (.3um)3. Air Velocity Meter. (0.1-1m/sec.)4. Flow pattern monitor5. Smog Generator.6. De-bug Tool. (Item1,2 + CCTV)111. Air Velocity.2. Flow Pattern23功能與應用1. 晶片保護. (Alarm, OCAP/MRB,…), [ERT]2. Filter 之Lifetime 管理. [治標]3. Particle 來源管理.(Pattern,Map,...) [治本]4. CR 微塵有效管理. (計劃實驗), [持續改善]5. MUA Particle 品質管理. [提昇品質]微塵控管人人有責4Class 1@0.1um Class 0.1@0.1umClass 100T @0.3umClass 100, @0.3umWClass 10@0.1umWafer SMIF/FOUP: Standard Mechanical Inter-Face, Front Opening Unified Pod.Gerneral Fab Layout (particle monitor)15112523323Hc\潔淨室particl e 管理5.ppt1. Wafer Operation Area.2. Mfg Working Area.3. ULPA 前.4. ULPA 後.5. MUA 前.444。
厂务系统概述
厂务系统的应用和发展趋势
厂务系统的应用
质量管理：监控产品质量确 保产品质量达标
设备管理：监控设备运行状 态及时发现故障
生产管理：监控生产过程提 高生产效率
安全管理：监控生产安全预 防安全事故发生
环保管理：监控环保指标确 保环保达标
成本管理：监控生产成本降 低生产成本
厂务系统的发展趋势
智能化：通过人工智能、大数据等技术实现厂务系统的智能化管理 集成化：将多个子系统集成为一个整体提高系统的协同性和效率 绿色化：注重节能环保采用绿色能源和环保材料降低能耗和污染 安全化：加强安全管理提高系统的安全性和可靠性 定制化：根据不同企业的需求提供定制化的厂务系统解决方案 网络化：通过网络技术实现厂务系统的远程监控和管理
目的是提高生产效率、降低 成本、保证产品质量
厂务系统是工厂信息化、智 能化的重要手段
厂务系统的作用
提高生产效率： 通过自动化和 智能化技术提 高生产效率降 低生产成本。
保障生产安全： 通过实时监控 和预警系统及 时发现和处理 生产过程中的 安全隐患保障
生产安全。
优化生产流程： 通过对生产数 据的分析和处 理优化生产流 程提高产品质 量和生产效率。
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厂务系统概述
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汇报时间：20X-XX-XX
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厂务系统的定义 和作用
厂务系统的组成 和功能
厂务系统的运行 和管理
厂务系统的应用 和发展趋势
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厂务系统的定义和作用
厂务系统的定义
包括生产计划、物料管理、 设备管理、质量管理等功能
厂务系统是工厂内部用于管 理和控制生产过程的系统
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厂务系统概述简单中文介绍PPT课件
1.2 气体系统在制程中的功能
CDA 压缩干燥空
气
GN2 一般氮气
搬运器/仪器之气压缸/一般冲吹 Purge/洁净冲吹
PN2 纯化氮气
Purge/空间填充/超洁净冲吹
其他B-GAS 大宗气体
制程需求/空间填充/超洁净冲吹
S-GAS 特殊气体
制程填充需求/制程需求
1.3 化学系统在制程中的功能
Chemical 化学药品
清洁清洗/制程需求
1.4 真空系统在制程中的功能
PV 制程真空
HV 清洁真空
吸引搬移 尘屑吸引清洁
1.5 排气/排水系统在制程中的功能
Pump Line 制程高真空
Exhaust 排气系统
Drain 排水系统
制程转换之高真空建立 制程转换之废气排除 制程使用之废DI/Chemical排放
二、厂务系统使用材质
PN2 纯化氮气
SUS 316L EP
其他B-GAS 大宗气体
SUS 316L EP/PH2有时用双套管(EP/AP)
S-GAS 特殊气体
SUS 316L EP/双套管/加热套
2.3 化学系统使用材质
有机类 化学药品
一般酸碱 化学药品
其他 化学药品
溶剂类→SUS 316 BA H2SO4/NaOH→PVC/CPVC CPVC/PFA/PVDF/PTFE
膨胀水箱
冰水进
板热
冰水出
制程管线
进水
回水
机台冷却
3.2 冰水系统简略流程
大气
冷却水塔 冷却 水
冰水主机 冷媒循环
冰水 回
MAU VAU
冰水
AHU
出 其他空调箱
板热
认识厂务系统种类
厂务系统有哪些Cleanroom System [洁净室系统 ]a内装修工程：(高架地板工程、洁净室隔墙板系统、铝合金龙骨吊顶/ceilinggrid、无尘涂装、环氧地坪等)、压差控制系统、ESD防静电等；b,循环空调系统：(包括部分供热与通风系统，比如MAU/OAC、AHU、FFU、DDC、FCU、粗、中、高、超高过滤器、化学过滤器etc.、送气风机、排气风机etc.)；c,FOUNDATION：防震机座、粉尘监测智能系统 /DMS 系统、风淋室、传递窗、层流罩、洁净工作台、洁净洗手器、洁净衣架、洁净电梯、正压洁净楼梯间系统、化学品储存冷库和压缩机etc.Mechanical System [机械系统 ]中央动力， Central utility ： Mechenica(l 热水、冷冻水、软水、工艺设备冷却水PCW生产上水、自来水、饮用水、一般蒸汽和洁净蒸汽等管路供应系统；锅炉、冷冻机、冷却塔、空压机等厂务设施)Specialty Gas and Bulk Gas 特[ 殊气体和大宗气体 ]a,Bulk Gas GAS YARD气站，CQC (N2/H2/O2/Ar/He天然气)【包括普通和超纯/精制气体】，压缩空气( CDA) --有些 FAB 还将机台用 CDA 和厂务设备用 CDA 供应系统分开，呼吸空气供应系统等；b,Specialty Gas System 部( 分特性有重迭 )：( 1)易燃性气体 (Flammable Gas)( 2)毒性气体( Toxic Gas)( 3)腐蚀性气体( Corrosive Gas)( 4)惰性气体 (Inert Gas)( 5)氧化性气体( Oxide Gas)( 6)低压 /保温气体( HeatGas)Water Treatment System 水[ 处理系统 ]a超纯水供应系统、热/温纯水供应系统、一次纯水(RO水)供应系统etc.b,工艺废水处理(酸、碱、含氟排水、slurry/cmp研磨排液、温排水、纯水回收、一般排水、TMAH显影液、H2O2、硫酸排液、磷酸排液、NH3排液etc.)c,办公用给排水系统：饮用水供应、自来水供应、生活污水处理、雨水排放系统etcExhaust System工艺排气系统] a工厂SCRUBBER酸、碱、有机VOC、粉尘、一般排气etc.有些FAB还包括了紧急排烟 /事故排风系统 ]b,LOCAL SCRUBBER（一般附属于工艺设备）：依其原理大概可分成下列几类（1）电热水洗式 ; （2）燃烧水洗式（3）填充水洗式 ;（4）干式吸附式。
IC FAB 厂务系统简介
IC FAB 廠務系統簡介2. Electrical power supply condition :2-1. Voltage & Loading :480V : 60Hz ±0.5Hz, 3 phase 4 wire（R,S,T,G）208V : 60Hz ±0.5Hz, 3 phase 4 wire（R,S,T,G）208V : 60Hz ±0.5Hz, 3 phase 5 wire（R,S,T,N,G）120V : 60Hz ±0.5Hz, 1 phase 3 wire（L,N,G）※If tool loading of 208V is greater than 400A, we suggest to use480V power source.※Process tool should follow IEEE standard 466 -electrical power voltage requirement.As attachment-1.2-2. Type :Normal Power : without supply when power outageEmergency Power : can sustain power failure more than 10 minutesDynamic UPS : continuously supply even thought power outage3. EMI：＜10mG dc &＜1mG ac, and maximum 0.2 mG variation over 5 minutes nearsensitive equipment.4. ESD：4-1. Raised floor and concrete floor = 10E6~5×10E8Ω/□4-2. Clean room wall = 10E6~5×10E8Ω/□4-3. Voltage : ＜100 V level4-4. Photo area : discharge time: +1000V to +100V under emitter＜40 sec.5. Grounding : ≦1Ω6. Noise : ≦60 NC7. Illumination : 750 ~ 800 lux for C/R；but photo area 500 ~ 600 lux with yellow light10. Drain :10-1.『HF-S Drain』: the waste water contain fluorine ion, [F-] ＞200 mg/l10-2.『HF-W Drain』: the waste water contain fluorine ion, [F-] ＜200 mg/l10-3.『IPA Waste』: the waste liquid contain IPA and concentration [IPA]＞80%10-4.『Solvent Waste』: the waste liquid contain solvent and concentration [Solvent] ＞80% 10-5.『DA（Waste Drain）』: DA is dedicated to followed condition.A. The waste water contain TOC and concentration [TOC]＞2mg/lB. The waste water contain acid or alkali but not first acid rinse waterC. Conductivity＞800μs/㎝but not first acid rinse water10-6.『FDA Drain』: is dedicated to first acid rinse water10-7.『DG（general drain）』: DG is dedicated to followed condition.A. The waste water doesn't contain fluorine ion.B. [TOC]＜2mg/lC. Conductivity＜800μs/㎝but not hot water10-8.『DAH Drain』: hot drain water with [TOC]＜2mg/l and conductivity＜800μs/㎝and without fluorine ion.10-9.『Oxide Slurry Drain』: is dedicated to CMP oxide waste water10-10.『Metal Slurry Drain』: is dedicated to CMP metal waste water10-11.『Cu-W Drain』: is dedicated to CMP copper waste water10-12.『Cu-S Drain』: is dedicated to electroplating waste for Cu process10-13.『H2SO4-S』: the waste liquid contain H2SO4 and concentration [H2SO4]＞80%10-14.『H3PO4-S』: the waste liquid contain H3PO4 and concentration [H3PO4]＞80%10-15. Other waste collection systems are dedicated to specialty chemical waste such as EKC, coater, T-12…etc.Typical Power Design Goals for Semiconductor Process Equipment Voltage: 120/208, 277/480 variations as defined by CEBMA curve (IEEE Standard 446)RCFSUB-FABExhaustMUAoutdoor airULPA ChamberEQ-2Clean RoomHc\潔淨室air 品質管理f2.PPT, @2002/01/08.Fab Air Quality ManagementSMIF FOUPEQ-1Local Chemical FilterRCFChemical Filtermicro-environment Chemical FilterMUA Chemical Filter23511. Wafer Operation Area.2. RCF CF 前.3. RCF CF 後.4. MUA CF 前.5. MUA CF 後.儀器與方法1. IMS. (HF,Cl2,NH4OH,VOC/ppb)2. TLD-1. (Cl2 / ppb)3. CCT/ERM. (Å/hr, Å/day)4. Cu/Silver Coupon. (Å/day, Å/week)5. Metal Wafer Queue Time.6. Others. (CD, Defect, Lens,…)1FFUChemical Filter11. Air Velocity.2. Temp./Humidity.333功能與應用1. 晶片保護. (Alarm, OCAP/MRB,…), [ERT]2. Chemical Filter 之Lifetime 管理. [治標]3. 污染洩漏源管理.(Pattern,Map,...) [治本]4. CR 微污染有效管理. (計劃實驗), [持續改善]5. MUA 空氣品質管理. [提昇品質]6. 人員衛生品質管理. [特殊應用]杜絕漏源人人有責4WwaferSMIF/FOUP: Standard Mechanical Inter-Face, Front Opening Unified Pod.Fab Layout (air quality monitor)15112552434323Hc\潔淨室air 品質管理5.ppt1. Wafer Operation Area.2. RCF/FFU CF 前.3. RCF/FFU CF 後.4. MUA CF 前.5. MUA CF 後.RCFSUB-FABExhaustMUAoutdoor airULPA ChamberEQ-2Clean RoomHc\潔淨室particl e 理f2.PPT, @2002/05/13.Fab Particle ManagementSMIF FOUPEQ-1231. Wafer Exposure Area.2. ULPA 後.3. Mfg Working Area4. MUA 後.儀器與方法1. Particle Counter. (.1um)2. Particle monitor. (.3um)3. Air Velocity Meter. (0.1-1m/sec.)4. Flow pattern monitor5. Smog Generator.6. De-bug Tool. (Item1,2 + CCTV)111. Air Velocity.2. Flow Pattern23功能與應用1. 晶片保護. (Alarm, OCAP/MRB,…), [ERT]2. Filter 之Lifetime 管理. [治標]3. Particle 來源管理.(Pattern,Map,...) [治本]4. CR 微塵有效管理. (計劃實驗), [持續改善]5. MUA Particle 品質管理. [提昇品質]微塵控管人人有責4Class 1@0.1um Class 0.1@0.1umClass 100T @0.3umClass 100, @0.3umWClass 10@0.1umWafer SMIF/FOUP: Standard Mechanical Inter-Face, Front Opening Unified Pod.Gerneral Fab Layout (particle monitor)15112523323Hc\潔淨室particl e 管理5.ppt1. Wafer Operation Area.2. Mfg Working Area.3. ULPA 前.4. ULPA 後.5. MUA 前.444。
厂务系统概述简单中文介绍
清洁清洗/制程需求
1.4 真空系统在制程中的功能
PV 制程真空
HV 清洁真空
吸引搬移 尘屑吸引清洁
1.5 排气/排水系统在制程中的功能
Pump Line 制程高真空
Exhaust 排气系统
Drain 排水系统
制程转换之高真空建立 制程转换之废气排除 制程使用之废DI/Chemical排放
二、厂务系统使用材质
PN2 纯化氮气
SUS 316L EP
其他B-GAS 大宗气体
SUS 316L EP/PH2有时用双套管(EP/AP)
S-GAS 特殊气体
SUS 316L EP/双套管/加热套
2.3 化学系统使用材质
有机类 化学药品
一般酸碱 化学药品
其他 化学药品
溶剂类→SUS 316 BA H2SO4/NaOH→PVC/CPVC CPVC/PFA/PVDF/PTFE
厂务系统概述
目录 一、厂务系统功能 二、厂务系统使用材质 三、厂务系统流程
一、厂务系统功能
1.1 水系统在制程中的功能
PCW 制程冷却水
UPW/DIW 超纯水
制程机台冷却 补水/清洗/稀释
Chill Water 冰水
RW 回收水
冷却用冷源/空调用冰水 DI回收/冷凝回收/再生使用
CW 自来水
原水/一般用水
化学品 供应槽车
化学品 储槽
传送系统
供应槽
废液 回收槽
回收管线
使用点
VMB/P
分配系统 化学管路
3.10 废水收集系统简略流程
Drain Pipe
机台 排放点
收集 管线
废水 处理厂
3.11 废水处理系统简略流程
电子工厂-晶圆厂-TFT-厂-面板厂--厂务系统概述教学内容
污泥 脱水机
污泥 收集槽
沉淀槽
澄清槽
污泥饼 储槽
运弃
PH 反应槽 胶羽 凝结槽 Polymer
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电子工厂-晶圆厂-TFT-厂-面板 厂--厂务系统概述
0.电子厂名言
唯一的不变就是永远在变 唯一确定的就是还没决定
所以~接下来介绍的在现场都不是绝对的~
1.厂务系统功能
1.1水系统在制程中的功能
PCW 制程冷却水
UPW/DIW 超纯水
Chill Water 冰水
RW 回收水
CW 自来水
制程机台冷却 补水/清洗/稀释 冷却用冷源/空调用冰水 DI回收/冷凝回收/再生使用 原水/一般用水
求
1.3化学系统在制程中的功能
Chemical 化学药品
清洁清洗/湿式蚀刻制程需求
1.4真空系统在制程中的功能
PV 制程真空
HV 清洁真空
基板吸引般移 尘屑吸引清洁/真空吸笔
1.5排气/排水系统在制程中的功能
Pump Line 制程高真空
Exhaust 排气换之高真空建立 Chamber制程转换之废气排除 机台制程使用之废DI/Chemical排放
2.厂务系统使用材质
2.1水系统使用材质
PCW 制程冷却水
UPW/DIW 超纯水
Chill Water 冰水
RW 回收水
CW 自来水
SUS 304禁油处理/高压软管 CPVC/PVDF/PFA Tube SUS 304 SUS 304 SUS 304
2.2气体系统使用材质-(除特气外机台端都可能用Teflon软管)
PVC/PVC SCH80 SUS 304不锈钢管 PVC SCH80/PVDF/PTFE/PFA
《厂务系统概述》课件
实时监控库存状况，避免过度采购或库存 不足的情况发生。
3 设备维护
4 员工调度
记录设备维护历史，提醒维护计划，延长 设备寿命。
根据工作需求和员工技能，合理安排员工 的工作任务，提高生产效益。
厂务系统的应用场景
工厂自动化
通过自动化技术和厂务系统的 集成，实现生产线的智能化、 高效化。
仓库管理
利用厂务系统监控仓库内货物 的数量、位置和出入库记录， 提高物流效率。
联网技术，实现自动化决策和智能优 化。
厂务系统将支持移动设备访问，使生
产管理更加灵活和便捷。
3
云端化
厂务系统将越来越多地迁移到云端， 提供更高效的数据存储和共享。
总结和展望
厂务系统在工业领域发挥着重要作用，随着技术的不断发展，它将变得更加 智能和高效。
《厂务系统概述》PPT课 件
本课程将介绍厂务系统的基本概念和应用，并探讨其未来的发展趋势。
什么是厂务系统？
厂务系统是一种用于管理和优化工厂运营的信息技术系统。它集成了各种功 能模块，包括生产计划、库存管理、设备维护和员工调度等。
厂务系统的功能和特点
1 生产计划
2 库存管理
根据市场需求和资源情况，制定合理的生 产计划，提高生产效率。
员工调度
根据工作需求和员工技能，合 理安排员工的工作任务，提高 生产效益。
厂务系统的优势和不足
优势
• 提高生产效率 • 降低成本 • 提升产品质量
不足
• 系统部署和使用成本较高 • 对员工培训要求较高 • 需要与其他系统集成
未来厂务系统的发展趋势
1
智能化
厂务系统将更加智能化，通
厂务系统概述简单中文介绍课件
能源管理
通过节能技术和设备，降低工 厂能源消耗，提高能源利用效
率。
安全监控
通过视频监控、报警系统和安 全检查等手段，确保工厂的安 全生产和员工的人身安全。
厂务系统的重要性
提高生产效率
通过优化环境条件和设施管理 ，减少生产过程中的干扰因素
，提高生产效率。
降低运成本。
物联网技术
物联网技术的应用，实现了设备间的 互联互通，提高了数据共享和协同作 业的效率。
大数据分析技术
大数据分析技术的应用，对海量数据 进行挖掘和处理，为企业决策提供有 力支持。
云计算技术
云计算技术的应用，实现了数据的集 中存储和处理，提高了数据处理能力 和运营效率。
厂务系统的未来展望
更高效的生产管理
辅助设施系统
包括环保、安全、卫生等设施，保障工厂的正 常运行和员工的健康安全。
工业用厂务系统
服务于工业生产，要求高效率、低成本、可靠稳 定。
民用厂务系统
服务于居民生活，注重舒适、安全、环保等方面。
集中式厂务系统
将所有设施集中管理，便于统一调度和维护。
分布式厂务系统
将设施分散设置，便于灵活调整和扩展。
05
厂务系统的挑战与解决方案
厂务系统面临的挑战
技术更新快速
随着科技的不断进步，厂务系 统需要不断更新以适应新的需 求和技术。
高能耗与环境影响
许多厂务系统运行需要大量的能源 ，同时也会产生一定的环境影响， 如何实现节能减排是亟待解决的问 题。
数据安全问题
随着信息化程度的提高，数据安全 问题越来越突出，如何保障数据的 安全性和完整性成为一大挑战。
员工培训与素质提升
厂务系统的升级和变革需要员 工的支持和配合，如何提高员 工的技能和素质成为关键。
厂务系统介绍
FFU系统
在线显示FFU运行状态，可任意选择启停设置转速
14
排风系统
酸碱无机废气处理设备 有机废气处理设备
中康 中康
1 1
SEX-01 处理风量20000CMH，,电机功率18.5KW VEX-01 处理风量10000CMH，,电机功率11KW
15
P3 更衣间排风，P4气体间事故排风，后期与GDS系统联动，可根 据压差设置自动调整风机频率
6
空调系统
F5楼工程
7
空调系统
8
空调系统
9
空调系统
根据露点控制， 冬天 热水+加湿 运行需要尽量减少电加热开启
夏天 冷冻水+三维热管+电加热
10
空调系统
F5楼工程
11
FCU系统
显示各区域FCU运行状态，温湿度、房间压差情况
12
空调系统
可以看到这个区域的压差设定值及控制的风阀开度、温度设定及控制的水阀的开 度、风机的手自动状态及故障状态，在此界面里面可以设定所需的压差及温度、 13 可以切换成手动直接输入风阀及水阀的开度、可以启停风机；
PCW系统
设计水流量 20m3/H ,换热量 105KW
16
厂务节能
压差设定，自动调整水泵频率，实现低液位停泵保护
17
N2、CDA系统
N2引自B楼氮气站 CDA引自A楼地下空压机；每个房间预留接口
18
超纯水系统
19
3T/H超纯水，最大供应量可达6T/H ;
致谢
谢 谢！
20
F5超净厂务系统介绍
1
提 纲
空调系统
FFU系统
排风系统 PCW系统
CDA、N2系统
电子工厂 晶圆厂 TFT 厂 面板厂 厂务系统概述
2.1水系统使用材质 2.1水系统使用材质
PCW 制程冷却水 UPW/DIW 超纯水 Chill Water 冰水 RW 回收水 CW 自来水
SUS 304禁油处理/高压软管 CPVC/PVDF/PFA Tube
SUS 304
SUS 304
SUS 304
2.2气体系统使用材质-(除特气外机台端都可能用Teflon软管) 2.2气体系统使用材质
厂务系统概述
0.电子厂名言 0.电子厂名言
0.电子厂名言 0.电子厂名言
唯一的不变就是永远在变 唯一确定的就是还没决定
接下来介绍的在现场都不是绝对的~ 所以~接下来介绍的在现场都不是绝对的~
1.厂务系统功能 1.厂务系统功能
1.1水系统在制程中的功能 1.1水系统在制程中的功能
PCW 制程冷却水 UPW/DIW 超纯水 Chill Water 冰水 RW 回收水 CW 自来水
Pumping Line
机台制程 Chamber 高真空 管路 Vacuum Pump
Exhaust
高真空 管路
Scrubber
GEX
机台出口 Damper 风管
风管
风机
大气
Others Exhaust
机台出口 Damper 风管 风机 Scrubber 大气
3.8真空系统简略流程 3.8真空系统简略流程
H2 Cooler H2冷却器 H2冷却器
纯水储槽
H2 UPW Tank
回水
3.4自来水/回收水系统简略流程 3.4自来水/ 自来水
自来水
自来水外管
回收水
空气中水份
水表/隔离 阀
冷盘/空调 箱
回收管线 供应管线 回收水槽 使用点 使用点
厂务系统(FMCS)
工厂自动化/厂务系统(FMCS)日期: 2009-11-6 15:00:48 作者: Admin 来源: 上海存在自动化控制设备有限公司浏览: 3588FMCS(Facility Management and Control System)其中文意思是厂务监控系统，它是目前半导体厂内制程中所使用的监控系统，用途是将厂区内特定的，有危害的，影响制程状态或系统资料于此的监控，并将其记录，以供问题即时处理及日后问题分析。
目前的制造业已经向信息化工厂逐渐过度，整个工厂作为一个有机的整体来协调运转就需要一个有效的监控和管理，通过监控可以知道工厂所有设备所有人员所有材料的具体情况，通过管理，可以使以上各个生产环节紧密结合，协调运转。
这样，就需要一个整体的全厂自动化系统。
上海存在自动化控制设备有限公司的FMCS系统就是针对以上这些具体需求提出的完美解决方案。
存在自动化根据客户的具体设备要求和工程规范，结合我们在工厂FMCS方面的多年实践经验，运用当今主流的计算机技术和自动控制技术而进行的方案设计和工程实施设计，而量身定造完整的FMCS系统。
此监控系统，具有友善的监控界面，采用Windows作业环境，只需要使用鼠标及简单的键盘，就可以进行操作，具安全性及可扩充性。
FMCS设计目标将设施供应系统、环境系统、废弃物处理系统等监控资料利用Ethernet、PLC或RS232等通讯协议连接至不同监控计算机，形成一整合网络监控系统，以达到如下目的：1.整合各单一网络为以整体，实现信息可互通。
2.提升整体管理绩效3.简化运转维护困难度4.降低安装、运转及扩充成本5.多台电脑可相互监看、控制6.可共享磁盘资源7.可达到相互备份效果8.监控报警电话Call出及邮件功能9.历史数据查询及曲线查询10.自动生成报表11.监控系统网络管理FMCS价值所在1.大量节省管理人员：传统的仪表控制系统是通过工厂操作管理人员楼上楼下来回奔走，对分布于工厂各处的设备进行开关和调节。
智慧厂务系统介绍设计方案
智慧厂务系统介绍设计方案智慧厂务系统是基于互联网、物联网、大数据等技术的智能化管理系统，旨在提高工厂运作效率、降低成本，并优化生产和员工管理。
下面是一个智慧厂务系统的设计方案，以供参考。
一、系统架构设计1. 前端界面：提供用户友好的操作界面，包括实时数据展示、设备监控、生产进度查看等功能。
2. 后台服务：负责数据采集、分析、存储和处理，以及与设备、人员等各个模块之间的数据交互。
3. 数据库：存储生产数据、设备状态等信息，并支持数据分析和报表生成。
二、核心功能模块1. 数据采集与监控：通过传感器、设备接口等方式，采集设备运行数据、环境数据等，在系统中进行实时监控和分析。
2. 异常预警与处理：根据设定的规则和算法，实时监测设备运行状态，当发现异常情况时，系统能够立即发出警报，并向相关人员发送通知，以便及时处理。
3. 生产计划与调度：制定生产计划，并根据实际情况进行调整，确保生产进度的顺利推进，并优化设备利用率和人力资源配置。
4. 质量控制与检测：通过数据分析和机器学习算法，对产品质量进行实时监测和预测，以及对异常情况进行处理。
5. 设备维护与管理：对设备进行远程监控和维护，及时发现并处理设备故障，提高设备的可用性和运行效率。
6. 人力资源管理：包括员工的考勤、培训、绩效评估等功能，以及与生产计划和设备状态的关联，实现优化人力资源的配置。
三、关键技术支持1. 物联网技术：通过各种传感器和设备接口，实现对设备和环境的实时监控和数据采集，以及设备的远程控制和调度。
2. 大数据分析与挖掘：通过对采集的数据进行分析和挖掘，发现设备故障、生产异常等问题，并进行预测和优化。
3. 人工智能技术：基于机器学习和深度学习算法，对生产数据进行建模和预测，提高生产效率和质量。
4. 云计算与边缘计算：通过云平台和边缘设备的结合，提供弹性计算和存储能力，实现大规模数据的处理和传输。
四、设计思路与优势1. 整合管理：将设备、生产计划、质量控制、员工管理等模块整合在一个系统中，实现全面的管理和协调。
《厂务系统概述》课件
定义与功能
定义
厂务系统是指负责工厂运营和维护的 综合系统，包括设施、设备、人员、 物料等方面的管理。
功能
厂务系统的主要功能是确保工厂的正 常运行，提高生产效率，降低运营成 本，优化资源配置，提升企业的整体 竞争力。
厂务系统的组成
设施管理
包括工厂的建筑、设施、设备 等硬件设施的规划、设计、维
护和更新。
医疗保健业
厂务系统在医疗保健业中用于管理医 疗设备和物资、提高医疗服务质量和 效率。
厂务系统的发展趋势
智能化
集成化
厂务系统将不断引入人工智能、机器学习 等技术，实现智能化管理和决策。
厂务系统将更加注重各子系统的集成，实 现信息共享和协同工作。
绿色化
定制化
厂务系统将更加注重环保和可持续发展， 采用节能减排技术降低能耗和排放。
REPORT
厂务系统概述
CATALOG
DATE
ANALYSIS
SUMMARY
目录
CONTENTS
• 厂务系统简介 • 厂务系统的运行与管理 • 厂务系统的应用与发展 • 厂务系统的挑战与解决方案 • 厂务系统案例分析
REPORT
CATALOG
DATE
ANALYSIS
SUMMAR Y
01
厂务系统简介
备件管理
合理储备设备备件，确保 备件的质量和供应的及时 性。
安全管理
安全制度建设
安全检查与整改
制定并完善厂务系统的安全管理制度 和操作规程。
定期开展安全检查，及时发现并整改 安全隐患。
安全培训
定期对员工进行安全培训，提高员工 的安全意识和操作技能。
REPORT
CATALOG
厂务系统(FMCS)
厂务系统(FMCS)
FMCS（Facility Management and Control System）是半导
体制造厂内使用的监控系统，它可以监控厂区内特定的、有危害的、影响制程状态或系统资料的情况，并将其记录，以供问题及时处理和日后问题分析。
随着制造业向信息化工厂的转型，整个工厂需要一个有效的监控和管理系统来协调运转。
XXX
的FMCS系统是为这些需求提出的完美解决方案。
存在自动化根据客户的具体设备要求和工程规范，结合多年在工厂FMCS方面的实践经验，采用当今主流的计算机技
术和自动控制技术进行方案设计和工程实施设计，量身定制完整的FMCS系统。
该监控系统具有友好的监控界面，采用Windows作业环境，只需要使用鼠标和简单的键盘就可以进
行操作，同时具有安全性和可扩展性。
FMCS的设计目标是将设施供应系统、环境系统。
PLC或RS232等通讯协议连接至不同监控计算机，形成一整合网络监控系统，以达到整合各单一网络为整体、提升整体管理绩效、简化运转维护困难度、降低安装、运转及扩充成本、多台电脑
可相互监看、控制、共享磁盘资源、相互备份效果、监控报警电话Call出及邮件功能、历史数据查询及曲线查询、自动生成报表、监控系统网络管理等目的。
FMCS的价值在于可以大量节省管理人员，传统的仪表控制系统需要管理人员在工厂内楼上楼下奔走进行开关和调节。
而采用FMCS后，可以通过计算机的键盘或鼠标在中央控制室完成调节控制工作，也可以由计算机内部的软件自动控制调节各设备的参数及开关状态，做到真正的管理自动化，从而减轻管理人员的劳动强度，减少管理人员的数量。
厂务系统工作总结
厂务系统工作总结
随着工业化的进程，各类企业的厂务工作也日益繁忙。
为了更好地管理和协调
厂务工作，许多企业都引入了厂务系统。
在过去的一段时间里，我有幸参与了厂务系统的建设和运营工作，并在此总结了一些经验和心得。
首先，厂务系统的建设需要充分考虑企业的实际情况和需求。
在我们的公司，
我们花了大量的时间和精力与各部门沟通，了解他们的具体需求和痛点，然后根据这些需求来设计和开发厂务系统。
这样做的好处是可以确保系统的实用性和适用性，提高了员工的满意度和工作效率。
其次，厂务系统的运营需要有专门的团队来负责。
在我们公司，我们成立了一
个专门的厂务系统运营团队，他们负责系统的日常维护、数据更新和用户培训等工作。
通过这样的专门团队负责模式，我们可以更好地保障系统的稳定性和可靠性，提高了系统的使用率和效益。
最后，厂务系统的运营需要不断改进和优化。
在使用厂务系统的过程中，我们
也发现了一些问题和不足之处，比如系统的响应速度不够快、界面设计不够友好等。
针对这些问题，我们采取了一系列的改进措施，比如优化系统的架构、更新系统的版本等。
通过这些改进，我们成功地提高了系统的性能和用户体验，让员工更加愿意使用厂务系统来处理工作。
总的来说，厂务系统的建设和运营是一个不断探索和改进的过程。
只有不断地
与企业的实际需求对接、建立专门的团队负责、并且不断地优化系统，才能更好地发挥厂务系统的作用，提高企业的管理效率和员工的工作满意度。
希望在未来的工作中，我们能够继续不断地完善厂务系统，为企业的发展贡献更多的力量。
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工厂自动化/厂务系统(FMCS)
日期: 2009-11-6 15:00:48 作者: Admin 来源: 上海存在自动化控制设备有限公司浏览: 3588
FMCS(Facility Management and Control System)其中文意思是厂务监控系统，它是目前半导体厂内制程中所使用的监控系统，用途是将厂区内特定的，有危害的，影响制程状态或系统资料于此的监控，并将其记录，以供问题即时处理及日后问题分析。
目前的制造业已经向信息化工厂逐渐过度，整个工厂作为一个有机的整体来协调运转就需要一个有效的监控和管理，通过监控可以知道工厂所有设备所有人员所有材料的具体情况，通过管理，可以使以上各个生产环节紧密结合，协调运转。
这样，就需要一个整体的全厂自动化系统。
上海存在自动化控制设备有限公司的FMCS系统就是针对以上这些具体需求提出的完美解决方案。
存在自动化根据客户的具体设备要求和工程规范，结合我们在工厂FMCS方面的多年实践经验，运用当今主流的计算机技术和自动控制技术而进行的方案设计和工程实施设计，而量身定造完整的FMCS系统。
此监控系统，具有友善的监控界面，采用Windows作业环境，只需要使用鼠标及简单的键盘，就可以进行操作，具安全性及可扩充性。
FMCS设计目标
将设施供应系统、环境系统、废弃物处理系统等监控资料利用Ethernet、PLC或RS232等通讯协议连接至不同监控计算机，形成一整合网络监控系统，以达到如下目的：
1.整合各单一网络为以整体，实现信息可互通。
2.提升整体管理绩效
3.简化运转维护困难度
4.降低安装、运转及扩充成本
5.多台电脑可相互监看、控制
6.可共享磁盘资源
7.可达到相互备份效果
8.监控报警电话Call出及邮件功能
9.历史数据查询及曲线查询
10.自动生成报表
11.监控系统网络管理
FMCS价值所在
1.大量节省管理人员：传统的仪表控制系统是通过工厂操作管理人员楼上楼下来回奔走，对分布于工厂各处的设备进行开关和调节。
采用FMCS以后，就可以通过计算机的键盘或鼠标在中央控制室完成调节控制工作，也可以由计算机内部的软件自动控制调节各设备的参数及开关状态，做到真正的管理自动化，因此可以减轻管理人员的劳动强度，减少管理人员的数量。
2.延长设备使用寿命：设备在计算机的统一管理下始终处于最佳运行状态，按照设备的运行状况打印维护保养报告，提示管理人员对设备进行维护、保养，避免超前或延误维护、保养，相应延长设备使用寿命，减免突发性设备损坏，也就等于节省了资金。
3.提高操作管理人员与设备的整体安全水平：FMCS对不同子系统设备的运行状态进行实时监视，可使管理人员及时发现设备故障、问题与意外，消灭故障于隐患之中，保证设备与人身的安全。
一旦设备有故障发生，计算机可以报告故障发生的部位及故障发生的原因，以便维护人员快速排除故障，恢复设备正常运行。
4.及时直观信息反馈：FMCS可不断地、及时地提供有关设备运行状况的报表，集中收集、整理作为设备管理决策的依据，实现设备维护工作的自动化。
报表包括设备历史数据、动态趋势、设备诊断等。
用户要求的报表可以打印存档。
5.安全操作规范管理：根据管理人员不同职务，给予不同的操作权力，分配不同等级的密码给各个管理人员。
在某管理人员表明身份密码后，计算机便记录下使用人的姓名和时间等以便备查。
FMCS系统架构
为了使FMCS系统在规划上或将来的扩充上得到最佳的效果，并考虑在设计上必须的可靠性、稳定性、可扩充性，因此在架构上分为三个层次：设备资料收集层、网络通迅层及人机界面层。
第0层，设备资料收集层：
设备资料收集层由传感器、电动阀等设备组成，经由工业控制网络，上传至第一层（网络通迅层）或接收第一层级控制迅号的PLC。
?
第1层，网络通迅层
网络通迅层为整个FMCS监控系统中通迅与控制的枢纽，PLC系统控制器及DMC，资料收集器透过这一层的通迅服务与FMCS监控系统的伺服器相互传递信息，负责这一层通迅的媒介为RS-485，RS-232、光纤及以太网络，在以太网络上的所有节点的信息都可以相互访问。
第2层，人机界面层（SCADA)
人机界面层为整个FMCS监控系统迅息交流的主轴，这一层中包含了电脑通迅网络、数据库服务器与电脑工作站。