无机材料科学基础 晶体结构缺陷
合集下载
相关主题
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
• 2、克罗格-明克符号 Kroger-Vink • 在系统中,用一个主要符号来表明缺陷的
种类,而用一个右下脚标来表示这个缺陷 的位置。右上角标表示有效电荷数。
4.2 缺陷化学反应表示法
Kroger-Vink表示法: 以二元化合物MX为例 大写字母:原子;下标:位置;上标:电荷
名称
符号
正常原子
MM, XX
• 正常格点上的原子迁移到表面,从而在晶 体内部留下空位。
原子
表面
空位
内部
增加了表面,内部 留下空位
Schottky缺陷特点
1. 只有空位,没有填隙原子; 2. 如果是离子晶体,阳离子空位和阴离子空
位成对出现,两者数量相等,保持电中性; 3. 需要有自由表面; 4. 伴随新表面的产生,晶体体积增加; 5. 正负离子半径相差不大时,Schottky缺陷
空位 填隙原子 错位原子 溶质原子(LS)
VM, VX Mi, Xi MX, XM LM, SX
名称
符号
溶质原子
Li, Si
带电缺陷(NaCl) VNa’, VCl˙
自由电子
e’
电子空穴
h˙
缔合中心
VMVX, MiXi
4.2缺陷化学反应表示法
4.2.1点缺陷的符号表征:Kroger-Vink符号 以MX型化合物为例: 1.空位(vacancy)用V来表示,符号中的右下标表
即:VNa’=VNa+e,,VCl ·=VCl+h·。
原子热振动,使部分能量较大的原子离开平 衡位置造成缺陷,称为热缺陷。 • 产生原因:晶格振动和热起伏 • 两种基本类型的热缺陷
Frenkel缺陷 Schottky缺陷
Frenkel缺陷
• 由于晶格上原子的热振动,一部分能量较大的原 子离开正常位置,进入间隙变成填隙原子,并在 原来的位置留下一个空位。
• 线缺陷的产生及运动与材料的韧性、脆性密切 相关。
• 面缺陷的取向及分布与材料的断裂韧性有关。
4.1缺陷的类型
• 空位 • 填隙原子/离子 • 取代原子/离子
• 位错
• 晶界
点缺陷
线缺陷 面缺陷
2
4.1.1. 点缺陷(Point Defect):
任何方向尺寸都远小于晶体线度的缺陷区
空位 (vacancy):
为主;
杂质缺陷 亦称为组成缺陷或非本征缺陷
定义:是由外来杂质的引入所产生缺陷。 特征:如果杂质的含量在固溶体的溶解度范围
内,则杂质缺陷的浓度与温度无关。这 与热缺陷是不同的。
杂质缺陷对材料性能的影响:由于外来杂质的 影响使材料原有性质发生改变,如在陶瓷材 料及半导体材料中,为了得到特定性能的材 料,往往有意添加杂质。提高材料的性能。
• 填隙原子:原子进入晶体正常结点之间的间 隙位置,称为填隙原子或间隙原子。
• 空位:正常结点没有被原子或离子所占据成 为空节点,称为空位。
• 杂质原子:外来原子进入晶格就成为晶体中 的杂质。 有取代原子;间隙式杂质原子;
固溶体。
• 取代原子:这种杂质原子取代原来晶格中 的原子而进入正常结点的位置。
• 间隙式杂质原子:杂质进入晶体中本来就 没有院子的间隙位置,生成间隙式杂质原 子。
• 固溶体:杂质进入晶体可看成是一个溶解 的过程,杂质为溶质,原晶体为溶剂,这 种溶解了杂质原子的晶体称为固溶体。
(二)按点缺陷产生的原因分类
• 热缺陷 • 杂质缺陷 • 非化学计量结构缺陷
热缺陷
• 也称为本征缺陷。 • 定义:当晶体的温度高于0K时,由于晶体内
氧化锆中掺氧化钙,可提高氧化锆的热稳定性。
非化学计量缺陷
定义:指组成上偏离化学中的定比定律,所 形成的缺陷。它是由基质晶体与介质 中的某些组分发生变换而产生。
特点:某些化学组成随周围气氛的性质及其 分压大小而变化。是一种半导体材料。
4.2缺陷化学反应表示法
• 1、缺陷化学:凡从理论上定性定量地把材 料中的点缺陷看作化学实物,并用化学热 力学的原理来研究缺陷的产生、平衡及其 浓度等问题的一门科学,称为缺陷化学。
(a)无原子的阵点位置 (b)双空位
间隙原子(Self-interstitial): (d)挤入点阵间隙的原子
肖特基缺陷 (Schottky Defect):(c)离子对空位
弗兰克尔缺陷(Frenkel Defect):(e)等量的正离子空位和正离子间隙
4.1.1 点缺陷
• 空位:
distortion of planes
Vacancy
• 填隙原子:
-"extra" atoms positioned between atomic sites.
distortion of planes
selfinterstitial
3
杂质原子/离子
填隙杂质原子
置换杂质原子
4.1.1.1点缺陷的类型
• (一)根据其对理想晶格偏离的几何位置及 成分来划分
示缺陷所在位置,VM含义即M原子位置是空的。 2.间隙原子(interstitial)亦称为填隙原子,用Mi、
Xi来表示,其含义为M、X原子位于晶格间隙位置。
3. 错位原子 错位原子用MX、XM等表示,MX的 含义是M原子占据X原子的位置。XM表示X原 子占据M原子的位置。
4. 自由电子(electron)与电子空穴 (hole)
第四章 晶体结构缺陷
• 1、缺陷的定义:通常把晶体点阵结构中周期性 势场的畸变称为晶体的结构缺陷。
• 2、理想晶体:质点严格按照空间点阵排列的晶 体。
• 3、实际晶体:存在着各种各样的结构的不完整 性的晶体。
• 4、晶体缺陷对材料性能的影响:
• 点缺陷与材料的电学性质、光学性质、材料的 高温动力学过程有关。
分别用e,和h ·来表示。其中右上标中的一撇 “,”代表一个单位负电荷,一个圆点“ ·源自文库代 表一个单位正电荷。
5.带电缺陷
在NaCl晶体中,取出一个Na+离子,会 在原来的位置上留下一个电子e,,写成 VNa’ ,即代表Na+离子空位,带一个单位 负电荷。同理,Cl-离子空位记为VCl ·, 带一个单位正电荷。
Frenkel缺陷特点
1. 空位、填隙原子成对出现,两者数量相等; 2. 晶体的体积不发生改变; 3. 间隙——六方、面心立方密堆中的四面体和八面
体空隙; 4. 不需要自由表面; 5. 一般情况下,离子晶体中阳离子比阴离子小,即
正负离子半径相差大时,易形成Frenkel缺陷。
Schottky缺陷
种类,而用一个右下脚标来表示这个缺陷 的位置。右上角标表示有效电荷数。
4.2 缺陷化学反应表示法
Kroger-Vink表示法: 以二元化合物MX为例 大写字母:原子;下标:位置;上标:电荷
名称
符号
正常原子
MM, XX
• 正常格点上的原子迁移到表面,从而在晶 体内部留下空位。
原子
表面
空位
内部
增加了表面,内部 留下空位
Schottky缺陷特点
1. 只有空位,没有填隙原子; 2. 如果是离子晶体,阳离子空位和阴离子空
位成对出现,两者数量相等,保持电中性; 3. 需要有自由表面; 4. 伴随新表面的产生,晶体体积增加; 5. 正负离子半径相差不大时,Schottky缺陷
空位 填隙原子 错位原子 溶质原子(LS)
VM, VX Mi, Xi MX, XM LM, SX
名称
符号
溶质原子
Li, Si
带电缺陷(NaCl) VNa’, VCl˙
自由电子
e’
电子空穴
h˙
缔合中心
VMVX, MiXi
4.2缺陷化学反应表示法
4.2.1点缺陷的符号表征:Kroger-Vink符号 以MX型化合物为例: 1.空位(vacancy)用V来表示,符号中的右下标表
即:VNa’=VNa+e,,VCl ·=VCl+h·。
原子热振动,使部分能量较大的原子离开平 衡位置造成缺陷,称为热缺陷。 • 产生原因:晶格振动和热起伏 • 两种基本类型的热缺陷
Frenkel缺陷 Schottky缺陷
Frenkel缺陷
• 由于晶格上原子的热振动,一部分能量较大的原 子离开正常位置,进入间隙变成填隙原子,并在 原来的位置留下一个空位。
• 线缺陷的产生及运动与材料的韧性、脆性密切 相关。
• 面缺陷的取向及分布与材料的断裂韧性有关。
4.1缺陷的类型
• 空位 • 填隙原子/离子 • 取代原子/离子
• 位错
• 晶界
点缺陷
线缺陷 面缺陷
2
4.1.1. 点缺陷(Point Defect):
任何方向尺寸都远小于晶体线度的缺陷区
空位 (vacancy):
为主;
杂质缺陷 亦称为组成缺陷或非本征缺陷
定义:是由外来杂质的引入所产生缺陷。 特征:如果杂质的含量在固溶体的溶解度范围
内,则杂质缺陷的浓度与温度无关。这 与热缺陷是不同的。
杂质缺陷对材料性能的影响:由于外来杂质的 影响使材料原有性质发生改变,如在陶瓷材 料及半导体材料中,为了得到特定性能的材 料,往往有意添加杂质。提高材料的性能。
• 填隙原子:原子进入晶体正常结点之间的间 隙位置,称为填隙原子或间隙原子。
• 空位:正常结点没有被原子或离子所占据成 为空节点,称为空位。
• 杂质原子:外来原子进入晶格就成为晶体中 的杂质。 有取代原子;间隙式杂质原子;
固溶体。
• 取代原子:这种杂质原子取代原来晶格中 的原子而进入正常结点的位置。
• 间隙式杂质原子:杂质进入晶体中本来就 没有院子的间隙位置,生成间隙式杂质原 子。
• 固溶体:杂质进入晶体可看成是一个溶解 的过程,杂质为溶质,原晶体为溶剂,这 种溶解了杂质原子的晶体称为固溶体。
(二)按点缺陷产生的原因分类
• 热缺陷 • 杂质缺陷 • 非化学计量结构缺陷
热缺陷
• 也称为本征缺陷。 • 定义:当晶体的温度高于0K时,由于晶体内
氧化锆中掺氧化钙,可提高氧化锆的热稳定性。
非化学计量缺陷
定义:指组成上偏离化学中的定比定律,所 形成的缺陷。它是由基质晶体与介质 中的某些组分发生变换而产生。
特点:某些化学组成随周围气氛的性质及其 分压大小而变化。是一种半导体材料。
4.2缺陷化学反应表示法
• 1、缺陷化学:凡从理论上定性定量地把材 料中的点缺陷看作化学实物,并用化学热 力学的原理来研究缺陷的产生、平衡及其 浓度等问题的一门科学,称为缺陷化学。
(a)无原子的阵点位置 (b)双空位
间隙原子(Self-interstitial): (d)挤入点阵间隙的原子
肖特基缺陷 (Schottky Defect):(c)离子对空位
弗兰克尔缺陷(Frenkel Defect):(e)等量的正离子空位和正离子间隙
4.1.1 点缺陷
• 空位:
distortion of planes
Vacancy
• 填隙原子:
-"extra" atoms positioned between atomic sites.
distortion of planes
selfinterstitial
3
杂质原子/离子
填隙杂质原子
置换杂质原子
4.1.1.1点缺陷的类型
• (一)根据其对理想晶格偏离的几何位置及 成分来划分
示缺陷所在位置,VM含义即M原子位置是空的。 2.间隙原子(interstitial)亦称为填隙原子,用Mi、
Xi来表示,其含义为M、X原子位于晶格间隙位置。
3. 错位原子 错位原子用MX、XM等表示,MX的 含义是M原子占据X原子的位置。XM表示X原 子占据M原子的位置。
4. 自由电子(electron)与电子空穴 (hole)
第四章 晶体结构缺陷
• 1、缺陷的定义:通常把晶体点阵结构中周期性 势场的畸变称为晶体的结构缺陷。
• 2、理想晶体:质点严格按照空间点阵排列的晶 体。
• 3、实际晶体:存在着各种各样的结构的不完整 性的晶体。
• 4、晶体缺陷对材料性能的影响:
• 点缺陷与材料的电学性质、光学性质、材料的 高温动力学过程有关。
分别用e,和h ·来表示。其中右上标中的一撇 “,”代表一个单位负电荷,一个圆点“ ·源自文库代 表一个单位正电荷。
5.带电缺陷
在NaCl晶体中,取出一个Na+离子,会 在原来的位置上留下一个电子e,,写成 VNa’ ,即代表Na+离子空位,带一个单位 负电荷。同理,Cl-离子空位记为VCl ·, 带一个单位正电荷。
Frenkel缺陷特点
1. 空位、填隙原子成对出现,两者数量相等; 2. 晶体的体积不发生改变; 3. 间隙——六方、面心立方密堆中的四面体和八面
体空隙; 4. 不需要自由表面; 5. 一般情况下,离子晶体中阳离子比阴离子小,即
正负离子半径相差大时,易形成Frenkel缺陷。
Schottky缺陷