有关官能团的保护
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有机合成中得基团保护、导向基(高考必备)
(一)基团保护
在有机合成中,些不希望起反应得官能团,在反应试剂或反应条件得影响下而产生副反应,这样就不能达到预计得合成目标,因此,必须采取对这些基团进行保护,完成合成后再除去保护基,使其复原。
对保护措施一定要符合下列要求:①只对要保护得基团发生反应,而对其她基团不反应;②反应较容易进行,精制容易;③保护基易脱除,在除去保护基时,不影响其她基团。
下面只简略介绍要保护得基团得方法。 1、羟基得保护
在进行氧化反应或某些在碱性条件进行得反应,往往要对羟基进行保护。如防止羟基受碱得影响,可用成醚反应。
防止羟基氧化可用酯化反应。 2、对氨基得保护 氨基就是个很活泼得基团,在进行氧化、烷基化、磺化、硝化、卤化等反应时往往要对氨基进行保护。
(1)乙酰化
(2)对NR 2可以加H + 质子化形成季铵盐,– NH 2也可加H + 成 – NH 而保护。
3、对羰基得保护
羰基,特别就是醛基,在进行氧化反应或遇碱时,往往要进行保护。对羰基得保护一般采用缩醛或缩酮反应。
4、对羧基得保护
羧基在高温或遇碱性试剂时,有时也需要保护,对羧基得保护最常用得就是酯化反应。
5、对不饱与碳碳键得保护
碳碳重键易被氧化,对它们得保护主要要加成使之达到饱与。
(二)导向基
在有机合成中,往往要“借”某个基团得作用使其达到预定得目得,预定目
– OH –OR
– NH 2 CH 3COCl
或酸酐
–NH 2-C -CH 3 O
–COOH + R –OH – COOR
H +
–CHO + 2ROH – CH(OR)2
H +
-O -C -R
O
– OH
得达到后,再把借来得基团去掉,恢复本来面貌,这个“借”用基团 我们叫“导向基”。当然这样得基团,要符合易“借”与易去掉得原则,如由苯合成1,3,5 – 三溴苯,在苯得亲电取代反应中,溴就是邻、对位取代基,而1,3,5 – 三溴苯互居间位,显然不就是由溴得定位效应能引起得。但如苯上有一个强得邻、对位定位基存在,它得定位效应比溴得定位效应强,使溴进入它得邻、对位,这样溴就会呈间位,而苯环上原来并无此类基团,显然要在合成时首先引入,完成任务后,再把它去掉,恰好氨基能完成这样得任务,因为它就是一个强得邻、对位定位基,它可如下引入:
– H → – N O2 → – NH2 ,同时氨基也容易去掉:– NH 2 → – N → – H 因此,它得合成路线就是
:
根据导向基团得目得不同,可分为下列几种情况: 1、致活导向
假如要合成 可以用 但这种方法产率低,因为丙酮两个甲基活性一样,会有副反应发生: 但在丙酮得一个甲基上导入一个致活基团
,使两个甲基上得氢得活性有显著差别,这可用一个乙酯基(–CO OC 2H 5)导入丙酮得一个甲基上,则这个甲基得氢有较大得活性,使这个碳成为苄基溴进攻得部位,因此,利用乙酰乙酸乙酯而不用丙酮,完成任务后,把乙酯基水解成羧基,利用– 酮酸易于脱羧得特性将导向基去掉,
于就是得出合成路线为: 2、致钝导向 活化可以导向,有时致钝也能导向,如合成
氨基就是很强得邻、对位定位基,进行取代反应时容易生成多元取代物:
如只在苯胺环上得氨基得对位引入一个溴,必须将氨基得活性降低,这可通过乙酰化反应来达到,同时乙酰氨基就是一个邻、对位定位基,而此情况下对位产物就是主要产物:
3、利用封闭特定位置来导向
H 2N Br NH 2
+ Br 2
NH 2
Br Br Br NH 2
Br
NHCOCH 3
Br
Br 2 H 2O
NHCOCH 3 NH 2
NH 2
NO 2
O
C 6H 5
O
+ C 6H 5
Br
O
C 6H 5
C 6H 5 Br O COOC 2H 5
C 2H 5ONa O 2H 5 C 6H 5
O COOC 2H 5 1)H 3O
2)△
C 6H 5
O O
C 6H 5 C 6H 5
Br
碱 C 6H 5 Br
碱
O
C 6H 5 C 6H 5 O
例如合成 ,用苯胺为起始原料,用混酸硝化,一方面苯胺易被硝酸氧化,另
一方面,苯胺与硫酸还会生成硫酸盐,而 就是一个间位定位基,硝化时得到
,所以苯胺硝化时,要把苯胺乙酰化后,再硝化。
由于乙酰基此时主要就是对位产物,所以仍不能达到目得。如果导向一个磺
酸基,先把氨基得对位封闭,再硝化,可以得到满意结果:
– NH 3SO 4H
NH 2
NHCOCH 3
NO 2
(90%)
NHCOCH 3
+ NO 2
NHCOCH 3 微量
NH 2
NO 2
(主要)
+ NH 2
NO 2
微量
NH 2 NHCOCH 3
SO 3H
NHCOCH 3
NH 2 NO 2
NO 2 NHCOCH 3
SO 3H
57%H 2S
煮沸
NH 2
NO 2