平磨的原理

平磨的原理:

一.平磨的原理:

就是利用抛光粉的磨削作用和玻璃表面与水的水合作用来进行玻璃表面的表面处理。

玻璃研磨分为粗磨和细磨，粗磨是用粗磨料将玻璃表面粗糙不平或多余留量磨去，有磨削作用，使玻璃制品具有需要的形状和尺寸，但是玻璃表面会留下凹陷坑和裂纹层，需要用细磨料进行细磨，使凹陷坑和裂纹层变细，但还是细的毛面，之后由抛光工序使玻璃变成透明，光洁的表面。研磨盘材质一般为铸铁，也可用黄铜盘。磨料基本为自由磨料的水悬浮液，其硬度必须大于被研磨玻璃的硬度。

玻璃的研磨过程先是磨盘与玻璃表面作相对运动，自由磨料在磨盘负载下对玻璃表面进行划痕和剥离的机械作用，同时玻璃上产生微裂纹。磨料所用的水既起冷却作用也与玻璃的新剥离面产生水解作用，产生硅胶，有利于进一步剥离作用，所以研磨过程除了机械磨削作用，还有一定的化学作用，从而周而复始在玻璃的表面形成了有凹陷的毛面，同时也产生一定深度的裂纹层。

玻璃的抛光是把研磨最后的毛面变成光亮的表面，既要除去凹陷层和裂纹层两者合起来可能有10---15um,抛光盘面常用材料:毛毡，硬沥青和无纺布,聚氨酯和聚四氯乙烯等等.用尼龙,铝,锌等薄片外覆盖薄沥青层的柔性抛光盘，这种抛光盘沿着被加工工件表面始终与之保持吻合状态，此外采用浸渍氧化铈的发泡氨基甲酸乙酯抛光盘可以实现高迅抛光。

抛光粉常用材料：

氧化铁Fe2O3（红粉）赤褐 0.56，氧化铈CeO2 0.88-1.04，氧化镧，氧化钛，氧化锆ZrO2 0.78，氧化铝，氧化铬Cr2O3 0.28和氧化钍ThO2 1.26等等。软质的火石玻璃用性软的磨料（氧化铈），硬质的硼硅玻璃和石英玻璃用性硬的磨料（氧化锆）。

在研磨和抛光过程中，研磨盘和抛光盘的材质，转速，压力，以及磨料的种类和规格，悬浮液的浓度，给料量，以及磨料的溶解度，棵粒大小和是否产生沉淀和室内温度有关。

细磨1：将玻璃表面粗糙不平或余留部分磨去，有磨削作用，但玻璃表面留下了凹陷坑和裂纹层，通过细磨2，使凹陷坑和裂纹层变的很细，但还是细的毛面。一般用铸铁或者黄铜盘和金刚沙，

细磨后凹陷坑深度为3-----4um和裂纹层深度3------12um

合计10---------15um，光学玻璃的磨消量还大。

常用玻璃的磨消量分布：105----150um的碳化硅磨料

最后经过抛光工序使玻璃变得透明，光洁。

抛光速度;8----10um/h

平磨：玻璃抛光时,在抛光盘压力和磨料Fe2O3,ZrO2,CeO2等等作用下,产生热振动的非谐性,使玻璃表面有流动性,而使玻璃表面平坦.

二.平磨的技术要领:

1.磨料的要领:

磨料的硬度,磨料的溶解度(浓度)决定磨削量,磨料水浮液的干净度决定玻璃的表面品质。生产中主要体现在过滤粉水和达到一定浓度还有粉水的供给量。

2.抛光皮的要领：

一般用的是无纺布，主要要看无纺布的柔软度，粗糙度决定磨削量和干净度决定玻璃的表面品质。生产中主要体现在刮皮和清机。

3.环氧板的选择：

环氧板的厚度小于加工玻璃的厚度的5---15c,环氧板的齿要完好，环氧板的大小要适中包括直径，内腔的大小和环氧板之间的距离要适中，内腔的平滑度所以使用前要把内腔的毛刺除去。均匀放置5个行星环氧板到下盘面上使轮齿正确齿合，且用清水保持盘

面湿润，用右手从吸塑盘中将待加工的玻璃放入行星环氧板腔中，将五指张开平摸玻璃表面，检查所有玻璃是否嵌入型腔内。

4.生产操作要领：

首先要测量玻璃的厚度和检查外观综合考虑要磨掉多少厚度，然后根据机台的实际磨削量来确定时间或转数，最后才是决定机台转速，生产完成后要测量玻璃的厚度的检查玻璃的外观，从而确定生产的玻璃的厚度在规定的范围内并且外观的完好。

5.厚度控制：

第一次生产时在厚度的控制上要为以后再加工留余量。

6．正压和反压的压力控制进行抛光速度的提高，反压太大会出现上盘下落后启动时出现上盘自动上升，太小会出现上升上盘时上升不上去。

7．平磨的操作注意事项：主要是要挂安全挂勾和放安全横木，有些机器在清洗下盘时要把开关打到修盘否则启动后上盘会自动下落。

8．计数器：机器下盘有一个计数感应器。

9．要注意中央轴的上升控制旋钮和机器是否有在上升时的压力缓冲。

稀土抛光粉具有抛光速度快、光洁度高和使用寿命长的优点，与传统抛光粉-铁红粉相比，不污染环境，易于从沾着物上除去等优点。用氧化铈抛光粉抛光透镜，一分钟完成的工作量，如用氧化铁抛光粉则需要30～60分钟。所以，稀土抛光粉具有用量少、抛光速度快以及抛光效率高的优点。而且能改变抛光质量和操作环境。一般稀土玻璃抛光粉主要用富铈氧化物氧化铈之所以是极有效的抛光用化合物，是因为它能用化学分解和机械摩擦二种形式同时抛光玻璃。稀土铈抛光粉广泛用于照相机、摄影机镜头、电视显像管、眼镜片等的抛光。中外合资包头 天骄清美稀土抛光粉有限公司是我国目前最大的稀土抛光粉厂之一，年生产能力1200吨，产品销往国内外。

氧化铈;cerous oxide

分子式 ： Ce02

分子量:172．13

CAS 号：12014-56-1

规格:

按纯度分为：低纯：纯度不高于99％，高纯：99.9％~99.99％，超高纯99.999％以上按粒度分为：粗粉、微米级、亚纳米级、纳米级

安全说明:产品无毒、无味、无刺激、安全可靠，性能稳定，与水及有机物不发生化学反应，是优质玻璃澄清剂、脱色剂及化工助剂。

主要用作玻璃脱色剂 、玻璃抛光粉、也是制备金属铈的原料，高纯氧化铈也用于生产稀士发光材料.溶于水，能溶于强无机酸。用作玻璃的脱色、澄清剂、高级抛光粉，还用于陶瓷电工、化工等行业。

三.平磨的核心内容介绍:

平磨在行业内主要分为粗磨,细磨,抛光A,抛光B,和LP三大部分,粗磨和细磨主要是进行厚度的磨削,二者之间主要是磨粉颗粒的大小不同,从而在玻璃表面产生的微裂纹大小不同而也;抛光 A 主要是进行正单玻璃的生产,主要目的是进行微裂纹的消除和控制玻璃厚度的目的,抛光B主要是进行返修品的生产,把玻璃表面的表面应力进行一定程度的消除和进行表面划伤的消除.LP主要是进行表面处理,提高玻璃表面的品质和表面的强度.

四.平磨的技术改进方面：

1．取消细磨和一定程度的抛光：一定程度的减少抛光的数量，主要是利用采购玻璃的厚度与产品厚度相当，最好是在产品厚度的上限，并且所采购原料的表面品质比较好的前题下，进行开料和CNC生产过程中进行比较好的品质控制，从而使到平磨的产品表面品质良率在50%