正电子湮灭
正电子湮没谱实验数据处理方法
正电子湮没谱实验数据处理方法陈志权1. 正电子寿命谱分析方法:通常正电子湮没的寿命谱可以写为一到几个指数成分之和:∑==ni i I t L 1i(1) texp(-)(τ其中τi 及I i 为正电子在处于不同湮没态时的湮没寿命及其强度。
上式是在理想情况下的正电子寿命谱表达式。
在实际测量中,由于仪器存在时间分辨率,我们测量所得到的寿命谱变成了理想寿命谱与谱仪时间分辨函数的卷积:∑∫=∞′−′′−=ni t i t t d e t t R I N t Y i 1(2) )()(λN t 为实验测量寿命谱的总计数。
R(t)为谱仪的时间分辨函数。
通常认为是高斯函数形式:(3) 2log 2,1)(2)/(FWHM e t R t ==−σπσσ其中FWHM 为高斯函数的半高宽(Full Width at Half Maximum),σ为标准偏差。
则Y(t)可变换成如下的形式:(4) )/2/(21)(2)2/(1σσλσλλt erfc e I N t Y i t n i i t i i −=+−=∑其中,erfc(x)称为误差余函数,它的定义为:(5) 21)(1)(02dt e x erf x erfc xt∫−−=−=π在正电子寿命谱中,时间零点不是在t=0,而是在t 0处。
因此上式实际上为:(6) 2(21)(0)2/()(120σσλσλλt t erfc e I N t Y i t t n i i t i i −−=+−−=∑另外,在实际的正电子寿命谱测量中,Y(t)通常是以多道分析器(MCA)中每一道的计数来表示的。
为考虑道宽的影响,应建立每道中计数的数学表达式,即第j 道的计数Y j 应为从时间t j-1到t j 的积分,即为:(7) )(1dt t Y Y jj t t j ∫−=(8) )]()([201101,,σσλt t erf t t erf Y Y I Y j ni j j i j i iij −+−−−=−=−∑ 式中: (9) 2()2/()(,20σσλσλλt t erfc eY j i t t j i i j i −−=+−−利用高斯-牛顿非线性拟合算法,对实验测量的正电子寿命谱进行拟合,即可得到正电子在各个湮没态下的寿命τi及其强度I i。
正电子湮没技术
息有利于现场测量特点,在固体物理、材料科学及 物理冶金和化学等领域得到了越来越广泛旳应用。
正电子发展历史
❖ 1939年狄拉克从理论上预言正电子旳存在 ❖ 1932年安德森,1933年Blackett和Occhian Line从试验上观察到正电子
旳存在
1 d
2 d
I1
f
1
2 2
f d f d
I2
1 2
f
d
(9)
低缺陷浓度近似
❖ 当缺陷浓度很低时,和都很小,由式(4) 和(7)可近似求得如下成果:
❖ 热化后旳正电子处于正电子导带带底旳基态, 即非局域旳布洛赫态,并服从玻尔兹曼分布:
f
(E , T
)
(m
kBT
)3 2
exp(
E
kBT )
正电子在固体物质中旳捕获
❖ 在热扩散阶段,正电子波函数可能会与晶格 中旳点阵缺陷交迭。因为不具有带正电原子 实旳点阵空位是正电子旳吸引中心,假如吸 引势足够强,正电子波函数会局域到缺陷处 形成局域态或称作正电子捕获态,直到与缺 陷处旳电子湮没为止。
❖ 空位型缺陷涉及: 空位 刃型位错 空位团 微孔洞等。
空位
刃位错点阵示意图
堆垛层错缺陷
晶粒间界
缺陷旳表达符号
点缺陷名称
点缺陷所带有效电荷
×
中性
·
正电荷
’ 负电荷
缺陷在晶体中所占的格位
❖ 点缺陷名称:空位缺陷用V,杂质缺陷则用该杂 质旳元素符号表达,电子缺陷用e表达,空穴缺陷 用h表达。
❖ 缺陷符号旳右下角旳符号标志着缺陷在晶体中所 占旳位置:用被取代旳原子旳元素符号表达缺陷 是处于该原子所在旳点阵格位上;用字母i表达缺 陷是处于晶格点阵旳间隙位置。
正电子湮没寿命谱在材料科学中的应用
正电子湮没寿命谱在材料科学中的应用正电子湮没寿命谱(positron annihilation lifetime spectroscopy, PALS)是一种研究物质内部空位和微观结构的非破坏性表征技术。
它利用正电子和负电子之间的湮灭过程,探测材料中正电子的寿命特性,得到关于材料空位和缺陷的信息。
在材料科学研究中,正电子湮没寿命谱具有广泛的应用,如材料缺陷诊断、微观结构表征、材料性能研究等领域。
一、正电子湮没寿命谱的基础原理正电子湮没寿命谱是基于正电子和负电子相遇时发生湮灭的过程实现的。
正电子是带正电荷的电子的反粒子,具有很高的动能和易于运动的特点。
正电子湮灭就是指正电子和负电子相遇后消失的过程,同时会产生两个γ光子。
当正电子在物质中的能量足够低,处于几电子伏特的水平时,它将与材料中的电子形成一个束缚态,这个过程我们称之为电子-正电子对的形成。
那么,正电子在被材料中活跃的空位捕获后形成类似原子态的寿命,寿命结束时,正电子和电子相遇发生湮灭。
正电子和负电子相遇的湮灭过程,释放出了两次能量相等, 频率为511 KeV 的γ射线,这些γ射线的能量被用来确定正电子和负电子的湮灭位置。
二、正电子湮没寿命谱在材料缺陷诊断中的应用在材料科学中,正电子湮没寿命谱有广泛的应用,应用最为广泛的领域之一是材料缺陷诊断。
材料中的缺陷局限在空间结构中,可以通过正电子湮没寿命谱进行精确的检测和表征。
考虑到正电子的动能和大小,只有当正电子可以和空位相遇时,才能发生湮灭。
因此,正电子湮没寿命谱可以检测材料中的空位和缺陷。
如材料中的空穴、氢气包裹和晶粒边界等,都可以通过正电子湮没寿命谱进行检测。
正电子湮没寿命谱可以测试材料的缺陷密度,缺陷类型和缺陷深度等信息。
对于材料的缺陷诊断,正电子湮没寿命谱具有很高的检测灵敏度。
三、正电子湮没寿命谱在材料微观结构表征中的应用除了材料的缺陷诊断,正电子湮没寿命谱还可以用于材料的微观结构表征。
正电子湮没寿命谱可以测量材料的密度、晶体结构和晶粒尺寸等参数,从而了解材料的物理性质。
核分析课设:正电子湮没辐射角关联
主要用途与发展动态
正电子湮灭辐射的角分布测量对于金属辐照损伤的研究也 22 2 很灵敏。钼样品是放在中子通量达 10 cm 的反应堆中进 行中子照射。通过正电子湮灭辐射角关联曲线测量表明: 辐照后的钼样品角关联曲线变窄了很多。这种变化可以借 助于理论(空洞形成)作定量的估算。
主要用途与发展动态
正电子湮没机理
正电子可以在晶格中自由扩散,直至与电子湮没,这叫做自 由态湮没; 也可以被带有等效负电荷的晶格缺陷或空穴 所捕获(束缚)而停止扩散,最后在缺陷中湮没,称为缺陷捕 获(束缚)态湮没。
在气体、液体中和某些固体(如结构疏松的聚合物)的表面, 还可能束缚一个电子,形成正负电子共存的正电子素的束缚 暂稳态,其结类似于质子和电子构成的氢原子,而它的核 心为极轻的正电子,其原子量只有氢的1/920,结合能为氢的 1/2,然后再产生湮没。
正电子湮没机理
正电子与电子相互作用而湮没时,可以产生一个光子、两个光子或 三个光子。发射单个光子时,要求有第三者(原子核或原子内层电子) 存在,吸收反冲动量,这一过程的相对几率很小,可忽略。若正电子和 电子的自旋反平行,则他们在湮没时发射两个方向相反的γ光子。若正 电子和电子的自旋相互平行,则在湮没时发射三个光子。产生三个光子 的湮没几率却远小于产生两个光子的湮没几率。根据计算,双光子湮没 几率与三光子湮没几率之比为372:1。
生物组织中主要含有碳、氮和氧分别存在发射正电子的核素11C、 14N和15O。如果利用这些放射正电子的核素合成有生理关系的标记化 合物,如11Co, 11Co2 等,引入生物组织中,通过正电子与组织器官 的相互作用,然后对发射的γ射线进行测量或照像,就可以研究生物 组织器官的新陈代谢,组织化学成分,血液循环,病理过程等课题。 由于所使用的这些放射性核素的半衰期都不长,在人体中的照射量很 小,因此不会或者很少造成对人体的损伤。由于以上个方面的特点, 正电子湮灭技术对医学研究将成为很有发展前途的一项技术。
正电子湮没参量及其所反映物质信息的探讨
正电子湮没参量及其所反映物质信息的探讨正电子湮没技术(PES)是一种比传统测量方法更精确和更灵敏的分子物理实验手段。
它以超低能量的正电子来测量表面分子的特性,可以提供从几何结构到物质状态的全方位的如谱数据和信息。
正电子湮没的参量,如位能、湮没行为、湮没深度等,是PES实验中最重要的几个参量。
它们可以提供有关物质结构、动力学和化学性质的重要信息,从而为研究分子物理化学等方面提供重要的信息。
首先说明一下正电子湮没位能(IP),它是正电子与原子核的相互作用的能量。
IP的大小可以反映元素的化学结构和电子配对,并反映了物质的电子结构和化学布局。
通常情况下,IP的大小会随着原子的原子序数的增加而增加,并且具有化学稳定性的趋势。
正电子湮没行为(EA)也可以反映物质的电子配对和化学活性。
EA的大小取决于原子核周围的空间结构,在湮没前面该原子上有多少个电子,而且这些电子的能量配置是怎样的。
此外,湮没深度(ED)也可以反映物质的结构信息,ED定义为正电子湮没过程中,正电子全部湮没掉所需要的能量。
ED可以用来区分不同物质,并反映出其内部结构的变化。
ED的值大小可以用来判断不同物质的反应情况。
正电子湮没参量可以用不同的方法测量,常用的有传感器及电敏元件、X射线等几种技术。
无论是使用传感器及电敏元件,还是X射线技术,测量PES参量的基本原理都是电子的结构和能量的变化。
传感器及电敏元件技术可以用来测量正电子湮没行为和正电子湮没深度,而X射线技术则可以用来测量正电子湮没位能。
由于PES技术可以提供解析度极高的信息,因此在不同的研究领域中都有着重要的应用。
在分子化学和物理化学研究中,PES参量可以提供有关于物质的位置和活动的准确信息;在生物化学研究中,它可以为蛋白质活性酶的结构功能关系提供重要的线索;于材料分子科学领域,PES参量可以提供有关分子结构和物理性质的信息,从而为材料分子科学提供重要的基础信息。
总之,正电子湮没参量可以为化学和生物等多个不同领域提供重要的信息。
正电子湮灭谱测试
正电子湮灭谱测试
正电子湮灭谱(PES)测试是一种量子化学的实验,用于研究分子的电子结构和化学反应机理。
它通过检测正电子湮灭事件发生的能量和角度,可以测量分子电子态的能量和振动结构。
正电子湮灭谱测试的原理是,当一个正电子与分子中的核碰撞时,电子会从分子中湮灭,释放出能量。
这些能量,即电子湮灭的能量,是由正电子的能量转变为电子湮灭的角度和能量组成的。
正电子湮灭谱测试可以检测电子湮灭过程中释放的能量和角度,从而测量分子电子态的能量和振动结构。
正电子湮灭谱测试的典型实验装置包括一个正电子源,用于产生撞击分子的正电子;一个电子检测器,用于检测湮灭电子的能量和角度;一个谱仪,用于计算和显示湮灭电子的能量和角度;以及一个控制系统,用于控制测试过程。
正电子湮灭谱测试的结果可以用来研究分子的电子结构和化学反应机理。
它可以用来检测分子的振动模式,从而推断分子的结构和反应机理,以及研究物质的性质。
此外,正电子湮灭谱测试还可用于探索物质结构的变化,以及研究新的材料和分子的性质。
总之,正电子湮灭谱测试是一种量子化学的实验,用于研究分子的电子结构和化学反应机理。
它可以检测电子湮灭的能
量和角度,从而测量分子电子态的能量和振动结构。
研究人员可以利用正电子湮灭谱测试探索分子的结构和反应机理,以及研究新的材料和分子的性质。
正电子湮没实验方法_lx-1
正电子湮没技术
• 正电子源
• 源的活度由所研究的课题及实验装置决定
• 角关联测量:不考虑辐射损伤,活度从毫居到居
• 寿命测量:源活度是最大允许偶然符合率的函数
• 偶然符合指来自不同核事件的1.27MeV和0.51MeV光子 间发生的
•
源活度A
=
允许的偶然符合率 所研究的时间区间∗真符合率
• 例:时间区间为100ns,允许偶然符合率与真事件符合 率之比为0.01,则源活度应为105Bq。
• 能量变化的大小与电子动量有关。所以从湮没γ 能谱的测量可以获得介质中电子动量分布信息。
正电子湮没技术
• 3.多普勒展宽测量
• 装置
• 用高能量分辨本领的固体探测器可以探测正电子 湮没辐射的多普勒展宽;
• 高纯锗探测器测到的湮没信号经逐步放大后输入 多道分析器MCA,得到湮没辐射的能谱。
主放大器
• 1.正电子寿命测量
• 3)恒比定时甄别器(CFD)或恒比微分甄别器 (CFDD): 产生定时信号控制时幅转换TAC。
• 恒比定时甄别器(CFD):用于快--慢符合系统的快 通道,是为了克服光电倍增管输出脉冲的噪声和 波形涨落引起的时间误差(晃动),和输出脉冲上 升时间、幅度不一致引起的时间游动(时移)对脉 冲前沿定时的影响。
正电子湮没技术
• 3.多普勒展宽测量
• 优点:
• 多普勒展宽谱仪的计数率比角关联系统大近一百 倍,测量时间短,一般用5μCi的源测量1小时就 足以满足统计精度,试验成本低。
• 缺点:
• 此系统的分辨率不够高。目前Ge探测器最好的能 量分辨在511KeV处为1keV,相当于4mrad的等效角 分辨率,这比角关联装置的分辨率大约差一个数 量级;
正电子湮没谱学-笔记
目录正电子湮没谱学简介.................................................................................- 2 - 正电子湮没寿命谱......................................................................................- 6 - 正电子湮没多普勒展宽能谱.......................................................................- 8 - 正电子湮没角关联谱................................................................................ - 10 - 慢正电子束流技术.................................................................................... - 11 - 脉冲慢正电子束 ....................................................................................... - 13 - 装置配件 .................................................................................................. - 14 - 文献分析 .................................................................................................. - 18 -正电子湮没谱学简介e+和e−具有相等的静止质量m0=9.1×10-31kg,所带电荷的数值都为单位电荷e=4.8×10-10静电单位,但电荷性质相反,二者具有相等的磁矩ge/(2m0c)。
正电子湮没技术
正电子湮没技术什么是正电子湮没技术?正电子湮没技术是一种用于研究材料结构和性质的重要实验手段,它利用正电子(也称作反电子)与电子相遇并湮灭的现象,通过观察湮没产生的γ射线和湮没产物的运动信息,来获取有关材料的相关信息。
正电子湮没的基本原理正电子是带有正电荷的电子,它与电子相遇后会发生湮灭现象。
在湮灭过程中,正电子和电子的质量全部转换为能量,直接以γ射线的形式释放出来。
正电子湮没技术利用γ射线的特性,通过测量γ射线的能谱和湮没产物的动量信息,来研究材料的物理和化学性质。
正电子湮没技术的应用正电子湮没技术在材料科学和物理学的研究中有着广泛的应用。
材料表面和界面研究正电子湮没技术可以用来研究材料的表面和界面性质。
通过测量湮没产生的γ射线能谱和湮没产物的动量信息,可以确定材料表面的电子态密度和表面缺陷的分布情况。
这对于了解材料的物理和化学性质,以及表面缺陷对材料性能的影响具有重要的意义。
密封材料研究正电子湮没技术可以用来研究密封材料的性能。
密封材料在各种工程应用中起着关键的作用,因此了解其性能和结构非常重要。
正电子湮没技术可以通过测量材料中正电子的湮没行为,来获取关于材料母体结构和密封性能的信息。
纳米材料研究正电子湮没技术在纳米材料研究中有着重要的应用。
纳米材料具有独特的物理和化学性质,其性能受到尺寸效应和界面效应的影响。
正电子湮没技术可以用来研究纳米材料的电子态密度分布、表面缺陷、界面结构等相关信息,进而揭示纳米材料的特殊性质和性能。
正电子湮没实验的步骤正电子湮没实验通常包括以下几个步骤:1.正电子产生:通过激光或者放射性同位素的衰变,产生正电子。
2.正电子注入材料:将产生的正电子注入到待研究的材料中。
3.正电子湮没:正电子与材料中的电子相遇并湮灭,在湮灭过程中产生γ射线。
4.γ射线测量:通过γ射线探测器测量湮没产生的γ射线的能谱。
5.动量分辨:通过动量分辨设备测量湮没产物的动量信息。
6.数据分析:对测量到的能谱和动量信息进行分析,提取材料的相关性质。
正电子湮没分析技术
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(2)正电子的性质
正电子总是和普通电子成对产生,只是在磁场中弯向不同的方向。 正电子与普通电子具有相同的静止质量和自旋,所带的电荷和电子 的电量相等;不同之处在于电荷是正的,且具有正的磁矩。 正电子比较罕见,只在某些宇宙射线中,或γ射线轰击过程中,或 不稳定同位素的原子核衰变时才会出现;而普通电子较容易发现,在一 切原子的原子核外都可发现。 按照能量高低可以分为: 高能正电子 ( > 2 MeV) 低能正电子 ( < 2 MeV,用于正电子湮没技术)
工业催化剂表征
正电子湮没分析技术
主讲教师:李永峰
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概述
(1)正电子的发现历程
1930年英国物理学家 P.A.M.Dirac 从理论上提出电子有两种,一种 是带负电荷的电子,一种是带正电荷的电子,即首次预言了正电子的存 在。 1932年美国物理学家 C.D.Anderson 首先在宇宙射线中发现正电 子。 1933年英国物理学家 P.A.M.Dirac 获得Nobelprize。 1933年 C.D.Anderson 进一步用γ射线轰击的方法产生了正电子。 1936年美国物理学家 C.D.Anderson 也获得Nobelprize。
对于理想单一结构的试样,该寿命谱是一支单指数曲线,正电子 湮没平均寿命就是试样的本征寿命。 但对于复杂结构的试样,正电子湮没平均寿命是各个结构所贡献 寿命的权重叠加。目前解谱程序只能给出3-4个寿命。
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应用于检测金属内部缺陷
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正电子湮没谱的类型
正电子湮没寿命谱 正电子湮没多普勒能谱展宽 双γ湮没辐射角分布
第二章:正电子湮没谱学
• 图2.1
22 11
Na
的衰变图
第二章:正电子湮没谱学 2、正电子湮没谱学的基本原理 2.2 正电子源
• 正电子源可为固态、液态或气态,大都使使用固 态。
• 固态使用时一般又有三种方式:
• 第一种方式是把所制备的放射性同位素(如22NaCl) 水溶液滴在一片极薄[每乎方厘米几毫克重]而致密 的膜(也称衬底—substrate)上,如镍箔、Mylar膜 等,蒸发干燥后,再覆盖同样的薄膜,四周封接, 成为夹心(sandwiched)源。测量时把两片试样夹 于源的两侧。它的优点是更换试样方便,不玷污 试样,缺点是正电子湮没谱线中有源的衬底膜成 分的贡献;
第二章:正电子湮没谱学 2、正电子湮没谱学的基本原理 2.3正电子湮没过程
• 其湮没截面比是:
3 2
1 137
1 2
4
• 此处
1
137
是精细结构常数。
第二章:正电子湮没谱学 2、正电子湮没谱学的基本原理 2.3正电子湮没过程
• 正电子湮没过程中的主要事件是双光子辐 射。文献中绝大部分工作均采用双辐射的 正电子湮没。本文的以下介绍除特别指出 外,全部指的双辐射的正电子湮没。
第二章:正电子湮没谱学 2、正电子湮没谱学的基本原理 2.3正电子湮没过程
• 正电子与电子的湮没辐射是一个相对论过 程,遵循电荷、自旋、能量、动量守恒和 选择定则,一个正电子进入介质后,通过 与离子、电子的非弹性散射等相互作用, 在极短的时间内就几乎失去其全部动能, 成为与分子热运动相平衡的热化正电子 (thermolized positron),然后以T量级的动 能在介质中扩散、迁移,直到与一个电子 相遇而湮没辐射出光子。
第二章:正电子湮没谱学 2、正电子湮没谱学的基本原理 2.2 正电子源
气体中的正电子湮没
小分子:Feshbach共振正电子湮没理论,所有的振动模与入射正电子有很大的偶极子耦合。湮没率是正电子能 量的函数,是共振之和,共振大小由于能量有关的g因子给出。 大分子:没有成功的定量理论,现在还是用VFR形式去描述Zeff。
(10)大分子总结
有几个确定的性质:
1、一系列峰值随正电子-分子束缚能而向下漂移。 2、分子的振动自由度的数目随分子大小的增加而增加,VFR随IVR而增强(IVR是受限制的)。 3、目前为止,非弹性逃逸通道是相对不重要。 因为大分子内部的复杂情况,导致它的湮没过程的理论理解没有在小分子中发展得那么好,急需一个可靠的 VFR增强湮没机制。 研究大分子的一些方法,如阱基束方法、正电子入射引起俄歇谱、正电子导致的离化和正电子吸附等技术
4.5.2 大分子的振动Feshbach共振(VFR)湮没
能量分辨湮没测量:使用阱基束,它的特点是能量低而且可控 1.能量分辨湮没的实验测量(可控能量的湮没测量) 小分子也可能有共振湮没,但是大分子的共振湮没更明显。
2.湮没于大分子
正电子首先通过振动“门口态”束缚到分子上(如通过耦合模基分子振动模有关的Feshbach共振模式 (VFR)),振动能量转移到暗态,此过程是分子间振动能量重新分布(IVR)。
(
2
)
利
用
彭
宁
阱
技
术
,
测
量
正
电
子
热
化
后
的
有
效
电
子
数
Z
t
h eff
密度低(<10-7 amagat,amagat是密度单位,1amagat=2.69×1019cm-3)
4.2 在高密度气体中的实验
正电子湮没技术[1]
见”的电子密度越低,则其寿命越长。
正电子湮没技术[1]
湮没对的动量守恒
v 正电子和电子的湮没特性不仅与介质中电子 浓度有关,还和电子动量分布有关。
v 湮没对的动能一般为几个eV。在它们的质心 坐标系中,光子的能量精确地为0.511MeV,
式子右边都是由实验 可测量的量,因此可 求出值。
正电子湮没技术[1]
捕获率与缺陷浓度C的关系
v 通常从物理上认为,缺陷对正电子的捕获率 正比于缺陷浓度C,即有:
v 式中为单位浓度的缺陷对正电子的捕获率, 即比捕获率,它对于某一定材料中的某种缺 陷在一定条件下可看作常数。
v 由实验数据计算得出的值的变化可反映样品 中缺陷浓度的变化。
v 其中vL是湮没对质心的纵向速度,等于PL/2m0,由 于光子能量正比于它的频率,可以得到能量为m0c2 时,其多普勒能移为:
v 湮没辐射的线形反映了物质中电子的动量分布。而 物质结构的变化将引起电子动量分布的变化。所以 测量正电子湮没角关联曲线和多普勒展宽谱可以研 究物质微观结构的变化。
正电子湮没技术[1]
的存在 v 1934年MoHorovicic提出可能存在e+-e-的束缚态 v 1937年LSimon和KZuber发现e+-e-对的产生 v 1945年A. Eruark命名正电子素Positronium(Ps) v 1945年A. Ore提出在气体中形成正电子素的Ore模型 v 1951年M. Deutsch首先从实验上证实Ps的存在 v 1953年R. E. Bell和R. L. Graham测出在固体中正电子湮没的复杂谱 v 1956年R. A. Ferrell提出在固体和液体中形成Ps的改进后的Ore模型;广
正电子湮灭
正电子湮灭正电子湮灭仪正电子湮没技术(PAT)是一项相对较新的核物理技术。
它利用凝聚态物质中正电子的湮没辐射来揭示物质的微观结构、电子动量分布和缺陷状态等信息,从而提供一种非破坏性的研究方法,受到人们的青睐。
目前正电子湮没技术已进入固体物理、半导体物理、金属物理、原子物理、表面物理、超导物理、生物学、化学和医学等诸多领域。
特别是在材料科学研究中,正电子在微缺陷和相变研究中发挥着越来越重要的作用。
正电子湮灭技术的发展概况正电子湮没是一种核技术,可以研究气体、液体和固体(晶体或非晶),因此研究领域非常广泛。
由于正电子主要与物质中的活跃电子相互作用,因此获得的信息能更好地反映物质的电子结构和化学环境的变化。
它提供了比光谱、质谱、核磁共振和电子自旋共振更多的信息。
该技术不仅需要亚纳秒电子技术,而且设备和数据处理简单,易于建立和掌握。
此谱法的缺点是,各种物质的谱数据可能相类似,因而特征性差些。
另外,至目前为止,这方面工作还是处在探索和建立规律的阶段,有待完善理论工作以指导应用。
正电子湮没技术的基本原理一种研究物质微观结构的方法。
正电子是电子的反粒子,两者除电荷符号相反外,其他性质(静止质量、电荷的电量、自旋)都相同。
正电子进入物质在短时间内迅速慢化到热能区,同周围媒质中的电子相遇而湮没,全部质量(对应的能量为2mec2)转变成电磁辐射──湮没γ光子。
50年代以来对低能正电子同物质相互作用的研究,表明正电子湮没特性同媒质中正电子―电子系统的状态、媒质的电子密度和电子动量有密切关系。
随着亚纳秒核电子学技术、高分辨率角关联测量技术以及高能量分辨率半导体探测器的发展,可以对正电子的湮没特性进行精细的测量,从而使正电子湮没方法的研究和应用得到迅速发展。
现在,正电子湮没技术已成为一种研究物质微观结构的新手段。
正电子的性质1928年dirac在求解相对论性的电子运动的dirac方程时预言正电子的存在,1932年andersan在威尔逊云室研究宇宙射线时发现了正电子。
正电子湮没
正电子湮没技术基本原理陈志权自从1930年由英国物理学家P. Dirac从理论上预言了正电子的存在,以及1932年美国物理学家C.D. Anderson在宇宙射线中发现了正电子的存在以后[1],正电子湮没谱学(Positron Annihilation Spectroscopy,PAS)首先在固体物理中得到了应用,并在六十年代后期得到了飞速发展。
它已在材料科学,特别是缺陷研究和相变研究中发挥了重大的作用。
正电子是电子的反粒子,除所带电荷与电子相等,符号相反之外,其它特性均与电子相同。
正电子进入物质后遇到电子会发生湮没,同时放射两个或三个湮没γ光子。
用核谱学方法探测这些湮没辐射光子,可以得到有关物质微观结构的信息[2]。
利用正电子湮没谱学研究材料具有许多优点。
它提供了一种非破坏性的探测手段,因为信息是由穿透材料湮没辐射所带出的。
它不需要特殊的样品制备。
另外,在某些应用中,它还可以做原位研究,如在升温过程中的化学反应动力学过程等等。
实验证明,正电子湮没谱学是研究金属、半导体、高温超导体、高聚物等材料中的微观结构、电荷密度分布、电子动量密度分布极为灵敏的工具[3-4]。
一、正电子在固体中的热化、扩散和捕获现象常规正电子源通常是具有β+衰变的放射性同位素,如22Na、64Cu等。
从放射源中发射出来的正电子(E<1MeV)进入固体材料后,首先将在约1ps内通过与物质中原子的各种非弹性散射作用(如电子电离、等离子体激发、正电子--电子碰撞、正电子--声子相互作用等元激发过程)迅速损失能量并慢化至热能(∼0.025eV)[5]。
其在材料中的深度分布近似满足下面的指数关系[6-7]:式中ρ为固体的密度,E max为入射正电子的最大能量。
对于最常用的正电子源22Na,其E max=0.545MeV,因此正电子在固体中的注入深度约为100µm左右,所以由正电子湮没所得到的是材料的体态信息。
热化后的正电子将在体内作扩散运动,其扩散长度为∼100nm,在扩散过程中如果遇到电子会与之发生湮没,放出两个或三个γ光子。
正电子湮没技术基本原理
正电子湮没技术基本原理2.1前言在20世纪30年代发现了正电子,40年代起人们把它应用于固体物理研究,60年代末又将它广泛应用于材料科学,80年代又把它应用于表层和表面研究。
正电子湮没谱学实验技术主要有三种:多普勒能谱、寿命谱和角关联(其装置分别简称为多普勒仪、寿命谱仪和角关联装置)。
PAT之所以能得到迅速的发展是由于它具有许多独特的优点:(1)PAT研究是样品中原子尺度缺陷,这些缺少原子的缺陷在X衍射、电镜中研究颇为困难。
(2)PAT对样品的温度几乎是没有限制,如可以跨越材料的熔点或凝固点,而信息又是通过贯穿能力很强的γ射线携带出来的,因此易于对样品作高低温的动态原位测量,即一面升降温一面测量,或在测量时施加电场、真空、磁场、高气压等特殊环境。
(3)它对样品材料种类没有什么限制,可以是固、液或气,可以是金属、半导体、高分子或绝缘体,可以是多、单晶、液晶或非晶等,总而言之,凡是与材料电子密度及电子的动量有关的问题,理论上都可用PAT来研究。
(4)室温测量下的PAT的制样方法简便易行,仪器也不太复杂,使它容易得到推广。
2.2正电子和正电子湮没2.2.1物理量上表列出了正电子与电子的一些物理属性。
2.2.2正电子湮没正电子遇到物质中的电子时会发生湮没,这时正电子、电子的质量全都转变为γ光子的能量,湮没时主要发射2个γ光子,称为2γ湮没或双光子湮没。
对于实验室,用的最多是放射性同位素源,而其中最广泛使用的是Na 22,Na 22相对于其他正电子源有几个优点:①其半衰期长达2.6a ;②正电子产率高达90%;③在发射正电子的同时,还会伴随发射一个能量约为1.28MeV 的γ光子。
它的衰变方程为:ν++→+*+e Ne Na 2222 (1) )28.1(2222MeV Ne Ne γ+→* (2) 第(1)个方程衰变后的几个皮秒内,第(2)方程便衰变了。
一般从放射源发射出的正电子能量大约在几百千电子伏特到几兆电子伏特之间,正电子进入物质后,大约在s 1210-量级内动量降至kT 量级(室温下约为0.025eV )。
正负电子湮灭
应用领域广泛
正负电子湮灭技术在医学、材料科 学、天文学等领域具有广泛应用, 如正电子发射断层扫描(PET)等 。
推动科学发展
对正负电子湮灭的研究有助于推动 粒子物理学及相关领域的发展,为 新技术和新应用提供理论基础。
正负电子湮灭概述
定义与过程
正负电子湮灭是指正电子与负电子相遇 时,它们会相互结合并消失,同时释放 出能量,通常表现为光子的形式。
社会关注
提高公众对正负电子湮灭技术的认知度和关注度,促进科技交流和普及
。
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当一个电子和一个正电子 相遇时,它们会互相吸引 并接近到足够近的距离, 然后发生湮灭。
能量释放
在湮灭过程中,电子和正 电子的质量会完全转化为 能量释放出来。
光子产生
释放的能量通常以光子的 形式辐射出去,这些光子 可以继续与其他粒子相互 作用。
能量守恒与动量守恒
能量守恒
在正负电子湮灭过程中,电子和 正电子的总能量等于产生的光子 的总能量。
探测器技术及应用
闪烁体探测器
利用闪烁体材料将粒子 能量转化为光信号进行
探测。
半导体探测器
切伦科夫探测器
利用半导体材料的电离效 应探测粒子,具有高分辨
率和低噪声等特点。
利用切伦科夫辐射产生 的光子探测高速粒子。
量能器
测量粒子沉积的总能量 ,用于粒子鉴别和能量
测量。
数据获取与处理
数据获取系统
01
包括电子学系统、触发系统和数据获取软件,用于实时采集和
正负电子湮灭
汇报人: 2024-03-04
目录 CONTENTS
• 引言 • 正负电子湮灭基本原理 • 实验方法与技术 • 正负电子湮灭在物理学中的应用 • 正负电子湮灭在技术与工程中的应
第九篇 正电子湮没技术及应用
λ=πr02cne = 4.52×109ρZ/A(s-1)
由表达式可以看出,湮灭几率λ与正电子的速度 无关。通过测量λ就能直接求出正电子湮灭时它所在 处物质的电子密度ne; 因此,正电子能够用作检验介质中电子密度的一 种检验粒子。
18
湮灭信息反映物质中电子的动量分布。
P湮灭对的动量 光子的动量
放射性同位素 及其试剂
C15O,C15O2, 15O
12N,12N-谷氨酸,
12N
12C(d,n)12C(p,n) 16O(p,d)10B(α,n)
12NH2,12NaO
11CO,11CO ,11C2
13C
11B(p,n)10B(d,n) 10B(α,n) 14N(p,
α)
葡萄糖
19F
15O(p,n)19F(n,2n) 19F(d,n)20Ne(d,
7
4、正电子的基本物理特性
正电子是电子的反粒子;又称阳电子,一般用符号e+ 表示。两者除电荷符号相反外,其他性质(静止质量、 电荷的电量、自旋)都相同。 正电子的来源 宇宙射线中的正电子 放射性核素的正β+ 衰变
22Na
positron β decay
energy
Eγ=1277 keV
8
电子对效应
29
1、对金属材料辐照效应的研究 正电子寿命实际上反映了空洞的直径, 因此正电子湮灭技术可以作为探测小空洞的 生长情况和材料发生膨胀的一种敏感探针。
30
31
32
2、正电子湮灭技术在医学上的应用实例
放射性同位素
15O
半衰期(分)
2.04 9.96 20.4 109
主要产生方式
16O(n,2n)14N(d,n) 12C(d,n)
金属氢化物的正电子湮没研究
金属氢化物的正电子湮没研究近年来,金属氢化物正电子湮没一直受到科学家们的极大关注,因为它不仅是重要的物理化学问题,而且还涉及到宇宙中的众多逸品。
正电子湮没是金属氢化物的一种重要特性,其中电子束分子可以被完全湮没,而湮没的能量将释放出来,从而影响金属氢化物的性质。
这种现象都是出现在大量催化反应中,所以研究金属氢化物正电子湮没非常重要。
正电子湮没是指金属氢化物中电子被完全湮没到集质子层中,释放出湮没能量的过程。
电子在氢原子核中湮没时,形成中空的团簇,由于团簇结构,金属氢化物的性质会有所变化,如热力学性质、电学性质、光学性质等。
如果能控制正电子湮没过程,就可以实现金属氢化物的调控。
正电子湮没对金属氢化物的性质具有重要作用,因此,研究金属氢化物正电子湮没可以为金属氢材料及研究相关催化反应提供重要技术支持。
近年来,科学家们通过改变电子自旋和多样的内核环境来控制正电子湮没,改变金属氢材料的性质。
令人激动的是,科学家们发现,金属氢化物的正电子湮没速率随着多样的内核环境的改变而发生显著的变化。
此外,科学家们还在研究金属氢化物的正电子湮没中,电子跃迁能改变金属氢化物的结构和性质。
电子跃迁是指在金属氢化物中,电子由低能量态移动到高能量态发生的过程,因此,金属氢化物的结构和性质会有所变化。
科学家们发现,电子跃迁的速率直接影响金属氢化物的性质,从而提高催化效果。
最后,金属氢化物正电子湮没在许多反应过程中起着重要作用,研究金属氢化物正电子湮没确实是一项重要的任务。
因此,研究者们应该努力探索金属氢化物正电子湮没的机理,以更好地控制金属氢化物的性质,并取得更大的成功。
综上,金属氢化物正电子湮没一直受到科学家们的极大关注,它涉及到重要的物理化学问题,也参与了宇宙中的众多逸品的分解。
正电子湮没是金属氢化物的一种重要特性,是指金属氢化物中电子被完全湮没到集质子层中,释放出湮没能量的过程。
电子跃迁也是影响金属氢化物的结构和性质的重要因素,研究者们应该努力探索金属氢化物正电子湮没的机理,以获得良好的控制效果。
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正电子湮灭
正电子湮灭技术
正电子湮没技术(Positron Annihilation Technique-PAT)是一门把核物理和核技术应用于固体物理与材料科学研究的新技术,近20多年来该技术得到了迅速发展。
正电子湮没技术包括多种实验方法,其中最常用的主要有3种,即正电子湮没寿命谱测量、2γ湮没角关联和湮没能量的Doppler展宽。
简言之,正电子湮没技术是通过入射正电子与材料中电子结合湮没来反映材料中微结构状态与缺陷信息的。
与其他现代研究方法相比,正电子湮没技术具有许多独特的优点。
首先,它对样品的种类几乎没有什么限制,可以是金属、半导体,或是绝缘体、化合物、高分子材料;可以是单晶、多晶、纳米晶、非晶态或液晶,只要是与材料的电子密度、电子动量密度有关的问题,原则上都可以用正电子湮没的方法进行研究。
第二,它所研究的样品一般不需要特殊制备,其制样方法简便易行。
另外,正电子湮没技术对材料中原子尺度的缺陷和各种相变非常灵敏。
如今正电子湮没技术作为一种新型的应用核分析技术,已广泛应用于材料科学、物理、化学、生物、医学、天文等领域,本文仅就正电子湮没技术在测试领域研究中的一些基本应用(原理)作一介绍。
正电子湮没无损测试技术是一种研究物质微观结构的方法,一种先进的材料微观结构-自由体积的探测和表征技术,可用于固体物理晶体缺陷与材料相结构与相结构转变的研究,目前已成为一种研究物质微观结构、缺陷、疲劳等的新技术与手段。
检测实施过程中,放射源作用材料时会产生带有正电荷的、尺寸与电子相当的质点,这种
正电子可以被纳米大小的缺陷吸引而与电子相撞击。
在正负电子撞击过程中,两种质点湮没,从而放出一种伽玛射线。
伽玛射线能谱显示出一种清晰可辨的有关材料中的缺陷大小、数量以及型别的特征。
显然,这些特征可以标识最早阶段的损伤,即裂纹尚未出现的损伤;同时可以在不分解产品的情况下定量地评估其剩余寿命,笔者对该技
术的原理及其应用进行了介绍。
正电子湮没无损测试所采用的正电子源最初来自于放射源的β+源,通过放射源的作用在材料中产生正电子。
在含损伤材料中,位错、空位等缺陷表现为负电荷,由于库仑引力,在材料中扩散的正电子会因吸引而被捕获,停止扩散,正电子在缺陷中停留一段时间之后就会湮灭。
正负电子在湮没时会放出两个180°背向的511keVγ光子。
实际上,正负电子在湮没时一般都非静止状态,因此由正负电子组成的质心系本身在实验室系统下仍具有一个随机的速度,这个速度的大小和方向都是不确定的,根据被分析物体状况的不同而具有某种确定的分布。
由于该速度的存在,在实验室观察到的湮没γ光子的能量将不再是511keV,而是略大或略小,表现为多普勒展宽。
与内层电子和价电子相比,处在缺陷内的电子密度和动量都较小,因此正电子在湮没之后放出511keVγ光子的多普勒展宽也较小。
相反,如果材料中不存在缺陷,则正电子更容易被内层电子所捕获,而内层电子的速度较大,因此多普勒展宽较大。
可见,用适当的参数描述谱线形状的变化,可获取有关缺陷效应的信息,实现无损评估。
由于正电子在物质中的射程很短,仅为毫米量级,所以采用放射源的方法只能对材料的表面进行分析,无法对材料的内部缺陷进行检测。
这使得正电子湮没分析对大体积物体的检测受到了限制。
为克服采用放射源时正电子湮没测试不适合于大体积物体检测的缺点,光致正电子湮没技术得以发展。
这种技术利用高能X射线产生正电子,由于高能X射线具有很强的穿透性,因此即使是大体积的物体,X射线也可在其深处产生正电子,适合于对大体积的材料进行无损测试与评价。
测试方法主要有正电子寿命测量、湮没γ角关联测量和湮没谱线多普勒增宽三类。
正电子寿命测量法通常用22Na作正电子源,源强为几微居里到几十微居里。
测试设备类似核能谱学中常用的系统,称之为正电子寿命谱仪,谱仪时间分辨率一般为3×10-10s左右,最好的已达1.7×10-10s。
22Na放射的正电子入射到测试样品中,同其中
的电子发生湮没,放出γ射线。
用1.27MeV的γ光子标志正电子的产生,并作为起始信号,511keV的湮没辐射γ光子标志正电子的“死亡”,并作为终止信号。
两个信号之间的时间就是正电子的寿命。
在凝聚态物体中,自由正电子湮没的平均寿命在1~5×10-10s范围内。
双γ角关联方法利用长狭缝角关联测量系统,该系统的正电子源通常为64Cu,22Na,58Co,测量时相对于固定探头以Z方向为轴转动另一探头,测出符合计数率随角度的分布,就可以得到电子在某个方向上的动量分布。
该方法要求高精度的机械设备和强源(几十毫居里的点源),典型的角分辨力为0.5mrad。
有些工作采用多探测器系统可作两维动量分布的测量。
测量多普勒增宽谱使用高能量分辨力Ge(Li)或高纯锗半导体探测器,测量湮没辐射的能谱。
能量分辨力可达1keV(对85Sr,514keV的γ射线)左右。
这种方法的优点是只需用几微居里的弱源,获取数据快,适用于动态研究。
缺点是获取的数据粗糙,对湮没电子动量的分辨不如角关联试验好,典型情况下差四倍。
该技术在固体物理中应用最广泛,可用来研究晶体缺陷(空位、位错和辐照损伤等)、固体中的相变、金属有序-无序相变等。
在化学中可用于研究有机化合物的化学反应、鉴定有机物结构中的碳正离子、研究聚合物的微观结构等。
正电子湮没无损测试技术可用来研究物质微观结构及其变化,其实质是用线性加速器的光束来穿透材料。
在测试过程中,产生带有正电荷的、尺寸与电子相当的质点(正电子),被缺陷吸引而与该区域的负电子发生碰撞,两种电荷质点湮没放出的伽玛射线能谱(γ光谱)可显示出清晰可辨的有关材料中的缺陷大小、数量以及型别的特征。
根据这些γ光谱响应数据和正电子系统的分析方法,通过采用重合寿命法不仅可获得有关缺陷集中数据,而且也可获得缺陷的形式和尺寸数据,获得定量疲劳或脆裂损坏估计值。
正电子湮没无损测试技术能检测机械、结构第二层材料的疲劳失效,是非破坏性检验中确定原子层的结构完整性、疲劳和脆裂问题的
一项重要技术。
传统的无损检测方法,如涡流和X射线法,仅在可见裂纹或者缺陷已扩展到裂纹发生阶段之后是有用的。
而正电子湮没测试技术能在裂纹发生之前检测一个原子层的疲劳、脆裂及材料晶格损坏。
此技术在航空方面也有重要应用,美国某公司开发的光致正电子湮没无损测试技术,可有效地检测机翼中埋在第二层内的疲劳损伤,这是无损检测技术的一项重要进展。
在一次翼梁试验中,对在试样的第二层锥度紧固件孔内的一个已知损伤进行了分析。
对损伤及未损伤部位进行了测试,发现两者的疲劳值有明显差异,而其中的钛合金层的厚度变化对测试值并无影响。