卧式磁控溅射机操作规程

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磁控溅射仪操作规范

JSD450-Ⅲ型磁控溅射镀膜机
操作步骤及规范
开机
1、打开冷水机。

设定温度：冬天10-15℃，夏天5℃
2、打开放气阀破真空，然后关闭放气阀（之后整个工作过程务必保证放气
阀均是关闭状态。

本机阀门均是逆时针打开，顺时针关闭）
3、打开总控电源
4、打开真空计（电阻单元真空范围10Pa，电离单元0.1-10-6Pa）
5、打开灯，检查镀膜腔是否关紧（观察腔四周是否有光线）
6、打开机械泵电磁阀，此时务必保证放气阀已经关闭！！！
7、打开预抽阀
8、当压强达到10Pa以下打开分子泵→运行→关闭预抽阀→完全打开插板阀工作
1、当腔内压强真空度达到要求后，打开气罐（指针调至刻度1-2之间），关
小插板阀，仪器的工作气压为1-10Pa。

2、关闭电离单元按下“自动”→电离→打开进气阀→流量计（mL/min）
3、在保持输入气体比例基本不变的条件下调节进气量或者调节插板阀使气
压处于1-10Pa，最好是5Pa，流量计开关一般在“阀控”。

4、打开射频开关“ON”观察有无起灰，若无起灰再调节功率或进气量
关机
气体流量计归零→关闭状态→关闭进气阀→关闭控气阀→关闭插板阀→关闭气瓶→射频/直流功率归零→“OFF”→温度电源归零关闭→流量计关闭→分子泵停止待转速归零→关闭开关→关闭电磁阀→关闭机械泵→放气阀打开→放完气以后关闭。

磁控溅射设备操作规程

操作规程项目名称：JGP-450型双室磁控溅射沉积系统项目号：K08-0841、开机前准备工作⏹开动水阀，接通冷却水，检查水压是否足够大，水压控制器是否起作用，保护各水路畅通。

⏹检查总供电电源配线是否完好，地线是否接好，所有仪表电源开关全部处于关闭状态，将各电源的旋钮打到停止位置或关闭位置。

⏹检查分子泵、机械泵油是否标注到刻线处，如没有达到刻线标记应及时加油。

⏹检查系统所有阀门是否全部处于关闭状态，确定溅射室完全处在抽真空前为封闭状态。

提示：注意保持洁净的预真空环境，严禁杂物和灰尘落入真空室内或粘在胶圈上；对真空室内零部件的操作要带无尘手套。

样品和靶材需严格清洗后放入真空室内。

2、开机（大气状态下泵抽真空）确认所有电源开关都在关闭状态后，按下总电源开关，此时电源三相指示灯全亮，供电正常。

提示:如果电源三相指示灯没有全亮，应检查供电电源是否缺相。

在确认电源正常之后方可进行下一步工作。

将“断水报警”拨扭拨到“报警”，给分子泵提供冷却水。

（此时冷却水已经循环流动，无论分子泵是否运转。

当启动分子泵运转时，如果“断水报警”无翁鸣，说明供水正常；若翁鸣，则需要检查水路是否连接正常，直至翁鸣消失方可启动分子泵。

）大气状态下溅射室泵抽真空：✓启动溅射室复合真空计，将其电源开关拨到“开”位置，电阻规开始工作并显示相应真空度。

✓按下机械泵R1开关，机械泵指示灯亮，此时机械泵工作，打开旁抽阀V1,粗抽真空。

观察真空度是否有变化，当真空有继续上升的趋势时，进行下一步操作。

✓打开电磁阀DF1，机械泵R1预抽分子泵T1，并在闸板阀G2两端形成相同气压。

✓当真空计显示的真空度高于20Pa时，关闭旁抽阀V1，打开闸板阀G2。

✓打开分子泵T1电源开关，打开启动按钮，其加速指示灯亮，电源控制面板上显示频率，约8分钟，加速指示灯灭，正常灯亮，分子泵进入正常工作状态。

此时机械泵R1只充当分子泵T1的前级泵。

✓当真空度达到1.0×10-1Pa时真空计自动转换为电离规测量，读数自动跳转电离显示屏显示。

实用实验磁控溅射操作规程

磁控溅射操作规程1、开电闸开关D（磁控溅射总电源和空调），E（电风扇和射频电源），F（循环水）。

打开程序控制器，按下“放气”阀，充入N2气。

当指示灯从真空跳到大气时，关闭N2气，把充气罐移走。

2、按按钮“升”，升起腔盖，放时样品和靶材。

一个直流靶位，二个射频靶位。

直流靶只能溅射导体。

（Ar+溅射在绝缘体不中和形成高压）3、按按钮“降”，降腔盖（注意：如果控制失灵，应立即关闭控制器开关）。

盖好的判断是：盖上盖后，能摇动升降柱（送皮带送到头，然后再拉回一个皮带，再试升降柱，如果不行，再试一次）。

4、按按钮“低抽”，机械泵进行抽真空，程序控制器面板上显示从“大气”到“真空”。

当压强小于1.0×10Pa时（一般为8.7Pa左右），打开循环水进出阀（共四个阀门），再打开循环水总开关F，启动隔壁房间内的循环水。

循环水进出阀横是开、纵是关。

5、在程序控制器中打开“高抽”阀。

再启动分子泵电源：先按下启动总开关，到显示屏幕显示450HZ时，再按“启动”键，可以看到转速在上升，直至450HZ。

6、当离子规小于1.0×10－2Pa时，打开程序真空计电源。

7、当程控真空计显示达到1.5×10－3Pa时，打开照明（旋钮打到最大），相当于除气（使腔体内壁上分子脱离），可以看到气压求数变大（真空计）。

同时打开流量显示仪预热和打开射频电源预热，然后关闭照明（旋钮打到最小）。

8、如果要加热样品，则把开关由“照明”切换到“加热”，打开温度显示屏底下的加热开关，并通过旋动温度显示屏下方的小旋钮调节设置温度。

9、到达预计压强8.4×10－4Pa左右时，关闭程控真空计。

打开“充气”阀，关闭“高抽”阀，打开Ar气罐总阀，再打开减压阀（不要超过一小格），控制Ar流量。

真空计打到“contr”档，打开流量计“阀控”，先将真空计拨到0.5，流量计也拨到0.5，当流量计求数开始变动时，再将真空计拨到3.0，同时拨动流量计示数（约在87左右），目的是让求数打到3Pa。

磁控溅射操作步骤及注意事项

磁控溅射设备操作步骤1. 开电源箱三个空气开关，从左到右依次为循环水机，磁控溅射，各分接插座的空开。

2. 压缩空气泵开始工作，已设定气压上限0.8MPa （8个大气压），待抽至0.4MPa （各气动阀门工作的最低压强）即可开循环水机，接着开磁控溅射设备电源控制柜的总开关。

3. 若上次实验结束时对腔室气压抽得较低（<0.2Pa ），此时复合真空计（左边一个）会显示电离规测得的高真空，按下“自动/手动”将电离关掉。

开放气阀，向腔室通大气至复合真空计显示1E5（0.1MPa ，1个大气压）即可打开腔室顶盖。

4. 靶及基片安装好后，用万用表检查靶与屏蔽罩，基片台与腔室是否短接，开始抽真空。

磁控溅射设备操作前级阀主阀旁路阀节流阀充气阀1 预抽：开机械泵，前级阀，先抽分子泵管道内至<5.0Pa 。

√××√×2 抽腔室：关前级阀，开旁路阀，充气阀，抽反应腔室至<5.0Pa 。

××√√√3 抽腔室：关旁路阀，开前级阀，主阀，开分子泵，将腔体抽至E-4Pa 数量级，开加热器升温，升温时真空度会上升，抽至E-4Pa 。

√√×√√4 实验：关电离规，关节流阀，通氩气，将气体流量计（右边的）开到阀控（中间位置），先进行靶清洗5min 。

再用双极脉冲电源或射频电源进行基片清洗，清洗15min 。

打开靶挡板和基片挡板开始实验。

√√××√5 镀膜结束：停氩气，开节流阀，继续抽腔室，等待降温。

√√×√×6 取基片：降温至80以下，关主阀，关分子泵，分子泵由450降到0，等待2min ，关前级阀，开放气阀慢慢放气使腔室达到外界大气压。

×××√×5. 将腔室抽到10Pa 以下，以保护腔室内部器件。

关机械泵及控制柜总开关。

关冷却水，将三个空开全部关掉。

磁控溅射与分子束外延安全操作及保养规程

磁控溅射与分子束外延安全操作及保养规程1. 引言磁控溅射和分子束外延是一种常用的薄膜生长技术，广泛应用于材料科学、表面工程、光电子学和纳米器件制备等领域。

然而，这些技术涉及高温、高真空和高能量密度等危险因素，因此在操作过程中必须严格遵循安全操作规程，以确保实验人员的人身安全和设备的正常运行。

本文将介绍磁控溅射和分子束外延的安全操作规程和日常保养注意事项。

2. 磁控溅射安全操作规程2.1 准备工作•安全防护：佩戴防护眼镜、手套和防护服，确保人身安全。

•仪器检查：检查溅射装置的各个部件是否完好无损，确保仪器正常工作。

•工作环境：确保操作场所干燥、通风良好，避免引发火灾和爆炸。

2.2 操作步骤1.打开溅射装置的真空泵，并监控真空度的变化，确保达到所需的工作真空度。

2.将待沉积的靶材安装到溅射装置中，并确保靶材表面干净平整。

3.连接电源，确保正负极的接线正确，避免电源短路。

4.打开气体进气阀，将工作气体注入溅射装置，注意控制气体流量和压力。

5.打开溅射源开关，产生磁场并加热靶材，开始溅射过程。

6.溅射结束后，关闭气体进气阀，关闭溅射源开关，待装置冷却后方可停止真空泵运行。

7.清理工作区域，清除沉积物和废气，保持工作区环境整洁。

2.3 安全注意事项•高真空环境下操作时，避免突然打开大气门，以免引起爆炸或损坏真空装置。

•注意靶材的选择和安装，避免使用破损或有毒的靶材。

•在溅射过程中，要随时检查溅射源和真空泵的运行情况，确保仪器正常工作。

•操作过程中禁止随意触碰溅射源和加热装置，以免烫伤。

•操作完成后，尽量将溅射装置恢复至初始状态，避免对下次实验产生影响。

3. 分子束外延安全操作规程3.1 准备工作•安全防护：佩戴防护眼镜、手套和防护服，确保人身安全。

•仪器检查：检查分子束外延装置的各个部件是否完好无损，确保仪器正常工作。

•工作环境：确保操作场所干燥、通风良好，避免引发火灾和爆炸。

3.2 操作步骤1.打开分子束外延装置的真空泵，并监控真空度的变化，确保达到所需的工作真空度。

磁控溅射仪操作手册

磁控溅射仪操作手册一．设备开机：1.确认室内工作环境适合磁控溅射仪工作。

2.开电源。

在总闸打开的情况下，打开控制磁控溅射仪用电的设备开关②；开磁控溅射仪的电源开关。

3.等显示屏上能看见炉腔真空度开冷却循环水。

4.将空气阀开关调至半开状态,开氩气瓶，氧气瓶和氮气瓶至0.1MPa。

5.开分子泵。

显示屏进入正常模式之后，调制AUTO档点“AUTO PUMP”自动开启机械泵和分子泵。

然后仪器自动抽取分子泵待。

前级阀（Backing Valve）和高阀（Hi-Va）依次变绿开始抽取主真空室真空。

二．放样Ⅰ.进样1）在Arm@Home是绿色的情况下，点击“LL AUTO VENT”，送样室开始放气。

2）放完气之后，开送样室的大门，将放有待镀膜的样品的工件盘放入送样线的机械手上，关上送样室的大门，合上大门的开关。

3）点击“LL AUTO PUMP”（根据需要可能需要两次），开始给送样室抽取真空。

待LL AUTO PUMP由绿变红时，抽取真空完毕。

Ⅱ.送样1）点击“LL ISOLATION VALVE”,将进样室和主真空室的阀门打开即可开始送样。

2）传送样品时，将控制进样的“UP-DOWN”开关调到“UP”档,逆时针转动转盘，当带有工件盘的机械手到达主真空室的对应位置。

3）将控制进样的“UP-DOWN”开关调到“DOWN”档，即将工件盘送入主真空室对应工的件台上。

4）顺时针转动转盘，直至机械手移至送样室对应的部位，这时能听到进样室和主真空室的阀门关闭的响动信号，此时机械手已经归位。

三．样品清洗（AUTO模式）1.选择自动模式，依次点击“Navigate”,“AUTO CONFIGURATION”进入自动挡的电源选择界面。

2.在自动挡的电源选择界面选取偏压溅射，设置偏压溅射的参数，可以参考如下图。

设置好偏压功率，溅射时间，工件盘旋转速率，本地真空，气体流量。

3.点击“Overview”进入主界面，观察腔室的真空度，如果真空度未达到5×10-6Torr需要灌液氮辅助抽真空。

磁控溅射操作规程

磁控溅射设备操作规程开机过程1.开电柜A水阀（注意有两水路，阀门上标签为电柜左(A)，电柜右(B)）.2.开电柜A总控制电源.3.开机械泵，打开旁抽角阀V1,开低真空计电源，用机械泵抽至机械泵抽压极限(或5Pa以下).4.开闸板阀G，开电磁阀（DF1），关闭旁抽角阀V1.5.观察低压真空计示数是否稳定(稳定时即为系统不漏气)，待稳定后开分子泵(KYKY)总电源.6.观察分子泵显示窗口为闪动的600Hz时，按下分子泵启动按钮，分子泵加速.7.当分子泵转速稳定，窗口显示为600Hz后，按下高真空计DL-7电源按钮，观察真空室真空度，等待达到溅射所需的本底真空度(一般为10-4Pa).溅射过程1.关闭高真空计DL-7 (!进气之前一定要关闭，否则高真空计会被损坏)，然后打开V2，再打开V5.2.开氩气瓶总阀，开减压阀，观察其指示小于1.5格(三个大气压)即可.3.开质量流量计电源，将MFC1打到阀控位4.关小闸板阀G，此调节过程配合旋动旋钮调节气体流量，使低压真空计示数（直流溅射一般为2~5Pa之间，射频一般在5-8Pa之间）.5.开电柜B水阀，开电柜B总控制电源.(1). 直流溅射：开电柜B中相对应靶位直流溅射电源，调节功率使使靶上方氩气电离启辉.旋转功率调节旋钮，使溅射功率达到所需要的数值. 待板压和板流稳定后，转动挡板和转盘，转动挡板和转盘到相应的靶上，开始溅射并计时.溅射完毕后，将功率调节旋钮逆时针调到最小，按下停止按钮. 然后关闭电柜B的总控制电源.(2). 射频溅射：按下电柜B中射频功率源的Uf按钮，电子管预热5-10分钟.按下Ua的开始按钮，通过Ua粗调和细调增大板压，使靶上方氩气电离启辉. 调节SP-II 型射频匹配器的C1,C2(调节一个时，另一个不动)，使反射功率最小，驻波比小于1.5. 增大Ua,调节匹配器的电容使反射功率始终最小，如此反复调节使溅射功率达到所需要的数值. 预溅射几分钟后，转动挡板和转盘到相应的靶上，即可开始溅射.(3). 溅射完毕后，将Ua调到最小，按下Ua的停止按钮.等待几分钟后按下Uf按钮.然后关闭电柜B的总控制电源.（如果需要给衬底加热，方法同退火过程的5，6步骤）.靶挡板和转盘的转动：可通过电脑上的控制软件或手动转动.注意转盘和样品挡板同时转动前一定要检查定位插销，不能使转盘被卡住；只对样品进行转动操作前，需要将样品挡板卡住；为了不使加热电缆缠绕，不能大角度转动转盘.6.溅射完毕后，关闭氩气的过程：先关气瓶总阀，后关减压阀，再将MFC1打到关闭，待流量计显示为0后关闭流量计电源. 先关V5后关V2，开大闸板阀G，让分子泵将真空室抽至高真空.退火过程1.开加热控温电源，调节设定退火温度，加热电流初始调至2A，过2分钟左右依次调至4A,6A,8A，注意不要使电流太大.2.温度显示为设定温度时开始计时(退火时间).关机过程1.待真空室抽到高真空（10-4帕），关闭闸板阀G.2.按下分子泵停止按钮，分子泵减速，当频率显示低于50Hz时，关闭电磁阀.3.按机械泵按钮，停止机械泵. 当分子泵停止频率显示为闪动的600Hz时,关闭分子泵总电源. 分子泵显示窗口显示P.OFF后关闭总控制电源.4.关闭水阀，放回排气管，关严窗户.更换样品过程1.打开放气阀(V4)，使真空室和外界压强相等后，关闭V4.2.打开电柜A水阀及电柜A总控制电源，确保拔出定位插销后，按下升按钮，升起真空室盖到适当高度..3.取下样品托，更换样品.4.将真空室顶盖小心推至真空室正上方，按下“降”按钮. 小心缓慢的将真空室顶盖降下，真空室顶盖降到不能自动再降电动机会自动停止.更换靶材过程（起始过程同上述1.2.）1．用螺丝刀拧开固定靶挡板的四个螺丝，将靶挡板小心取出. 旋起靶罩并将其取出，后用内六角螺丝刀将靶盖的固定螺丝拧松，取出靶罩和靶材. 将新的靶材放在铜靶托上，盖上靶盖，拧上螺丝. 重新旋上靶罩，使靶罩和靶盖间留有一定的间隙(1-3mm或稍大)，两者不能接触，因为在溅射电源开时，靶罩为阳极，靶和靶盖为阴极(对直流溅射而言)；对射频溅射电源来说，两极一直在交替. 靶罩和靶盖相接触的话，即为短路(这一步骤必须戴布手套操作，避免手汗及油脂对真空室引入污染).5.放入靶挡板，用螺丝刀拧紧固定螺丝.6.将真空室顶盖小心推至真空室正上方，按下“降”按钮. 小心缓慢的将真空室顶盖降下，真空室顶盖降到不能自动再降时电动机会自动停止.！！请各位实验操作人员严格按照此规程操作，如有失误造成损失自行负担责任.磁控溅射设备实验室2006.4.7。

磁控溅射操作规程

磁控溅射设备操作规程开机过程1.开电柜A水阀（注意有两水路，阀门上标签为电柜左(A)，电柜右(B)）.2.开电柜A总控制电源.3.开机械泵，打开旁抽阀V1,开低真空计电源，用机械泵抽至机械泵抽压极限(或5Pa 以下).4.关闭旁抽阀V1.开闸板阀G，开前级阀（电磁阀DF1）5.观察低压真空计示数是否稳定(稳定时即为系统不漏气)，待稳定后开分子泵(KYKY)总电源.6.观察分子泵显示窗口为闪动的450Hz时，按下分子泵启动按钮，分子泵加速.7.当分子泵转速稳定，窗口显示为450Hz后，按下高真空计DL-7电源按钮，观察真空室真空度，等待达到溅射所需的本底真空度(一般为10-4Pa).溅射过程1.关闭高真空计DL-7(!进气之前一定要关闭，否则高真空计会被损坏)，然后打开充气阀V2，再打开截止阀V5.2.开氩气瓶总阀，开减压阀，观察其指示小于1.5格(三个大气压)即可.3.开质量流量计电源，将MFC1打到阀控位4.关小闸板阀G，此调节过程配合旋动旋钮调节气体流量，使低压真空计示数（直流溅射一般为2~5Pa之间，射频一般在5-8Pa之间）.5.开电柜B水阀，开电柜B总控制电源.(1).直流溅射：开电柜B中相对应靶位直流溅射电源，调节功率使使靶上方氩气电离启辉.旋转功率调节旋钮，使溅射功率达到所需要的数值.待板压和板流稳定后，转动挡板和转盘，转动挡板和转盘到相应的靶上，开始溅射并计时.溅射完毕后，将功率调节旋钮逆时针调到最小，按下停止按钮.然后关闭电柜B的总控制电源.(2).射频溅射：按下电柜B中射频功率源的Uf按钮，电子管预热5-10分钟.按下Ua的开始按钮，通过Ua粗调和细调增大板压，使靶上方氩气电离启辉.调节SP-II 型射频匹配器的C1,C2(调节一个时，另一个不动)，使反射功率最小，驻波比小于1.5.增大Ua,调节匹配器的电容使反射功率始终最小，如此反复调节使溅射功率达到所需要的数值.预溅射几分钟后，转动挡板和转盘到相应的靶上，即可开始溅射.(3).溅射完毕后，将Ua调到最小，按下Ua的停止按钮.等待几分钟后按下Uf按钮.然后关闭电柜B的总控制电源.（如果需要给衬底加热，方法同退火过程的5，6步骤）.靶挡板和转盘的转动：可通过电脑上的控制软件或手动转动.注意转盘和样品挡板同时转动前一定要检查定位插销，不能使转盘被卡住；只对样品进行转动操作前，需要将样品挡板卡住；为了不使加热电缆缠绕，不能大角度转动转盘.6.溅射完毕后，关闭氩气的过程：先关气瓶总阀，后关减压阀，再将MFC1打到关闭，待流量计显示为0后关闭流量计电源.先关V5后关V2，开大闸板阀G，让分子泵将真空室抽至高真空.退火过程1.开加热控温电源，调节设定退火温度，加热电流初始调至2A，过2分钟左右依次调至4A,6A,8A，注意不要使电流太大.2.温度显示为设定温度时开始计时(退火时间).关机过程1.待真空室抽到高真空（10-4帕），关闭闸板阀G.2.按下分子泵停止按钮，分子泵减速，当频率显示低于50Hz时，关闭前级阀.3.按机械泵按钮，停止机械泵.当分子泵停止频率显示为闪动的450Hz时,关闭分子泵总电源.分子泵显示窗口显示P.OFF后关闭总控制电源.4.关闭水阀，放回排气管，关严窗户.更换样品过程1.打开放气阀(V4)，使真空室和外界压强相等后，关闭放气阀V4.2.打开电柜A水阀及电柜A总控制电源，确保拔出定位插销后，按下升按钮，升起真空室盖到适当高度..3.取下样品托，更换样品.4.将真空室顶盖小心推至真空室正上方，按下“降”按钮.小心缓慢的将真空室顶盖降下，真空室顶盖降到不能自动再降电动机会自动停止.更换靶材过程（起始过程同上述1.2.）1．用螺丝刀拧开固定靶挡板的四个螺丝，将靶挡板小心取出.旋起靶罩并将其取出，后用内六角螺丝刀将靶盖的固定螺丝拧松，取出靶罩和靶材.将新的靶材放在铜靶托上，盖上靶盖，拧上螺丝.重新旋上靶罩，使靶罩和靶盖间留有一定的间隙(1-3mm或稍大)，两者不能接触，因为在溅射电源开时，靶罩为阳极，靶和靶盖为阴极(对直流溅射而言)；对射频溅射电源来说，两极一直在交替.靶罩和靶盖相接触的话，即为短路(这一步骤必须戴布手套操作，避免手汗及油脂对真空室引入污染).5.放入靶挡板，用螺丝刀拧紧固定螺丝.6.将真空室顶盖小心推至真空室正上方，按下“降”按钮.小心缓慢的将真空室顶盖降下，真空室顶盖降到不能自动再降时电动机会自动停止.！！！请各位实验操作人员严格按照此规程操作，如有失误造成损失自行负担责任.磁控溅射设备实验室。

磁控溅射设备操作流程

磁控溅射设备操作流程
嘿，朋友们！今天咱来聊聊磁控溅射设备的操作流程，这可真是个有趣又重要的玩意儿呢！
你看啊，这磁控溅射设备就好比是一个神奇的魔法盒子，能变出各种奇妙的薄膜。

那要怎么让它乖乖听话，施展魔法呢？
首先呢，咱得把要溅射的材料准备好，这就像是给魔法盒子准备食材一样。

得精挑细选，可不能马虎哟！然后把材料放进设备里，就好像把食材放进锅里。

接下来，要调节好各种参数，这可太关键啦！就像炒菜要控制火候和调料的多少一样。

温度啦、气压啦、功率啦等等，都得调到恰到好处，不然可出不来好“菜品”哦！
当一切都准备就绪，按下启动键，哇塞，就看着那神奇的过程开始啦！就如同一场精彩的魔术表演。

那些粒子就像小精灵一样跳跃着、飞舞着，然后在基底上形成一层漂亮的薄膜。

你说这是不是很神奇？要是参数没调好，那可就糟糕啦，就像炒菜炒糊了一样。

所以啊，得特别细心和耐心呢。

在操作过程中，还得时刻留意设备的状态，就跟照顾一个小宝贝似的。

看看有没有啥异常情况，一旦发现不对劲，得赶紧采取措施，可不能让它“生病”啦。

而且哦，每次操作完，还得给设备来个大扫除，把里面清理干净。

这就好比吃完饭要洗碗一样，不洗干净下次怎么用呀。

总之呢，操作磁控溅射设备就像是一场冒险，充满了挑战和乐趣。

只要咱认真对待，细心呵护，它就能给我们带来意想不到的惊喜。

所以呀，大家可别小瞧了这个过程，每一个环节都马虎不得呢！好好享受这个神奇的过程吧，说不定你能创造出超级厉害的薄膜哦！。

磁控溅射仪操作步骤

磁控溅射仪操作步骤（C114）1.溅射前检查设备各电源连接是否正常；各开关是否置于“关”的位置；各旋转按钮是否归零；各个阀门有没有关闭。

2.开水泵给设备送水（室外放置）。

3.开启总电源送电（西墙电源盒左下角的上下开关）。

4.开腔、取样、放样1)调靶位至最高位置2)开溅射仪设备总电源3)降下样品库4)打开放气阀（听不到进气声后，再停1分钟左右升起上盖）5)升起上盖、取样、换样；降下上盖，关闭放气阀（一定记得关闭！！）5.抽真空6)启动机械泵7)打开CF35角阀8)打开分子泵总电源（预热）9)打开热偶计10)热偶计读数在5Pa左右，关闭角阀11)打开分子泵前级阀（旁抽阀Ⅱ），抽1-2分钟左右12)按下分子泵“启动”按钮13)分子泵转速高于100后，开启闸板阀（缓慢开启，至全开）14)打开电离计，真空度达到所需气压值，记下基底气压值，准备溅射6.充Ar气16)调靶位17)打开所需要的电源（预热）和冷水增压泵A：流量计电源、样品台电源、挡板电源；B：灯丝电源（射频溅射）、排风扇+励磁电源+直流电源Power（直流溅射）18)关闭电离真空计（溅射期间不可打开电离真空计！）19)关闭闸板阀27~28圈20)打开热偶计21)打开Ar瓶、减压器旋钮，打开混气阀（缓慢开启，观察气压）22)流量计拨到“阀控”，设定电位器（缓慢调节，气压读数有滞后）7.溅射23)检查Ua粗、细调是否置0，功率量程是否200W打开靶Ⅱ24)开启射频按钮“On”（进气后灯丝预热基本结束）25)先调Ua粗调，后调细调，同时调节C1、C2，观察输出功率和反射功率指针读数（反射Pf接近0）26)观察是否有自偏压起辉（*若不起辉，开挡板或增大气压值）23)打开靶Ⅱ（开/关），调整励磁电流（1.6A）24)按蓝色按钮“SETPT”,调Level设定所需功率25)按下OUTPUT的蓝色“On”挡（开始处于Off档），使其起辉26)打开“Right Display”的Autual,查看工作功率、工作电压和工作电流（*如不起辉，开挡板或者增大气压或者增大励磁电流或者增大功率）27)预溅10~30分钟起辉稳定后，打开样品台“正转/反转”按钮，旋钮旋至2.5圈以上，打开样品挡板，立即计时。

磁控溅射器安全操作及保养规程

磁控溅射器安全操作及保养规程前言磁控溅射器是现代材料制备技术中常用的设备之一，在制备金属和非金属材料的薄膜时发挥着重要的作用。

然而，磁控溅射器操作过程中蕴含着一定的风险，在使用时需要严格遵循操作规程和注意安全事项。

同时，合理的保养和维护也能延长设备寿命，提高溅射膜的质量和稳定性。

本文将详细介绍磁控溅射器的安全操作和保养规程。

一、安全操作规程1. 设备组成磁控溅射器由溅射室、真空系统、磁场和电源等多个组成部分组成。

在使用设备时，需要熟悉设备的组成和各部分的功能，确保设备正常运行。

2. 安全电源磁控溅射器需要通过高压电源将靶材的离子轰击成溅射物，因此，电源是设备运行中不可或缺的部分。

在使用电源时，需要注意以下安全事项：•在开启或关闭电源时，必须先打开或关闭控制面板上的电源开关，避免触电危险。

•在使用电源时，必须接地，避免因静电引起的设备故障。

•使用电源时，严禁擅自拆卸或改变电路连接方式，避免因电路短路引起火灾等事故。

3. 操作步骤在操作磁控溅射器时，需要遵循以下步骤：1.开启真空泵，将溅射室内的气体排出，使设备处于真空状态。

2.将靶材安装到靶架上，并按照设备要求调整靶材的位置和方向。

3.调节磁场，使其达到溅射要求。

4.开始溅射，控制溅射时间和能量大小。

5.关闭电源，排气后，关闭真空泵。

4. 安全操作注意事项在操作磁控溅射器时，需要注意以下事项：•操作前需要穿戴好防护用具，如手套、眼镜、防护服等。

•靶材不得有严重损坏和缺陷，否则容易引起爆炸事故。

•在生产过程中及操作后，及时清理设备产生的尘粒和污物，以确保设备的正常运行。

•在更换靶材时，需要先切断电源并等待设备完全冷却后再进行操作。

•在设备故障时，应当及时切断电源，并通知专业人士进行检修。

二、保养规程为了确保磁控溅射器的正常运行和延长设备寿命，需要做好设备的保养和维护。

以下是磁控溅射器的保养注意事项：1. 设备保养•定期检查设备各部分的机械传动部件，包括马达、减速器、皮带、链条等，确保传动系统的正常运转。

小型磁控溅射仪安全操作及保养规程

小型磁控溅射仪安全操作及保养规程前言小型磁控溅射仪是一种常见的薄膜沉积设备，广泛应用于材料科学、纳米技术、光电、先进制造等领域。

小型磁控溅射仪虽然具有高效率、高精度、高质量等优点，但仪器操作和保养要求非常高，因此，为了保证设备正常运行和实验人员安全，必须遵守以下规程。

设备操作规程一、前置操作1.实验人员必须接受相关安全操作和保养培训，并经过考核通过后才能操作设备。

2.初次启动设备前，需将空气或氮气通入室内3-5小时，确保环境干燥无水。

3.操作前，要确保仪器安装稳固，各电路接线无误，附属仪器完好，工作空间清洁干燥。

二、开机操作1.按照设备说明书上相关步骤操作，启动设备。

2.首先进入手动状态，依照设备说明书规定的要求，先进入清洗等小功率运行过程。

3.启动旋转磁场，使目标材料均匀分布于附着目标靶面的高速溅射面。

4.启动真空系统，将气压降至设备要求的工作压力范围内。

三、使用过程中操作规程1.仪器内部压力不得超过设备工作要求。

2.在操作过程中，禁止随意拆动、碰触或更改任何设备的部位。

3.禁止在操作过程中使用发热器、火种、吸烟等带火源的操作。

4.禁止在设备内部操作时喧哗、奔跑、打闹等行为。

5.若发现任何设备异常，应立即停止操作，及时通知相关工作人员查明原因并修理处理。

6.完成使用后，按照设备说明书规定安全关机，关闭气源和电源等相关系统。

四、日常保养1.每日、每次操作前，检查设备各部分是否干燥干净，确保设备内部无任何残留物、杂质、水分等。

2.定期对真空泵进行保养和检修，保证泵常处于最佳工作状态保证真空度。

3.定期检查设备中存在明显电线老化或质量上问题并及时处理，保证电路运行正常。

4.每年对设备进行大规模检修，检查并更换磁控控制器、转子、真空计、减震装置、气阀等易损耗附件。

总结小型磁控溅射仪是一台高科技设备，其操作和保养要求非常高，安全操作和保养不仅可以延长设备的使用寿命，提高工作效率，而且能保障实验人员的安全。

磁控溅射设备操作流程

磁控溅射设备操作流程下载温馨提示:该文档是我店铺精心编制而成，希望大家下载以后，能够帮助大家解决实际的问题。

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准备好所需的靶材和基片，并确保其表面干净无污染。

磁控溅射操作规程

磁控溅射操作规程
20171227
磁控溅射操作规程：
①开排气阀（开氮气充气，分子泵停止时间200s走完才会开）-等排气时间600s走完；
②开盖（保持其他选项处于OFF状态）-放靶材和样品（放完万用表测量靶材和外壳处于断路状态）-
关气关排气阀；
③合盖-调节分子泵旁挡阀最大-开机械泵-开前级阀-腔室压力达到分子泵启动压力50Pa左右-开启分子
泵-开启步进电机（转盘）；
④待压强达到5×10-3 （不开挡阀的话在9×10-2）Pa左右，开启Ar/N2气阀（ON）-关闭挡阀-使腔室压
力稳定在1-5Pa左右；
⑤开冷却水-检查冷却水工作状态（是否满浸，冒泡）-调节参数（直流/射频）-开启溅射-完成镀膜；
⑥关闭（直流/射频）-关闭气阀和开关（OFF）-关水循环-关闭步进电机-关分子泵-等分子泵转速降
至8000r/s左右-关前级阀-关机械泵；
⑦开排气阀-开氮气-排气600s-腔室压力1×105Pa然后开盖（其它处于OFF）-取样-合盖-关闭排气阀
和氮气；
⑧开机械泵-开前级阀-抽到30Pa左右-关前级阀关机械泵。

▲溅射开启之前请一定要记得开冷却水，确认其处于工作状态！！！
▲如果溅射基材质轻，请注意在玻璃板上加固再放入，避免被吸入分子泵毁坏分子泵！！！。

磁控溅射设备操作规程

磁控溅射设备操作规程一、抽真空1.打开冷却水开关，打开设备总电源，红灯亮；开分子泵电源预热(10min)；2.开放气阀，放气结束后，开腔放入基片，随即关闭放气阀，闭腔；3.依次开：机械泵复合真空计4.开旁抽(先缓慢，全打开倒半圈)。

5.（待抽到5Pa以下，若有需要）清洗，具体步骤为：“一抽三冲”一抽：打开进气阀，把氧气的流量仪(右边第二个)打到“清洗”，待真空计示数减到“0”，打到“关闭”三冲：打开氩钢瓶阀，，充氩气，到50Pa时，6.三次冲洗完成，关进气阀流量计关旁抽(切勿忘记)7.开电磁阀，分子泵打到“Start”；8.开闸板阀（缓慢转到头，回转1/8圈）(等Normal, 看过载，开始抽真空)；二、溅射9.待真空度达到2×10-4 Pa时[对金属材料来讲，氧化物材料为(4-5)×10-4 Pa]，射频功率源预热10 min(按下“ON”，黄灯亮);10. 真空计的功能手动，关闭闸板阀，回转3圈；打开流量计打开进气阀11.充气，如把氩气(或者和氧气)打到”阀控”位置(注意：此时切勿打到“清洗”)；12. 调节闸板阀位置，保证压强为所需数值，如P=3Pa;13.若用右靶溅射，打到“右靶”，若用左靶溅射，打到“左靶”，并注意调节合适的量程14.预溅射(一般大功率10 min,小功率20 min)，按下射频功率源的绿色按钮，通过‘Ua粗’和‘Ua细’组合调节，获得所需功率，并通过电容C1，C2 调节保证反溅射功率最小;15.溅射过程:降低加热器衬底至标尺刻度19 cm以下，将样品转到右靶，升到5.5cm，位置，调节靶间距4.5cm,开始记时；16.右靶溅射完毕，射频功率源Ua粗调回“0”，Ua细调回“0”，暂停射频功率源(按下红灯“OFF”)；•如有必要充入氧气，当达到退火压强时(0.8 atm)关闭气路，开始程序降温;若需继续左靶溅射，则关闭氩气，氧气等，待真空计示数降为“0”时，关闭进气阀，然后全开闸板阀，重抽真空17.待抽到2×10-4Pa时，打到“左靶”，重复步骤9-15；三、关闭仪器18.溅射完毕，射频功率源Ua粗调回“0”，Ua细调回“0”，暂停射频功率源(按下红灯“OFF”)，关闭氩气，氧气等，待真空计降为“0”时，关闭进气阀，19.关闭流量计真空计关闭闸板阀分子泵打到“Stop”（冷却10min）20.10min后，关分子泵电源关电磁阀关机械泵关射频功率源关总电源。

磁控离子溅射仪安全操作及保养规程

磁控离子溅射仪安全操作及保养规程引言磁控离子溅射仪安全操作及保养规程，主要是要确保在使用过程中的相关注意事项和操作方法，以及设备保养维护的规范，能够使设备在使用中能够更加稳定可靠，确保人员人身安全和设备在长期使用中的寿命。

安全操作规程1. 前期准备1.在进行任何操作之前，都必须对设备进行彻底检查，完整记录设备现状和使用史，并在设备征用前进行全面清洗和消毒。

2.设备的电源和空气开关应该处于关闭状态，如需要操作电源，应该保持操作手干燥和穿着防静电手套。

3.佩戴符合操作规定的防护设备，包括焊接面罩、防撞眼镜、防护手套等。

2. 操作规范1.操作者应该熟悉设备的结构原理和相关知识，了解磁控离子溅射仪的工艺流程和操作流程，可制定详细的操作手册并全程尽量保持专注。

2.操作者必须按照设备的操作要求，将设备所有参数进行调整配置，保证磁控离子溅射仪在正常的工作状态下，不会对人员造成直接的伤害和威胁。

3.操作过程中应该经常进行检查，确保设备所有接口、电缆等部分没有任何松动现象，并使用红外测温枪等设备对设备进行测温，确保设备是在正常的温度范围内工作和运行。

4.操作人员必须熟悉设备的常见故障，如发生任何异常警告，应该立刻停机并进行处理，如有必要，可以联系设备厂家或专业工程师协助处理。

3. 关机操作1.关机操作时，应该先关闭离子源和闸门；2.随后关闭气门和电源。

需要注意开关时间间隔，使设备有充足的时间冷却并稳定释放工作气体。

3.关机过程中需要保持操作人员旁边时刻提供支持。

保养规程1. 周期性的维护保养1.对设备进行定期检查；2.维护保养人员需要提前做好维护保养记录和计划，并严格按照计划进行设备的保养维护；3.对设备开口清洗，维护保养人员应该佩戴防护口罩等防护设备，以避免呼吸到有害物质；4.对设备进行清洗，需使用专用清洗剂等清洗设备，以避免使用不当的清洗剂影响设备的性能和寿命。

2. 预防性维护1.精密设备必须由维修人员进行操作和维护；2.所有加工部件均应涂抹防腐液以防止锈蚀和腐蚀的发生；3.维护保养过程中出现故障，应该立刻进行修理和处理，并进行记录报告，以便更好的判断设备的作业性能。

磁控溅射操作流程及注意事项

磁控溅射操作流程及注意事项一、打开冷却水箱电源（注：水箱电源是设备的总电源。

）检查水压是否足够大（0.1MPa），水压控制器是否起作用。

二、放气2.1 确认磁控溅射室内部温度已经冷却到室温；2.2 检查所有阀门是否全部处于关闭状态；2.3磁控溅射室的放气阀是V2，放气时旋钮缓慢打开，这可以保证进入气流不会太大；2.4 放气完毕将气阀关紧。

三、装卸试样与靶材3.1 打开B柜总电源（在B9面板上），电源三相指示灯全亮为正常。

3.2 提升或降落（B4“升”或“降“）样品台要注意点动操作，不要连续操作。

3.3 装卸试样与靶材要戴一次性薄膜手套，避免油污、灰尘等污染。

3.4 磁控靶屏蔽罩与阴极间距为2-3毫米，屏蔽罩与阴极应该为断路状态。

3.5 装载试样要注意试验所用样品座位置与档板上溅射孔的对应，并记录样品座的编号及目前所对应的靶位。

3.6 降落样品台时要注意样品台与溅射室的吻合，并用工业酒精擦洗干净样品台与溅射室的配合面。

四、抽真空4.1 确认D面板“热电偶测量选择”指示“Ⅰ”时；4.2 确认闸板阀G2、G4已经关闭；4.3 打开B4上“机械泵Ⅰ”，再打开气阀V1，开始抽低真空。

4.4 打开B3面板的电源开关，同时关闭“复合”键。

可以从B3－1处观察低真空度。

(低真空测量下限为0.1Pa）。

当真空度小于5Pa可以开始抽高真空。

4.5 关闭气阀V1，打开B4上“电磁阀Ⅰ”（确认听到响声表示电磁阀已开）4.6打开B8面板的磁控室分子泵电源，按下“START”键，按下FUNC/DATA键，数字开始逐步上升，等大于H100.0后打开闸板阀G1，随后分子泵速上升并稳定到H400.0。

4.7 磁控室的高真空度在B2面板显示，不要一直开着高真空的测量，也不要频繁开关, 通常每隔1-2小时可打开观察一次，等示数稳定后再关闭（一般不超过3分钟）。

五、充气5.1确认高真空度达到了-4、-5的数量级，在充气之前必须关闭高真空计；5.2 打开A1面板上MFC电源，预热3分钟；5.3 稍关闭闸板阀G1到一定程度，但不要完全关紧5.4 打开V4、V6（若是二路进气，V5应和V6同时打开）阀门5.5 将控制阀扳到“阀控“位置5.6 打开气瓶阀门，稍旋紧减压阀至压力示数为0.1MPa即可；5.7 调节MFC阀控的设定（一般在30左右），再进一步关紧闸板阀使得低真空（B3－1）读数接近所需的溅射压强，然后通过微调MFC阀控得到所需的溅射压强。

1 磁控溅射操作流程

磁控溅射实验有关步骤和操作流程开始实验程序：1.打扫实验室（为防止灰尘溅起，用湿拖把或吸尘器清扫实验室）。

2.清洗基片（依次用丙酮、酒精、去离子水等各在超声波中清洗十分钟，再用去离子水冲洗，最后烘干备用）。

3.开循环水系统（先开仪器后面开关，再开左侧开关）。

4.开溅射总电源开关（机柜后面墙上两个开关）。

5.向真空室放气（打开V2阀门，先缓慢旋转，等充进一定气体后再适当开大V2阀门，直到真空室内外气压一致）。

6.关放气阀（关闭V2阀门）。

7.开2号机总开关，开照明，（注意插拨是否归位），升起真空室（注意插拨是否归位）。

8.戴上手套和口罩。

9.取相应的靶材装入相应靶位，清洁真空室，并在基片托上放基片（拆开装置，并清洗靶材罩，靶材盖，用吸尘机等清洁真空室；放基片时把握压片的力度）。

10.后退齿轮盘孔位，降下真空室（注意插拨是否归位）。

11.开真空计，开机械泵，（注意是否关闭V2阀门）开V1阀门（3圈），粗抽至3Pa以下（注意插拨位置）。

12.关V1，开电磁阀，开分子泵（先开分子泵总电源，闪“600”打“启动”，到达“500”开闸板阀）细抽至1.5×10-3Pa。

13.开氩气瓶（1/3~1/2圈），开V3阀门，开V5阀门（各三圈），开流量计电源开关，扳“关闭”到“阀控”，旋转流量控制旋钮控制流量（1-10sccm/s），开1号柜总开关，（若是射频溅射，先开灯丝开关预热3~5分钟，若是直流不需要预热）。

14.调闸板阀使压强至3~4Pa，开射频“板压”开关，调节电压使真空室起辉，调电压调节旋钮至所需电压（或功率），调闸板阀至所需沉积压强，辉光稳定后拨齿轮盘，进行溅射。

15.记录溅射时间，每半小时记录下实验参数，（实验参数有变应立即调至所需的参数）。

关闭程序：1.溅射电压调小至零，关板压，关灯丝开关，关1号柜总电源。

2.关氩气，关流量计（先调流量调节旋钮至零，“阀控”扳到“关闭”，关流量计电源），关V5阀门，关V3阀门，关闸板阀。

磁控溅射仪使用说明(1)

磁控溅射仪使用说明一、放入样品1、在仪器关闭前提下，缓慢开启V5对进样室进行放气至听不到V5进气声音；2、打开进样室观察窗口，将样品放在样品托上后，将样品托放入进样室内样品架上；3、关闭观察窗口，旋紧螺母；4、关闭V5。

二、开机1、溅射室暴露大气后开机法：1)开循环水电源、阀门；2)开总控电源，确认电源指示灯正常；3)打开G2，开主溅射室机械泵R1，缓慢打开旁抽阀V4；4)当低真空计示数都<30Pa时，关闭V4、G2；5)开机械泵R2，电磁阀DF；6)启动分子泵（进样室－工作，溅射室－启动）；7)打开闸板阀G1、G3。

2、溅射室未暴露大气开机法：1）开循环水电源、阀门；2）开总控电源，确认电源指示灯正常；3）开主溅射室机械泵R1，缓慢打开旁抽阀V4；4）当低真空计进样室示数<30Pa时，关闭V4；5）开机械泵R2，电磁阀DF；6）启动分子泵（进样室－工作，溅射室－启动）；7）打开闸板阀G1、G3。

三、关机1）关闭两个高真空计（溅射室－按“电源”键，进样室按“复合”键）；2）关闭两个闸板阀G1、G3；3）给分子泵降速（进样室分子泵－按“工作”键，溅射室分子泵－按“停止”键）4）进样室分子泵频率降至50Hz后关闭机械泵R2；溅射室分子泵频率降至50Hz时依次关闭电磁阀DF、机械泵；5）分子泵频率降至0Hz后，关闭其电源；6）关闭总电源、冷却水电源、阀门。

四、溅射实验1、溅射实验1）确认高真空计关闭；2）从真空室到气瓶方向开阀（不包括气瓶阀门）；3）打开气瓶高压阀，调节低压阀至低压表示数为1-2个大气压；4）把流量计打到阀控档，调节进气旋钮进行流量调节；5）通过调节闸板阀G1控制起辉压强（3-5Pa）；6）用直流电源起辉直接调功率；溅射电源必须预热3-5分钟；7）调节相应功率计的C1和C2使入射功率最高，反射功率最低。

2、试验结束1）把功率调到0点；2）把闸板阀打开；3）关闭气瓶高压阀；4）把流量计打倒清洗档至高、低压表示数都为0时，关闭低压阀；5）从气瓶到溅射室顺序关气。