第四章 MOS逻辑集成电路-4
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MOS集成电路
在这样的形势下,半导体车间的徐葭生同志带领十几个中青年教师,从1970年开始,毅然投入了我国MOS集 成电路研究开发与应用推广的事业。在当时缺乏技术资料和工艺设备、生产条件十分落后的情况下,大家自力更 生、团结奋斗,从工艺和电路设计上解决了栅氧化层电荷与静电损伤保护问题,为MOS集成电路在我国的发展扫 清了技术障碍。在此基础上,开发研制成功了中小规模MOS数控系列电路,包括了计数器、寄存器、译码器及各 种触发器、门电路等,并进行了小量生产。为了使这些电路得到推广,他们还制作了频率计、数码显示等多种应 用部件,到有关单位演示,帮助解决应用中的技术问题。这样,终于使MOS集成电路得到社会认可。在此期间先 后接产此数控系列电路的有,北京半导体器件五厂、前门器件厂、上海元件五厂、天津第一半导体厂、石家庄半 导体器件厂、保定无线电二厂等。这些数控系列电路在相当长一段时间内成了不少半导体厂的主打产品。清华半 导体车间除了派人传授、推广技术之外,还多次举办短训班,帮助这些企业培养生产技术骨干。可以说,清华的 半导体车间成为了我国MOS集成技术最早的发源地。
60年代末、70年代初,我国在集成电路技术的研究上刚刚起步,只是对双极型小规模集成电路开始进行研制 和少量生产。当时,国外MOS电路发展很快,与双极型电路相比,MOS集成电路具有电路简单、功耗低、集成度高 的优势,而国内MOS集成电路技术的研究开发上还存在不少困难。一个困难是MOS器件很容易被静电击穿,有人形 容说:“MOS、MOS,一摸就死”;另一个难点是MOS器件栅氧化层电荷不易控制,因而大大影响了MOS电路的可生 产性与工作稳定性。所以,大家对MOS集成电路的发展前途仍有很多疑虑。
5所有 CMOS和 NMOS集成电路的储存和运输过程必须采用抗静电材料做成的容器,而不能按常规将器件插入 塑料或放在普通塑料的托盘内,直到准备使用时才能从抗和 NMOS集成电路应当放置在接地良好的工作台上,鉴于工作人员也能对工作台产出静电放电, 所以工作人员在操作器件之前自身必须先接地,为此建议工作人员要用牢固的导电带将手腕或肘部与工作台表面 连接良好。
60年代末、70年代初,我国在集成电路技术的研究上刚刚起步,只是对双极型小规模集成电路开始进行研制 和少量生产。当时,国外MOS电路发展很快,与双极型电路相比,MOS集成电路具有电路简单、功耗低、集成度高 的优势,而国内MOS集成电路技术的研究开发上还存在不少困难。一个困难是MOS器件很容易被静电击穿,有人形 容说:“MOS、MOS,一摸就死”;另一个难点是MOS器件栅氧化层电荷不易控制,因而大大影响了MOS电路的可生 产性与工作稳定性。所以,大家对MOS集成电路的发展前途仍有很多疑虑。
5所有 CMOS和 NMOS集成电路的储存和运输过程必须采用抗静电材料做成的容器,而不能按常规将器件插入 塑料或放在普通塑料的托盘内,直到准备使用时才能从抗和 NMOS集成电路应当放置在接地良好的工作台上,鉴于工作人员也能对工作台产出静电放电, 所以工作人员在操作器件之前自身必须先接地,为此建议工作人员要用牢固的导电带将手腕或肘部与工作台表面 连接良好。
第四章 MOS逻辑集成电路-2
专用集成电路设计实验室
四川大学物理科学与技术学院
基本逻辑符号
& 逻辑与 ≥1 逻辑或 & 与非 ≥1 或非 =1 = 同或 1 逻辑非
异或
专用集成电路设计实验室
四川大学物理科学与技术学院
传输门(TG)电路
• 双向开关 • 逻辑设计
– 多路选择器(MUX) – 或门(or门) – 另一种异或/异或非电路
专用集成电路设计实验室
四川大学物理科学与技术学院
耗尽型负载反相器
特点(E/D反相器) 以耗尽型NMOS晶体管作为负载 负载器件的栅源短接,当VDS>VGSVT时相当于恒流源作为负载,能获 得较快的上升波形 输入低电平时,Vout ≈VDD 输入高电平时,M2导通处于线性 区,输出电压很小,但不为零
功耗特性
专用集成电路设计实验室
四川大学物理科学与技术学院
CMOS电路的伏安特性
四川大学物理科学与技术学院
本章主题
• • • • • MOSFET结构及工作原理(补充) CMOS基本逻辑单元 静态逻辑和动态CMOS电路 BiCMOS逻辑集成电路 MOS存储器
专用集成电路设计实验室
四川大学物理科学与技术学院
MOSFET逻辑设计
• • • • • • 理想开关与布尔运算 MOSFET开关 基本的CMOS逻辑门 CMOS复合逻辑门 传输门(TG)电路 时钟控制和数据流控制
专用集成电路设计实验室
四川大学物理科学与技术学院
本节内容
MOS反相器
电阻负载NMOS反相器
采用晶体管作为负载器件的反相器
CMOS反相器 CMOS传输门
专用集成电路设计实验室
四川大学物理科学与技术学院
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基本逻辑符号
& 逻辑与 ≥1 逻辑或 & 与非 ≥1 或非 =1 = 同或 1 逻辑非
异或
专用集成电路设计实验室
四川大学物理科学与技术学院
传输门(TG)电路
• 双向开关 • 逻辑设计
– 多路选择器(MUX) – 或门(or门) – 另一种异或/异或非电路
专用集成电路设计实验室
四川大学物理科学与技术学院
耗尽型负载反相器
特点(E/D反相器) 以耗尽型NMOS晶体管作为负载 负载器件的栅源短接,当VDS>VGSVT时相当于恒流源作为负载,能获 得较快的上升波形 输入低电平时,Vout ≈VDD 输入高电平时,M2导通处于线性 区,输出电压很小,但不为零
功耗特性
专用集成电路设计实验室
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CMOS电路的伏安特性
四川大学物理科学与技术学院
本章主题
• • • • • MOSFET结构及工作原理(补充) CMOS基本逻辑单元 静态逻辑和动态CMOS电路 BiCMOS逻辑集成电路 MOS存储器
专用集成电路设计实验室
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MOSFET逻辑设计
• • • • • • 理想开关与布尔运算 MOSFET开关 基本的CMOS逻辑门 CMOS复合逻辑门 传输门(TG)电路 时钟控制和数据流控制
专用集成电路设计实验室
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本节内容
MOS反相器
电阻负载NMOS反相器
采用晶体管作为负载器件的反相器
CMOS反相器 CMOS传输门
专用集成电路设计实验室
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4MOS逻辑门
开启电压的绝对 值管截| V止T 2。| , 因 此 T 2
T1(N) G
S
图2-32 CMOS反相器
T1(N)
S
图2-32 CMOS反相器
电源电压条件 VDD
GS
CMOS反相器
T2(P)
要求电源电压 大于两个管子
vI A
开启电压的绝
D vO F D
对值之和,即
T1(N)
VDD>|VT1|+|VT2|。
G S
图2-32 CMOS反相器
工作原理
vI输入小止入v于。I为低VT低电1时电平,平时TV:当1I管L且输截
但对于PMOS负载管, 由于栅极电位较低,
A
vI
G
使栅源电压绝对值
大于开启电压的绝
对充值分|导VT通2|,。因此T2
G
VDD S
T2(P)
D vO F D
T1(N)
S
图2-32 CMOS反相器
vI输入低电平时 VDD
由于T1的截止电阻
G
远比T2的导通电
阻大得多,所以
电源电压差不多 全部降落在工作
vI A
工作原理
若E为低电平时,两个
或非门非作门用G 1,、若GA2 都为起低
电 输
平 出
时 为
,高或电非平门,G使1
TG使输12出T管输2为导管出低通截为电止,低平同 ,电,时电平F=使路,A,
电路具有三态输出功 能。
2.4.1 CMOS门电路
Complementary-Symmetry Metal-Oxide Semiconductor ⒈CMOS反相器 ⒉CMOS与非门 ⒊CMOS或非门 ⒋CMOS三态门 ⒌CMOS传输门
T1(N) G
S
图2-32 CMOS反相器
T1(N)
S
图2-32 CMOS反相器
电源电压条件 VDD
GS
CMOS反相器
T2(P)
要求电源电压 大于两个管子
vI A
开启电压的绝
D vO F D
对值之和,即
T1(N)
VDD>|VT1|+|VT2|。
G S
图2-32 CMOS反相器
工作原理
vI输入小止入v于。I为低VT低电1时电平,平时TV:当1I管L且输截
但对于PMOS负载管, 由于栅极电位较低,
A
vI
G
使栅源电压绝对值
大于开启电压的绝
对充值分|导VT通2|,。因此T2
G
VDD S
T2(P)
D vO F D
T1(N)
S
图2-32 CMOS反相器
vI输入低电平时 VDD
由于T1的截止电阻
G
远比T2的导通电
阻大得多,所以
电源电压差不多 全部降落在工作
vI A
工作原理
若E为低电平时,两个
或非门非作门用G 1,、若GA2 都为起低
电 输
平 出
时 为
,高或电非平门,G使1
TG使输12出T管输2为导管出低通截为电止,低平同 ,电,时电平F=使路,A,
电路具有三态输出功 能。
2.4.1 CMOS门电路
Complementary-Symmetry Metal-Oxide Semiconductor ⒈CMOS反相器 ⒉CMOS与非门 ⒊CMOS或非门 ⒋CMOS三态门 ⒌CMOS传输门
集成电路原理第四章ppt课件
第四章 MOS逻辑集成电路
4.1 MOS器件的基本电学特性
4.1.1 MOSFET的结构与工作原理
MOSFET——Metal-Oxide-Semiconductor
Field Effected Transistor
增强型〔常关闭型)
金属PM氧OS 化物半导体场效应晶体管
耗尽型〔常开启型)
MOSFET
iDSCOXLWvGSVthvDSvD 2S2
3.4
51
085 L
801
0030.43922220.62(m 5 )A
4.1.4 MOSFET小信号参数 (1〕跨导gm
——表示交流小信号时vGS对ids的控制能力〔vDS恒定)
饱和区:
gm
iDS vGS
vDSc onst
C OX LW vG SV th 1vDS
足电路设计的要求,此工序称为“调沟”。即向沟道区进行离
子注入〔Ion Implantation),以改变沟道区表面附近载流子浓
度,与此相关的项用
Qi C OX
表示。一般调沟用浅注入,注入能量
在60 80KeV左右;若异型注入剂量、能量较大,则可注入到
体内,形成埋沟MOS〔Buried-Channel MOS)。
例4-2 知:n+ Poly-Si栅NMOS晶体管宽长比W/L=100 m/10 m, 漏、栅、源、衬底电位分别为5V,3V,0V,0V。
n=580cm2/V s,其他参数与例4-1相同。 求:① 漏电流iDS。
② 若漏栅源衬底电位分别为2V,3V,0V,0V,则IDS=?
解:① 由已知得: vGS=3V,vDS=5V,vBS=0V 而由例4-1得Vth=0.439V vDS=5V(vGS-Vth)=3-0.439=2.561(V) 器件工作在饱和区,那么:
4.1 MOS器件的基本电学特性
4.1.1 MOSFET的结构与工作原理
MOSFET——Metal-Oxide-Semiconductor
Field Effected Transistor
增强型〔常关闭型)
金属PM氧OS 化物半导体场效应晶体管
耗尽型〔常开启型)
MOSFET
iDSCOXLWvGSVthvDSvD 2S2
3.4
51
085 L
801
0030.43922220.62(m 5 )A
4.1.4 MOSFET小信号参数 (1〕跨导gm
——表示交流小信号时vGS对ids的控制能力〔vDS恒定)
饱和区:
gm
iDS vGS
vDSc onst
C OX LW vG SV th 1vDS
足电路设计的要求,此工序称为“调沟”。即向沟道区进行离
子注入〔Ion Implantation),以改变沟道区表面附近载流子浓
度,与此相关的项用
Qi C OX
表示。一般调沟用浅注入,注入能量
在60 80KeV左右;若异型注入剂量、能量较大,则可注入到
体内,形成埋沟MOS〔Buried-Channel MOS)。
例4-2 知:n+ Poly-Si栅NMOS晶体管宽长比W/L=100 m/10 m, 漏、栅、源、衬底电位分别为5V,3V,0V,0V。
n=580cm2/V s,其他参数与例4-1相同。 求:① 漏电流iDS。
② 若漏栅源衬底电位分别为2V,3V,0V,0V,则IDS=?
解:① 由已知得: vGS=3V,vDS=5V,vBS=0V 而由例4-1得Vth=0.439V vDS=5V(vGS-Vth)=3-0.439=2.561(V) 器件工作在饱和区,那么:
第四章 MOS逻辑集成电路-5
优点:简化电路、减少器件、降低功耗、减少面积、提高 工作速度、无比电路;不要求PMOS和NMOS管成对出现 缺点:
• 随着集成度的提高,器件尺寸减少、工作电压下降,将使得存储的 电荷量减少,影响电路的可靠性 • 电路中的泄漏电流必须很小,对工艺要求高 • 出现“电荷分享”问题,造成信号损失 • 需要时钟信号,使电路设计更复杂 • 由于动态电路不能在很低频率下工作,使功能测试困难
反相器起隔离作用、增加了驱动能力 实现不带“非”的逻辑 预充阶段:动态电路输出结点电压都为1 求值阶段:连锁放电反应 使动态电路后面的反相器的噪声容限下降 使存储的高电平下降,动态保持时间减少 改善方法
• 在多米诺电路中增加一个PMOS反馈管 • 增加对中间结点预充电的管子
级连电路图4-31
CMOS动态和时序逻辑
动态逻辑电路的特点 预充-求值的动态CMOS电路 多米诺(Domino)CMOS电路 时钟CMOS电路 时序逻辑电路
动态逻辑电路的特点
静态逻辑电路:稳定的输入信号使MOS晶体管保持 在导通或截止状态,从而维持稳定的输出状态 动态逻辑电路:利用栅电容的存储效应来保存信息, 因此即使输入信号不存在,输出状态也可以保持,但 是信息不能长期保持,会由于泄漏电流的存在使存储 的信息丢失
Mkp是弱pMOSFET
即W/L<1
二、输出高电平(电荷分享)
预充后存在CL上的电荷,可能会在 中间节点(CA)之间再分配,结果 使输出高电平降低,而且无法恢复, 还可能形成直流通路。
输出高电平下降
电荷分享过程中的节点电平变化
电荷分享解决方案
对中间节点也预 充
三、动态CMOS的级联 门间级联 gate cascade-逻辑门的连接
第四章-MOS逻辑集成电路
- 体效应因子(衬底偏置效应因子) (V1/2)
王向展
08.04.2020
7
集成电路原理与设计
Q B020 SiqN2FB (C/cm2)
(“+” for PMOS, “” for NMOS)
FB kqTlnnNi kqTkTlnlnNniN AD(N(PM M OO SS,P,N 衬 衬 底 底 ))
2q0SiN
Cox
2q0SN i A (NMO,pSห้องสมุดไป่ตู้底 )
Cox
2q0SiND(PMO,Sn衬底)
Cox
S iO 2 3 .9S i 1 1 .90 8 .8 5 4 1 0 1 4 F /c m
王向展
08.04.2020
10
集成电路原理与设计
例4.1 求解Vth,
已知:N+ Poly-Si栅NMOS晶体管,栅氧厚度tox=0.1μm, NA=3×1015cm-3,ND=1020cm-3,氧化层和硅界面处单位面积
(4.3)
L eff1 V D S 2 q0 N su S b i 1 2 V D S V 4 G S V th 1 V D SV 4 G S V th 2 1 2
王向展
08.04.2020
13
集成电路原理与设计
对于Si:n=580 cm2/(V·s),p=230 cm2/(V·s)
王向展
08.04.2020
3
集成电路原理与设计
MOSFET(器件/电路)的特点 1. 只靠一种载流子工作,称
为多子器件。
2. 可看作“压控电阻器”。
3. 无少子存储效应,可制成 高速器件。
4. 输入阻抗高,驱动电流小。 适于大规模集成,是VLSI、 ULSI的基础。低压低功耗 电路。
王向展
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7
集成电路原理与设计
Q B020 SiqN2FB (C/cm2)
(“+” for PMOS, “” for NMOS)
FB kqTlnnNi kqTkTlnlnNniN AD(N(PM M OO SS,P,N 衬 衬 底 底 ))
2q0SiN
Cox
2q0SN i A (NMO,pSห้องสมุดไป่ตู้底 )
Cox
2q0SiND(PMO,Sn衬底)
Cox
S iO 2 3 .9S i 1 1 .90 8 .8 5 4 1 0 1 4 F /c m
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10
集成电路原理与设计
例4.1 求解Vth,
已知:N+ Poly-Si栅NMOS晶体管,栅氧厚度tox=0.1μm, NA=3×1015cm-3,ND=1020cm-3,氧化层和硅界面处单位面积
(4.3)
L eff1 V D S 2 q0 N su S b i 1 2 V D S V 4 G S V th 1 V D SV 4 G S V th 2 1 2
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13
集成电路原理与设计
对于Si:n=580 cm2/(V·s),p=230 cm2/(V·s)
王向展
08.04.2020
3
集成电路原理与设计
MOSFET(器件/电路)的特点 1. 只靠一种载流子工作,称
为多子器件。
2. 可看作“压控电阻器”。
3. 无少子存储效应,可制成 高速器件。
4. 输入阻抗高,驱动电流小。 适于大规模集成,是VLSI、 ULSI的基础。低压低功耗 电路。
MOS模拟集成电路的基本单元电路
+ RL Uo
-
Ri’
Ro’
+
Ui R1
-
Ri’
+ RG Ugs
R2
+
r gmUgs ds RD RL Uo
Ro’
(二) 共漏组态基本放大器
•共漏放大器电路如图: •其等效电路如图:
•电压增益为
AU
Uo Ui
U
gmU gs RL' gs gmU gs
RL'
1
UDD
C1
T C2
+
+
Ui
RG
Rs
RL Uo
IR
则I02与IR成比例,比例系数
为沟道的宽长比之比。
TR
•设T1、T2、T3管的沟道宽长
比分别为ST1、ST2、ST3,
I I •则有:
ST 2
02 STR R
I I ST 3 03 STR R
I I 同时也有
ST 3 03 ST 2 02
Io1
Io2
T1
T2
第六节 MOS单级放大电路
有源负载的共源MOS放大器常见的电路形式有:
1.未接CS时:等效电路如图: 一般 rds >> RD RL >> RS; rds可忽略。
•电压增益为 RL’=RD//RL
AU
Uo Ui
gmU gs RL' U gs gmU gs Rs
+ Ui
gmRL' ;
R1 -
1 gmRs
Ri’
+ RG Ugs
-
R2
Rs
r gmUgs
ds
RD
CMOS集成电路设计-拉扎维4 差分放大器解析
2
又V01-V02=RD △ID = RD Gm △Vin,故 平衡态下的小信号差动电压增益AV为:
ISS A V = βISS R D = 2β( )R D 2
差动放大器 Ch.4 # 34
差分放大器的增益
ΔID 2ISS -βΔVin Gm = = ΔVin 4ISS 2 -ΔVin β V01 - V02 ISS AV = = βISS R D = 2β( )R D Vin1 - Vin2 2
M1和M2线性
Ι ISS SS + Vb VinCM VDD R D + VTN β 2 1(2)
共模输入电压与输出摆幅
M1饱和要求: VX ≥ VinCM - VTN
X Y
上式表明, 输入共模电平越大,Vx 越大, 允许输出的输出摆幅就 越小。幸运的是, 因运放通常需 至少两级放大才能获得实际可 使用的放大倍数, 因此对前级的 摆幅要求大大降低。
Vin1和Vin2是差动相位信号
• 当Vin1和Vin2存在很大的 共模干扰
• 各自的直流电平设置的 不好时, 随着共模电平 VinCM变化, M1 和M2的 偏置电流会变化
简单差动电路
共模电平VinCM变化, M1 和 M2的偏置电流会变化, 导致 跨导和输出共模电平变化 跨导变化会改变小信号增益, 输出共模电平偏离会降低最 大允许输出摆幅, 导致输出端 出现严重失真 应使M1 和M2偏置电流受输 入共模电平的影响尽可能小
– Rs使Gm和增益变为gm的弱函数,提高线性度 – 输出电阻大
ROUT [1 (gm gmb )ro ]RS ro
– 牺牲了增益
gmRD RD Av 1 g mRS 1 / g m RS
第四章 MOS逻辑集成电路-5教材
CMOS动态和时序逻辑
动态逻辑电路的特点 预充-求值的动态CMOS电路 多米诺(Domino)CMOS电路 时钟CMOS电路 时序逻辑电路
动态逻辑电路的特点
静态逻辑电路:稳定的输入信号使MOS晶体管保持 在导通或截止状态,从而维持稳定的输出状态
动态逻辑电路:利用栅电容的存储效应来保存信息, 因此即使输入信号不存在,输出状态也可以保持,但 是信息不能长期保持,会由于泄漏电流的存在使存储 的信息丢失
动态CMOS的问题 一、电荷泄漏
主要是亚阈 电流
依靠在电容上动态存储输出值,电荷泄漏使高电平降低,预 充动态电路的时钟频率不能过低,最低在250Hz-1kHZ之间。
电荷泄漏的解决方案
增加一个高电平保持 FET和反相器
Mkp是弱pMOSFET 即W/L<1
二、输出高电平(电荷分享)
预充后存在CL上的电荷,可能会在 中间节点(CA)之间再分配,结果 使输出高电平降低,而且无法恢复, 还可能形成直流通路。
优点:简化电路、减少器件、降低功耗、减少面积、提高 工作速度、无比电路;不要求PMOS和NMOS管成对出现
缺点:
• 随着集成度的提高,器件尺寸减少、工作电压下降,将使得存储的 电荷量减少,影响电路的可靠性
• 电路中的泄漏电流必须很小,对工艺要求高 • 出现“电荷分享”问题,造成信号损失 • 需要时钟信号,使电路设计更复杂 • 由于动态电路不能在很低频率下工作,使功能测试困难
φ
决定,Vout=AB+C。求值阶段
存在输入信号的约束和功耗问题
预充-求值的动态CMOS电路
A C
图4-30(a)
• 当φ =0时,PMOS管导通,NMOS管截止,下拉通
动态逻辑电路的特点 预充-求值的动态CMOS电路 多米诺(Domino)CMOS电路 时钟CMOS电路 时序逻辑电路
动态逻辑电路的特点
静态逻辑电路:稳定的输入信号使MOS晶体管保持 在导通或截止状态,从而维持稳定的输出状态
动态逻辑电路:利用栅电容的存储效应来保存信息, 因此即使输入信号不存在,输出状态也可以保持,但 是信息不能长期保持,会由于泄漏电流的存在使存储 的信息丢失
动态CMOS的问题 一、电荷泄漏
主要是亚阈 电流
依靠在电容上动态存储输出值,电荷泄漏使高电平降低,预 充动态电路的时钟频率不能过低,最低在250Hz-1kHZ之间。
电荷泄漏的解决方案
增加一个高电平保持 FET和反相器
Mkp是弱pMOSFET 即W/L<1
二、输出高电平(电荷分享)
预充后存在CL上的电荷,可能会在 中间节点(CA)之间再分配,结果 使输出高电平降低,而且无法恢复, 还可能形成直流通路。
优点:简化电路、减少器件、降低功耗、减少面积、提高 工作速度、无比电路;不要求PMOS和NMOS管成对出现
缺点:
• 随着集成度的提高,器件尺寸减少、工作电压下降,将使得存储的 电荷量减少,影响电路的可靠性
• 电路中的泄漏电流必须很小,对工艺要求高 • 出现“电荷分享”问题,造成信号损失 • 需要时钟信号,使电路设计更复杂 • 由于动态电路不能在很低频率下工作,使功能测试困难
φ
决定,Vout=AB+C。求值阶段
存在输入信号的约束和功耗问题
预充-求值的动态CMOS电路
A C
图4-30(a)
• 当φ =0时,PMOS管导通,NMOS管截止,下拉通
第四章 MOS基本逻辑单元电路
4.1.6 CMOS反相器 7.最佳设计 (4)级间最佳驱动方案
4.1.3 E/E非饱和负载NMOS反相器 1. 结构和工作原理(续) Vi为VOH时,MI非饱和,ML非饱和 VDD KL[2(VGG -VOL -VTL)(VDD -VOL) - (VDD -VOL) 2 ] = ML KI [2(VOH -VTI)VOL-VOL2 ] VDD 2 VOL 2m (V V ) OH TI R Vo (W/L)I KI 其中:R = K = MI (W/L)L L VDD m= 10 2(VGGVTL)VDD 0m <1
4.1.6 CMOS反相器 5.功耗特性(续2) VDD MP Vi
Vo MN CL
(3)电容充放电功耗Pc 在状态转换过程中, 结点电位的上升和下降, 都伴随着结点电容的充放 电过程,产生功耗: 2 Pc = CL VDD
设计时应尽量减小节 点寄生电容
29
4.1.6 CMOS反相器 7.最佳设计 (1)最小面积方案 VDD
MN
VILVIH Vi
6
4.1.2 E/E饱和负载NMOS反相器 1. 结构和工作原理 Vi为低电平VOL时,MI截止,ML饱和 VDD KL(VDD-VOH-VTL)2=0 VOH=VDDVTL ML Vi为高电平VOH时,MI非饱和,ML饱和 KL(VDD-VOL-VTL)2= KI[2(VOH-VTI)VO-VO2] Vo (VDD VTL )2 Vi 有比电路 VOL MI 2R(VOHVTI) (W/L)I KI 其中:R = K = 7 (W/L)L L
27
4.1.6 CMOS反相器 5.功耗特性(续1) Vi CI Vi
VDD MP MN
0 IT 0
第四章-MOS逻辑集成电路
2 F
V MS FBCQosfx
QI Cox
使MOS结构半导体表面产生强反型 层所需要外加的栅、源电压,称为 “阈值电压”。(开启电压)
VT的计算
电压、电容和电荷量关系式 耗尽层中的电荷
通常把实现平直能带条件 所需要的栅电压称为平带 电压,VFB
理想MOS结(费米势)
V x 于阈值电压
根据Q=CV、电
n
荷守恒定律以及
nE x
V n x
电流的计算,得
出右式
W:垂直于沟道 长度的有效源漏 区尺寸
ID
n
V x
Cox
Vgs
V
x
VT W
L:两块源漏掺 杂区之间的距离
沿x轴积分得到下式
MOS管工作原理(续)
ID
唯一的区别是对于pmos器件所有电压和电流的极性均是相反的课后练习试推导pmos的性质线性区饱和区总结?关闭区vgs远低于vt?亚阈值区vgsvt?线性电阻区vdsvgsvt?饱和区vdsvgsvt?沟道电位由于源漏的电位而出现电位梯度靠近源极电位差最大靠近漏极电位差最小?当vdsvgsvt时沟道出现夹断进一步增加vds沟道电场几乎不再增加压降几乎全部落在夹断区内id趋于饱和mos器件与bjt的比较?多子器件少子器件?导电载流子?电压控制电流控制?iv特性?physicalarchitecturemosfet的阈值电压vt?栅极材料?栅极绝缘材料?栅极绝缘层厚度?沟道掺杂的浓度?源极与衬底之间的电压主要参数mosfet的阈值电压vt?在低电源电压的情况下较低的阈值电压有利于保持性能的变化趋势
二、例题与讨论
• 在N型Si上制备MOSFET,ND=1015/cm3, tox=500埃,AL栅表面电荷 Qsf=6.8X1011q/cm2,求阈值电压?
第4章 集成电路版图设计与工具
问题讨论: (1)阱的间距和间隔的规则
N阱通常是深扩散,必须使N阱边缘与邻近的N +扩散区之间留有足够的间隙,从而保证N阱 边缘不与P型衬底中的N+扩散区短接。内部间 隙由沿阱周围的场区氧化层的渐变区所决定。 虽然有些工艺允许内部的间隙为零,但“鸟嘴” 效应等问题导致了规则1.4(N阱外N阱到N+距 离)的设计要求,这是一种保守的估算。
电学设计规则还为合理选择版图布线层提供了 依据。集成电路工艺为设计者提供了多层布线 的手段,最常用的布线有金属、多晶硅、硅化 物以及扩散区。但这些布线层的电学性能大不 相同。
随着器件尺寸的减小,线宽和线间距也在减小, 多层布线层之间的介质层也在变薄,这将大大 增加走线电阻和耦合电容,特别是发展到深亚 微米级和纳米之后,与门延迟相比,布线延迟 变得越来越不可忽略。因此,版图布线必须合 理选择布线层,尽可能地避免布线层电学参数 的影响。
反相器版图与电路原理图
反相器版图及工艺层表示
反相器版图及剖面图
4.4 晶体管的版图设计
一、双极型晶体管的版图设计 1、 双极型集成电路版图设计的特点 双极型集成电路设计中首先要考虑的问题是 元器件之间的隔离。目前常用的隔离方法有PN 结隔离和介质隔离,设计者可以根据不同的设 计要求,选择适当的隔离方式。此外,还要注 意减小寄生效应如寄生PNP管、寄生电容效应 等。注意了这些问题,就可以比较顺利地完成 版图设计并制造出合格的电路。
集成电路设计技术与工具
第四章 集成电路版图设计与工具
基本要求
了解版图设计的主要方法, 掌握工艺层和几何设计规则, 掌握电学设计规则和布线,
掌握双极型晶体管和MOS晶体管的版图设计,
掌握掌握DRC、ERC、LVS和后仿真的定义
07 Mos4 集成电路设计基础
1、基本RS触发器 由两个CMOS或非门接成
VDD Q
●
Q
●
●
+
+
Q R S R
●
●
●
●
●
Q
●
S
●
2、D锁存器
把一对互补的输入信号送入RS触发器,并由CP控制, 就构成了D锁存器
D CP
Q
D CP
Q
Q
• 如用CMOS传输门和CMOS倒相器来构成D锁存器,则结 构简单,占用硅片面积小
TG2
D
C0 0
C1 C2 0 0 0 0 0 1 1 1 1 0 0 0 0 1 1 1 1 0 1 1 0 0 1 1 0 0 1 1 0 0 1 1
C3 0 1 0 1 0 1 0 1 0 1 0 1 0 1 0 1
F 0 AB A B A B AB B A AB AB A B AB A B A B AB 1
最后 0
1
VGS=VDD,恒栅压
VDD-VTN VDD VDS (Vo-Vi)
二、CMOS 传输门
单沟道MOS传输门存在两个缺点,CMOS传输门则 可弥补这个不足。 CMOS传输门由一对互补的MOS管并联而成
VGP I/O VDD O/I
VSS
VGN
VGN=1 VGP=0 则导通 VGN=0 VGP=1 则截止
3-5 CMOS 门电路的设计
一、版图尺寸与实际尺寸的关系: 由于漏源扩散时的横向扩散,使沟道长度变窄
G
S
n+
D
n+
版图上长度为LM实际为LM-2XjL XjL为横向扩散深度 实际的
LM W W L LM 2 jL L M
VDD Q
●
Q
●
●
+
+
Q R S R
●
●
●
●
●
Q
●
S
●
2、D锁存器
把一对互补的输入信号送入RS触发器,并由CP控制, 就构成了D锁存器
D CP
Q
D CP
Q
Q
• 如用CMOS传输门和CMOS倒相器来构成D锁存器,则结 构简单,占用硅片面积小
TG2
D
C0 0
C1 C2 0 0 0 0 0 1 1 1 1 0 0 0 0 1 1 1 1 0 1 1 0 0 1 1 0 0 1 1 0 0 1 1
C3 0 1 0 1 0 1 0 1 0 1 0 1 0 1 0 1
F 0 AB A B A B AB B A AB AB A B AB A B A B AB 1
最后 0
1
VGS=VDD,恒栅压
VDD-VTN VDD VDS (Vo-Vi)
二、CMOS 传输门
单沟道MOS传输门存在两个缺点,CMOS传输门则 可弥补这个不足。 CMOS传输门由一对互补的MOS管并联而成
VGP I/O VDD O/I
VSS
VGN
VGN=1 VGP=0 则导通 VGN=0 VGP=1 则截止
3-5 CMOS 门电路的设计
一、版图尺寸与实际尺寸的关系: 由于漏源扩散时的横向扩散,使沟道长度变窄
G
S
n+
D
n+
版图上长度为LM实际为LM-2XjL XjL为横向扩散深度 实际的
LM W W L LM 2 jL L M
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NMOS:W/L=4;PMOS:W/L=6 NMOS:W/L=8;PMOS:W/L=2 分别求出这个反相器的输出电压?
VOH=VDD=5V VOL=1.75V VOL=0.24V
2013-5-19
自适应负载的类NMOS电路
VDD
Enable
M1
M2
M1 >> M2
等待时大pMOS M1不通,省功耗
噪声容限(图4-21b)
低电平噪声容限:仅有一端输入,其余接高电平(最坏情 况) 高电平噪声容限:作为输入端 VT n R 1 p , 其中 K p R VDD Kn 1 R (同步变化)
例题:若有一CMOS与非门有n个输入端,αn=αp=0.2,βo=1分别求n=4 或n=9时的中值电压VT?当n个输入端中n-1个固定在高电平时分别求n=4 或n=9时的中值电压VT?若要求此与非门有对称的噪声容限,求βo? 2013-5-19
由真值表出发
例如
XOR异或门电路设计 XNOR异或非门电路设计
输出为零意味着一个 NMOS链导通接地; 输出为1意味着一组 PMOS从电源得到电流 逻辑电路
2013-5-19
类NMOS电路(88页)
类NMOS电路结构
NMOS逻辑块+一个PMOS负载管 PMOS逻辑块+一个NMOS负载管 直流特性
总结:在要求全对称噪声容限和要求上升沿、下降沿时间 相等的对称性,得到的设计结果不同。可根据电路的要求 来选择设计的途径
2013-5-19
或非门(NOR)分析
有效k因子 最坏情况分析 设计一个二输入CMOS或非门,要求在驱动1PF 外部负载电容情况下,工作频率不大于1000MHZ, 采用0.6微米CMOS工艺。VTn=0.8V、VTp=-0.9V、 kn’=120X10-6A/V2、kp’=60X10-6A/V2、VDD=5V。
总结:在逻辑设计中并不是逻辑门数越少,性能越好,要考虑个逻辑门的性能。 扇入太大,性能不好。
2013-5-19
带缓冲级的CMOS门电路
在输出端或者输入端附加倒相器作为缓冲
器 在输出端和输入端同时都加倒相器作为缓 冲器
2013-5-19
镜像电路
基于串-并联逻辑门 速度快 具有较为一致的版图
n输入与非门的直流电压传输特性
VNLM v1 VDD VNHM (1 vn ) VDD
v1 vn
N n 0 (1 P )
1 n 0
噪声容限小 于VDD/2
N n 0 (1 P )
1 n 0
1 2 W L
K导电因子 K eff Cox
静态逻辑门的特点
一定实现带“非”的功能
Y=F(x1,x2,…,xn) 规律
Pull up net
NMOS:串与并或-下拉网络 PMOS:串或并与-上拉网络
Pull down net
每个输入同时接一个NMOS和PMOS,
N输入逻辑门需要2N个管子 保持了无比电路的优点 噪声容限比反相器小 2013-5-19
2013-5-19
类NMOS电路 (有比电路) 有比电路的种类
VDD Resistive Load RL F In1 In2 In3 PDN VSS (a) resistive load In1 In2 In3 PDN VSS (b) depletion load NMOS Depletion Load VDD VT < 0 F In1 In2 In3 PMOS Load VSS
B 0 1 0 1
F 1 1 1 0
A•B=A+B [!(A • B) = !A + !B or !(A & B) = !A | !B]
2013-5-19
例:CMOS或非门
B A A+B A B A B
A 0 0 1 1
B 0 1 0 1
A+B=A•B
F 1 0 0 0
[!(A + B) = !A • !B or !(A | B) = !A & !B]
2013-5-19
回顾
模型2估算中结论
上升时间
t r ln9 p 2.2 p
p R p Cout
下降时间
t f ln9 n 2.2 n
n RnCout
Kn 0 Kp
2013-5-19
以等效反相器的 方法来分析电路 下面以与非门为例
与非门特性
例题:设计一个二输入CMOS与非门,要求在驱动1PF外部 负载电容情况下,工作频率不大于1000MHZ,采用0.6微米 CMOS工艺。VTn=0.8V、VTp=-0.9V、kn’=120X10-6A/V2、 kp’=60X10-6A/V2、VDD=5V。
(1)假设上升沿时间=下降沿时间,由它们与最大工作频率的关系式得到此时间值 (2)考虑最坏情况下只有一个PMOS管充电,忽略寄生电容。 (3)采用(4-19、20)计算上升、下降时间常数,由此时间常数的计算公式代入 合适的有效迁移率的值得到PMOS的宽:14.28微米;而NMOS的宽:13.8微米
V OL = VDD – V T 1 –
减少了晶体管数目,减少了面积和负载,但存在静态功耗!!! SMALLER AREA & LOAD BUT STATIC POWER DISSIPATION!!!
2013-5-19
例题
1 k ' COX 2
考虑一个CMOS工艺,VDD=5V,VTn=0.7V, VTp=-0.8V,k’n=150μA/V2,及k’p=68μA/V2。 一个准nMOS反相器的尺寸为
(1)假设上升沿时间=下降沿时间,由它们与最大工作频率的关系式得到此时间值 (2)考虑最坏情况下只有一个NMOS管放电,忽略寄生电容。 (3)采用(4-19、20)计算上升、下降时间常数,由此时间常数的计算公式代入 合适的有效迁移率的值得到PMOS的宽:28.56微米;而NMOS的宽:6.9微米
2013-5-19
2013-5-19
A B Y=A(B+C)+D C D
Example: Y=A(B+C)+D
A
VDD B C D Y=A(B+C)+D A D B C
2013-5-19
课堂练习
F=not(AB+C(D+E))
2013-5-19
静态逻辑门电路
串联方式工作,相当于沟道长度增加 并联方式工作,相当于沟道宽度增加 存在衬底偏置效应
0 8.851014 F / cm ox 3.9
采用等效反相器分析电路 由(4-19、20)求出上升、下降时间常数 分析最坏情况、注意对称性,得到每个管子的k因子 要求面积最小,所以管子的长就是工艺的特征尺寸 求得每个管子的宽度
2013-5-19
实现不带“非”的功能
F CL
A
B
C
D
工作时大pMOS M1导通,提速度
Adaptive Load
2013-5-19
差分CMOS逻辑电路
Differential Cascode Voltage Switch Logic (DCVSL)
VDD VDD
M1
M2
PDN1和PDN2是实现 互补的逻辑,它们交 替工作,实现所需的 逻辑功能及其反相值。
N
2013-5-19
3
2
与非门的开关特性
采用等效反相器分析电路 将(4-19、20)式中的k因子用有效k因子代替 讨论
• 在输入端增加时,pMOS有效增益因子会大于nMOS有效增益因子 • 欲使上升时间和下降时间相等,在假设电子迁移率为空穴迁移率的两倍 时,必须增大MOS管的宽长。
IL应当高 RPDN应当低
t pHL 0.69RPDN CL
1、2、3有矛盾,即越快的门意味着越大的静态功耗 和越小的噪声容限。
o CMOS比例因子 o Kn / K p
V T 归一电平 VDD
噪声容限小 于VDD/2
2013-5-19
四输入与非门的设计
工作电压5V,VTN=-VTP=1V,采用特征尺寸为0.6 微米的工艺。 求设计中PMOS、NMOS的沟道宽度?
WP 0.125 WN
如果是N输入的与非门,得
2013-5-19
类NMOS电路 (伪NMOS电路)
VDD
A
B
C
D
F CL
输出高电平 V OH = VDD (similar to complementary CMOS) 和互补CMOS类似
输出低电平
V2 k 2 OL = ------ V p k V – V V – ------------- – V DD n DD Tn OL Tp 2 2 kp 1 – ------ (assuming that V T = V Tn = VTp ) kn
组合逻辑电路的设计
“与或非”门
设计F=A(B+C)+D逻辑电路,要求驱动1PF电容,上升、 下降沿时间为10ns,工作电压:5伏,采用1.5微米工艺, 氧化层厚度:30纳米,VTn=0.8伏、VTp=-0.9伏,电子迁 移率为400cm2/VS、空穴迁移率为180cm2/VS。
设计题,如何完成逻辑电路的版图
A B A B C
NMOS
A B
串与
A•B
C F=A B C F = A +B + C
VOH=VDD=5V VOL=1.75V VOL=0.24V
2013-5-19
自适应负载的类NMOS电路
VDD
Enable
M1
M2
M1 >> M2
等待时大pMOS M1不通,省功耗
噪声容限(图4-21b)
低电平噪声容限:仅有一端输入,其余接高电平(最坏情 况) 高电平噪声容限:作为输入端 VT n R 1 p , 其中 K p R VDD Kn 1 R (同步变化)
例题:若有一CMOS与非门有n个输入端,αn=αp=0.2,βo=1分别求n=4 或n=9时的中值电压VT?当n个输入端中n-1个固定在高电平时分别求n=4 或n=9时的中值电压VT?若要求此与非门有对称的噪声容限,求βo? 2013-5-19
由真值表出发
例如
XOR异或门电路设计 XNOR异或非门电路设计
输出为零意味着一个 NMOS链导通接地; 输出为1意味着一组 PMOS从电源得到电流 逻辑电路
2013-5-19
类NMOS电路(88页)
类NMOS电路结构
NMOS逻辑块+一个PMOS负载管 PMOS逻辑块+一个NMOS负载管 直流特性
总结:在要求全对称噪声容限和要求上升沿、下降沿时间 相等的对称性,得到的设计结果不同。可根据电路的要求 来选择设计的途径
2013-5-19
或非门(NOR)分析
有效k因子 最坏情况分析 设计一个二输入CMOS或非门,要求在驱动1PF 外部负载电容情况下,工作频率不大于1000MHZ, 采用0.6微米CMOS工艺。VTn=0.8V、VTp=-0.9V、 kn’=120X10-6A/V2、kp’=60X10-6A/V2、VDD=5V。
总结:在逻辑设计中并不是逻辑门数越少,性能越好,要考虑个逻辑门的性能。 扇入太大,性能不好。
2013-5-19
带缓冲级的CMOS门电路
在输出端或者输入端附加倒相器作为缓冲
器 在输出端和输入端同时都加倒相器作为缓 冲器
2013-5-19
镜像电路
基于串-并联逻辑门 速度快 具有较为一致的版图
n输入与非门的直流电压传输特性
VNLM v1 VDD VNHM (1 vn ) VDD
v1 vn
N n 0 (1 P )
1 n 0
噪声容限小 于VDD/2
N n 0 (1 P )
1 n 0
1 2 W L
K导电因子 K eff Cox
静态逻辑门的特点
一定实现带“非”的功能
Y=F(x1,x2,…,xn) 规律
Pull up net
NMOS:串与并或-下拉网络 PMOS:串或并与-上拉网络
Pull down net
每个输入同时接一个NMOS和PMOS,
N输入逻辑门需要2N个管子 保持了无比电路的优点 噪声容限比反相器小 2013-5-19
2013-5-19
类NMOS电路 (有比电路) 有比电路的种类
VDD Resistive Load RL F In1 In2 In3 PDN VSS (a) resistive load In1 In2 In3 PDN VSS (b) depletion load NMOS Depletion Load VDD VT < 0 F In1 In2 In3 PMOS Load VSS
B 0 1 0 1
F 1 1 1 0
A•B=A+B [!(A • B) = !A + !B or !(A & B) = !A | !B]
2013-5-19
例:CMOS或非门
B A A+B A B A B
A 0 0 1 1
B 0 1 0 1
A+B=A•B
F 1 0 0 0
[!(A + B) = !A • !B or !(A | B) = !A & !B]
2013-5-19
回顾
模型2估算中结论
上升时间
t r ln9 p 2.2 p
p R p Cout
下降时间
t f ln9 n 2.2 n
n RnCout
Kn 0 Kp
2013-5-19
以等效反相器的 方法来分析电路 下面以与非门为例
与非门特性
例题:设计一个二输入CMOS与非门,要求在驱动1PF外部 负载电容情况下,工作频率不大于1000MHZ,采用0.6微米 CMOS工艺。VTn=0.8V、VTp=-0.9V、kn’=120X10-6A/V2、 kp’=60X10-6A/V2、VDD=5V。
(1)假设上升沿时间=下降沿时间,由它们与最大工作频率的关系式得到此时间值 (2)考虑最坏情况下只有一个PMOS管充电,忽略寄生电容。 (3)采用(4-19、20)计算上升、下降时间常数,由此时间常数的计算公式代入 合适的有效迁移率的值得到PMOS的宽:14.28微米;而NMOS的宽:13.8微米
V OL = VDD – V T 1 –
减少了晶体管数目,减少了面积和负载,但存在静态功耗!!! SMALLER AREA & LOAD BUT STATIC POWER DISSIPATION!!!
2013-5-19
例题
1 k ' COX 2
考虑一个CMOS工艺,VDD=5V,VTn=0.7V, VTp=-0.8V,k’n=150μA/V2,及k’p=68μA/V2。 一个准nMOS反相器的尺寸为
(1)假设上升沿时间=下降沿时间,由它们与最大工作频率的关系式得到此时间值 (2)考虑最坏情况下只有一个NMOS管放电,忽略寄生电容。 (3)采用(4-19、20)计算上升、下降时间常数,由此时间常数的计算公式代入 合适的有效迁移率的值得到PMOS的宽:28.56微米;而NMOS的宽:6.9微米
2013-5-19
2013-5-19
A B Y=A(B+C)+D C D
Example: Y=A(B+C)+D
A
VDD B C D Y=A(B+C)+D A D B C
2013-5-19
课堂练习
F=not(AB+C(D+E))
2013-5-19
静态逻辑门电路
串联方式工作,相当于沟道长度增加 并联方式工作,相当于沟道宽度增加 存在衬底偏置效应
0 8.851014 F / cm ox 3.9
采用等效反相器分析电路 由(4-19、20)求出上升、下降时间常数 分析最坏情况、注意对称性,得到每个管子的k因子 要求面积最小,所以管子的长就是工艺的特征尺寸 求得每个管子的宽度
2013-5-19
实现不带“非”的功能
F CL
A
B
C
D
工作时大pMOS M1导通,提速度
Adaptive Load
2013-5-19
差分CMOS逻辑电路
Differential Cascode Voltage Switch Logic (DCVSL)
VDD VDD
M1
M2
PDN1和PDN2是实现 互补的逻辑,它们交 替工作,实现所需的 逻辑功能及其反相值。
N
2013-5-19
3
2
与非门的开关特性
采用等效反相器分析电路 将(4-19、20)式中的k因子用有效k因子代替 讨论
• 在输入端增加时,pMOS有效增益因子会大于nMOS有效增益因子 • 欲使上升时间和下降时间相等,在假设电子迁移率为空穴迁移率的两倍 时,必须增大MOS管的宽长。
IL应当高 RPDN应当低
t pHL 0.69RPDN CL
1、2、3有矛盾,即越快的门意味着越大的静态功耗 和越小的噪声容限。
o CMOS比例因子 o Kn / K p
V T 归一电平 VDD
噪声容限小 于VDD/2
2013-5-19
四输入与非门的设计
工作电压5V,VTN=-VTP=1V,采用特征尺寸为0.6 微米的工艺。 求设计中PMOS、NMOS的沟道宽度?
WP 0.125 WN
如果是N输入的与非门,得
2013-5-19
类NMOS电路 (伪NMOS电路)
VDD
A
B
C
D
F CL
输出高电平 V OH = VDD (similar to complementary CMOS) 和互补CMOS类似
输出低电平
V2 k 2 OL = ------ V p k V – V V – ------------- – V DD n DD Tn OL Tp 2 2 kp 1 – ------ (assuming that V T = V Tn = VTp ) kn
组合逻辑电路的设计
“与或非”门
设计F=A(B+C)+D逻辑电路,要求驱动1PF电容,上升、 下降沿时间为10ns,工作电压:5伏,采用1.5微米工艺, 氧化层厚度:30纳米,VTn=0.8伏、VTp=-0.9伏,电子迁 移率为400cm2/VS、空穴迁移率为180cm2/VS。
设计题,如何完成逻辑电路的版图
A B A B C
NMOS
A B
串与
A•B
C F=A B C F = A +B + C