金相培训课程--抛光

1.金相抛光介绍

金相样品在经过研磨后已经去除热损伤和变形层，样品表面平整，划痕在15微米左右，肉眼可见，并不适合显微观测。

抛光是在显微观测前对研磨表面进行进一步的修复，可逐次将划痕控制在1微米或以下，目视为镜面，适合显微观测。

鉴于样品材质硬度不同，抛光布料选也不一样。软质材料选用柔软厚实的抛光布，硬质材料则选用紧实纤薄的抛光布。

抛光布本身的磨削能力有限，需要添加悬浮液磨粒来实现物料磨除。根据磨粒的大小，抛光可逐级粗抛光，精细抛光，以及氧化物抛光。来自抛光液的磨粒储藏在抛光布的纹理内，样品经过是实现磨削功能，因此，抛光布的纹理粗细必须与对应的磨粒相匹配。

为适应不同的抛光需求，品种丰富的抛光材料必不可少，不同特质的面料用于不同材料的抛光，促进抛光效果趋近完美。

2.国内抛光步骤的处理

常规方法：

我们国内大多采用较为简易的手动抛光方式，并且基本全部使用单一的绒布材质，以卡箍形式固定，并配合手工配置的氧化物悬浮液。抛光过程中抛光布容易褶皱，抛光效果较大依赖于经验和技巧，同时整个抛光效率下降，往往造成过度抛光现象，边缘及硬质位置出现圆化；同时抛光过程不可控，结果再现性不好。

改良方法：

稍微好一些的实验室采用带有背胶的抛光布，将离型纸揭去后粘连在抛光机支持盘上，这样可以有效避免抛光过程中抛光布的脱落和褶皱，抛光过程相对稳定，但是在悬浮液的作用下，背胶容易失效脱落，甚至对支持盘面造成一定程度的腐蚀。如果粘连牢固的地方则在移除抛光布是容易造成残胶，很难彻底清除，对盘面的平整性造成不利影响。

可靠方法：

目前国际上较为先进的磨抛方式是采用磁吸式支持盘面，抛光盘是由抛光面料以高强度胶粘到磁性钢背盘上，并且中间夹入过渡层，防止抛光液渗入。同时磁吸固定的方式稳定牢靠，移除便捷，是目前国际先进实验室通行方法。国际巨头如司特尔，标乐，上海川禾均普遍采用这种方法。

3.金相磁吸抛光盘的结构

抛光盘共有三层：

抛光布：精细纺编的布料，持久耐磨，磨粒留存久，抛光效率高。

隔离层：高强硬质隔离层，不变形不下陷，防止抛光圆角。防水耐蚀，隔离了水或腐蚀性液

体的下渗透。

钢背：纤薄钢背，支持磁性吸附，与支持盘贴合好，坚硬不变形。

抛光面料分类：

GD-PCJ

聚酯材质，细纺紧编，硬度较高，平整度好。与样品贴合接触面积大，磨削效率高。可用于软质材料的过渡性精磨，或用作硬质材料的粗抛光。

GD-PCC

仿丝类酯化纤维材质，耐磨损。细纺缎纹紧编。样品接触面积大，磨削效率高。材料适应性好，适合介于粗抛和精抛的中间抛光。

GD-PCS

100%全真丝材质。精纺超薄面料，适合软质材料精抛光。

GD-PCM

长纤维纯棉材质，粗纺紧编。耐磨性极佳。适合硬质材料的中抛。

GD-PCY

长纤维羊毛布料，松纺，斜纹紧编。磨粒留存能力强。适合3微米及以下磨粒抛光，软质材料抛光效果更佳，也可搭配氧化物抛光。

4.附录资料：

丹麦司特尔抛光盘

上海川禾磁性抛光盘：