第三章光学薄膜的制备课件
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《光学薄膜设计理论》课件
总结词
随着光电器件的发展,光学薄膜的应用领域也在不断 扩展。新型光电器件对光学薄膜的要求更高,需要不 断探索新的应用领域和场景。
详细描述
光学薄膜在新型光电器件中具有广泛的应用前景。例 如,在激光器、太阳能电池、光电传感器等领域中, 光学薄膜可以起到增益介质、反射镜、滤光片、保护 膜等作用。此外,随着光电器件的微型化和集成化发 展,光学薄膜的应用场景也在不断扩展,如光子晶体 、微纳光学器件等。这些新型光电器件的发展将进一 步推动光学薄膜技术的进步和应用领域的拓展。
薄膜的均质膜系法
总结词
将多层薄膜视为一个整体,并使用均质膜系法来计算反射、透射和吸收系数的方 法。
详细描述
均质膜系法是一种更精确的光学薄膜设计方法。它将多层薄膜视为一个整体,并 使用均质膜系法来计算反射、透射和吸收系数。这种方法适用于薄膜层数较多、 折射率变化较大的情况,能够更准确地模拟薄膜的光学性能。
光的波动理论概述
光的波动理论认为光是一种波动现象,具有振动 、传播和干涉等特性。
波动方程的推导
通过麦克斯韦方程组推导出波动方程,描述光波 在介质中的传播规律。
波前的概念
光的波动理论中引入了波前的概念,用于描述光 波的相位和振幅。
光的干涉理论
光的干涉现象
光的干涉是指两束或多束相干光波在空间某一点叠加时,产生明 暗相间的干涉条纹的现象。
按制备方法分类
03
物理气相沉积、化学气相沉积、溶胶-凝胶法等。
光学薄膜的应用
光学仪器
照相机、望远镜、显微镜等。
光电子
激光器、光探测器、光放大器等。
通信
光纤、光波导、光放大器等。
摄影
滤镜、镜头镀膜等。
02
光学薄膜设计基础
《光学薄膜-范正修》课件
多光子光学薄吸收效应来制备具有 特殊光学性质的光学薄膜。
应用和优势
多光子光学薄膜具有较高的光学性能和稳定性,具 有应用前景广阔的潜力。
光学薄膜的应用领域
光学通讯
光学薄膜的反射、透过率等性能使得其在光学通讯领域有着广泛应用。
光学仪器
光学薄膜广泛应用于光学仪器中,如镜片、滤光片、分束器等。
反射率
正入射光与反射光之比,称为反射率。
色散性
物质对不同波长的光线所产生的折射率不同, 这种现象称为色散性。
光学薄膜的分类
1
单层光学薄膜
由一层材料制成的光学薄膜,其性能稳定,价格便宜。
2
多层光学薄膜
由多层不同材质的光学薄膜堆积而成,性能可调制,应用范围广。
3
光子晶体光学薄膜
利用光子晶体的晶格结构制成的光学薄膜,具有优异的光学性能,应用范围广泛。
光学薄膜-范正修PPT课件
范正修是一位著名的光学专家,他对光学薄膜做出了重要研究。
光学薄膜的定义
1 光学薄膜是什么?
光学薄膜是将多种材料按照一定顺序堆积在一起制成的具有特殊光学性质的膜。
2 作用和应用领域
光学薄膜具有良好的光学性能,使它被广泛应用于光学仪器、光学通讯、光学涂层等领 域。
光学薄膜的原理
光学薄膜的制备技术
光学薄膜的制备技术包括物理气相沉积、化学气相 沉积、溅射等多种方式。
光学薄膜的工艺流程
光学薄膜的制备工艺包括:基片处理、底层膜沉积、 中间层沉积、顶层膜沉积、后处理等流程。
光学薄膜的特性和性能
折射率
光在介质内传播时的速度与真空中的速度之比, 称为介质的折射率。
透过率
正入射光经过薄膜后,透过薄膜所形成的光线 的强度与未经过薄膜的光线的强度之比,称为 透过率。
薄膜制备技术课件分解
7. 薄膜制备技术 7.1 薄膜材料基础 7.1.1 薄膜的概念与分类
1. 薄膜材料的概念 采用一定方法,使处于某种状态的一种或几种物质(原材料)
的基团以物理或化学方式附着于衬底材料表面,在衬底材料 表面形成一层新的物质,这层新物质就是薄膜。
简而言之,薄膜是由离子、原子或分子的沉积过程形成的二维 材料。
2021/2/6
1
2. 薄膜分类
(1)物态
气态 液态 固态(thin solid film)
(2)结晶态:
非晶态:原子 有排 序 、长 列程 短无 。程序 晶态 多 单晶 晶: :在 外、一 延 在衬 生 单 ,底 长 晶 由上 基 许生 底 多长 上 取 质同 向 外 集质 相 延 合和 异 体异 单 组
1) 蒸发或升华。通过一定加热方式使被蒸发材料受热 蒸发或升华,由固态或液态变成气态。
2) 输运到衬底。气态原子或分子在真空状态及一定蒸 气压条件下由蒸发源输运到衬底。
3) 吸附、成核与生长。通过粒子对衬底表面的碰撞, 衬底表面对粒子的吸附以及在表面的迁移完成成核 与生长过程。是一个以能量转换为主的过程。
The composition and crystal structure of films depend on material quality, fabriccation method, synthesis condition, and post-annealing.
2021/2/6
8
原子层的晶体生长“世界”与自然世界的比拟
5
代表性的制备方法按物理、化学角度来分,有:
1) 物理成膜 PVD 2) 化学成膜 CVD
2021/2/6
6
7.2 物理成膜 7.2.1 概述 1. 定义
1. 薄膜材料的概念 采用一定方法,使处于某种状态的一种或几种物质(原材料)
的基团以物理或化学方式附着于衬底材料表面,在衬底材料 表面形成一层新的物质,这层新物质就是薄膜。
简而言之,薄膜是由离子、原子或分子的沉积过程形成的二维 材料。
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1
2. 薄膜分类
(1)物态
气态 液态 固态(thin solid film)
(2)结晶态:
非晶态:原子 有排 序 、长 列程 短无 。程序 晶态 多 单晶 晶: :在 外、一 延 在衬 生 单 ,底 长 晶 由上 基 许生 底 多长 上 取 质同 向 外 集质 相 延 合和 异 体异 单 组
1) 蒸发或升华。通过一定加热方式使被蒸发材料受热 蒸发或升华,由固态或液态变成气态。
2) 输运到衬底。气态原子或分子在真空状态及一定蒸 气压条件下由蒸发源输运到衬底。
3) 吸附、成核与生长。通过粒子对衬底表面的碰撞, 衬底表面对粒子的吸附以及在表面的迁移完成成核 与生长过程。是一个以能量转换为主的过程。
The composition and crystal structure of films depend on material quality, fabriccation method, synthesis condition, and post-annealing.
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8
原子层的晶体生长“世界”与自然世界的比拟
5
代表性的制备方法按物理、化学角度来分,有:
1) 物理成膜 PVD 2) 化学成膜 CVD
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7.2 物理成膜 7.2.1 概述 1. 定义
《薄膜材料的制备》PPT课件
m为气体分子的质量
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1.2.1 真空蒸发镀膜
• 蒸发速率 1 m J7.75M 2pPa k/g(m 2s) T 从蒸发源蒸发出来的分子在向基片沉积的过程中,还 不断与真空中的残留气体分子相碰撞,使蒸发分子失去 定向运动的动能,而不能沉积于基片。为保证80-90% 的蒸发元素到达基片,一般要求残留气体的平均自由程 是蒸发源至基片距离的5-10倍。
《薄膜材料的制备》PPT 课件
1 薄膜材料的制备
1.1 薄膜的形成机理 1.2 物理气相沉积 1.3 化学气相沉积 1.4 化学溶液镀膜法 1.5 液相外延制膜法 1.6 膜厚的测量与监控
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1.1 薄膜的形成机理
薄膜材料在现代科学技术中应用十分广泛,制 膜技术的发展也十分迅速。 制膜方法—分为物理和化学方法两大类; 具体方式上—分为干式、湿式和喷涂三种, 而每种方式又可分成多种方法。
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1 薄膜材料的制备
1.1 薄膜的形成机理 1.2 物理气相沉积 1.3 化学气相沉积 1.4 化学溶液镀膜法 1.5 液相外延制膜法 1.6 膜厚的测量与监控
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1.2 物理气相沉积
如果势垒很低,形核率高,形成很多的小聚集体,这时薄 膜的厚度虽然很薄,但它会成为连续的。
• 高的脱附能Ed和低的扩散激活能ES都有利于气相原 子在衬底表面的停留和运动,因而会提高形核率。
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《光学薄膜膜系设计》课件
,常用的测量方法有光谱椭偏仪法和光谱反射法等。
03
光学薄膜设计方法
膜系设计的基本原则
光学性能原则
薄膜的光学性能应满足设计要求,如 反射、透射、偏振等特性。
物理化学稳定性原则
薄膜应具有优良的物理和化学稳定性 ,能够经受环境因素的影响,如温度 、湿度、紫外线等。
机械强度原则
薄膜应具有足够的机械强度,能够承 受加工和使用过程中的应力。
干涉色散
由于薄膜干涉作用,不同波长的光 波会产生不同的相位差,导致不同 的干涉效果,从而产生色散现象。
薄膜的光学常数
光学常数定义
01
描述介质对光波的折射率、消光系数等光学性质的一组参数。
薄膜的光学常数
02
对于光学薄膜,其光学常数包括折射率、消光系数、热光系数
等。
光学常数测量
03
通过测量光波在薄膜中的传播特性,可以获得薄膜的光学常数
反射膜的应用案例
总结词
反射膜主要用于将特定波段的光反射回原介质,常用于聚光镜、太阳能集热器等领域。
详细描述
反射膜具有高反射率和宽光谱特性,被广泛应用于太阳能利用和照明工程中。通过将反 射膜镀在金属镜面上,可以大大提高光的反射效率,从而实现高效聚光和散热。此外,
反射膜还用于制作装饰性和广告用反射镜面。
干涉现象
当两束或多束相干光波相遇时,会因相位差而产生明暗相间的干 涉条纹。
干涉条件
为了产生稳定的干涉现象,需要满足相干波源、相同频率、相同 方向和相同振动情况等条件。
薄膜的干涉效应
薄膜干涉原理
当光波入射到薄膜表面时,会因 反射和折射而产生干涉现象。
薄膜干涉类型
根据光波在薄膜中传播路径的不同 ,可分为前表面反射干涉和后表面 反射干涉。
第三章薄膜制备技术ppt课件
化学气相沉积,包括低压化学气相沉积(low pressure CVD,LPCVD)、离子增强型气相沉积(plasma enhanced (assisted) CVD,PECVD,PACVD)、常压化学气相沉积(atmosphere pressure CVD,APCVD)、金属有机物气相沉积(MOCVD)和微波电子回旋共振化学气相沉积(Microwave Electron cyclotron resonance chemical vapor deposition, MW-ECR-CVD)等。
分子束外延是在超高真空条件下精确控制源材料的中性分子束强度,并使其在加热的基片上进行外延生长的一种技术。从本质上讲,分子束外延也属于真空蒸发方法,但 与传统真空蒸发不同的是,分子束外延系统具有超高真空,并配有原位监测和分析系统,能够获得高质量的单晶薄膜。
2、溅射法 荷能粒子轰击固体材料靶,使固体原子从表面射出,这些原子具有一定的动能和方向性。在原子射出的方向上放上基片,就可在基片上形成一层薄膜,这种制备薄膜的方法叫做溅射法。 溅射法属于物理气相沉积(PVD),射出的粒子大多处于原子状态,轰击靶材料的荷能粒子一般是电子、离子和中性粒子。
3.1.2 化学气相沉积 (chemical vapor deposition )
化学气相沉积:一定化学配比的反应气体,在特定激活条件下(一般是利用加热、等离子体和紫外线等各种能源激活气态物质),通过气相化学反应生成新的膜层材料沉积到基片上制取膜层的一种方法。 Chemical vapor deposition (CVD) is a chemical process often used in the semiconductor industry for the deposition of thin films of various materials.
分子束外延是在超高真空条件下精确控制源材料的中性分子束强度,并使其在加热的基片上进行外延生长的一种技术。从本质上讲,分子束外延也属于真空蒸发方法,但 与传统真空蒸发不同的是,分子束外延系统具有超高真空,并配有原位监测和分析系统,能够获得高质量的单晶薄膜。
2、溅射法 荷能粒子轰击固体材料靶,使固体原子从表面射出,这些原子具有一定的动能和方向性。在原子射出的方向上放上基片,就可在基片上形成一层薄膜,这种制备薄膜的方法叫做溅射法。 溅射法属于物理气相沉积(PVD),射出的粒子大多处于原子状态,轰击靶材料的荷能粒子一般是电子、离子和中性粒子。
3.1.2 化学气相沉积 (chemical vapor deposition )
化学气相沉积:一定化学配比的反应气体,在特定激活条件下(一般是利用加热、等离子体和紫外线等各种能源激活气态物质),通过气相化学反应生成新的膜层材料沉积到基片上制取膜层的一种方法。 Chemical vapor deposition (CVD) is a chemical process often used in the semiconductor industry for the deposition of thin films of various materials.
《光学薄膜的形成》PPT课件
薄膜的形成是由成核开始的。
薄膜的形成——薄膜形成过程和生长模式
薄膜的形成——薄膜形成过程和生长模式
薄膜的形成——薄膜形成过程和生长模式
★ 薄膜形成过程和生长模式
薄膜形成过程是指形 成稳定核之后的过程。
薄膜生长模式是指薄 膜形成的宏观形式。
薄膜的形成——薄膜形成过程和生长模式
薄膜形成过程描述:
表面扩散势垒 表面扩散能
吸附能
ED
1 6
~
1 2
Ed
薄膜的形成——凝结过程
平均表面扩散时间 D
吸附原子在吸附位置上的停留时间称为平均表面扩散
时间,用 D 表示。
D
o
exp
ED kT
式中, o 是表面原子沿表面水平方向振动周期,o o
平均表面扩散距离 x (设ao 为相邻吸附位置间距)
x 4Da
D ao2 / 4 D
x
4D a ao
a D
ao exp Ed
ED
2kT
薄膜的形成——凝结过程
薄膜制备时,要 达到完全凝结的 工艺设计原则:
• 提高淀积速率
• 降低基片温度
• 选用吸附能大 的基片
1. 单体吸附;
2.形成小原子团(胚芽);
3.形成临界核(开始成核); 4.临界核捕获原子,开始长大; 5.临界核长大的同时,在非捕获区,单体逐渐形成临界核; 6.稳定核长大,彼此连接形成小岛,新面积形成;
7.新面积吸附单体,发生“二次”成核; 8.小岛结合形成大岛,大岛长大并相互结合,有产生 新面积,并发生“二次”、“三次”成核;
宏观表面能计算、表面能概念、结构
薄膜的形成——薄膜形成过程和生长模式
薄膜的形成——薄膜形成过程和生长模式
薄膜的形成——薄膜形成过程和生长模式
★ 薄膜形成过程和生长模式
薄膜形成过程是指形 成稳定核之后的过程。
薄膜生长模式是指薄 膜形成的宏观形式。
薄膜的形成——薄膜形成过程和生长模式
薄膜形成过程描述:
表面扩散势垒 表面扩散能
吸附能
ED
1 6
~
1 2
Ed
薄膜的形成——凝结过程
平均表面扩散时间 D
吸附原子在吸附位置上的停留时间称为平均表面扩散
时间,用 D 表示。
D
o
exp
ED kT
式中, o 是表面原子沿表面水平方向振动周期,o o
平均表面扩散距离 x (设ao 为相邻吸附位置间距)
x 4Da
D ao2 / 4 D
x
4D a ao
a D
ao exp Ed
ED
2kT
薄膜的形成——凝结过程
薄膜制备时,要 达到完全凝结的 工艺设计原则:
• 提高淀积速率
• 降低基片温度
• 选用吸附能大 的基片
1. 单体吸附;
2.形成小原子团(胚芽);
3.形成临界核(开始成核); 4.临界核捕获原子,开始长大; 5.临界核长大的同时,在非捕获区,单体逐渐形成临界核; 6.稳定核长大,彼此连接形成小岛,新面积形成;
7.新面积吸附单体,发生“二次”成核; 8.小岛结合形成大岛,大岛长大并相互结合,有产生 新面积,并发生“二次”、“三次”成核;
宏观表面能计算、表面能概念、结构
第三章 薄膜材料的主要制备方法ppt课件
温成膜
化学工业,光学工业, 电子工业
与下述放电(等离子体) 聚合的应用相近,特别 是可满足要求更高的局 部处理,如精细线的光 扫描聚合等
放电(等离子 体)聚合
采用低温等离子体,激发 能量的变化范围宽,可以 制备各种不同的膜层,应 用对象范围宽
蒸发模式多样,生成机制复杂
适用对象广泛,各种类 型的聚合物,桥架反应, 保护膜,分离膜,光学 膜,电子材料膜,耐磨 抗蚀膜等
杂质混入少
类的组合、选择等受到限制
化学保护,提高电学性 能,提高光学性能,装 饰效果,提高与生物体 的适应性,赋予传感功 能等
干
聚合反应
同上。可促进反应的进行
式
既可进行局部处理,又可
法
光聚合反应 (CVD)
进行大面积处理,激发能
量小,能量的变化范围小, 对膜层的损伤范围小,生
需要对光源进行选择
成膜中的杂质少,可在低
材料不能成膜
箔,装饰,玩具等
.
方 法 化学的制模法
优点
缺点
主要应用
热分解法
装置简单
整个反应系统处于高温。膜厚控 制困难,难以通过掩模形成所需 要的图形
化学工业,光学工业, 电子工业
气相反应法 装置简单
同上
保护膜,表面钝化膜, 装饰,耐磨抗蚀
吸附反应
不需要溶剂,蒸发能量小, 膜层的生长速率低,反应气体种
图3.32 半导体材料的平衡蒸气压随 温度的变化曲线
.
真空蒸发装置
真空蒸发所使用的设备根据目的不同可能有很大的差别,从简单的 电阻加热蒸镀到极为复杂的分子束外延设备都属于真空蒸发沉积的范畴。 在蒸发沉积装置中,最重要的是蒸发源,根据其加热原理可以分为以下 几种:
《现代光学薄膜技术》课件
分类
按照功能和应用,光学薄膜可以 分为增透膜、反射膜、滤光膜、 干涉膜等。
光学薄膜的应用领域
显示行业
液晶显示、等离子显示、投影显示等。
照明行业
LED照明、荧光灯等。
摄影器材
镜头、滤镜等。
太阳能行业
太阳能电池等。
光学薄膜的发展历程
19世纪末
光学薄膜概念诞生,主要用于 镜头增透。
20世纪初
光学薄膜技术逐渐成熟,应用 领域扩大。
真空蒸发镀膜技术适用于各种材料,如金属、半导体、绝缘体等,可以 制备单层膜、多层膜以及复合膜。
真空蒸发镀膜的缺点是难以控制薄膜的厚度和均匀性,且不适用于制备 高熔点材料。
溅射镀膜
溅射镀膜是一种利用高能粒子轰击靶材表面,使靶材原子或分子溅射出来并沉积在基片上形 成薄膜的方法。该方法具有较高的沉积速率和较好的薄膜质量,适用于制备高质量的多层光 学薄膜。
详细描述
高温防护膜通常由耐高温材料制成,如硅、石英等,能够承受较高的温度和恶劣的环境条件。这种薄膜常用于工 业炉、高温炉、激光器等设备的光学元件保护,防止高温对光学表面的损伤和退化,保证设备的长期稳定性和可 靠性。
05
CATALOGUE
光学薄膜的未来发展
新材料的研究与应用
光学薄膜新材料
如新型高分子材料、金属氧化物、氮 化物等,具有优异的光学性能和稳定 性,能够提高光学薄膜的耐久性和功 能性。
THANKS
感谢观看
离子束沉积技术可以应用于各种材料,如金属、非金属、 半导体、绝缘体等,可以制备单层膜、多层膜以及复合膜 。
离子束沉积的缺点是设备成本较高,且需要较高的真空度 条件。
03
CATALOGUE
光学薄膜的性能参数
按照功能和应用,光学薄膜可以 分为增透膜、反射膜、滤光膜、 干涉膜等。
光学薄膜的应用领域
显示行业
液晶显示、等离子显示、投影显示等。
照明行业
LED照明、荧光灯等。
摄影器材
镜头、滤镜等。
太阳能行业
太阳能电池等。
光学薄膜的发展历程
19世纪末
光学薄膜概念诞生,主要用于 镜头增透。
20世纪初
光学薄膜技术逐渐成熟,应用 领域扩大。
真空蒸发镀膜技术适用于各种材料,如金属、半导体、绝缘体等,可以 制备单层膜、多层膜以及复合膜。
真空蒸发镀膜的缺点是难以控制薄膜的厚度和均匀性,且不适用于制备 高熔点材料。
溅射镀膜
溅射镀膜是一种利用高能粒子轰击靶材表面,使靶材原子或分子溅射出来并沉积在基片上形 成薄膜的方法。该方法具有较高的沉积速率和较好的薄膜质量,适用于制备高质量的多层光 学薄膜。
详细描述
高温防护膜通常由耐高温材料制成,如硅、石英等,能够承受较高的温度和恶劣的环境条件。这种薄膜常用于工 业炉、高温炉、激光器等设备的光学元件保护,防止高温对光学表面的损伤和退化,保证设备的长期稳定性和可 靠性。
05
CATALOGUE
光学薄膜的未来发展
新材料的研究与应用
光学薄膜新材料
如新型高分子材料、金属氧化物、氮 化物等,具有优异的光学性能和稳定 性,能够提高光学薄膜的耐久性和功 能性。
THANKS
感谢观看
离子束沉积技术可以应用于各种材料,如金属、非金属、 半导体、绝缘体等,可以制备单层膜、多层膜以及复合膜 。
离子束沉积的缺点是设备成本较高,且需要较高的真空度 条件。
03
CATALOGUE
光学薄膜的性能参数
薄膜制备技术—溅射法ppt课件
缺陷:安装构造复杂,难以获得覆盖面积大、密 度均匀的等离子体,灯丝易耗费。
除特殊用途外已不在运用。
三、射频溅射安装及特性
任务原理
在射频溅射系统中,射频电势加在位于绝缘 靶下面的金属电极上,在射频电场作用下, 在两电极间振荡运动的电子具有足够高的能 量产生离化碰撞,从而使放电到达自持,阴 极溅射的二次电子不再重要。
3.2 溅射主要参数
一、溅射阈和溅射产额 溅射产额又称为溅射率
或溅射系数,表示正 离子撞击阴极时,平 均每个正离子能从阴 极上打出的原子数。 与入射能量,入射离子 种类,溅射物质种类
3.2 溅射主要参数
1. 入射离子能量的影响 只需入射离子能量超越一定阈值以后,才干从被溅射物质
外表溅射出离子。 阈值能量与入射离子的种类关系不大,与被溅射物质的升
速率下降,而溅射产额低的物质得到富集,溅射 速率上升。最终结果是,虽然靶材外表的化学成 分曾经改动,但溅射得到的合金薄膜成分却与靶 材的原始成分根本一样。 当靶的温度很高,各种合金成分由于热扩分发生变 化时,溅射膜和靶材原来的组分就会发生变化。
3.2 溅射主要参数
二、溅射粒子的能量和速度 靶外表受离子轰击会放出各种粒子,主要是溅射原
1、辉光放电过程包括
初始阶段AB:I=0 无光放电区
汤生放电区BC:I迅速增大
过渡区CD:离子开场轰击阴极,产生
二次电子,又与气体分子碰撞产生更多 B
离子
C D
辉光放电区DE:I增大,V恒定
A
异常辉光放电区EF:溅射所选择的任
务区
弧光放电:I增大,V减小
F E
G
3.1 溅射根本原理
溅射实际模型:动量实际,也称为级联碰撞实际。入射离子在进入 靶材的过程中与靶材原子发生弹性碰撞,入射离子的一部分动能会传送 给靶材原子,当后者的动能超越由其周围存在的其他靶材原子所构成的 势垒时,这种原子会从晶格阵点被碰出产生离位原子,并进一步和附近 的靶材原子依次反复碰撞,产生所谓的级联碰撞。
除特殊用途外已不在运用。
三、射频溅射安装及特性
任务原理
在射频溅射系统中,射频电势加在位于绝缘 靶下面的金属电极上,在射频电场作用下, 在两电极间振荡运动的电子具有足够高的能 量产生离化碰撞,从而使放电到达自持,阴 极溅射的二次电子不再重要。
3.2 溅射主要参数
一、溅射阈和溅射产额 溅射产额又称为溅射率
或溅射系数,表示正 离子撞击阴极时,平 均每个正离子能从阴 极上打出的原子数。 与入射能量,入射离子 种类,溅射物质种类
3.2 溅射主要参数
1. 入射离子能量的影响 只需入射离子能量超越一定阈值以后,才干从被溅射物质
外表溅射出离子。 阈值能量与入射离子的种类关系不大,与被溅射物质的升
速率下降,而溅射产额低的物质得到富集,溅射 速率上升。最终结果是,虽然靶材外表的化学成 分曾经改动,但溅射得到的合金薄膜成分却与靶 材的原始成分根本一样。 当靶的温度很高,各种合金成分由于热扩分发生变 化时,溅射膜和靶材原来的组分就会发生变化。
3.2 溅射主要参数
二、溅射粒子的能量和速度 靶外表受离子轰击会放出各种粒子,主要是溅射原
1、辉光放电过程包括
初始阶段AB:I=0 无光放电区
汤生放电区BC:I迅速增大
过渡区CD:离子开场轰击阴极,产生
二次电子,又与气体分子碰撞产生更多 B
离子
C D
辉光放电区DE:I增大,V恒定
A
异常辉光放电区EF:溅射所选择的任
务区
弧光放电:I增大,V减小
F E
G
3.1 溅射根本原理
溅射实际模型:动量实际,也称为级联碰撞实际。入射离子在进入 靶材的过程中与靶材原子发生弹性碰撞,入射离子的一部分动能会传送 给靶材原子,当后者的动能超越由其周围存在的其他靶材原子所构成的 势垒时,这种原子会从晶格阵点被碰出产生离位原子,并进一步和附近 的靶材原子依次反复碰撞,产生所谓的级联碰撞。
薄膜光学PPT课件
溶胶-凝胶法(Sol-Gel)
Sol-Gel是一种制备光学薄膜的新方法,具有工艺简单、成本低等优点。该方法制备的薄 膜具有纯度高、均匀性好等优点,可广泛应用于各种光学器件的制造。
在新能源和光电器件中的应用前景
太阳能光伏电池
光学薄膜在太阳能光伏电池中有着广泛的应用,如减反射膜、抗反射膜等。通过使用高性能的光学薄膜,可以提高光 伏电池的光电转换效率和稳定性。
散射类型
瑞利散射、米氏散射、拉 曼散射等。
散射强度
与波长、散射颗粒或分子 的尺寸、形状和折射率有 关。
光的吸收和反射
光的吸收
光波通过介质时,能量 被介质吸收转化为热能 或其他形式的能量的现
象。
吸收系数
表示介质对不同波长光 的吸收能力,与物质的
性质和浓度有关。
反射现象
光波在介质表面发生方 向改变的现象,可分为
光电探测器
在光电探测器中,光学薄膜可以起到保护、增强光信号的作用。高性能的光学薄膜可以提高探测器的响应速度、灵敏 度和稳定性。
激光器
在激光器中,光学薄膜可以起到调制激光输出、提高激光质量的作用。新型的光学薄膜材料和制备技术 可以推动激光器技术的发展,为新能源和光电器件的应用提供更广阔的前景。
THANKS
干涉仪测试的原理基于光的干涉现象,通过将待测薄膜放置在干涉仪中,与标准参 考膜片进行干涉,通过测量干涉图谱的变化来计算薄膜的光学常数。
分光光度计测试
分光光度计测试是一种通过测量 光的吸收光谱来分析物质的方法, 广泛应用于薄膜的光学性能测试。
分光光度计测试可以测量薄膜的 吸收光谱、反射光谱和透射光谱, 从而获得薄膜的折射率、反射率、
新型制备技术的探索
化学气相沉积(CVD)
Sol-Gel是一种制备光学薄膜的新方法,具有工艺简单、成本低等优点。该方法制备的薄 膜具有纯度高、均匀性好等优点,可广泛应用于各种光学器件的制造。
在新能源和光电器件中的应用前景
太阳能光伏电池
光学薄膜在太阳能光伏电池中有着广泛的应用,如减反射膜、抗反射膜等。通过使用高性能的光学薄膜,可以提高光 伏电池的光电转换效率和稳定性。
散射类型
瑞利散射、米氏散射、拉 曼散射等。
散射强度
与波长、散射颗粒或分子 的尺寸、形状和折射率有 关。
光的吸收和反射
光的吸收
光波通过介质时,能量 被介质吸收转化为热能 或其他形式的能量的现
象。
吸收系数
表示介质对不同波长光 的吸收能力,与物质的
性质和浓度有关。
反射现象
光波在介质表面发生方 向改变的现象,可分为
光电探测器
在光电探测器中,光学薄膜可以起到保护、增强光信号的作用。高性能的光学薄膜可以提高探测器的响应速度、灵敏 度和稳定性。
激光器
在激光器中,光学薄膜可以起到调制激光输出、提高激光质量的作用。新型的光学薄膜材料和制备技术 可以推动激光器技术的发展,为新能源和光电器件的应用提供更广阔的前景。
THANKS
干涉仪测试的原理基于光的干涉现象,通过将待测薄膜放置在干涉仪中,与标准参 考膜片进行干涉,通过测量干涉图谱的变化来计算薄膜的光学常数。
分光光度计测试
分光光度计测试是一种通过测量 光的吸收光谱来分析物质的方法, 广泛应用于薄膜的光学性能测试。
分光光度计测试可以测量薄膜的 吸收光谱、反射光谱和透射光谱, 从而获得薄膜的折射率、反射率、
新型制备技术的探索
化学气相沉积(CVD)
《光学薄膜》课件
择、沉积工艺、薄膜结构设计和表面
处理等,其中控制沉积过程是关键。
3光学薄膜的工作原理Fra bibliotek光学薄膜通过控制入射光的干涉和衍 射现象,实现对光的传播和反射的控 制,从而产生特定的光学效果。
光学薄膜的性质及影响因素
光学薄膜的性质包括光学常数、厚度、 结构和成分等,这些因素会影响薄膜 的光学性能和应用效果。
第三部分:分类与应用
第四部分:挑战与未来
光学薄膜在未来的前景
随着科技的发展和需求的 增长,光学薄膜将继续发 挥重要作用,应用范围将 不断扩大,性能和效率将 进一步提高。
当前光学薄膜研究面 临的挑战
光学薄膜研究面临材料选 择、沉积工艺、薄膜稳定 性和性能优化等方面的挑 战,需要综合应用多学科 知识来解决。
如何解决未来研究中 的问题
光学薄膜的应用范围
光学薄膜广泛应用于光学仪器、光通信、太阳能、显示技术和传感器等领域,提供了独特的 光学性能和功能。
光学薄膜的特性与优点
光学薄膜具有高透过率、高反射率、多色彩、可调性和可控性等特性,使其成为设计和制造 各种光学元件的理想材料。
第二部分:原理
1
光学薄膜的制备过程
2
光学薄膜的制备过程包括薄膜材料选
《光学薄膜》PPT课件
# 光学薄膜
光学薄膜是指具有特定光学性质和应用的薄膜材料,通过光的干涉和衍射现 象产生彩色效果。本课件将介绍光学薄膜的基本概念、工作原理以及在各个 领域中的应用。
第一部分:介绍
什么是光学薄膜?
光学薄膜是一种特殊的薄膜,其厚度通常在波长数量级,能够通过干涉和衍射现象来控制光 的传播和反射。
未来研究可以加强材料设 计、工艺优化、表征技术 以及理论模拟等方面的研 究,从而解决光学薄膜研 究中的问题。
光学薄膜技术概述PPT教案
Why thin and not thick films?
光学薄膜的光学性能集中表现为薄膜界面的分振幅多 光束干涉能力。
能有效应用的干涉厚度,可称薄膜; 薄还是厚取决于波长,而不是实际厚度。
光学薄膜 —— 薄到可以产生干涉第现1象10页的/共膜21层页、膜堆或膜系——干涉薄膜。
2. Developmental History of optical thin films
7. The first He-Ne laser was developed in Bell Tel. Lab. In 1960,which was because of the low loss high reflectors.
8. The columnar structure of thin film was discovered in 1970 by Pearson( 皮尔逊).
可以用三个常用的英文来形象 的解释:
Optical thin films 通常意义的光 学薄膜; Optical coatings 一般来讲是指敷于 光学玻璃、塑料、晶体等基底上的 薄膜;覆盖、包裹物、涂层 Optical layers 光学薄膜的一个特点 是分层结构;“膜系”、“膜堆” 。
第第190页页/共/共2211页页
第34页/共21页
课程特点:
人类生活在周围充满光的世界里,光是 一种无时无刻都会遇到的自然现象。更重 要的是:光是信息的重要载体,“有光就 有膜 ”,薄膜光学是现代光学必不可少的 基础技术,它是物理光学的一个重要分支
。——专项技术。
另一方面,由于光学薄膜的制备过程与 真空技术、表面物理、材料科学、等离子 体技术等密切相关,所以光学薄膜也可以
1. ”Newton’s rings” was discovered in 17th century, which is called “modern thin film optics”.
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磁控溅射的工作原理如图所示。与一般溅射 相比,磁控溅射的不同之处是在靶表面设置 一个平行于靶表面的横向磁场,此磁场是放 置于靶内的磁体产生。电子在电场的作用下 加速飞向基体的过程中与氩原子发生碰撞, 若电子具有足够大的能量则电离出和另一个 电子电子飞向基体,在电场的作用下加速飞 向阴极靶并以高能量轰击靶表面,使靶产生 溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子或分子 沉积在基体上形成薄膜。
真空蒸发镀膜:真空条件下加热材料,使
薄膜材料的分子或原子以直线形式向四周 蒸发,从而在被镀零件表面沉积成均匀薄 膜。
1.低真空的获得
获得低真空常采用机械泵,机械泵是运用 机械方法不断地改变泵内吸气空腔的体积,使 被抽容器内气体的体积不断膨胀,从而获得真 空的装置。它可以直接在大气压下开始工作, 极限真空度一般为1.33~1.33×10-1Pa,抽气速 率与转速及空腔体积V的大小有关,一般在每秒 几升到每秒几十升之间。
沉淀速率(微米/分) 绕射性
附着能力
薄膜致密性 薄膜中的气孔 内应力
不太好
密度低 低温时较多 拉应力
较好
密度高 少 压应力
很好密度高ຫໍສະໝຸດ 少 压应力旋片式机械泵通常由转子、定子、 旋片等结构构成。 偏心转子置于定子 的圆柱形空腔内切 位置上,空腔上连 接进气管和出气阀 门。转子中镶有两 块旋片,旋片间用 弹簧连接,使旋片 紧压在定子空腔的 内壁上。转子的转 动是由马达带动的, 定子置于油箱中, 油起到密切、润滑 与冷却的作用。
当转子顺时针转动时,空气由被抽容器通过 进气管被吸入,旋片随着转子的转动使与进气管 相连的区域不断扩大,而气体就不断地被吸入。 当转子达到一定位置时,另一旋片把被吸入气体 的区域与被抽容器隔开,并将气体压缩,直到压 强增大到可以顶开出气口的活塞阀门而被排出泵 外,转子的不断转动使气体不断地从被抽容器中 抽出。
薄膜蒸发技术
热蒸发镀膜
溅射镀膜 离子镀膜
热蒸发:材料被加热时,其原子就会从表面逸出 热蒸发有四种类型。 1. 电阻加热源:用难熔金属如钨、钽制成舟箔 或丝状,通以电流,加热在它上方的或置于坩 埚中的蒸发物质电阻加热源主要用于蒸发Cd、 Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。 2. 电子束加热源:适用于蒸发温度较高(不低 于2000[618-1])的材料,即用电子束轰击材 料使其蒸发。 3. 高频感应加热源:用高频感应电流加热坩埚 和蒸发物质。 4. 激光加热
P Q T mV
测量范围:100— 10-1 Pa
②电离真空计是根据气体分子与电子相互碰撞产生
电离的原理制成的。它用来测量高真空度,可测范 围为0.133~1.33×10-6Pa。实验表明,在压强P≤101Pa时,有下列关系成立 I+/Ie=K P 其中Ie为栅极电流,P为气体压强,I+为灯丝发 出电子与气体分子碰撞后使气体分子电离产生正离 子而被板极收集形成的离子电流。K为比例常数。可 见,Ie不变,经过用绝对真空计进行校准,I+的值就 可以指示真空度了。注意,只有在真空度达到10-1Pa 以上时,才可以打开电离规管灯丝。否则,将造成 规管损坏。
真空蒸发镀膜 真空溅射镀膜 真空离子镀膜 三种镀膜方式的比较 比较项目 压强(×133Pa) 粒子能量 中性 离子 真空蒸发镀 真空溅射镀 真空离子镀 膜 膜 膜 10-5~10-6 0.1~1eV - 0.1~70 差 0.15~0.02 0.02~0.005 1~10eV - 0.01~0.5 较好 0.1~1eV 数百到数千 0.1~50 好
油扩散泵的结构如示意图
(2)真空度的测量
热电偶真空计和电离真空计
①热偶真空计是用在低气压下气体的热导率 与气体压强间有依赖关系制成的。它通常用来测 量低真空,可测范围为13.33~0.1333Pa。其中有 一根细金属丝(铂丝或钨丝)以恒定功率加热, 则丝的温度取决于输入功率与散热的平衡关系, 而散热取决于气体的热导率。管内压强越低,即 气体分子越稀薄,气体碰撞灯丝带走的热量就越 少,则丝温越高,从而热偶丝产生的电动势越大。 经过校准定标后,就可以通过测量热偶丝的电动 势来指示真空度了。
(1)高真空的获得
目前,广泛使用的获得高真空的泵就是扩 散泵。扩散泵是利用气体扩散现象来抽气的,它 不能直接在大气压下工作,而需要一定的预备真 空度(1.33~0.133Pa)。油扩散泵的极限真空度 主要取决于油蒸汽压和气体分子的反扩散,一般 能达到1.33×10-5~1.33×10-7Pa。抽气速率与结 构有关,每秒几升~几百升不等。
光学薄膜的制备
一些光学零件的光学表面需要用物理方 法或化学方法镀上一层或多层薄膜,使得光 线经过该表面的反射光特性或透射光持性发 生变化,许多机械加工所采用的刀具表面也 需要沉积一层致密的、结合牢固的超硬镀层 而使其得以硬化,延长其使用寿命,改善被 加工部件的精度和光洁度。
目前,作为物理镀膜方法的真空镀 膜,尤其是纳米级超薄膜制作技术,己 广泛地应用在电真空、无线电、光学、 原子能、空间技术等领域及我们的生活 中。 真空镀膜实质上是在高真空状态下 利用物理方法在镀件的表面镀上一层薄 膜的技术,它是一种物理现象。