多晶硅生产设备
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多晶硅软管泵槽电压丁辛醇 turbineaspenpdmslng 反渗透 htri 安全阀 pta
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( compound
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refrigeration
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systems )
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DCS 控制系统(DCS Control systems )
v \2 E& tBiblioteka Baidu E2 B. n4 W1 c4 W8
12
水电解制氢装置
# R; w7 B# [! E" I7 m13
尾气洗涤塔
多晶硅的主要装置有: 1 氢气制备:一般用水电解制氢,此部分国内好多常见,只是半导体极地需要,氢气的纯度 更高,基本不用进口;( t3 s" ]8 ^8 U E/ M7 k4 a 2HCL 合成,卡朋罗兰有成套设备,估计国内也有生产,需配套干燥装置/ G4 L/ |" F$ Z0 E4 r: p* E 3 氢化氯化,部分流化床反应器进口(不锈钢设备)的多,! J# A- @* U/ L) Q 4 精馏塔,基本进口(不锈钢设备)日本美国 5 还原炉,全部进口 7 氢气等尾气回收,塔器国产的多,但氢压机需进口 7 m2 Z" g! b4 `6 Q3 ^" D 8 中间储罐,国内即可生产 9 后处理,关键设备进口 3 w& h2 l6 h. G 说:多晶硅生产技术与研究还是落后,基本上是买生产工厂
有水电解制氢装置。 液氯汽化器。! F6 k/ V) \3 n3 o+ O 氯化氢合成炉。 三氯氢硅合成炉。
精馏塔。/ V: H+ i3 \& _8 E0 b TCS 汽化器。 还原炉。 氢化炉。/ a+ S4 n- D) r% o; h5 B 氢吸附装置。( c; m0 K5 B8 e7 i 压缩机。7 A5 W3 H+ J. Y: i5 Y 制冷装置。
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7 M4 Y" [0 R# f; B. p4
尾气回收系统(CDI) (The recovery system )
) z, K. g1 m7 e; ~3 J5
氢气压缩机(Reciprocating Compressor ) 9 T- z; `. K5 V/ _
冷冻机
- `; S/ v$ [7 P. b3 V/ g l" B2 N8 \
1、电解制氢及净化单元 2、变压吸附制氮气单元 3、深冷空分制氮气单元 4、制冷单元 5、脱盐水单元 6、高纯水单元 B" y4 {+ c E% |# F z 7、循环冷却水单元! A. q+ t* N1 U9 z6 y$ u* n6 M 8、液氯汽化及氯化氢合成单元 8 e9 x# U7 d1 C" Q" K3 H 9、三氯氢硅合成单元- _% T2 _0 R! A: B0 p 10、氯硅烷贮存单元 11、氯硅烷硅精馏单元 8 b* i* t( {4 a 12、三氯氢硅还原四氯化硅氢化单元 13、尾气回收单元 14、废气处理单元: m$ S1 }& N' ?: P. S4 ]$ m 16、废液处理单元, m7 }. U6 G; k5 y* c1 J: c 17、废水处理单元
碱液泵 洗涤液循环泵 废水排出泵 # N4 V/ _- }( L4 A! ]. U/ y$ X3 } 洗涤液循环泵 废水排出泵 8 e- h J; Y+ F q, J 洗涤液循环泵 ( o }! j2 @. Y5 Q+ V/ U1 ` 废水排出泵 . L1 U/ m0 Q( n1 j1 q: Y1 D 还原反应炉 % T3 U9 R) A) a7 X4 p7 ^ 还原炉电器调控柜: R# K6 T. ~/ s: C j! s 精馏塔 . R/ g8 e/ ^! l. R- \- n 防爆电梯* D, N O: A4 [1 C+ h' @ 废气洗涤 塔回流液槽 5 N2 V; ?9 h; B4 g( ?. ^2 M 循环氯硅烷缓冲罐 ( ]0 B" r, |1 B5 @% f. n 塔回流液槽 二级 SiHCl3 中间槽 塔回流液槽 回收 SiHCl3 贮槽 SiHCl3 汽液分离器 闪蒸槽 还原炉冷却水循环槽 水罐 " z `! }/ r% D2 t* } 底盘冷却水槽 整流器冷却水槽& p! Y, z7 x$ ?; Z7 c0 P+ Z; `; | 电极和视孔冷却水槽 7 i1 p4 X+ ?* T' m4 X 精制 SiHCl3 缓冲罐 还原工序排放槽 : w+ C7 k( I: S 排放尾气缓冲罐 . A; |; [0 Y5 ?. L! c 原料 SiHCl3 贮槽 ' w& X/ a1 a* K* l( V: S9 L 二级 SiHCl3 贮槽 : m# R0 a0 R2 w5 R* i N 精制 SiCl4 贮槽 5 `7 |7 W* }; O& {/ k 精制 SiHCl3 ) {7 ?- P! m7 b0 Z- @* { 塔液排放槽 HCL 缓冲罐 H2 缓冲罐Ⅰ 碱液罐 3 y4 f, u2 B$ W6 m( b 安全阀排放液罐 尾气液封罐 5 k) n( d, B: V# T" B W 冷凝液储槽 H2 缓冲罐Ⅱ 排放尾气缓冲罐 吊车 (电动葫芦) Y& p0 |2 L, r3 ~0 f: O! r8 E3 e 碱液槽 (冷凝液储槽)3 s* U2 h9 ? R, b& k 安全液封罐 " Z, b. ~/ x) r6 M; o
残液收集槽 废液接收地槽 5 \9 S3 [4 {* R' i' a) U5 ?4 r. X- C# n 循环液地槽 燃气蒸汽锅炉 3 ^" F% k/ ]" p p5 d0 K 整体式燃烧器 9 `1 R O5 F( L$ L1 j 电机, O% y+ o! O. n, A, I! h8 L 汽包安全排汽消音器 电动给水泵) l# s9 i: A, d2 C4 H$ b2 M0 Q3 U8 R 除氧器 排污降温池 烟囱$ M9 }& n" o+ ]4 a2 a) S: S: s 连续排污闪发罐 取样冷却器- [% @1 g* m, ^6 \; z& c 磷酸盐加药装置 1 套 溶液箱% I8 r% m1 [& z1 _+ R 搅拌器 加药泵 5 `- _! d3 N2 ^: E7 j# _+ `/ A 变压器+ l: S0 E6 K) z: c7 p0 f 阀门 法兰- I F0 d5 `* Q5 S 钢管及管件材料 电气 仪表% @+ S, B- M; X M 电缆
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热储
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流 程 工钛 厂设 软备 件解钛 决盘 方管 案 达
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塔进料预热器 塔冷凝器 0 _4 m: `6 z$ N- h; G ` 塔再沸器' b0 K3 N; `* a) } 尾气冷凝器 ! w. t9 n" u2 O' | SiHCl3 汽化器 SiHCl3 汽化热水加热器 还原炉冷却水冷却器 水冷却器 4 D8 z& E/ a5 P. K4 o 底盘冷却水冷却器 蒸汽冷凝器 整流器冷却水冷却器 2 e$ m# W' U* d 电极和视孔冷却水冷却器 : R3 Z) x, ?, b+ z2 R+ H 蒸汽冷凝器 ( ^" P1 T. Q. B5 y# y" f 还原炉出口冷却器 取消& D+ R5 x* b9 K0 f 整流器冷却水冷却器Ⅱ 还原炉出口套管 尾气冷凝器 . K7 [& a3 }) W" Y3 W 蒸汽冷凝器 # i) i+ c0 |- ` 硅棒切断机 塔进料泵 / {7 C8 m2 m" _! H7 h! E SiHCl3 泵 回收三氯氢硅泵 I( A/ H4 `$ a u4 R& z4 W SiHCl3 汽化热水泵 还原炉冷却水循环泵 8 A% \ |- A% \- g' h; E- a 水力喷射泵改为循环真空泵 水泵 底盘冷却水泵 整流器冷却水泵+ c: k' R2 |+ z! v b 电极和视孔冷却水泵 原料 SiHCl3 泵 9 D; D5 v4 G) y ?0 _8 y" |% F 碱液输送泵 废碱液泵 冷凝液泵 循环水增压泵 + s4 \- p; ~, f 精制 SiHCL3 输送泵
泵(Bump )
& }# |/ E+ L8 Z- ~9 T9
[wiki]阀门[/wiki](Valve )
* K" s! p' |! Z7 t1 l10
氯氢化反应系统(HYDROCHLORINATION SYSTEMS) 8 Y6
A$ S* t- ^) D5 u8 a
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三氯氢硅精馏塔( s' W: a+ T* e( Z# ^" U
电解制[wiki]氢[/wiki]装置、氯化氢合成炉、三氯氢硅合成炉、合成气干法净化装置、三氯 氢硅精馏装置(十多个塔呢)、三氯氢硅还原炉、四氯氢硅氢化炉、冷冻机组、脱盐水制备、 空分制氮等设备
国内改良西门子法(三氯氢硅氢还原法)主要设备清单
序号
设备名称 2 R; k) R& A, y$ e; T/ b
化肥大区 安全环 禁止发表内容 |
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氢化沉积反应器(多晶硅还原炉) (reactorsets stainless