高真空磁控溅射仪技术参数

高真空磁控溅射仪技术参数
1用途
该系统适用于实验室制备金属单质、氧化物、介电质、半导体膜、电极材料等。

2 工作条件
2．１环境温度: 0 —４０℃；
２.２相对湿度: 2０-5０％;
2．3适用电源规格：3８0Ｖ（ＡC),50。

3 技术参数
3．1真空腔室采用前开门，选用优质不锈钢，牌号不低于3０4
★３.2 前级机械泵：抽速不小于8．3L/ｓ
★３。

3 复合分子泵:抽速不小于1300L/ｓ；包含可控蝶阀
★３．4 溅射室极限真空度≤8x１０—6Pa（经烘烤除气后）
３．5系统真空检漏漏率≤５x10—7Pa.l／S
★３。

6系统停泵关机12小时后真空度≤6Ｐa
3.7 反磁控皮拉尼真空计
★测试范围： 10—9ｍbａｒ至1000mbａr
精度：不超过±3０%
可重复性：不超过±5%
反应时间：P１0-6mｂar:小于10毫秒
3.８电容膜片真空计
测试范围:10—2Pa至10２Pa
精度:0。

2%
分辨率:０。

003％
压强最大：260ＫPa
反应时间：不超过３０毫秒
温度效应:在满量程：0.01％读值/℃
3．9配备三靶溅射系统,含一个强磁靶。

靶大小为60mm或3英寸,XX靶可/顺次／共同工作,电源和靶可自动切换,XX靶含旋转气动控制挡板组件
3.１0 全自动匹配直流电源2台
★功率输出：单输出 0～500W,最大可输出到500W
输出电流: 0～１A
模式:功率调节、电流调节或电压调节
显示精度:小于实际输出值的0。

2％，或小于最大输出值的2％
多级弧抑制及灭弧
３。

11 ★全自动匹配射频溅射电源1套(包括600w射频电源、1000VA匹配器、射频电缆、数据电缆）
频率：１3.５６０Ｍ，误差不超过± 0。

００5 %
最大输出功率（W）： 600W，５0Oｈｍ负载
最小输出功率(W）: 6Ｗ， 50Ｏhm负载
反射功率极限(W）: 小于200W
射频输出接头：N－ｔype（fem.）
最低启辉气压:1０—5Ｐa
射频匹配器最大工作功率：1０0０W
射频匹配器阻抗调节范围：－j220到j5０
3。

１２配备备用离子源接口
3。

１3 置样装置
样品加热温度:室温～５00°C,精度：±3°Ｃ；样品台可加负偏压—200V；★3．１4膜厚不均匀性优于±５％
３。

15含三路气体（Ａｒ2，N2,O2)，三套质量流量控制器,并预留一路气体通道备用
3.１６采用气动隔离阀、电磁隔离阀，内置芯片MFC,精准度XX1％
３。

17采用不锈钢电抛光EＰ管及ＶＣR接头
3．18 PＬC触摸屏人机界面全自动，具备完善的安全互锁保护功能
4 主要配件
1高真空磁控溅射仪主机1台
２冷却循环水机１台
3 低噪音空压机1台
４高纯氩气、高纯氧气、高纯氮气、普通氮气XX一瓶及其减压阀等；配备气柜及管路接头等
5 除湿机1台
6 测试靶材8个，包括不锈钢靶,Ｃu,Ａl,Ｔi,V，Ｗ，，TiN
5质保与售后服务
１到货日期：合同签订日期起１0０天之内;
2 安装调试过程中在仪器安装地点提供免费培训服务，确保设备操作人员能熟练掌握仪器的XX项性能（包括硬件、软件）;提供必要的培训资料;
3拥有经验丰富的售后服务团队，遇到问题及时响应,质保期至少三年.。