干涉光刻制作纳米结构研究
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P 2sin
二、课题理论基础
1 干涉光刻基本原理
双光束干涉曝光原理图
双光束双曝光原理图
二、课题理论基础
2 Lloyd's-mirror激光干涉光刻平台
• 正文内容介绍
由于这套系统借助于一面与样品平面呈90°平面反射 镜,因此在仅需要一个光束,便可由反射镜所反射的部分光 波同直接照射在样品平台的光波产生的干涉条纹来加工表 面纳米结构
三、研究成果展示
2 不同占空比光栅结构的加工
占空比约为1:1.5
占空比约为2:1
三、研究成果展示
3 多尺度光栅结构的加工
1400nm+700nm
三、研ຫໍສະໝຸດ Baidu成果展示
3 多尺度光栅结构的加工
1400nm+700nm+466nm
三、研究成果展示
4 二维单周期点阵结构的加工
1400nm×1400nm
三、研究成果展示
硅片表面灰尘
光路中的灰尘
三、研究成果展示
8 显影时间过长对光镜照片的影响
三、研究成果展示
9 表面形貌
SEM扫描结果
AFM扫描结果
四、后面目标
1、背向曝光技术的研究 2、图像浇注转移的研究 3、在制作光纤光栅中的运用 4、制作针尖结构 5、碳纳米管表面纳米结构的加工
·
谢谢聆听
干涉光刻制作纳米结构研究
一、研究背景和目的
2 研究目的
⑴开发一款使用405nm激光器为光源的Lloyd's mirror激光 干涉光刻设备，具备大面积、小尺度、稳定度高和工艺简单 等优点； ⑵为亚微米尺度的加工提供了一种相对廉价且方便的手段， 将大大推动国内对表面周期性纳米结构应用的研究； ⑶结合实验提出一些新的加工理念，将更为丰富激光干涉光 刻工艺加工结构的种类，为激光干涉光刻在新的材料新的应 用领域提供坚实的基础
二、课题理论基础
1 干涉光刻基本原理
两束波长为λ，强度同为I 0 的
平面波分别以相同的入射角θ对 称地入射到同一平面，该平面 的光强分步可以写为
I 2 I0 1 co 2 ks s xin
这两束光干涉的强度在X-Z平面内沿着X方向成正弦变化，在 垂直于X轴方向的平面上形成光栅线条图案，其周期P取决于
二、课题理论基础
3 光刻工艺流程图
气相成底膜 旋转涂胶
软烘 对准和曝光
曝光后烘培 显影 坚膜
显影后检查
三、研究成果展示
1 不同周期光栅结构的加工
周期300nm，入射角42°
周期540nm，入射角22°
三、研究成果展示
1 不同周期光栅结构的加工
周期700nm，入射角17°
周期1.2um，入射角8°
4 二维单周期点阵结构的加工
SEM扫描结果
三、研究成果展示
5 二维多尺度结构的加工
1400nm+700nm
三、研究成果展示
5 二维多尺度结构的加工
1400nm+700nm+460nm
三、研究成果展示
6 曝光时长对结构的影响
曝光50秒
曝光65秒
曝光75秒
三、研究成果展示
7 灰尘对光镜照片的影响
二、课题理论基础
1 干涉光刻基本原理
双光束干涉曝光原理图
双光束双曝光原理图
二、课题理论基础
2 Lloyd's-mirror激光干涉光刻平台
• 正文内容介绍
由于这套系统借助于一面与样品平面呈90°平面反射 镜,因此在仅需要一个光束,便可由反射镜所反射的部分光 波同直接照射在样品平台的光波产生的干涉条纹来加工表 面纳米结构
三、研究成果展示
2 不同占空比光栅结构的加工
占空比约为1:1.5
占空比约为2:1
三、研究成果展示
3 多尺度光栅结构的加工
1400nm+700nm
三、研ຫໍສະໝຸດ Baidu成果展示
3 多尺度光栅结构的加工
1400nm+700nm+466nm
三、研究成果展示
4 二维单周期点阵结构的加工
1400nm×1400nm
三、研究成果展示
硅片表面灰尘
光路中的灰尘
三、研究成果展示
8 显影时间过长对光镜照片的影响
三、研究成果展示
9 表面形貌
SEM扫描结果
AFM扫描结果
四、后面目标
1、背向曝光技术的研究 2、图像浇注转移的研究 3、在制作光纤光栅中的运用 4、制作针尖结构 5、碳纳米管表面纳米结构的加工
·
谢谢聆听
干涉光刻制作纳米结构研究
一、研究背景和目的
2 研究目的
⑴开发一款使用405nm激光器为光源的Lloyd's mirror激光 干涉光刻设备，具备大面积、小尺度、稳定度高和工艺简单 等优点； ⑵为亚微米尺度的加工提供了一种相对廉价且方便的手段， 将大大推动国内对表面周期性纳米结构应用的研究； ⑶结合实验提出一些新的加工理念，将更为丰富激光干涉光 刻工艺加工结构的种类，为激光干涉光刻在新的材料新的应 用领域提供坚实的基础
二、课题理论基础
1 干涉光刻基本原理
两束波长为λ，强度同为I 0 的
平面波分别以相同的入射角θ对 称地入射到同一平面，该平面 的光强分步可以写为
I 2 I0 1 co 2 ks s xin
这两束光干涉的强度在X-Z平面内沿着X方向成正弦变化，在 垂直于X轴方向的平面上形成光栅线条图案，其周期P取决于
二、课题理论基础
3 光刻工艺流程图
气相成底膜 旋转涂胶
软烘 对准和曝光
曝光后烘培 显影 坚膜
显影后检查
三、研究成果展示
1 不同周期光栅结构的加工
周期300nm，入射角42°
周期540nm，入射角22°
三、研究成果展示
1 不同周期光栅结构的加工
周期700nm，入射角17°
周期1.2um，入射角8°
4 二维单周期点阵结构的加工
SEM扫描结果
三、研究成果展示
5 二维多尺度结构的加工
1400nm+700nm
三、研究成果展示
5 二维多尺度结构的加工
1400nm+700nm+460nm
三、研究成果展示
6 曝光时长对结构的影响
曝光50秒
曝光65秒
曝光75秒
三、研究成果展示
7 灰尘对光镜照片的影响