iG5 Nissin Implanter离子注入机简介
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7500mm 7400mm
iG5
Weight： 100ton
<Next Generation>
Component
Compare iG5 with iG4
Ion Source
Analyzing Magnet Process Chamber Platen Profile Monitor PFG Transfer Chamber VAC Robot
Single Platen
均一性測定
Beam形状
搬送系
Dual Platen GV,Platen動作次數是減少1/2,長壽命 2片基板交互注入
可抑制基板温度 真空Pump
TMP Cry
再生是必要 PH3/BF3吸着
iG6/iG5 ion Source
iG6/iG5 Magnet
Performance
Ion Energy Beam Current P B Mass Resolution Dose Range Glass Size TACT Minimum n+1E15 p+1E15 Capacity by N+1E15/P+1E15/LDD/Vth Glass Area Productivity P、B 5～100keV 0.1～500μA/cm 0.1～500μA/cm M/ΔM≧4～10 ≧3.6E10ions/cm2 730x920mm 42.4sec/sheet 79sec/sheet 79sec/sheet 8,540sheet/mon 0.6716m2/sheet 5735m2/mon
Introduction of Company’s Business Activities Agu, 2013
<Next Generation>
Compare iG5 with iG4
Layout
2950mm
3450mm
3800mm
8195mm 5000mm
iG4
Weight： 36ton
12100mm 12500mm
僅Filament更換 洗浄／再使用 長壽命
Profile Monitor (Multi Faraday)
電極／絶縁物 壽命
Beam Monitor
大部分消耗品 短壽命
Dose Cup Profiler Cup Dose Cup及Profiler Cup的補正是必要
補正不要
補正誤差的可能性 由於是大型Cup測定精度不安定 各Scan毎次測定 ≦0.5秒 長軸730 x 短軸10～20cm 低電流密度 数lot毎次測定 每個基板的均一性不明 測定時間長 長軸730 x 短軸2～5cm 為了高電流密度取得 基板温度上昇 静電破壊
Compare ~Layout~
Nissin Ion Competitor
iBiblioteka Baidu4
Gen 4
iG5
Gen 5
装置比較
iG4/iG5 Ion Source Bucket Competitor IHC Gen 5 (Dual Source) IS一式交換
大電流產生容易
IS Maintenance Filament
iG4
Load lock Chamber
iG5
<Next Generation>
Compare iG5 with iG4
iG4v4 iG5 P、B 5～80keV 1～700μA/cm 0.3～1000μA/cm M/ΔM≧4～15 ≧7.5E10ions/cm2 1300x1500mm 48sec/sheet 72sec/sheet 59sec/sheet 9,135sheet/mon 1.95m2/sheet 17,813m2/mon
iG5
Weight： 100ton
<Next Generation>
Component
Compare iG5 with iG4
Ion Source
Analyzing Magnet Process Chamber Platen Profile Monitor PFG Transfer Chamber VAC Robot
Single Platen
均一性測定
Beam形状
搬送系
Dual Platen GV,Platen動作次數是減少1/2,長壽命 2片基板交互注入
可抑制基板温度 真空Pump
TMP Cry
再生是必要 PH3/BF3吸着
iG6/iG5 ion Source
iG6/iG5 Magnet
Performance
Ion Energy Beam Current P B Mass Resolution Dose Range Glass Size TACT Minimum n+1E15 p+1E15 Capacity by N+1E15/P+1E15/LDD/Vth Glass Area Productivity P、B 5～100keV 0.1～500μA/cm 0.1～500μA/cm M/ΔM≧4～10 ≧3.6E10ions/cm2 730x920mm 42.4sec/sheet 79sec/sheet 79sec/sheet 8,540sheet/mon 0.6716m2/sheet 5735m2/mon
Introduction of Company’s Business Activities Agu, 2013
<Next Generation>
Compare iG5 with iG4
Layout
2950mm
3450mm
3800mm
8195mm 5000mm
iG4
Weight： 36ton
12100mm 12500mm
僅Filament更換 洗浄／再使用 長壽命
Profile Monitor (Multi Faraday)
電極／絶縁物 壽命
Beam Monitor
大部分消耗品 短壽命
Dose Cup Profiler Cup Dose Cup及Profiler Cup的補正是必要
補正不要
補正誤差的可能性 由於是大型Cup測定精度不安定 各Scan毎次測定 ≦0.5秒 長軸730 x 短軸10～20cm 低電流密度 数lot毎次測定 每個基板的均一性不明 測定時間長 長軸730 x 短軸2～5cm 為了高電流密度取得 基板温度上昇 静電破壊
Compare ~Layout~
Nissin Ion Competitor
iBiblioteka Baidu4
Gen 4
iG5
Gen 5
装置比較
iG4/iG5 Ion Source Bucket Competitor IHC Gen 5 (Dual Source) IS一式交換
大電流產生容易
IS Maintenance Filament
iG4
Load lock Chamber
iG5
<Next Generation>
Compare iG5 with iG4
iG4v4 iG5 P、B 5～80keV 1～700μA/cm 0.3～1000μA/cm M/ΔM≧4～15 ≧7.5E10ions/cm2 1300x1500mm 48sec/sheet 72sec/sheet 59sec/sheet 9,135sheet/mon 1.95m2/sheet 17,813m2/mon