离子镀技术介绍
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2. 阴极弧斑直径为1 ~ 2μm，闪耀的光斑直径 为10μm，在靶面上有许多个以30m/S不停移 动的弧斑，弧斑电流为105~7A，弧斑停留时 间为几~几千μS，温度高达8000 ~ 40000K， 使靶材蒸发汽化，并带出液滴；
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▪ 阴极斑的前方是高密度的金属等离子体，电 子向阳极快速运动，离子相对“静止”在镀 膜空间，阳极前面正离子的堆积形成空间电 荷，在阴极前形成强电子场105~6V/cm，克服 了阴极表面的电子势垒，产生巨大的电子发 射以维持放电，大量的离子对阴极的轰击使 阴极局部区域（斑块）迅速蒸发，并在空间料粒子离化，然后沉 积成膜。 ▪ 离子镀技术分类 1. 蒸发型源 2. 溅射性源 3. 弧光放电性源 4. 粒子团簇型源
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▪ 多弧离子镀（电弧蒸发离子镀、弧光放电 离子镀）工作原理
1. 靶材为阴极，与引弧阳极触发，产生弧光放 电，并以真空室壁（接地）为阳极，维持自 持弧光放电（场致发射）；
▪ 这种具有蒸发和离化功能的阴极弧斑就形成 微点电弧蒸发源。
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多弧离子镀工作原理
1、金属等离子体弧源； 2、金属阴极靶； 3、电磁线圈 4、电磁线圈 5、二路进气装置； 6、冷阴极离子源； 7、工作台； 8、真空系统
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▪ 多弧离子镀技术发展 50年代在前苏联发现原理，70年代取得苏联专利，
80年代被美国购买，成立多弧公司（multi -arc）。 1986年中国开始进口，80 ~ 120万美元/台， 20 ~ 30万专利使用费。共进口12台套， 花费1300 多万美元。 ▪ 多弧离子镀技术特点 ▪ 从阴极靶直接产生等离子体 ▪ 物料靶粒子离化率高60 ~ 80% ▪ 物料靶离子能量高，膜致密，结合力好 ▪ 饶镀性好 ▪ 有液滴飞出
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▪ 阴极斑的前方是高密度的金属等离子体，电 子向阳极快速运动，离子相对“静止”在镀 膜空间，阳极前面正离子的堆积形成空间电 荷，在阴极前形成强电子场105~6V/cm，克服 了阴极表面的电子势垒，产生巨大的电子发 射以维持放电，大量的离子对阴极的轰击使 阴极局部区域（斑块）迅速蒸发，并在空间料粒子离化，然后沉 积成膜。 ▪ 离子镀技术分类 1. 蒸发型源 2. 溅射性源 3. 弧光放电性源 4. 粒子团簇型源
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▪ 多弧离子镀（电弧蒸发离子镀、弧光放电 离子镀）工作原理
1. 靶材为阴极，与引弧阳极触发，产生弧光放 电，并以真空室壁（接地）为阳极，维持自 持弧光放电（场致发射）；
▪ 这种具有蒸发和离化功能的阴极弧斑就形成 微点电弧蒸发源。
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多弧离子镀工作原理
1、金属等离子体弧源； 2、金属阴极靶； 3、电磁线圈 4、电磁线圈 5、二路进气装置； 6、冷阴极离子源； 7、工作台； 8、真空系统
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▪ 多弧离子镀技术发展 50年代在前苏联发现原理，70年代取得苏联专利，
80年代被美国购买，成立多弧公司（multi -arc）。 1986年中国开始进口，80 ~ 120万美元/台， 20 ~ 30万专利使用费。共进口12台套， 花费1300 多万美元。 ▪ 多弧离子镀技术特点 ▪ 从阴极靶直接产生等离子体 ▪ 物料靶粒子离化率高60 ~ 80% ▪ 物料靶离子能量高，膜致密，结合力好 ▪ 饶镀性好 ▪ 有液滴飞出