光学零件工艺学练习题

光学零件工艺学练习题-标准化文件发布号：（9456-EUATWK-MWUB-WUNN-INNUL-DDQTY-KII

一、选择题

1．QK是什么牌号的玻璃（）

A．重火石玻璃 B．轻冕玻璃 C．重冕玻璃 D．轻火石玻璃

2．下列氧化物哪种是玻璃网络体氧化物（）

A．PbO B．BaO C．CaO D．SiO2

3．石英玻璃的透过光谱范围是下列的哪一个（）

A．0.2μm～4.7μm B．1.35μm～5.5μm

C．0.38μm～0.78μm D．0.4μm～0.8μm

4.关于光学玻璃的光学均匀性定义，下列哪种说法正确（）

A．两块玻璃中折射率的差值

B．两块玻璃中折射率的变化的不均匀程度

C．同一块玻璃中各部分折射率变化的不均匀程度

D．同一块玻璃中各部分应力的不均匀程度

5．晶体按用途分几类（）

A.1类 B．2类C．3类种 D．4类

6.指出最常用的一种热固型光学塑料（）

A．PMMA B．PC C．PS D．CR-39

7．在光学零件图中，对零件要求一栏内的N代表什么意义（）

A．零件数量 B．光圈数量 C．光学表面数 D．局部光圈数

8.在光学零件图中，△R代表什么意义（）

A.曲率半径误差

B.光圈误差

C.样板精度等级

D.中心偏差

9.对望远物镜的中心偏差要求为（）

A.0.01～0.02mm

B.0.02～0.03mm

C.0.02～0.04mm D0.03～0.04mm

10.热压成型毛坯退火的目的（）

A.消除内应力

B.消除光学常数的不均匀性

C.消除内应力和各部分光学不均匀性

D.消除应力双折射

11.球面金刚石精磨磨具理想磨耗规律的数学表式为（）

A ．i h h tg θ∆=∆⋅ B.sin i h h θ∆=∆⋅ C. cos i h h θ∆=∆⋅ D.i h h ctg θ∆=∆⋅

12.金刚石磨具不包括以下那部分（）

A.金刚石层

B.过渡层

C.基体

D.冷却液

13.国内精磨片结合剂特性参数常采用（）

A 青铜结合剂 B.树脂结合剂 C.钢结合剂 D.陶瓷结合剂

14．金刚石精磨片的浓度，在国内常选的范围为（）

A ．20％～40％

B ．40％～60％

C ．30％～50％ D.40％～50％

15．关于光学玻璃抛光机理有几种代表性学说（）

A ．l 种

B ．2种

C ．3种

D ．4种

16.高速抛光液的PH 值最佳控制范围为（）

A. 5.57.0PH PH ～

B. 7.08.0PH PH

C. 6.08.0PH PH

D. 3.0 5.0PH PH

17．下列哪种氧化物可用作抛粉使用（）

A.2Na O

B.2CeO

C.CaO

D.BaO

18.从粗磨、精磨到抛光三道工序中，凹球面的曲率半径变化趋势是下列的哪一种（）

A.曲率半径由大变小

B. 曲率半径由小变大

C.曲率半径不变

D.无规律

19．相临光圈间的空气隙厚度差为（） A 2λ B.λ C.4λ D.8

λ 20.用小样板检验大口径零件时，小样板的口径为10mm ，零件的口径为20mm ，规定的光圈为3道圈，那么看到的光圈最多应是多少（）

A.0.75道圈

B.1道圈

C.2道圈

D.0.5道圈

21.机械定心时，透镜的Z值必须在哪个范围（）

A. 0.15

Z> D.0.35

Z>

Z> C.0.25

Z< B.0.15

22．加拿大胶是指哪一种胶（）

A.甲醇胶

B.冷杉树脂胶

C.光敏胶

D.环氧树脂胶

23.高精度光学零件加工时，对工房温度和湿度的要求范围为（）

A．00

C C

±，湿度为70%～80%

251

C C

201

±，湿度为60%～70% B. 00

C．00

C C

281

±，湿度为70%～80%

C C

±，湿度为60%～70% D. 00

221

24.工作样板用于检验（）

A.球面样板

B.工件

C.标准样板

D.复制样板

25.常用光学样板按形状分几种（）

A.1种

B.2种

C.3种

D.4种

26．二次凹非球面与其最接近比较球面的最大偏离量位置在（）

A．0.618

y=

= B. y h=和0

y h

=和0.707

y h

C. 0.707

= D.0.5

y h

=和y h=

y h

y h

=和0.5

27.现国内普通光学车间最常用的非球面检测方法（）

A.数字干涉仪检验

B.全息法检验

C.阴影法 D轮廓仪法

28．22

=-是哪种二次非球面（）

566.90.41

y x x

A．抛物面B．双曲面C．椭圆面 D．球面

29.超光滑表面表面的粗糙度应该小于多少（）

A.10纳米

B.1个微米

C.1纳米

D.0.1微米

30.光学玻璃研磨表面的破坏层深度主要与下列哪个因素有关（）