医学断层解剖学1断层头部
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如界面的线度大于波长，则产生反射和折射，这种
反射和折射回来的超声称为回声。
无回声：
黑影－血液、胆汁、尿、羊水、腹水、巨块 型癌、肾实质和脾；
低回声－灰影；
较强回声：灰白影，癌、肌瘤及血管瘤； 强回声： 强回声：白影：骨质、结石、钙化；
极强回声：强光带－含气的肺、胃肠。
6．CT值：
用组织对X线的吸收系数来说明其密度高低的程度。 吸收系数转换成CT值，Hu，是相对值，水为0 Hu，骨密 质为＋1000 Hu，空气为－1000 Hu。
第一章 头部断层解剖
第一节 概述
一、境界与分区 二、标志性结构 1.眉弓：恰对大脑额叶下缘。 2.额结节：眉弓上方5cm处的最突出部位， 正对额中回。 3.顶结节：耳廓尖上方5cm处，其下2cm处对 应大脑外侧沟后支末端。 4.枕外窿凸：头后方正中处，内面正对窦汇。 5.上项线：枕外窿凸两侧，平对横窦。
3. 眦耳线(Canthomeatal line, CML) 或称眶耳线（Orbitomeatal line,OML）
外眦与外耳道中点的连线。颅脑横断层扫描（ MRI、CT ） 多以此为基线。 实际工作中，依检查目的的不同使扫描 平面与CML向上或向下成0-20º角。
4. 连合间线（intercommissural line）：
又称AC-PC线为前连合后缘中点至后连合前缘中点 的连线。脑立体定位断层解剖研究多以此为基线。如 脑立体定位手术、 X刀、γ刀治疗多以此线为准。
5. 冠状断层常用基线 经外耳门中点向眦耳线所作的垂线即为冠状断层常用基
线。但脑的立体定位术和脑的冠状断层解剖学研究多采用经 AC—PC连线中点所作的垂线为冠状断层基线。 6. 矢状断层常用基线
颅的正中矢状面即为矢状断层基线。
第二节 大脑沟、回 的应用解剖
端脑的主体结构
大脑皮质 髓质 基底核 侧脑室
大脑纵裂 恒
定 外侧沟
的 沟
中央沟
顶枕沟
额叶
分 顶叶 叶 颞叶
枕叶 岛叶
外侧沟
大 脑 纵 裂
中央沟 顶枕沟
一、大脑半球上外侧面的沟和回
中央前沟,额上沟,额下沟; 额叶 中央前回,额上、中、下回 颞叶 颞上、下沟；颞上、中、
武汉大学基础医学院人体解剖学教研室
Department of Anatomy, Wuhan
University School of Basic Medical Sciences
断层解剖学
断层解剖学（sectional anatomy)是用断层方法研究人体正 常形态结构及其基本功能的科学，其基本任务是探索各种结构在 连续断层内的形态﹑位置和毗邻等的变化规律，为临床学科提供 形态学依据。
下回，颞横回
中央后沟、中央后回； 顶叶 顶内沟、顶上小叶,顶下
小叶(缘上回、角回、)
缘上回 角回
顶枕弓
脑的沟回在断面上的识别
1．中央沟：端脑上部横断 面上最深的一条脑沟，依 以下五点可准确辨认。 （1）大部分（87%）中央 沟为一不被中断的沟； （2）中央沟较深，均自脑 断面外缘约中份处向后延 伸，并可有一条（中央后 沟）或两条（中央前、后 沟）与之伴行；
7．空间分辨力和密度分辨力
判断 CT 装置性能和说明图像质量的指标
空间分辨力-是指鉴别结构大小的能力，常用 像素大小来说明。
密度分辨力（又称对比度分辨力），是指能够 区分出密度微小差别的能力。以百分率表示。
8．窗位和窗宽
窗宽是指CT图像上显示的CT值范围， CT值高 于或低于此范围的结构均分别以白影或黑影显示。 窗位是窗宽的中心值，通常欲观察某一组织结构 及发生的病变，应以该组织的CT值为窗位。
（3）一般中央前回厚于中央 后回； （4）先通过位于大脑半球内 侧面的扣带沟缘支辨认出中 央旁小叶，再进一步辨认中 央沟； （5）大脑白质的髓型有助于 辨认中央沟。
二、大脑半球内侧面的沟和回
大脑半球内侧面
胼胝体（嘴、膝、 干、压）、扣带沟、 胼胝体沟、中央旁 小叶,扣带回、距状 沟、顶枕沟、楔回 (叶),舌回。
2．生物塑化技术（plastination） 固定、脱水、真空浸渍、硬化处理。
3．激光共聚焦技术 4．影像断层：电子计算机图像三维重建、超声成像、 磁共振成像（MRI）、单电子反射计算机断层显像 （SPECT）、正电子反射计算机断层显像（PET）图像
发展前景
1．影像断层解剖学研究 2．显微断层解剖学研究 3．实验断层解剖学研究 4．发育断层解剖学研究
与系统解剖学和局部解剖学相比，断层解剖学有以下特点： 1. 能保持结构于原位；准确地显示其断面形态变化及位置关 系； 2. 可由断层重塑整体；三维重建和定量分析 3. 与临床结合密切。属于边缘学科。 系解、局解→断面解剖学→影像解剖学→影像诊断学。
断层解剖学的研究范围
1．解剖断层----冰冻切片技术（cryotomy） 选材、固定、X线标记、画线、冰冻、切锯。
三、头部断层解剖常用的基线
1. 上眶耳线(supraobitomeatal line,SML):眶上缘至外耳道 中点的连线。经该线平面约与颅底平面一致，有利于显示 颅后窝结构及减少颅骨伪影。
2. Reid基线（Reid’s base line,RBL）：下眶耳线，为眶下 缘至外耳道中点的连线。头部横断层标本的制作多以此线 为准。冠状断层标本制作常以该线的垂线为基线。 RBL 与 SML 成角为16.74°±2.52°
常用术语
1．断层或断面（section）： 根据研究目的，沿某一方向所作的具有一定厚
度的切片或扫描，即断层标本或断层图像； 断面是指断层标本的表面。
2．横断面：水平面 一般观测其下表面。
3．矢状面： 一般观测其左表面，超声观测其右表面。
4．冠状面：额状面 一般观测其前表面。
5．回声： 当超声传经两种声阻抗不同相邻介质的界面时，
1．顶枕沟：端脑中部
横断面上，胼胝体后
钳后方最深的脑沟，
从大脑半球内侧面斜
向外。沟内有沟，沟
内有回。分隔顶叶(楔
前叶)和枕叶(楔叶)。
2．外侧沟：分垂直部
和水Hale Waihona Puke Baidu部，端脑中部
横断面上岛叶与颞叶 1 额骨 2 额上回 3 胼胝体膝 4 侧脑室
之间，颞叶与额叶或
前角 5尾状核头 6 背侧丘脑 7 侧脑 室后角 8 胼胝体压部 9 枕额肌枕腹
反射和折射回来的超声称为回声。
无回声：
黑影－血液、胆汁、尿、羊水、腹水、巨块 型癌、肾实质和脾；
低回声－灰影；
较强回声：灰白影，癌、肌瘤及血管瘤； 强回声： 强回声：白影：骨质、结石、钙化；
极强回声：强光带－含气的肺、胃肠。
6．CT值：
用组织对X线的吸收系数来说明其密度高低的程度。 吸收系数转换成CT值，Hu，是相对值，水为0 Hu，骨密 质为＋1000 Hu，空气为－1000 Hu。
第一章 头部断层解剖
第一节 概述
一、境界与分区 二、标志性结构 1.眉弓：恰对大脑额叶下缘。 2.额结节：眉弓上方5cm处的最突出部位， 正对额中回。 3.顶结节：耳廓尖上方5cm处，其下2cm处对 应大脑外侧沟后支末端。 4.枕外窿凸：头后方正中处，内面正对窦汇。 5.上项线：枕外窿凸两侧，平对横窦。
3. 眦耳线(Canthomeatal line, CML) 或称眶耳线（Orbitomeatal line,OML）
外眦与外耳道中点的连线。颅脑横断层扫描（ MRI、CT ） 多以此为基线。 实际工作中，依检查目的的不同使扫描 平面与CML向上或向下成0-20º角。
4. 连合间线（intercommissural line）：
又称AC-PC线为前连合后缘中点至后连合前缘中点 的连线。脑立体定位断层解剖研究多以此为基线。如 脑立体定位手术、 X刀、γ刀治疗多以此线为准。
5. 冠状断层常用基线 经外耳门中点向眦耳线所作的垂线即为冠状断层常用基
线。但脑的立体定位术和脑的冠状断层解剖学研究多采用经 AC—PC连线中点所作的垂线为冠状断层基线。 6. 矢状断层常用基线
颅的正中矢状面即为矢状断层基线。
第二节 大脑沟、回 的应用解剖
端脑的主体结构
大脑皮质 髓质 基底核 侧脑室
大脑纵裂 恒
定 外侧沟
的 沟
中央沟
顶枕沟
额叶
分 顶叶 叶 颞叶
枕叶 岛叶
外侧沟
大 脑 纵 裂
中央沟 顶枕沟
一、大脑半球上外侧面的沟和回
中央前沟,额上沟,额下沟; 额叶 中央前回,额上、中、下回 颞叶 颞上、下沟；颞上、中、
武汉大学基础医学院人体解剖学教研室
Department of Anatomy, Wuhan
University School of Basic Medical Sciences
断层解剖学
断层解剖学（sectional anatomy)是用断层方法研究人体正 常形态结构及其基本功能的科学，其基本任务是探索各种结构在 连续断层内的形态﹑位置和毗邻等的变化规律，为临床学科提供 形态学依据。
下回，颞横回
中央后沟、中央后回； 顶叶 顶内沟、顶上小叶,顶下
小叶(缘上回、角回、)
缘上回 角回
顶枕弓
脑的沟回在断面上的识别
1．中央沟：端脑上部横断 面上最深的一条脑沟，依 以下五点可准确辨认。 （1）大部分（87%）中央 沟为一不被中断的沟； （2）中央沟较深，均自脑 断面外缘约中份处向后延 伸，并可有一条（中央后 沟）或两条（中央前、后 沟）与之伴行；
7．空间分辨力和密度分辨力
判断 CT 装置性能和说明图像质量的指标
空间分辨力-是指鉴别结构大小的能力，常用 像素大小来说明。
密度分辨力（又称对比度分辨力），是指能够 区分出密度微小差别的能力。以百分率表示。
8．窗位和窗宽
窗宽是指CT图像上显示的CT值范围， CT值高 于或低于此范围的结构均分别以白影或黑影显示。 窗位是窗宽的中心值，通常欲观察某一组织结构 及发生的病变，应以该组织的CT值为窗位。
（3）一般中央前回厚于中央 后回； （4）先通过位于大脑半球内 侧面的扣带沟缘支辨认出中 央旁小叶，再进一步辨认中 央沟； （5）大脑白质的髓型有助于 辨认中央沟。
二、大脑半球内侧面的沟和回
大脑半球内侧面
胼胝体（嘴、膝、 干、压）、扣带沟、 胼胝体沟、中央旁 小叶,扣带回、距状 沟、顶枕沟、楔回 (叶),舌回。
2．生物塑化技术（plastination） 固定、脱水、真空浸渍、硬化处理。
3．激光共聚焦技术 4．影像断层：电子计算机图像三维重建、超声成像、 磁共振成像（MRI）、单电子反射计算机断层显像 （SPECT）、正电子反射计算机断层显像（PET）图像
发展前景
1．影像断层解剖学研究 2．显微断层解剖学研究 3．实验断层解剖学研究 4．发育断层解剖学研究
与系统解剖学和局部解剖学相比，断层解剖学有以下特点： 1. 能保持结构于原位；准确地显示其断面形态变化及位置关 系； 2. 可由断层重塑整体；三维重建和定量分析 3. 与临床结合密切。属于边缘学科。 系解、局解→断面解剖学→影像解剖学→影像诊断学。
断层解剖学的研究范围
1．解剖断层----冰冻切片技术（cryotomy） 选材、固定、X线标记、画线、冰冻、切锯。
三、头部断层解剖常用的基线
1. 上眶耳线(supraobitomeatal line,SML):眶上缘至外耳道 中点的连线。经该线平面约与颅底平面一致，有利于显示 颅后窝结构及减少颅骨伪影。
2. Reid基线（Reid’s base line,RBL）：下眶耳线，为眶下 缘至外耳道中点的连线。头部横断层标本的制作多以此线 为准。冠状断层标本制作常以该线的垂线为基线。 RBL 与 SML 成角为16.74°±2.52°
常用术语
1．断层或断面（section）： 根据研究目的，沿某一方向所作的具有一定厚
度的切片或扫描，即断层标本或断层图像； 断面是指断层标本的表面。
2．横断面：水平面 一般观测其下表面。
3．矢状面： 一般观测其左表面，超声观测其右表面。
4．冠状面：额状面 一般观测其前表面。
5．回声： 当超声传经两种声阻抗不同相邻介质的界面时，
1．顶枕沟：端脑中部
横断面上，胼胝体后
钳后方最深的脑沟，
从大脑半球内侧面斜
向外。沟内有沟，沟
内有回。分隔顶叶(楔
前叶)和枕叶(楔叶)。
2．外侧沟：分垂直部
和水Hale Waihona Puke Baidu部，端脑中部
横断面上岛叶与颞叶 1 额骨 2 额上回 3 胼胝体膝 4 侧脑室
之间，颞叶与额叶或
前角 5尾状核头 6 背侧丘脑 7 侧脑 室后角 8 胼胝体压部 9 枕额肌枕腹