压延铜箔表面处理工艺的初步研究

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8 6 .
[ 2 ] 赵京松 . 压 延铜箔 的现状及 其发 展趋 势 [ J ] . 上海 有 色金属 ,
2 0 1 2 , 3 3 ( 2 ) : 9 6— 9 9 .
[ 3 ] 祝大同. 挠性 P C B用基板 材料 的新发 展( 4) 一F P c用 压延 铜 箔的新成果 [ J ] . 印制电路信 息, 2 0 0 5 ( 5 ) : 6—1 0 .
找 到 了压延铜 箔获 得 理 想 粗化 效 果 的 方法 , 对今 后
低轮廓度、 超低轮廓度电解铜箔、 挠性电解铜箔 以及 双 面处 理 电解 铜箔 等 的表面粗 化处 理起 到 了一定 的
指 导作用 。
层 明显 ,R z 偏 高 ;由第 4组 实 验 可 以 看 出 ,只 采
用 一次 粗化 加 固化 时 ,粗化 效果 不够 ,抗 剥离 强度
[ 1 ] 黄沽. 铜箔 的生产技术及发展趋向[ J ] . 铜业工程 , 2 0 0 3 ( 2 ): 8 3

由于压 延铜 箔 的处 理 速度相 对 于电解 铜箔有 所
下降 , 实验中发现镀锌镍后铜箔亮面和毛面颜色均
偏深, 故 对镀锌 镍 和镀 铬段 电流进 行 了调整 , 镀锌 镍
段 亮面 电流 为 1 0 A毛 面 电流 为 2 0 A, 镀 铬段 亮 面 电 流为 6 A毛面 电流 为 2 2 A, 调 整 电流后 的铜 箔 颜 色 、
2 0 0 8 . 3 0 ( 2 ) : 1 7— 2 1 .
1 8
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当前处理机若要适应压延铜箔的处理 , 则需增
加 碱洗 槽和水 洗槽 , 且 需降低 处理 速度 ; 若想 增加 处 理 速度 , 提高 生产效 率 , 则需 另外增 加粗 化槽 和 固化 槽, 将 目前 的两次 粗 固化 处 理 增 加 到 四次 粗 固化 处 理, 改造 后 的处理 机既 能满 足粗化 效果 , 又 不影 响生
高 温抗剥 损失 及抗 氧化 等特 性均 能满 足要 求 。
[ 4 ] 余德超 , 谈定生 , 王勇 , 等. 印制板用铜箔表 面处 理工艺研究进
6 结 语
本 实验研 究 了压延 铜箔 的表 面处 理工 艺 。通 过 调 整 电解液 、 粗化 段 电流及 处 理 机 速 度 等参 数 进 行 对 比实 验 , 探 讨 了其对压 延 铜箔粗 化效 果 的影 响 , 并
展[ J ] . 电镀与涂饰 , 2 0 0 6 , 2 5( 1 2 ) : 1 0—1 3 .
[ 5 ] 余德超 , 谈定生 , 王松泰 , 等. 印制板用压延铜箔镀 铜粗化工艺
[ J ] . 电镀与涂饰 , 2 0 0 7 , 2 6 ( 1 0 ) : 3 3— 3 5 .
[ 6] 刘书 祯. 印 制 电路 板 用 铜 箔 的 表 面 处 理 [ J ] . 电镀 与 精 饰 ,
T o t a l 1 2 2




总第 1 2 2期
由第 1 组 和第 6组 实验 可 以看 出 ,处理 机速 度 过 高 时 ,抗 剥离 强度偏 低 ,故处 理压 延铜 箔需 降低 处 理机 速 度 ; 由第 3组 实 验 可 以看 出 ,采 用 一 期
X P 1含 A s 粗 化 液 时 ,粗 化结 晶较 大 且 不 均 匀 ,分
偏低 ; 由第 2组 和第 5组实验 可 以看 出 ,采 用二 期 C U1 含 某添 加剂 粗 化 液 时 ,粗 化结 晶细 致 而 均 匀 ,
R z 及抗剥离 强度都 比较适 中。综合各组实验结果
可 以看 出 ,采 用第 2组 实验 方法 获得 的粗化 效果 较
理想 。
产效率 , 且压延铜箔和电解铜箔可以通用。 参 考 文献 :
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