【CN110054509A】一种能控制釉层厚度的制釉方法【专利】
釉面层的制备方法[发明专利]
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专利名称：釉面层的制备方法 专9909.7 申请日：20130118 公开号：CN103102173A 公开日：20130515
摘要：一种釉面层的制备方法，包括如下步骤：将偶联剂与耐磨材料混合，得到耐磨材料的预处 理物；将无机粘结剂、调节剂、减水剂、填充料、分散剂及矿物颜料搅拌混合，然后加入增强纤维及 耐磨材料的预处理物，得到混合物料，在混合物料中加水继续搅拌混料，得到浆料；在基板上涂覆界 面处理剂，经干燥，得到预处理的基板；将浆料涂覆于预处理的基板上，经滚压成型、养护及抛光， 在预处理的基板上得到釉面层。上述釉面层的制备方法能够制备出替代天然石材使用以减少资源浪费 且绿色环保的釉面层。
一种用于均陶制作的铜绿釉及其制备方法[发明专利]
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专利名称：一种用于均陶制作的铜绿釉及其制备方法专利类型：发明专利
发明人：方薛斐,张丽,方卫明
申请号：CN202011135964.9
申请日：20201022
公开号：CN112159107A
公开日：
20210101
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摘要：本发明公开了一种用于均陶制作的铜绿釉，包括以下重量份数的组分：40~50份的钾长石，15~25份的石英，15~25份的石灰石，10~20份的玻璃，1~5份的氧化锌，0.01~0.1份的氧化铬和0.01~0.1份的氧化钙。
同时，本发明还公开了上述用于均陶制作的铜绿釉的制备方法。
本发明与传统技术相比，配方科学，原料成本低，釉水稳定性高，且能显示与传统均釉蓝黄两色有所区别的铜绿色。
申请人：无锡太湖学院
地址：214064 江苏省无锡市滨湖区钱荣路68号
国籍：CN
代理机构：无锡市天宇知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：蒋何栋
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(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201910341960.7
(22)申请日 2019.04.26
(71)申请人 苏州工业园区职业技术学院
地址 215000 江苏省苏州市工业园区独墅
湖高等教育区若水路1号
(72)发明人 张熙茹 柳菁 李文霞
(74)专利代理机构 苏州广正知识产权代理有限
公司 32234
代理人 张汉钦
(51)Int.Cl.
C04B 41/86(2006.01)
C03C 8/00(2006.01)
(54)发明名称一种能控制釉层厚度的制釉方法(57)摘要本发明公开了一种能控制釉层厚度的制釉方法，包括步骤为：（1）选取釉料组分，所述釉料包括的组分有长石、石英、粘土、锆英石、白土粉、氧化锌、呈色剂，称取得到；（2）将称取好的釉料各组分放入到球磨机内进行研磨，得到研磨好的釉料；（3）将研磨好的釉料对陶坯进行施釉，得到施釉好的陶坯；（4）将施釉好的陶坯进行烧制，得到带有釉层的陶瓷制品；（5）对所述带有釉层的陶瓷制品采用抛光轮进行抛光，得到厚度相同的陶瓷制品。
通过上述方式，本发明的能控制釉层厚度的制釉方法，工艺简单，容易进行操作，抛光后的釉层表面厚度均匀，稳定性得到很好的控制，能够提升陶瓷的品质，确保陶瓷的美观，受到
消费者的欢迎。
权利要求书1页 说明书3页CN 110054509 A 2019.07.26
C N 110054509
A
权 利 要 求 书1/1页CN 110054509 A
1.一种能控制釉层厚度的制釉方法，其特征在于，包括步骤为：（1）选取釉料组分，所述釉料包括的组分有长石、石英、粘土、锆英石、白土粉、氧化锌、呈色剂，称取得到；（2）将称取好的釉料各组分放入到球磨机内进行研磨，得到研磨好的釉料；（3）将研磨好的釉料对陶坯进行施釉，得到施釉好的陶坯；（4）将施釉好的陶坯进行烧制，得到带有釉层的陶瓷制品；（5）对所述带有釉层的陶瓷制品采用抛光轮进行抛光，得到厚度相同的陶瓷制品。
2.根据权利要求1所述的能控制釉层厚度的制釉方法，其特征在于，步骤（1）中所述釉料各组分的含量为：以重量份计，长石 20-28份、石英 30-35份、粘土 8-12份、锆英石 10-14份、白土粉 17-21份、氧化锌 1-3份、呈色剂 1-3份。
3.根据权利要求1所述的能控制釉层厚度的制釉方法，其特征在于，步骤（1）中所述白土粉的粒径为0.2mm-0.3mm。
4.根据权利要求1所述的能控制釉层厚度的制釉方法，其特征在于，步骤（1）中所述呈色剂为铜氧化物、铁氧化物、钴氧化剂中的一种或多种。
5.根据权利要求1所述的能控制釉层厚度的制釉方法，其特征在于，步骤（2）中所述研磨时间为20-40分钟。
6.根据权利要求1所述的能控制釉层厚度的制釉方法，其特征在于，步骤（2）中所述球磨机内还包括加入水。
7.根据权利要求1所述的能控制釉层厚度的制釉方法，其特征在于，步骤（3）中所述施釉的方法为喷釉或浸釉。
8.根据权利要求1所述的能控制釉层厚度的制釉方法，其特征在于，步骤（3）中所述施釉的温度为室温。
9.根据权利要求1所述的能控制釉层厚度的制釉方法，其特征在于，步骤（4）中所述烧制的温度为800-1000摄氏度，烧制时间为2-3小时。
10.根据权利要求1所述的能控制釉层厚度的制釉方法，其特征在于，步骤（5）中所述陶瓷制品上釉层的厚度为0.9-1.1mm。
2。