sem扫描电镜 ppt课件
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1扫描电镜SEMPPT课件
减速模式
减速模式提高分辨率,减小样品损伤,消除核电效应, 各种信息对表面更为敏感。
能谱
特征X射线的产生是由入射电子激发元素内层电子而 发生的。即内壳层电子被轰击后跳到比费米能级高的能 级上,电子轨道内出现的空位被外层轨道的电子填入时, 放出的能量就是特征X 射线。高能级的电子落入空位时, 要遵从所谓的选择规则(selection rule),只允许满足轨 道量子数l的变化Δl=±1 的特定跃迁。特征X 射线具有 元素固有的能量。所以,将它们展开成能谱后,根据它 的能量值就可以确定元素的种类,而且根据谱的强度分 析就可以确定其含量。
扫描电镜样品室空间较大,进行 较全面的原位分析,放大倍数连 续调节范围大,景深长,分辨本 领较高
分析中心扫描电镜发展
扫描电子显微镜结构、原理
1 2
3
SEM结构
扫描电子显微镜结构、工作原理
电子枪
热发射电子枪
场发射电子枪
灯
丝
优于
决
定因素:Fra bibliotek磁透镜
旋转对称的磁场对电子束有聚焦作用,能使电子束聚焦 成像。产生这种旋转对称非均匀磁场的线圈装置就是磁透镜.
背散射电子衬度
如果试样表面存在不均 匀的元素分布,则平均原子 序数较大的区域将产生强的 被散射电子信号,因而在被 散射电子像上显示出较亮的 衬度;反之平均原子序数较 小的区域在被散射电子像上 是暗区。因此,根据被散射 电子像的亮暗程度,可判别 出相应区域的原子序数的相 对大小,由此可对金属及合 金的显微组织进行成分分析。
低真空(Helix探头)
Helix探测技术将浸入式透镜和低真空扫描电镜两种技术 成功地组合在一起,在带来超高分辨率的同时,还能在低真 空环境下有效地抑制非导电材料的电荷积累效应。
sem扫描电镜 ppt课件
II. 背散射电子成像:入射电子与样品接触时,其中一部分几乎 不损失能量地在样品表面被弹性散射回来,这部分电子被称 为背散射电子。背散射电子的产额随样品的原子序数的增大 而增加,因此成像可以反映样品 的元素分布,及不同相成分 区域的轮廓。
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19
二次电子像的信号是二次电子,用于表面形貌分析;背散射电子 像的信号是背散射电子,用于成分分析。因此二次电子像对形貌 敏感,背散射电子像对成分敏感。
信号收集:二次电子和背散射电子收集器、吸收电子显示器、 X射线检测器(波谱仪和能谱仪)。
显示系统:显示屏有两个,一个用于观察,一个用于记录照 相。阴极射线管CRT扫描一帧图像可以有0.2s、0.5s等扫描速 度,10cm×10cm的屏幕,一般有500条线,用于人眼观察; 照相的800〜1000条线。观察时为便于调焦,采用快的扫描 速度;拍照时为得到高分辨率,采用慢的扫描扫描速度(50 〜100s)。
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9
图3 三种不同类型的电子枪材质
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10
电磁透镜
作用:是把电子枪的束斑逐渐缩小,从原来直径约为50μm的 束斑缩小成一个只有几nm的细小束斑。
工作原理:一般有三个聚光镜,前两个透镜是强透镜,用来 缩小电子束光斑尺寸。
第三个聚光镜是弱透镜(习惯上称其为物镜),具有较长的 焦距,它的功能是在样品室和透镜之间留有尽可能大的空间, 以便装入各种信号探测器。在该透镜下方放置样品可避免磁 场对二次电子轨迹的干扰。
探测器收集信号电子,经过放大、转换,在显示系统上成像 (扫描电子像)。
二次电子的图像信号动态地形成三维图像。 简单概括起来就是“光栅扫描,逐点成像”。
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SEM的主要结构
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二次电子像的信号是二次电子,用于表面形貌分析;背散射电子 像的信号是背散射电子,用于成分分析。因此二次电子像对形貌 敏感,背散射电子像对成分敏感。
信号收集:二次电子和背散射电子收集器、吸收电子显示器、 X射线检测器(波谱仪和能谱仪)。
显示系统:显示屏有两个,一个用于观察,一个用于记录照 相。阴极射线管CRT扫描一帧图像可以有0.2s、0.5s等扫描速 度,10cm×10cm的屏幕,一般有500条线,用于人眼观察; 照相的800〜1000条线。观察时为便于调焦,采用快的扫描 速度;拍照时为得到高分辨率,采用慢的扫描扫描速度(50 〜100s)。
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图3 三种不同类型的电子枪材质
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电磁透镜
作用:是把电子枪的束斑逐渐缩小,从原来直径约为50μm的 束斑缩小成一个只有几nm的细小束斑。
工作原理:一般有三个聚光镜,前两个透镜是强透镜,用来 缩小电子束光斑尺寸。
第三个聚光镜是弱透镜(习惯上称其为物镜),具有较长的 焦距,它的功能是在样品室和透镜之间留有尽可能大的空间, 以便装入各种信号探测器。在该透镜下方放置样品可避免磁 场对二次电子轨迹的干扰。
探测器收集信号电子,经过放大、转换,在显示系统上成像 (扫描电子像)。
二次电子的图像信号动态地形成三维图像。 简单概括起来就是“光栅扫描,逐点成像”。
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SEM的主要结构
扫描电镜分析简介ppt
• 扫描电镜的景深为比一般光学显微镜景深大100-500倍,比 透射电镜的景深大10 倍。
• 景深取决于分辨本领和电子束入射半角ac。由右下图可知, 扫描电镜的景深F为:
d0临界分辨本领, ac电子束的入射半角
扫描电镜应用实例
断口形貌分析 纳米材料形貌分析 在微电子工业方面的应用
断口形貌分析
扫描电镜显微分析简介
扫描电子显微镜
扫描电子显微镜
扫描电镜显微分析简介
概况 扫描电镜的优点 扫描电镜成像的物理信号 扫描电镜的工作原理 扫描电镜的构造 扫描电镜的主要性能 应用举例
概况
扫描电子显微镜简称扫描电镜,英 文缩写:SEM。为适应不同要求,在扫描电 镜上安装上多种专用附件,实现一机多用, 使扫描电镜成为同时具有透射电子显微镜 (TEM)、电子探针X射线显微分析仪 (EPMA)、电子衍射仪(ED)等多种功能 的一种直观、快速、综合的表面分析仪器。
电源系统由稳压,稳流及相应的安全保护电路 所组成,其作用是提供扫描电镜各部分所需的电 源。
扫描电镜的主要性能
放大倍数 分辨率 景深
扫描电镜的主要性能
放大倍数
M=AC/AS 式中AC是荧光屏上图像的边长, AS是电子束在样品上
的扫描振幅。 目前大多数商品扫描电镜放大倍数为20-20000倍,介
背散射电子:入射电子在样品中经散射后再从上表 面射出来的电子。反映样品表面不同取向、不同平 均原子量的区域差别。
二次电子:由样品中原子外壳层释放出来,在扫描 电子显微术中反映样品上表面的形貌特征。
X射线:入射电子在样品原子激发内层电子后外层电 子跃迁至内层时发出的光子。
其他信号
俄歇电子:入射电子在样品原子激发内层电 子后外层电子跃迁至内层时,多余能量转移 给外层电子,使外层电子挣脱原子核的束缚, 成为俄歇电子。
• 景深取决于分辨本领和电子束入射半角ac。由右下图可知, 扫描电镜的景深F为:
d0临界分辨本领, ac电子束的入射半角
扫描电镜应用实例
断口形貌分析 纳米材料形貌分析 在微电子工业方面的应用
断口形貌分析
扫描电镜显微分析简介
扫描电子显微镜
扫描电子显微镜
扫描电镜显微分析简介
概况 扫描电镜的优点 扫描电镜成像的物理信号 扫描电镜的工作原理 扫描电镜的构造 扫描电镜的主要性能 应用举例
概况
扫描电子显微镜简称扫描电镜,英 文缩写:SEM。为适应不同要求,在扫描电 镜上安装上多种专用附件,实现一机多用, 使扫描电镜成为同时具有透射电子显微镜 (TEM)、电子探针X射线显微分析仪 (EPMA)、电子衍射仪(ED)等多种功能 的一种直观、快速、综合的表面分析仪器。
电源系统由稳压,稳流及相应的安全保护电路 所组成,其作用是提供扫描电镜各部分所需的电 源。
扫描电镜的主要性能
放大倍数 分辨率 景深
扫描电镜的主要性能
放大倍数
M=AC/AS 式中AC是荧光屏上图像的边长, AS是电子束在样品上
的扫描振幅。 目前大多数商品扫描电镜放大倍数为20-20000倍,介
背散射电子:入射电子在样品中经散射后再从上表 面射出来的电子。反映样品表面不同取向、不同平 均原子量的区域差别。
二次电子:由样品中原子外壳层释放出来,在扫描 电子显微术中反映样品上表面的形貌特征。
X射线:入射电子在样品原子激发内层电子后外层电 子跃迁至内层时发出的光子。
其他信号
俄歇电子:入射电子在样品原子激发内层电 子后外层电子跃迁至内层时,多余能量转移 给外层电子,使外层电子挣脱原子核的束缚, 成为俄歇电子。
SEM扫描电子显微镜PPT
环保材料与工艺
采用环保材料和工艺, 降低生产过程中的环境 污染。
安全操作规程
制定严格的安全操作规 程,确保操作人员和设 备安全。
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sem扫描电子显微镜
目 录
• 简介 • 应用领域 • 技术特点 • 操作与维护 • 未来发展与挑战
01 简介
定义与特点
定义
扫描电子显微镜(SEM)是一种利用 电子束扫描样品表面并收集其产生的 二次电子、背散射电子等信号来生成 样品表面形貌和成分信息的显微镜。
特点
SEM具有高分辨率、高放大倍数、高 景深等特点,能够观察样品的表面形 貌和微观结构,广泛应用于材料、生 物医学、环境等领域。
操作步骤
01
关机步骤
02
03
04
关闭SEM软件和电脑。
关闭显微镜主机,并将显微镜 归位。
关闭电源开关,确保电源完全 断开。
常见问题与解决方案
原因
可能是由于聚焦不准确或样品表 面不平整。
解决方案
重新调整聚焦或对样品表面进行 预处理,确保表面平整。
常见问题与解决方案
原因
可能是由于样品台倾斜或扫描参数设置不正确。
3
拓展多模式功能
开发具备多种模式(如透射、反射、能谱分析等) 的扫描电子显微镜,满足更多应用需求。
提高检测灵敏度与分辨率
优化电子光学系统
改进透镜、加速电压和探 测器等关键部件Biblioteka 提高成 像质量。发展超分辨技术
利用超分辨算法和纳米材 料等手段,突破光学衍射 极限,实现更高的分辨率。
提升信号处理能力
改进信号采集、处理和传 输技术,降低噪声干扰, 提高检测灵敏度。
扫描电镜SEM简介-PPT版
透射电子
适合作表层轻元素成分分析。
电子束与固体的相互作用
其它信息
入射电子进人样品后,经多次 非弹性散射能量损失殆尽,最后 被样品吸收,即吸收电子。
入射高压电子束
如果被分析的样品很薄.那么 俄歇电子
背散射电子
就会有一部分入射电子穿过薄
样品而成为透射电子。
阴极荧光
二次电子 X射线
半导体样品在入射电子的照射 下,产生电子-空穴对。当电子
包括:二次电子、背散射电子、特征X 射线、 俄歇电子、吸收电子、透射电子、阴极荧光等。
电子束与固体的相互作用
二次电子
二次电子是指在入射电子束作用下 被轰击出来并离开样品表面的样品
的核外层电子。
二次电子的能量较低,一般都不超 过50 ev。大多数二次电子只带有几 个电子伏的能量。
入射高压电子束
俄歇电子
电子束与固体的相互作用
SEM的工作原理
电子枪发射电子束(直径50m)。 电压加速、磁透镜系统会聚,形成直径约为5nm的电子束。 电子束在偏转线圈的作用下,在样品表面作光栅状扫描,
激发多种电子信号。 探测器收集信号电子,经过放大、转换,在显示系统上成
像(扫描电子像)。 二次电子的图像信号“动态”地形成三维图像。 扫描电镜图像的放大倍数定义为:
M=L/l L显象管的荧光屏尺寸;l电子束在试样上扫描距离 “光栅扫描,逐点成像”
SEM的结构与工作原理
SEM的主要结构
SEM的结构与工作原理
随着信号的有效作用深度增加,作 用区的范围增加,信号产生的空间 范围也增加,这对于信号的空间分 辨率是不利的。
各种信号的空间分辨率
二次电子:5~10nm =>形貌分析
背散射电子:50~200nm
扫描电镜原理-SEM剖析精品PPT课件
能清晰成像。
•
二次电子的强度主要与样品表面形
貌有关。二次电子和背散射电子共同用于扫描
电镜(SEM)的成像。
特征X射 线
如果入射电子把样品表面原子的内层电子撞 出,被激发的空穴由高能级电子填充时,能 量以电磁辐射的形式放出,就产生特征X射线 ,可用于元素分析。
如果入射电子把外层电子打进内层,原
俄歇 子被激发了.为释放能量而电离出次外层电
d 2a
△F——焦深; d ——电子束直径; 2a——物镜的孔径角
衬度
表面形貌衬度
原子序数衬度
衬度
表面形貌衬度
表面形貌衬度主要是样品表面的凹凸(称为表面地 理)决定的。一般情况下,入射电子能从试详表面 下约5nm厚的薄层激发出二次电子。
原子序数衬度
原子序数衬度指扫描电子束入射试祥时产生的背散 射电子、吸收电子、X射线,对微区内原子序数的 差异相当敏感,而二次电子不敏感。
低原子序 Z
高原子序 Z
高加速电压 kV
低加速电压 kV
1. 电子束斑大小基本不能影响分辨率 2. 而加速电压 kV 和平均原子序 Z 则起决定作用。
信号的方向性
SE 信号 – 非直线传播 通过探头前加有正电压的金属网来吸引
BSE 信号 – 直线发散传播 探头需覆盖面积大
X-射线信号 –直线发散传播
样品腔
SEM控制台
样品腔 样品台
OM & SEM
Comparison
显微镜类 型 OM
SEM
照明源 可见光 电子束
照射方式
成像信息
光束在试样上 以静止方式投
射
反射光/投射 光
电子束在试样 上作光栅状扫
描
扫描电镜SEM简介-PPT版
入射高压电子束
俄歇电子 阴极荧光
背散射电子
二次电子
X射线 样 品
吸收电子
透射电子
电子束与固体的相互作用
各种信号的作用深度和广度
可以产生信号的区域称为有效作用 区,有效作用区的最深处为电子有 效作用深度。 在有效作用区内的信号并不一定都 能逸出材料表面、成为有效的可供 采集的信号。这是因为各种信号的 能量不同,样品对不同信号的吸收 和散射也不同。
电子束的滴状作用体积示意图 电子束与固体的相互作用
随着信号的有效作用深度增加,作 用区的范围增加,信号产生的空间 范围也增加,这对于信号的空间分 辨率是不利的。
各种信号的空间分辨率
二次电子:5~10nm =>形貌分析 背散射电子:50~200nm 吸收电子:100~1000nm 成 分 分 析
成分有差,形貌无差
成分无差,形貌有差
信号加减示意图
SEM的衬度与成像
两种图像的对比
锡铅镀层的表面图像(a)二次电子图像 (b)背散射电子图像
SEM的衬度与成像
吸收电子像和它的衬度
厚样品,约为0
II = IS+IB+IA+IT
IA = II – (IS+IB)
=常数 – (IS+IB)
各种信号检测器。信号的收集效率和相应检测器的安放位置 有很大关系。 多种附件。例如加热、冷却、拉伸,可进行动态观察。
SEM的结构与工作原理
信号收集和显示系统
信号收集:二次电子和背散射电子收 集器 、吸收电子检测器、X 射线检 测器 (波谱仪和能谱仪)。 显示系统 :显示屏有两个,一个用 于观察,一个用于记录照相。阴极射 闪烁计数器 线管CRT扫描一帧图像可以有0.2s、 样品信号 光信号 0.5s等扫描速度, 10cm×10cm的屏 电离,复合 幕,一般有500条线,用于人眼观察; 视频放 光电倍增管 大器 照相的800~1000条线。观察时为便于 电流信号 放大 信号放大 调焦,采用快的扫描速度;拍照时为 调制信号 显像管(CRT) 得到高分辨率,采用慢的扫描速度 (50~100s)。
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扫描电镜SEM简介
扫描电子显微镜
扫描电子显微镜,简称为扫描电镜,英文缩写为SEM (Scanning Electron Microscope)。它是用细聚焦的 电子束轰击样品表面,通过电子与样品相互作用产生 的二次电子、背散射电子等对样品表面或断口形貌进 行观察和分析。SEM已广泛应用于材料、冶金、矿物、 生物学等领域。
图7 锡铅镀层的表面图像(a)二次电子图像(b)背散射电子图像 图7 (a)(b)就是人工处理得出的例子,(a)图只能得到形貌像,而(b)图就是单纯的成分像。
放大倍数
扫描电镜的放大倍数可以从十倍到几十万倍连续可调。 放大倍数:定义为M=L/l,其中L是显像管的尺寸,l是光栅扫描 时相邻两点的间距。M通过调节扫描线圈的电流进行的,电流 小则电子束偏转角度小,放大倍数增大。 放大倍率不是越大越好,要根据有效放大倍率和分析样品的需 要进行选择,与分辨率保持一定关系。
二次电子成像及背散射电子成像原理
I. 二次电子成像:由电子枪发射的能量为5—35KeV的电子,以 其交叉斑为电子源,经聚焦缩小后形成具有一定能量、强度 和直径的微细电子束,在扫描线圈驱动下在试样表面做栅网 式扫描。电子束与试样作用产生的二次电子的量随试样表面 形貌而变,二次电子信号被探测器收集转换成电讯号,经处 理后得到反应试样表面形貌的二次电子像。
SEM的主要性能参数
分辨率
放大倍数
景深
分辨率
对微区成分分析而言,分辨率是指能分析的最小区域;对成像 而言,它是指能分辨两点间的最小距离。 SEM的分辨率主要受三方面的影响: 1.入射电子束束斑直径; 2.入射电子束在样ห้องสมุดไป่ตู้中的扩展作用; 3.成像方式及所用的调制信号。 二次电子像的分辨率约为5-10nm,背反射电子像的分辨率约 为50-200nm。一般来说SEM的分辨率,都指的是二次电子的 分辨率。
电子枪
利用阴极与阳极灯丝间的高压产生高能量的电子束。目前大 多数扫描电镜采用热阴极电子枪。优点:灯丝价格便宜,真 空要求不高;缺点:发射效率低,发射源直径大,分辨率低。 现在,高等级扫描电镜采用六硼化镧(LaB6)或场发射电子 枪,二次电子像的分辨率可达到2nm。 扫描电镜的分辨率与电子在试样上的最小扫描范围有关。通 常电压为1〜30kV。
图5 各种检测器的示意图
图6 信号处理的流程示意图
真空系统和电源系统
真空系统:包括机械泵和扩散泵。 作用:为保证电子光学系统正常工作,提供高的真空度,防止 样品污染,保持灯丝寿命,防止极间放电。 电源系统:包括启动的各种电源(高压、透镜系统、扫描电 圈),检测−放大系统电源,光电倍增管电源,真空系统和成 像系统电源灯。还有稳压、稳流及相应的安全保护电路。
图4 SEM样品室
信号收集和显示系统
信号收集:二次电子和背散射电子收集器、吸收电子显示器、 X射线检测器(波谱仪和能谱仪)。
显示系统:显示屏有两个,一个用于观察,一个用于记录照 相。阴极射线管CRT扫描一帧图像可以有0.2s、0.5s等扫描速 度,10cm×10cm的屏幕,一般有500条线,用于人眼观察; 照相的800〜1000条线。观察时为便于调焦,采用快的扫描 速度;拍照时为得到高分辨率,采用慢的扫描扫描速度(50 〜100s)。
II. 背散射电子成像:入射电子与样品接触时,其中一部分几乎 不损失能量地在样品表面被弹性散射回来,这部分电子被称 为背散射电子。背散射电子的产额随样品的原子序数的增大 而增加,因此成像可以反映样品 的元素分布,及不同相成分 区域的轮廓。
二次电子像的信号是二次电子,用于表面形貌分析;背散射电子 像的信号是背散射电子,用于成分分析。因此二次电子像对形貌 敏感,背散射电子像对成分敏感。
图3 三种不同类型的电子枪材质
电磁透镜
作用:是把电子枪的束斑逐渐缩小,从原来直径约为50μm的 束斑缩小成一个只有几nm的细小束斑。 工作原理:一般有三个聚光镜,前两个透镜是强透镜,用来 缩小电子束光斑尺寸。 第三个聚光镜是弱透镜(习惯上称其为物镜),具有较长的 焦距,它的功能是在样品室和透镜之间留有尽可能大的空间, 以便装入各种信号探测器。在该透镜下方放置样品可避免磁 场对二次电子轨迹的干扰。
主要内容
SEM的工作原理 SEM的主要结构 SEM的组成部分 SEM的主要性能参数 SEM的优点 应用举例
SEM的工作原理
电子枪发射电子束(直径50μm)。电压加速、磁透镜系统汇 聚,形成直径约5nm的电子束。 电子束在偏转线圈的作用下,在样品表面作光栅状扫描,激发 多种电子信号。 探测器收集信号电子,经过放大、转换,在显示系统上成像 (扫描电子像)。 二次电子的图像信号动态地形成三维图像。 简单概括起来就是“光栅扫描,逐点成像”。
扫描线圈
作用:提供入射电子束在样品表面上以及阴极射线管内电子 束在荧光屏上的同步扫描信号。 改变入射电子束在样品表面扫描振幅,以获得所需放大倍率 的扫描像。SEM的放大倍数是由调节扫描线圈的电流来改变 的,电流小,电子束偏转小,在样品上移动的距离小,放大 倍数大。
样品室
样品台。容纳大的样品(〜100mm),能进行三维空间的移 动,还能倾斜(0〜90°)和转动(360°),精度高,振动 小。 各种信号检测器。信号的收集效率和相应检测器的安放位置 有很大关系。 多种附件。例如放热、冷却、拉伸,可进行动态观察。
景深
景深是指一个透镜对高低不平的试样各部位能同时聚焦成像的一个能力范围。 扫描电镜的物镜采用小孔视角、长焦距,可以获得很大的景深 。 扫描电镜的景深为比一般光学显微镜景深大100-500倍,比透射电镜的景深 大10 倍。 由于景深大,扫描电镜图像的立体感强,形态逼真。对于表面粗糙的端口试 样来讲,光学显微镜因景深小无能为力,透射电镜对样品要求苛刻,即使用 复型样品也难免出现假像,且景深也较扫描电镜为小,因此用扫描电镜观察 分析断口试样具有其它分析仪器无法比拟的优点。
SEM的主要结构
图1 SEM的结构示意图
SEM的组成部分
电子光学系统 信号收集处理系统 图像显示和记录系统 真空系统
电源及控制系统
图2 JSM-6301F场发射扫描电镜的结构
电子光学系统
组成:电子枪、电磁透镜、扫描线圈和样品室等部 件。 作用:获得扫描电子束、作为产生物理信号的激发 源。 为了获得较高的信号强度和图像分辨率,扫描电子 束应具有较高的亮度和尽可能小的束斑直径。
扫描电子显微镜
扫描电子显微镜,简称为扫描电镜,英文缩写为SEM (Scanning Electron Microscope)。它是用细聚焦的 电子束轰击样品表面,通过电子与样品相互作用产生 的二次电子、背散射电子等对样品表面或断口形貌进 行观察和分析。SEM已广泛应用于材料、冶金、矿物、 生物学等领域。
图7 锡铅镀层的表面图像(a)二次电子图像(b)背散射电子图像 图7 (a)(b)就是人工处理得出的例子,(a)图只能得到形貌像,而(b)图就是单纯的成分像。
放大倍数
扫描电镜的放大倍数可以从十倍到几十万倍连续可调。 放大倍数:定义为M=L/l,其中L是显像管的尺寸,l是光栅扫描 时相邻两点的间距。M通过调节扫描线圈的电流进行的,电流 小则电子束偏转角度小,放大倍数增大。 放大倍率不是越大越好,要根据有效放大倍率和分析样品的需 要进行选择,与分辨率保持一定关系。
二次电子成像及背散射电子成像原理
I. 二次电子成像:由电子枪发射的能量为5—35KeV的电子,以 其交叉斑为电子源,经聚焦缩小后形成具有一定能量、强度 和直径的微细电子束,在扫描线圈驱动下在试样表面做栅网 式扫描。电子束与试样作用产生的二次电子的量随试样表面 形貌而变,二次电子信号被探测器收集转换成电讯号,经处 理后得到反应试样表面形貌的二次电子像。
SEM的主要性能参数
分辨率
放大倍数
景深
分辨率
对微区成分分析而言,分辨率是指能分析的最小区域;对成像 而言,它是指能分辨两点间的最小距离。 SEM的分辨率主要受三方面的影响: 1.入射电子束束斑直径; 2.入射电子束在样ห้องสมุดไป่ตู้中的扩展作用; 3.成像方式及所用的调制信号。 二次电子像的分辨率约为5-10nm,背反射电子像的分辨率约 为50-200nm。一般来说SEM的分辨率,都指的是二次电子的 分辨率。
电子枪
利用阴极与阳极灯丝间的高压产生高能量的电子束。目前大 多数扫描电镜采用热阴极电子枪。优点:灯丝价格便宜,真 空要求不高;缺点:发射效率低,发射源直径大,分辨率低。 现在,高等级扫描电镜采用六硼化镧(LaB6)或场发射电子 枪,二次电子像的分辨率可达到2nm。 扫描电镜的分辨率与电子在试样上的最小扫描范围有关。通 常电压为1〜30kV。
图5 各种检测器的示意图
图6 信号处理的流程示意图
真空系统和电源系统
真空系统:包括机械泵和扩散泵。 作用:为保证电子光学系统正常工作,提供高的真空度,防止 样品污染,保持灯丝寿命,防止极间放电。 电源系统:包括启动的各种电源(高压、透镜系统、扫描电 圈),检测−放大系统电源,光电倍增管电源,真空系统和成 像系统电源灯。还有稳压、稳流及相应的安全保护电路。
图4 SEM样品室
信号收集和显示系统
信号收集:二次电子和背散射电子收集器、吸收电子显示器、 X射线检测器(波谱仪和能谱仪)。
显示系统:显示屏有两个,一个用于观察,一个用于记录照 相。阴极射线管CRT扫描一帧图像可以有0.2s、0.5s等扫描速 度,10cm×10cm的屏幕,一般有500条线,用于人眼观察; 照相的800〜1000条线。观察时为便于调焦,采用快的扫描 速度;拍照时为得到高分辨率,采用慢的扫描扫描速度(50 〜100s)。
II. 背散射电子成像:入射电子与样品接触时,其中一部分几乎 不损失能量地在样品表面被弹性散射回来,这部分电子被称 为背散射电子。背散射电子的产额随样品的原子序数的增大 而增加,因此成像可以反映样品 的元素分布,及不同相成分 区域的轮廓。
二次电子像的信号是二次电子,用于表面形貌分析;背散射电子 像的信号是背散射电子,用于成分分析。因此二次电子像对形貌 敏感,背散射电子像对成分敏感。
图3 三种不同类型的电子枪材质
电磁透镜
作用:是把电子枪的束斑逐渐缩小,从原来直径约为50μm的 束斑缩小成一个只有几nm的细小束斑。 工作原理:一般有三个聚光镜,前两个透镜是强透镜,用来 缩小电子束光斑尺寸。 第三个聚光镜是弱透镜(习惯上称其为物镜),具有较长的 焦距,它的功能是在样品室和透镜之间留有尽可能大的空间, 以便装入各种信号探测器。在该透镜下方放置样品可避免磁 场对二次电子轨迹的干扰。
主要内容
SEM的工作原理 SEM的主要结构 SEM的组成部分 SEM的主要性能参数 SEM的优点 应用举例
SEM的工作原理
电子枪发射电子束(直径50μm)。电压加速、磁透镜系统汇 聚,形成直径约5nm的电子束。 电子束在偏转线圈的作用下,在样品表面作光栅状扫描,激发 多种电子信号。 探测器收集信号电子,经过放大、转换,在显示系统上成像 (扫描电子像)。 二次电子的图像信号动态地形成三维图像。 简单概括起来就是“光栅扫描,逐点成像”。
扫描线圈
作用:提供入射电子束在样品表面上以及阴极射线管内电子 束在荧光屏上的同步扫描信号。 改变入射电子束在样品表面扫描振幅,以获得所需放大倍率 的扫描像。SEM的放大倍数是由调节扫描线圈的电流来改变 的,电流小,电子束偏转小,在样品上移动的距离小,放大 倍数大。
样品室
样品台。容纳大的样品(〜100mm),能进行三维空间的移 动,还能倾斜(0〜90°)和转动(360°),精度高,振动 小。 各种信号检测器。信号的收集效率和相应检测器的安放位置 有很大关系。 多种附件。例如放热、冷却、拉伸,可进行动态观察。
景深
景深是指一个透镜对高低不平的试样各部位能同时聚焦成像的一个能力范围。 扫描电镜的物镜采用小孔视角、长焦距,可以获得很大的景深 。 扫描电镜的景深为比一般光学显微镜景深大100-500倍,比透射电镜的景深 大10 倍。 由于景深大,扫描电镜图像的立体感强,形态逼真。对于表面粗糙的端口试 样来讲,光学显微镜因景深小无能为力,透射电镜对样品要求苛刻,即使用 复型样品也难免出现假像,且景深也较扫描电镜为小,因此用扫描电镜观察 分析断口试样具有其它分析仪器无法比拟的优点。
SEM的主要结构
图1 SEM的结构示意图
SEM的组成部分
电子光学系统 信号收集处理系统 图像显示和记录系统 真空系统
电源及控制系统
图2 JSM-6301F场发射扫描电镜的结构
电子光学系统
组成:电子枪、电磁透镜、扫描线圈和样品室等部 件。 作用:获得扫描电子束、作为产生物理信号的激发 源。 为了获得较高的信号强度和图像分辨率,扫描电子 束应具有较高的亮度和尽可能小的束斑直径。