半导体厂本地水洗式气体洗涤塔用水回收系统改造
半导体芯片制程工艺LOCAL SCRUBBER酸性碱性砷排有机废气处理技术及系统有哪些？
半导体行业在芯片制程工艺中，因其不间断使用有机溶剂和酸溶液直接产生了大量的有毒有害的废气，且需经过废气处理达标后才能高空排放。
那么，半导体芯片制程工艺Local Scrubber酸性碱性砷排及有机废气处理技术系统有哪些？（半导体制造业废气来源排放特征和废气处理技术系统），格林斯达环保公司为您详细讲解半导体行业废气处理如下：半导体制造工艺废气来源及排放特征半导体行业芯片制造主要有5个阶段：（1）材料准备；（2）晶体生长和晶圆准备；（3）晶圆制造和探针测试（初测）；（4）封装；（5）终测。
晶体生长和晶圆准备阶段是集成电路的制造过程，在半导体生产中产生废气大量源于集成电路的制造，其集成电路制造的工艺顺序包括：薄膜沉积工艺、光刻工艺、掺杂工艺、清洗工艺，详细分析每步工艺中废气的来源及特征。
1、薄膜沉积工艺薄膜淀积是芯片制备的重要过程，许多材料由沉积工艺形成，如：半导体薄膜（Si、GaAs）、介质薄膜（SiO2、Si3N4）、金属薄膜等。
常用的是热氧化工艺、化学气相沉积工艺（CVD）、物理气相沉积工艺（PVD）。
（1）热氧化工艺热氧化的加工工艺是将成批的硅圆片加热到800~1 200℃，通入氧化剂（O2、水蒸气、Cl2、HCl、C2H2Cl2等）在其表面生成SiO2薄膜层。
生成的硅膜可起到器件保护和隔离、表面钝化、栅氧电介质、掺杂阻挡层等作用。
此工艺产生的主要废气及来源：酸性废气主要来源未反应的含卤素氧化剂。
（2）CVD工艺CVD工艺是通过气态物质的化学反应在硅片表面生成一层固态薄膜材料的过程。
此工艺可制备不同类型的材料层。
其操作过程是将含具有构成薄膜元素的反应气体（SiH4、WF6、NH3、SiH2Cl2、TiCl4等）和一些携带气体（N2、H2、NH3、Ar等）通入反应室，依靠反应气体与晶片表面处的浓度差，在硅片上发生反应生成薄膜，随后反应气及生成的废气一起再排出。
此工艺合成不同固态薄膜材料产生的废气种类是不同的，来源于未反应的原料气和生成酸性气体，常见废气有：SiH4、SiCl4、SiH2Cl2、PH3、HF、HCl、NH3等。
氯化铵尾气洗涤塔放空气体带液现象的治理_文洁清
高6 95 9
44 50 0m
.
m
,
洗 涤用 筛板 一 块
3
,
双溢 流
,
。
洗水
提 高塔 内 气液 分 离功 能
改 造 设 计尾 气 洗涤
量为 5 4 m V h ( 供
台洗 涤塔 用 )
。
空 气量为
s /
h
。
(进 气 态 )
原设 计 尾 气 洗 涤 塔
放空 气
,
如图
1
示
,
通 过 校 核 计 算表 明
,
,
,
已 有 试验 证 明 川
,
随着 空 塔 速 度 的 提
。
半成 品湿 钱 通过 沸腾 干 燥 工 艺 得 成 品 干 钱 带有氯化 按 粉 尘 的 常 压 热 空 气
涤塔
,
。
高
,
液 沫 夹带 量迅 速 增 长
数据表 明
。
,
液沫
d 为
。
通过 尾 气 洗
198 9
夹 带量 随空 塔 速度 成 直 线 增 长
。
所 以 改 造 设 计 中 的除 沫
为 保证 气 液 分离 效
,
1 4
,
.
图 1 原 设计 尾 气 洗涤塔 塔 身 2 进气 分配 夹 套 3 筛 板
.
.
段 不 再设 计 分 离 用 内件
封头
5
.
丝 网 除 沫器
果
,
适 当 增 高 除沫 段 的 高度
取
H
=
2 5 再。 .
1 9 9
r丰
第1期
彼 会装公装装 余公公桨 公 装 我
酸碱排气规范
5) 烟囱之设置须配合业主环安单位向主管机关申请设置许可和操作 许可通过后，再依许可方得建造符合法规规定之烟囱。
6) 烟囱须设置一对一式之污染空气排放自动流量连续监测设施，并将 信号传递至指定位置之 PLC PANEL。
7) 各烟囱须设置避雷针，避雷针之接地导线须接至业主指定接地点且 为导线须耐强碱等级。
7) 洗涤塔液体分配系统必须是喷雾式。喷雾式喷嘴组必须是完全的近 似方锥状，高速流动型。该喷嘴必须安装成使其能在正常的操作下， 喷雾能够覆盖完整的区域。组件必须包括内部喷雾配管和喷嘴。任 一喷嘴必须可独立取出清洁。所有的配管必须是防腐蚀型式。
8) 每一洗涤塔内部须装置一组水雾或微粒去除组件。此去除组件位于 填充层和洗涤塔出口间，为一具备适当间隔数量之叶片，用来去除 气体所挟带的水雾或微粒。叶片必须由 FRP 或 PVC 制成。水雾或 微粒粒径 15 micron 以上，去除效率须在 90%以上。
2. 洗涤塔 1) 本洗涤塔必须是水平交叉流式。设计通过填充层垂直断面之气体流 速：须在 2.0m/s 以下。去除效率或排放消减率：须在 95%以上。 洗涤塔进口间压损：须在 500pa 以下。洗涤塔进出口间，设置电子 式差压计，提供模拟 Alarm 讯息。 2) 洗涤塔必须具有整体的集液箱，来收集所清洗之液体做再循环之 用，并设置 4 点式液位检测器(High-high level alarm，High level， Low level，Low-low level alarm)。 3) 所有内部湿的螺栓和外部的螺栓与扣件包括锚定螺栓和凸缘螺栓 必须是由不锈钢制成。所有和脏空气接触之表面，必须能够抵抗所 使用化学物品的侵蚀。 4) 洗涤塔必须能在所设计的气体流动率和系统压力下操作。洗涤塔外 壳、洗涤塔入口关断风门、风机出口止回风门、烟囱和所有的内部 结构组件必须是以最小厚度 8mm 制作，并具有足够的维修孔及窗 口以供所有内部零件之检查、拆卸和保养。对受压和真空条下之部 位，必须于内部装设加强肋条。构件必须有足够的机械强度，来承 受静态和动态的负荷。 5) 每一洗涤塔组件必须装设有数组循环帮浦，一组当作备分件。帮浦 组必须是垂直、无轴封、单吸入离心式帮浦，马达座于集液箱上部， 帮浦沉入水中。帮浦外壳、叶轮和轴之套筒必须是坚固的氯化后之 聚氯乙烯。叶轮轴必须由不锈钢制成。并且必须在每一帮浦装设附 属设备如压力表、关断和止回阀、电子式流量指示计和配管等。承 包商必须对所选择之帮浦、配管等承担责任，适合所处理之化学物 品，并提供足够之帮浦水头弥补配管和洗涤设备之摩擦损失。帮浦 及配管支撑必须有足够的机械强度，来承受静态和动态的负荷。 6) 循环水采电导度值量测，高于设定值自动排放。
制程排气
通过调整酸性排气洗涤塔循环水的 pH值发现 ，淋 洗塔内的物理吸收是一个不稳定的可逆，吸收水中 的酸 ，并在淋洗过程中很容易再被脱附出来 。当 pH低于 7．6时 ，即使将循环水的电导度调至低于 5 mS／cm，系统的处理效率仍然不超过60％；而 当pH值高于 8时，系统处理效率通常高于90％；当 pH值达到 10时，系统处理效率甚至超过 99％。因 此控制 pH值是保证系统处理效率的关键参数 。虽 然酸性排气洗涤塔 ，pH值越高处理效率越好 ，但 实际运行中pH过高会增加运行成本，并会产生结晶 等问题，危及生产安全，因此pH值通常控制在 8～lO 。同样，对于碱性排气洗涤塔 ，pH值通常控制在 3～ 6。
一般排气两种： 一、面板厂 1.高温排（HGEX） 2.高湿排（WGEX） 二、芯片厂 1.一般排气（GEX）
三、排放方式 设备生产过程中会产生热量或产生一 些含尘无害气体（浓度很低），因此GEX 可以直接排放到大气环境当中，不需做任何 处理； 四、流程： 1 .一次配（主管路铺设及风机安装定位） 2. 二次配（支管连接各机台点）
7
8
CVD
STR
有害排气
高沸点有机排 气
SUS304+coati SUS304+coati ng ng SUS304+coati SUS304 ng SUS304+coati SUS304+coati ng ng
主系统
主系统
二次配
管阀件
曝光机设备排风
酸性、碱性废气处理系统（SEX、AEX）
一、处理方式： 1.洗涤式 1.1酸性洗涤塔 1.2碱性洗涤塔 二、洗涤塔介绍 分类：立式洗涤塔 卧式洗涤塔
对于含有 酸性／碱性物质的废气 ，半导体厂 大都采用大型洗涤式中央废气处理系统进行处 理 。由于半导体制造工作区域离中央废气处理 系统距离较远 ，因此部分酸性／碱性 废气在输 送至 中央废气处理系统前 ，常因气体特性导致 在管路中结晶或粉尘堆积 ，造成管路堵塞后导 致气体泄 ，严重者甚至引发爆炸 ，危害现场工 作人员的工作安全 。因此在工作区域需配置适 合制程气体特性的就地废气处理设备进行就地处 理 之后再排人 中央处理系统，
洗涤塔设备教育训练(制程排气系统)
洗涤塔系统操作说明
(2)酸排洗涤系统关闭
关闭系统时确认系统可以关闭并各生产系统允许停机： 1 关系统风机。 2 关闭循环泵浦。 3 关闭加药机。 4 关闭电源。 关 闭 风 机 关 闭 水 泵 关 闭 加 药 机 关 闭 电 源
洗涤塔设备教育训练 (製程排氣系統)
教育訓練內容
目录 I、 设计依据 一、法规依据 二、洗涤塔设备设计依据 Ⅱ 、酸碱排气系统说明 一、具体流程 二、部件说明 三、设备系统图 III、设备日常巡检 二、系统操作手册 三、设备保养手册 四、操作安全规章
I、 设计依据
2· 循环水的注入：
关闭废水排放的出口阀，开启快速补水阀在循环水槽内再度注入清 水直到设置的液位为止。会自动关闭补水阀。
3· 将循环泵浦打至自动开启运行，检查循环泵浦阀门入水阀 及出口阀是否开启.由视窗以目视检查液体分布系统的喷嘴是 否运作正常，如果目视无法看出，从循环管路上的压力计亦 可显示出液体分布状况不寻常的低循环压若在 (<< 0.6 kg/cm2)，问题可能出现在泵浦释放阀未开或喷嘴不能运作。 若有不寻常之高循环压在(>>1.8kg/cm2)，问题可能出在喷 嘴或管路阻塞，（喷嘴应于运转前清理干净）。 4· 该系统处理废气为酸性气体，将加药机打至自动加入氢氧 化钠，并设定pH控制器Lo点在”8”， HI点在”10”，使 循环洗涤水之pH值维持在8-10之间。 5、开启1台风机。 6· 适时补充加药桶的药液。
部件说明
1.7 电子液位计01探测洗涤塔内部循环水 之深度。 1.8 电子液位计02探测药液槽内部液体之 深度。可反应药液量的多少。 1.9排水阀通过电导率控制排废水到废水 收集桶。 2.0废气设备控制盘：对以上设备进行控 制。为方便废气操作人员对设备进行全面 掌控及操作，将废气系统的操作控制集中 一电箱。
中间罐区呼吸阀废气回收改造方案
中间罐区呼吸阀废气回收改造方案
一、现状分析
中间罐区现有粗甲醇储罐2台，单台公称容积1500m³，精甲醇计量罐2台，单台公称容积1000m³，杂醇油罐1台，单台公称容积1500m³。
5台储罐工作压力均为-0.3～1.8KPa，且都是单顶结构，未安装内浮顶，罐内气液接触面积大，罐顶呼吸阀外排保安氮气甲醇含量高，造成甲醇产品损耗大，同时难以达到GB31571-2015《石油化学工业污染物排放标准》的要求。
二、改造目的
计划在中间罐区围堰外增设水洗系统，对两台精甲醇罐和两台粗甲醇罐及杂醇油罐呼吸阀外排的废气进行处理，将废气中的甲醇洗涤下来回收利用，并使排放的废气达到GB31571-2015的要求。
三、可行性分析
含甲醇气体水洗分离系统在国宏公司已有较多应用，甲醇闪蒸气洗涤塔、全分离甲醇分离器的应用就取得了比较好的效果，且罐区呼吸阀甲醇回收工艺已在鄂尔多斯荣信化工公司已有长周期运行经验，该项目具有较强的可行性。
五、改造方案
中间罐区呼吸阀废气回收改造项目，以废气洗涤塔为核心设备，洗涤塔分为上下两段，中间用升气筒相连，安装在中间罐区泵房西侧和罐区围堰之间空地。
在现有粗甲醇罐和精甲醇罐罐顶呼吸阀入口增加三通，呼吸阀安装在三通上部，三通底部与罐顶相连，经三通侧管。
半导体废水回用流程
半导体废水回用流程
半导体废水回用的流程一般包括以下几个步骤：
1. 废水收集：将半导体制造过程中产生的废水收集起来，可以通过管道系统或集中收集池进行。
2. 初级处理：将收集到的废水进行初级处理，主要包括固液分离和沉淀过程。
可以通过沉淀池、过滤器等设备将悬浮物和固体颗粒去除，沉淀池中的污泥可以进一步处理。
3. 中级处理：对初级处理后的废水进行中级处理，主要是通过化学方法去除废水中的溶解性有机物和重金属离子。
可能用到的处理方法包括氧化、还原、沉淀、酸碱中和等。
4. 高级处理：对中级处理后的废水进行高级处理，主要是通过物理、化学和生物等方法去除残留的有机物、离子和微生物等。
常见的高级处理方法包括活性炭吸附、反渗透、超滤、紫外线消毒等。
5. 检测和监控：在废水回用过程中，需要进行定期的检测和监控，以确保回用水质量符合相关标准和要求。
常见的监测参数包括悬浮物、化学需氧量、总溶解固体、重金属、微生物等。
6. 回用利用：经过处理后达到回用标准的废水可以进一步用于半导体制造过程中，如再次用于清洗、冷却等。
回用水需要经过适当的处理和消毒，以确保不会对半导体制造过程造成污染。
7. 残余废水处理：部分处理后的废水可能无法回用，需要进行残余废水处理。
常见的方法包括深度处理、浓缩和焚烧等，以达到环境排放标准。
德州仪器半导体制造(成都)有限公司集成电路封装测试生产项目二期厂房及附属设施工程项目环境影响报告表
其中：环 105600 保投资
(万元)
评价经费 (万元)
预期投
—
产日期
工程内容及规模：
绿化面积 (平方米)
610
0 m2
环保投资占总 投资比例
0.58%
—
一、 项目背景与任务由来
随着电子信息产业的迅速发展，作为电子信息产业的核心技术--半导体集成电路的设 计和制造的发展已成为必然趋势。其深远影响，不但已渗透到国民经济的各个领域，而且 已被公认为是评估一个国家综合国力的重要指标。受益于扶持政策，随着我国经济的持续 发展，电子信息产业已经发展成为国民经济和社会发展的第一大支柱产业，在整个国民经 济中发挥着极为重要的作用，而集成电路产业则是其中的重点和亮点。
综上所述，本项目符合规划，外环境无明显制约因素，园区基础设施完备，选址基 本合理。
五、 工程建设内容概况
1、建设内容
本项目总投资 105600 万元，在现有厂区预留空地内新建一栋封装测试生产厂房，以
满足后期生产扩能使用；同时配套建设部分公辅设施，包含改扩建废水处理站，氮气氢气
混气站，纯水处理站，停车场以及餐厅，新建一座连廊连接现有封装测试厂房与本项目新
1
国家和地区设有制造、设计或销售机构。TI 自 1986 年进入中国大陆以来，一直高度关注 中国市场的发展。在北京、上海、深圳及香港设立了办事处及技术支持队伍，提供许多独 特的产品及服务，包括 DSP 和模拟器件产品、硬件和软件开发工具以及设计咨询服务等。
2010 年 9 月 13 日，四川省发展和改革委员会以“川发改外[2010]882 号”文（《关 于核准德州仪器香港有限公司并购及增资成都成芯半导体有限公司项目的批复》）原则同 意德州仪器香港有限公司（TI 子公司）收购成芯公司。2010 年 10 月，并购顺利完成，并 在成都高新区西部园区成立了“德州仪器半导体制造（成都）有限公司”（以下简称“德 州仪器成都公司”），形成了德州仪器成都公司集成电路制造厂。
洗涤饱和塔及其洗涤水系统的改造方案
４ ８
内 蒙古 石 油４ ｒ Ｌ－ －
２０ 年第 ７ ０７ 期
洗涤饱 和（ 顺 矿 业 集 团 有 限 责 任公 司 页 岩 炼 油 厂 原 油 车 间 ） 抚
摘 要： 简要 介 绍 了抚 顺 式 干馏 工 艺 回收 系统 中的主 要 设备 一一 洗涤 饱 和 塔 的 结构 及 其 洗 涤水 系 统 的工作 原 理 ， 重点 介 绍 了洗涤 饱 和塔 及 其洗 涤水 系统 的流程 和 在 实际生 产 中存 在 的 问题 ， 针对这 些 并 问题 进 行 了相 应 的技 术 改 造 ， 同时对 改进 干 馏 炉 的调 整方 法 、 大 了二 级 洗 涤 效 果 、 高 产油 量提 出 了 加 提
１ １０ ４ ０ ｍｍ、 和塔 高 １ ９ ０ 饱 ３ ０ ｍｍ。
２ ２ 洗 涤 水 系 统 ．
由２台型号 为１ ｓ 一 ９ 心 式水 泵 、 Ｏｈ 离 一个 非 标 准 的 ９０ ×３ ０ ×２ ５ｍｍ 洗 涤 槽 、 个 洗 涤 饱和 塔 ６０ ４０ ６０ 一 构 成一 个洗 涤 水循 环 封 闭 系统 。 ３ 洗 涤饱 和 塔 及其洗 涤 水 系统 的工 作 原理 页 岩 炼 油 厂 目前 使 用 的 是 瀑 布式 洗 涤 饱 和 塔 。 干 馏 产 物首 先 经 过 一 级 集 合 管 喷 淋洗 涤 ， 后进 入 然 洗 涤 塔进 行 二 级 洗 涤 ， 后 进 入 冷 却 塔进 行三 级 洗 最 涤和冷却 。本篇主要介绍二级洗涤—— 洗涤饱和塔 及 其洗 涤水 系 统 。 干 馏 瓦 斯 从 洗 涤 塔 下 部 进 入塔 内 ， 过塔 内折 通 流 板 形成 的水 幕 ， 高 度 涡 流 状 与 洗涤 水 逆 向 充分 呈 接触 ， 与洗 涤 水换 热后 由塔上 部 排 出 。 洗 涤 塔 下 部 为 饱 和 塔 ， 和 塔 的 增 湿水 来 自上 饱 部 洗涤 塔 ， 水封 罐溢 流 后 ， 经 与从 底 部进 入饱 和 塔 的
Local Scrubber Introduction-10.27
有机光刻胶、显影液 HF溶液、氨水、盐酸 SiH4、PH3、AsH3
光刻胶有机废气
氨水清洗废气 HF刻蚀液废气 盐酸清洗废气 干刻蚀废气
酸、有毒排气
AsH3、PH3
酸、有毒排气
化学气相沉积 （CVD）
沉积气体：SiH4，W，SiH2Cl2，PH3，
AsH3，
氮化硅沉积废气
携带气体：H2、O2、Ar、NO2、NH3
L各o类ca型l LSSc机r理ubber类型
干式吸附式（Dry type）：使用吸附剂，通过物理或化学吸附法去 除尾气，对于化学性质较稳定的气体，其处理效率较低
燃烧室（Burn Box或Burn tube）：在半导体使用的原料气体中， 硅烷类的气体因具有自燃性而备受关注，早期的处理方法是采用简 易的进行前处理，SiH4与氧气充分混合后立即燃烧氧化成SiO2，再 由管线末端的洗涤塔或是滤网去除。
Example: Dry Etch
制程危害尾气的来源分为：
原物料 1. 腐蚀性气体：HBr 2. 毒性气体：Cl2 3. PFCs：CF4, C2F6, SF6, CHF3, NF3
副产物 1. 腐蚀性气体：HF, HCl, SiF4, WF6 2. PFCs：CF4, C2F6, SF6, CHF3, NF3, CxClyFz
High Low
PFCs Gas Remove
Cost Down
Efficiency
High
半导体工艺尾气举例
废气产生工艺
硅表面清洗 氧化
均胶、光刻 刻蚀 扩散
离子注入
使用原辅材料
废气种类
硫酸清洗废气
硫酸、盐酸、氢氟酸、氨水、H2O2、纯 盐酸清洗废气
水、N2
洗涤塔运行操作方案
****洗涤塔除臭系统运行操作方案一、除臭工艺流程1.1工艺流程设计根据业主的要求采用化学洗涤为主的化学除臭工艺。
基础流程为：即对污水处理产生的臭气加收集后，通过风机将集中收集的臭气送入洗涤塔后在进行化学处理。
1.2工艺流程工艺流程：采用酸碱洗涤为主的废气处理工艺。
即对各个臭源构筑物产生的臭气加盖密封收集后，通过风机将集中收集的臭气先吸入碱液洗涤塔进行洗涤，去除恶臭气体中的酸性气体后，再通入酸液洗涤塔去除恶臭气体中的碱性气体，并达到降低其他恶臭气体浓度，此处理过后的废气再通过15m高空排放到大气中。
具体工艺流程详见本投标文件附图。
1.3排放标准本工程设计处理排放的尾气达到中华人民共和国《恶臭污染物排放标准》GB14554-93规定的厂界浓度限值的二级标准。
其中运行后测定的三项监测指标见下表1-1：表1-1 污染物排放标准（单位：mg/m3）1.4洗涤塔除臭工艺原理酸碱洗涤工艺是利用臭气成分与化学药液的主要成分间发生不可逆的化学反应，生成新的无臭物质以达到脱臭的目的。
将恶臭气体通过洗涤塔用酸碱洗涤进行脱臭，通常，水洗只能去除可溶或部分微溶于水的恶臭物质，如氨等；酸洗可去除氨和胺类等碱性恶臭物质；碱洗则适于去除硫化氢、低级脂肪酸等恶臭物质。
因此，为了彻底去除废气中存在的各类不同的恶臭物质，通常可采用酸洗和碱洗相串联的多级化学洗涤方式脱臭。
经常采用的化学药剂是浓度6%的工业用硫酸、6%-10%浓度的NAOH溶液等。
酸碱洗涤主要化学反应：硫化氢：2NaOH+H2S=Na2S+2H2OH2S+2NaoH+4NaClO===Na2SO4+4NaCl+2H2OH2S +NaClO=== NaCl +H2O+S氨：2NH3 +H2SO4===( NH4)2 SO41.5洗涤塔除臭特点具体来讲，洗涤塔脱臭具有下述工程特点：①对硫化氢、氨等去除率极高；②结构简单，便于施工，处理构筑物少；③设备需求少，操作管理简单，维护费用极低。
半导体厂务系统洗涤塔简介
洗涤塔属两相逆向流填料吸收塔。
气体从塔体下方进气口进入净化塔，在通风机的动力作用下，迅速充满进气段空间，然后均匀地通过均流段上升到第一级填料吸收段。
在填料的表面上，气相中污物与液相中物质发生化学反应。
反应生成物（多数为可溶性盐类）随吸收液流入下部贮液槽。
未完全吸收的气体继续上升进入喷淋段。
在喷淋段中吸收液从均布的喷嘴高速喷出，形成无数细小雾滴与气体充分混合、接触、继续发生化学反应。
在喷淋段及填料段两相接触的过程也是材热与传质的过程。
通过控制空塔流速与滞贮时间保证这一过程的充分与稳定。
废气则由塔体（逆向流）达到气液接触之目的。
此处理方式可冷却废气、去除颗粒及净化气体。
塔体的最上部是除雾段，气体中所夹带的吸收液雾滴在这里被清除下来，经过处理后的洁净空气从洗涤塔上端排入大气中。
常见分类：填料塔、喷淋塔、板式塔、鼓泡塔、文丘里l有机洗涤塔（去除有机废气）l酸碱废气洗涤塔（去除酸碱性气体）l热排气（去除水蒸气，热风等）l湿式除尘器（除尘）洗涤塔技术参数l洗涤塔PH值要求：l酸性：8-10l碱性：4-6l化学品使用浓度：l硫酸:50%-70%l NaOH:25%l水位补水：液位电极l压差小于800pal电导率600-800ms/cm毫西门子每厘米l ROR回收水，l电导率2000-3000换水l一台洗涤塔一天补3-6吨水工艺原理图鲍尔环拉西环常见填料材质l PP材料（聚丙烯），是一种非常安全且质地轻的塑料材料，耐热性好，表面有独特的光泽并且容易加工出呈现出鲜艳色彩；由于耐弯折强度比较高，在生产一些一体成型的的容器时（像一些盒盖和盒身成一体的容器）会经常优先采用些类的材质。
l PVC材料(聚氯乙烯)，PVC材料最大的特性是能加入不同的添加剂，做成各种种类的软硬和质感不同用途不一的的物品，可塑性非常强。
l PET材料（聚乙烯对苯二甲酸酯）大家经常见到的宝特瓶制作的材料，PET也可以作为纤维使用，PET最大的特点是且具有完整的回收循环利用系统，这种高效率使用的材料因其环保，安全性在胶盒，吸塑包装行业被大量的使用l聚乙烯（PE）、是一种经常被用来加工生产保鲜膜，塑料袋的原材料，PE因价格低廉而，比较容易成型，也是一种常用生产塑料水桶的材料。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性，平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益，请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间：9:00-18:30)。
６ ．优 点与 不足
６１ 点 ．优 此套 系统 利用 了已有 的系统 进 行改造 ，并 成功 的使 原 经过处 理 系统 的 水在 未处 理 的情 况下 并入 了原 有 系统 中 。且 系统 的出水 水 质优 于 原设 计要 求 的要 求 。在运 行 中确 实提 高 了出水 水 质有效 保护 了管 道 ，更 重要 的是 降低 了处 理 负荷 、起 到 回收再 循 环利 用 的效果 。 ６ 缺 点或 可改进 点 ． ２ 从 数月 的运 行状 况看 ，处 理 系统很 好的 去除 了水 中的 氟 、氯 离子 。但 带 来的 问题 是 氟离子 在 树脂 上 的富集 ，对 树 脂的 运行 周 期要 求相 应变 短 ，树 脂塔 再生 后投 入 初期 出水 水 质无法 立 即达 到 要求 。 并 随之 在树 脂的再 生 时 ，由于 氟离 子富 集造 成再 生水 中的 氟 离子含 量 最高达 ：８／ 左右 ，这样 短时 间内对 于废 水处理 的冲 击 ￣ ｇｍｌ ］ １ 是 巨大的 ，造 成废 水 氟处 理 系统 的设 定需 要及 时改 变 ，用 药量 增 加 、产 生的污 泥量 增加 。这在 设计期 考虑不 够充分 。 因此 ，我们 作为运 行 人 员考虑 ，是 否可 以使 用反 渗透 作为 主 要 处 理氟 离子 的 主要 设施 。这 样 去除 氟 的总量 不变 ，但 是 在废 水 端氟 浓缩 后 的浓 度 比较稳 定 ，不 会存 在富 集现 象 ，对废 水 处理 系 统的影 响可 以降低 。
ｃ ｒｏ ｉｎｏ ｈ ｕ ｐｙｐｐ ＵＳ３ ４ ａ ｈ ｈｏ ｅ ｒｍ ｃｔ ｏ ｒ ｓｏ ｎｔｅｓ ｐ ｌ ｉｅＳ ０ ｓｔｅｃ ｌｄｎ ｓｆｏ ｉｙｗａｅ． ｉ ｒｉ／ ｎｒ ｄ ｃ ｏ ［ ｔｒ Ｔｈｓａ ｔ ｅｉｔｏ ｕ ｅｈ ｗ ０ｍｏ ｉｙＵＰＷ ｅ ｌｉ ｓｓｅ ｔ ｅｃ ｃｅｌｃ ／ ｃ ｕ ｂ ｒ ｃ ｄｆ ｒｃａｍ ｙ ｔｍ ０ｒ ｙ ｌ ｏ ａ ｓｒ ｂ ｅ ｄ ａｎｗａｅ ｎ Ｏａ ｏｄＣ ｌｏ ｏ ． ｒｉ ｔｒａ ｄｔ ｖ ｉ Ｏ＂ ｓ ｎ ｒｉ Ｋｅ Ｗ ｏｒ： ｅ ｌｃ ｌ ｒ ｂ ｅ ， ｃａｍ ， ｓｎ Ｒｅ ｖ ｌｕ ｒｎ ， ｓ ａ ａｙｚ ｙ ｄ Ｗ ｔｏ ａ Ｓｃｕ ｂ ｒＲｅ ｌｉ Ｒｅｉ ， ｍｏ ｅｆ ｏ ｉｅ Ｃｏ ｔ ｎ ｌ ｅ
失 远远 大于 改造 本 身。 因此 ，很久 以来 ，总 是通 过维 修来控 制腐 蚀造 成的渗 漏。况且 这只是 解决渗 漏问题 。 ３１ 更换水 源 ．２ ． 半 导 体 厂的 超 纯 水 系统 是 一 个 良好 的 来 源 。通 过 分 析 ，我 们使 用纯 水 系统树 脂塔 的产 水作 为水 源 ，既解 决 了无氯水 源 的问 题 ，产生 的废 水又 可 以达到 回收 要 求 。但 是 ，纯水 系统 有 自己的 水量 平衡 要求 ，系统 设计初 期并 未考 虑到 此方 面 的用水 ，且 洗涤 塔用 水量 的不 平衡 也会 造成 纯水 系统 管道 压力 的波 动而影 响 纯水
循环 用 水。
关键词： 水洗 式气体洗涤塔 回收 树脂 除氟 成本分析
Ａｂ ｔ ｃ：Ｔｈ ｉｙ ｗａｅ ｏｎ ｕ ｓｍ ｔ ｅ ｃｔ ｔｒｃ ｓ ｍｐｔ ｎ ｏ ｏ ａ ｃｕ ｂｅ ｓｃ ｎ ｉｅ ａ ｌ ｎ Ｓ ｍｉｏ ｄ ｔ ｒＣｏ ａ ｙ Ａ ｆｅ ｅ ｅａ ｅ ｒ ’ ｏ ｒ ｔ ｎ，ｈｅｅ ｉ ｉ ｆｌｃ ｌｓｒ ｂ ｒｉ ｏ ｓｄ ｒ ｂｅｉ ｅ ｃ ｎ ｕｃｏ ｍｐ ｎ ． ｔｒｓ ｖ ｒ ｌｙ ａ ｓ ｏ ｐｅａｉ ｏ ｔ ｒ ｓ
注１ ：含再生 药剂 费、再 生废水处 理 费用 注２ ：以每 日处理 １０ 吨 、每 吨 自来水 ３ ２ ９０ ． 元计 ，并 含排 放废 ６ 水 处理 费用 。
进水措标 ３ 国
出承指标 ６ 田
Ｌ ｌ — 瑚 ｇ１０ Ｂ０ ５静 ｃ《 ０－ ￣０
《ｏ ｌｏ 《 ＜ ５ ５ 《 １
ｌ 、改造 原因
１ 用水量 需求 ． １ 本 地水 洗式 气体 洗涤塔 是主 设备 的附属 机 ，用水 来吸 收主设 备 产生 的废 气 ，用水 量 占到半 导体 厂 自来水 用量 的２ ％ 左右 川。 ０
承 受的 。以后一 些项 目改 用Ｐ Ｒ Ｐ 等管材后 未发生 渗漏现象 。 但 是 ， 已有 管道 连接 的生产 机 器较 多 ，改造 造成 生产 上的损
周 葆青”顾颖 颖 正华。 李 厉晓华。
１ 济 大 学 环 境 科 学 与 工 程 学 院 上 海２ ０ ９ ；２ 海 理 工 大 学 上 海 ２ ０ ９ 同 ０ ０２ 上 ００ ３
３中芯 国际集成 电路 制造有 限公 司 上海２ １０ ０２ ３
Ｂａ ｑｎｇＺｈ ｕ”， ｎ ｙｎ — Ｚｈｅ ｇ ａＬｉ， ａ ｈ ａＬｉ ｏｉ — ｏ Ｙｉ ｇ ｉｇ Ｇｕ ， ｎ ｈｕ — Ｘｉｏ ｕ ．
１ ｏ０ ０ Ｏ Ｊ Ｊ０ ．Ｏ １３０￣ ０ Ｏ ｜５． ．
备洼
新的 系统是 一个９Ｃ Ｈ ０ Ｍ 的处 理系统 ，水 源为新 老厂 的洗 涤塔 排水 ，处 理后 的水 主 要循 环供 洗 涤塔 使用 。新 系 统主 要是 利用 原 有 系统 中的设 备 ，根据 新 处理 水 源的 特性 进行 重新 排 列 。首先 通 过砂 滤和 碳滤 去 除水 中的 杂 质和 悬浮 颗粒 ；再 通 过 阴阳树 脂塔 来 去除 水 中吸附 的 离子 ，尤 其是 降 低氯 离子 来减 少 对金 属管 道 的腐 蚀 ，同时降 低氟离子 来达 到重复 利用 的效果 。 表 １ 计进 水水 质与 出水 水 质 设
童 尝固 ２ 系绩霹 量 ≯ ｝ 赘用
日 赣 运 用
日节眢水 萤
Ｓ 回 收年限 （ ） 妒 年
畦８２ ｔ 洼 ｌ ｜５． ， ∞
乳８ ２∞ ５．
１６ ．７
注２
，
监涮蜡标 面 ． ｅ帕 １ ｃ 鹂 Ｉ ０ 期 — 甘 Ｆ － 单位稿。 嚣 妒 网串 Ｉ 重 ｜ 捌 Ｉ ｌ ｌｌ 瞩
从改 变水 源后 的数年 运行 观察 看 ，漏水现 象 已经消除 ，降低 水 中离子 的做法 可以借 鉴 。
３２计划 改造 ．
临时 措施 运行 一段时 间后 ，我们 发现 ：原来 自来水 作为水 源 时 洗 涤 塔 使 用后 的 排 水 只能 排 放 ；而 使 用 去 离子 水 作 为水 源 后 ，排水 可 以达 到 回收使用 的水 质标 准 。这样 ，我们有 了将 洗涤 塔供 水 系统设 计 成一 个独 立循环 系统 的想 法 ，依靠 排水 处理 水作 为主 要水源 、少量使 用纯水 或 自来 水作为 补充 。 经 过 挖 掘 整合 全 厂 水 系统 的 富 余能 力 ，我们 决 定 将新 厂 纯 水 系统 的 回收 处 理系统 改造 为水 洗式 气体 洗 涤塔排 水 回收处 理系
３５ Ｃ ｉ ｃ ｎｅ ｅｈ ｏ ｇ ｖｒｉ ２ ｈ ａ ｉ ｃ ＆Ｔｃｎ ｌ ｙ ｅｖ ｗ ｎＳ ｅ ｏ Ｏ ｅ
工 艺 设 计 改造 与检 测 检 修
表 ３效 益分析
水冼 式 气 体 洗涤 塔 排 水含 有 较 高ＢＯＤ、重 金 属 或致 毒 物 质
【Ｊ ４ Ｏ 源自序号 Ｂ 。 瓷罱
工艺 设 计 改造 与 检 测检 修
Ｒｅ ｌｉ ｙｓｅ Ｍ ｏｄｆｃ ｔｏ ｏｒ ｃ ｌ ｒ ｂ ｅ ｙ ｔｍ ａ ｎＳｅ ｉｏ ｄ ｃｏ ｍ ｐ ｎ ｃａｍ Ｓ ｔｍ ｉ ａｉ ｎＦ ｉ Ｌｏ ａ ｕ ｂ ｒＳ ｓｅ ＵｓｇｅＩ ｍ ｃ ｎ ｕ ｔｒＣｏ Ｓｃ ａ ｙ
以 某公 司上海厂统 计为列 ，一 天总用 水量约 为１００ ，其 中洗涤 ２０吨
塔用水 需２ ０ 吨左右 。 ００ 且 由于 使用 自来水 作为水 源 ，排水 量少一 般考 虑直 接排放 ， 排 水量 多时 考 虑到 水 中悬浮 物 较 多通过 沉淀 后 排放 ，缺 少 回收 的价值 。 １ 管 道腐蚀 ． ２
（： ｃ ｏ ｌ ｆ ｎ ｉ ｎ ｎ ｌ ｃ ｎｅ ｎ ｎ ｉｅ ｉｇ Ｔ ｎｊ Ｕ ｉ ｒ ｔ Ｓ ａｇ ａ ２ ０ ９ ， ｈ ａ２ Ｕ ｉｅｓｙ ｆ ｈ ｇ ａ ｆ ｃ ｎ ｅ ｄ １ Ｓ ｈ ｏ ｏ ｖ ｏ ｍｅ ｔ ｉ ｃ ｄ ｇ ｅ ｎ ， ｏ ｇ ｎｖ ｓｙ ｈ ｈｉ ０ ０ ２ Ｃ ｉ ； ： ｎ ｒ ｔ ｏ ａ ｈ ｒ ｉ ｃ Ｅ ｒ ａＳ ｅ ａ Ｅ ｎ ｒ ｉ ｅ ｉ， ｎ ｎ ｖ ｉ Ｓ ｎ ｉ ｏ Ｓ ｅ ａ ｎ Ｔ ｃ ｎ ｌｇ ， ｈ ｇ ａ ０ ０ ３Ｃ ｉａ ３ Ｓ ｍｉｏ ｄ ｃｏ ｎ ｆｃｕ ｎ ｔｒａ ｏ ａ （ｈ ｎ ｈ ） ｏｐ， ｈ ｇ ａ，０ ２ ３ Ｃｈｎ ） ｅ ｈ ｏｏ ｙ Ｓ ａ ｈ ｉ ０ ９ ，ｈｎ ； ： ｅ ｃ ｎ ｕｔｒ ｎ ２ Ｍａ ｕａ ｔｒ ｇＩ ｅｎ ｔ ｎ ｌＳ ａ ｇ ａ Ｃ ｒ ．Ｓ ａ ｈ ２ １０ ， ｉａ ｉ ｎ ｉ ｉ ｎ ｉ 摘要： 长期 以来半导体厂使 用自 来水供应无尘室内的水洗式气体洗涤塔用水， 日 费大量 自 水。 每 耗 来 且输 送管道一般使 用不锈钢３ ４ ｏ 管道 ， 长期使 用后管道 焊缝处频繁 出 腐蚀渗漏现 象。 改善现 状， 现 为了 根据厂区内现有水源水质情况， 通过 改造纯水回收处理 系 ， 统 提供 全厂水洗式气体洗涤塔 的
统。
２ 本地 水洗式气 体洗涤塔 介绍
局部 气体 洗涤 塔是指 应 用于薄 膜 、扩 散 、蚀 刻等半导 体 制程 区 域生产 设备 端就 近进 行废 气处 理的 辅助 机器 ，是半 导体 行 业废 气 处理 系统的 重要 组成 部分 。其 主要 作用 就是废 气、蒸汽 和悬浮 颗粒物 处理 。 此处 本地水洗 式 气体 洗涤塔 （ ｅ Ｌ ｃｌ ｃ ｂ ｅ）为局 部气 Ｗ ｔ ｏａ Ｓｒ ｂｒ ｕ 体 洗 涤塔 的一 类 ，主要 用于处 理 可溶 于水的 腐蚀 性 气体 。水洗式 气体 洗涤 塔主 要将 由真 空 系统 抽 来的 制程设 备操 作时 产生 的副产 物 及未 反应 完全 的 反应 气体 经过 循环 泵 供应 的水 冲洗 后 将可溶 于水 的气 体或 悬浮颗 粒去 除 ，其 他废气 由抽 风系 统排 到中央 气体 洗 涤 系统 中 。清洗水 的排 水就 称 为气 体洗涤 塔排 水 ，即此 次改造 回收 的对 象 。