LEdit绘制版图
版图工具ledit使用技巧(转)
4.3 集成电路自动设计工具软件掩模版图编辑操作利用计算集成电路自动设计工具软件L-EDIT 实现移相掩模图形布局设计及交互式图形编辑。
Tanner Research,Inc.开发的一种很优秀的集成电路设计工具 (Tanner IC Design Tools) 软件，最大的特点是可用于任何个人计算机(PC机)、它不仅具有强大的集成电路设计、模拟验证、版图编辑和自动布局布线等功能，而且图形处理速度快、编辑功能强、通俗易学、使用方便，很实用于任何个人进行集成电路设计或其它微细图形加工的版图设计工作。
早期（1988）Tanner EDA Tools 是一种可以运行于PC-DOS或MS-DOS操作系统的IBM PC及其兼容机的交互式集成电路版图设计工具软件包、（当然也能运行于Macintoshcs苹果机和带X-windos的UNIX工作站），通过十多年的扩充、改进，几乎每年都有一种新的修改版，到目前已经推出到1988-2002 Tanner EDA 版本，其强大的EDA功能不比SUN 工作站上运行的Cadence设计软件逊色，可以用来完成任何复杂度的IC 设计，但它却能够运行于任何微机上的Windows 98/ Windows ME/ Windows NT/ Windows 2000/ Windows XP等各种操作系统平台上，为设计软件的普及、推广、应用创造了非常有利的条件。
教程以具有代表性的1998年Tanner EDA Tools 版本为基础对Tanner集成电路设计工具软件作全面的介绍，抛砖引玉，读者可以在此基础上，对其他版本功能作进一步探讨。
整个设计工具大体上可以归纳为两大部分，即以S-Edit为核心的集成电路设计、模拟、验证模块和以L-Edit为核心的集成电路版图编辑与自动布图布线模块。
前者包括电路图编辑器S-Edit、电路模拟器T-Spice和高级模型软件、波形编辑器W-Edit、NetTran网表转换器、门电路模拟器GateSim以及工艺映射库、符合库SchemLib、Spice元件库等软件包，构成一个完整的集成电路设计、模拟、验证体系，每个模块互相关联又相对独立，其中S-Edit可以把设计的电路图转换成SPICE，VHDL，EDIF和TPR等网表文件输出，提供模拟或自动布图布线。
ch2-4LEDIT绘制nmos管版图
LOGO第2单元绘制版图主讲：赵琳娜LOGO2.4 绘制版图绘制版图CH2LOGO 绘制版图根据手中的0.25um 设计规则，画出反相器中NMOS 管的版图！(Tanner)NMOS:1um/.25um PMOS:2um /.25umLOGO绘制版图画版图时，要严格按照design rule 来画！ 软件：tanner14.1 L-Edit软件使用说明详见《集成电路版图设计入门》 好。
Come on ！LOGO Layer零距离接触Tanner L-Edit ！LOGO零距离接触Tanner L-Edit ！LOGO 零距离接触Tanner L-Edit ！LOGO零距离接触Tanner L-Edit ！LOGO 零距离接触Tanner L-Edit ！LOGO绘制版图LOGO LVSDRC 验证通过并不代表Layout 就完全正确了，极端的例子是Layout 中即使什么都没画，DRC 也不会报错，所以我们还需将Layout 和Schematic 作对比，看看是不是该画的器件都画上了，该连的线也都连对了，这样的检查叫LVS(Layout Vs. Schematic) LVS 验证需要的三个文件：GDS2、网表文件（Netlist File ）和LVS 命令文件LOGO绘制版图——DRC 检查LOGO 绘制版图——DRC 检查LOGO绘制版图LOGO DRC 检查LOGODRC 检查LOGO DRC 检查LOGO画Schematic ，提取网表文件1)网表文件（Netlist File ）1.LOGO 画Schematic ，提取网表文件LOGO画Schematic ，提取网表文件LOGO画Schematic ，提取网表文件C:\Users\bm\Documents\Tanner EDA\Tanner Tools v15.0\Designs\RingVCO\RingVCO.tannerLOGO画Schematic ，提取网表文件LOGO 画Schematic ，提取网表文件iLOGO画Schematic ，提取网表文件LOGO 画Schematic ，提取网表文件LOGO画Schematic ，提取网表文件LOGO 画Schematic ，提取网表文件LOGO导出的网表文件LOGO GDS2LOGOGDS2LOGO GDS2LOGOGDS2LOGO LVS LOGOLVSLOGO LVS LOGOLVSLOGO LVSLOGOLVSLOGO LVS LOGOLVSLOGO 把网表文件里面的nmos W 改为2umLOGO输出文件为inv.out打开inv.out 文件LOGO LVS 验证结果LOGOLVS 验证结果LOGOLVS如果LVS 没有通过，这时需要查看LVS 报告——*.out 。
ch2-4LEDIT绘制nmos管版图
LOGO第2单元绘制版图主讲：赵琳娜LOGO2.4 绘制版图绘制版图CH2LOGO 绘制版图根据手中的0.25um 设计规则，画出反相器中NMOS 管的版图！(Tanner)NMOS:1um/.25um PMOS:2um /.25umLOGO绘制版图画版图时，要严格按照design rule 来画！ 软件：tanner14.1 L-Edit软件使用说明详见《集成电路版图设计入门》 好。
Come on ！LOGO Layer零距离接触Tanner L-Edit ！LOGO零距离接触Tanner L-Edit ！LOGO 零距离接触Tanner L-Edit ！LOGO零距离接触Tanner L-Edit ！LOGO 零距离接触Tanner L-Edit ！LOGO绘制版图LOGO LVSDRC 验证通过并不代表Layout 就完全正确了，极端的例子是Layout 中即使什么都没画，DRC 也不会报错，所以我们还需将Layout 和Schematic 作对比，看看是不是该画的器件都画上了，该连的线也都连对了，这样的检查叫LVS(Layout Vs. Schematic) LVS 验证需要的三个文件：GDS2、网表文件（Netlist File ）和LVS 命令文件LOGO绘制版图——DRC 检查LOGO 绘制版图——DRC 检查LOGO绘制版图LOGO DRC 检查LOGODRC 检查LOGO DRC 检查LOGO画Schematic ，提取网表文件1)网表文件（Netlist File ）1.LOGO 画Schematic ，提取网表文件LOGO画Schematic ，提取网表文件LOGO画Schematic ，提取网表文件C:\Users\bm\Documents\Tanner EDA\Tanner Tools v15.0\Designs\RingVCO\RingVCO.tannerLOGO画Schematic ，提取网表文件LOGO 画Schematic ，提取网表文件iLOGO画Schematic ，提取网表文件LOGO 画Schematic ，提取网表文件LOGO画Schematic ，提取网表文件LOGO 画Schematic ，提取网表文件LOGO导出的网表文件LOGO GDS2LOGOGDS2LOGO GDS2LOGOGDS2LOGO LVS LOGOLVSLOGO LVS LOGOLVSLOGO LVSLOGOLVSLOGO LVS LOGOLVSLOGO 把网表文件里面的nmos W 改为2umLOGO输出文件为inv.out打开inv.out 文件LOGO LVS 验证结果LOGOLVS 验证结果LOGOLVS如果LVS 没有通过，这时需要查看LVS 报告——*.out 。
使用L-Edit画反相器的布局图
(29)绘制电源线：由于反相器电路需要有Vdd 电源与GND 电源，电源 绘制是以Metal1图层表示，利用Metal1 将图中pmos 上方与nmos 下方 各绘制一个宽为39 个格点、高为5 个格点的电源图样，绘制后进行检 查，没有错误，如图所示。
(30)标出Vdd 与GND 节点：单击插入节点按钮 ，再到编辑窗口中用鼠 标左键拖曳出一个与上方电源图样重叠的宽为39 个格点、高为5 个格点 的方格后，将出现Edit Object(s)对话框，如图所示。
（18）引用nmos 组件：使ex11文件的Cell0为当前编辑窗口，选择 Cell—Instance 命令，打开Select Cell to Instance 对话框，可以看到 ，在组件列表中有Cell0，nmos 与pmos 这3 个组件，选择nmos 组 件再单击OK 按钮，可以看到编辑画面出现一个nmos 组件，
使用L-Edit画反相器的布局图
（1）打开L-Edit程序 （2）另存新文件：选择 File→Save As，重命 名，比如ex10（自己随意设定） （3）取代设定：选择 File→Replace Setup命 令，单击右侧的Browser，选择:\TannerEDA\LEdit11.1\samples\spr\example1\lights.tdb文 件，然后点击ok，会出现警告，按确定钮。
（10）设计规则检查：由于绘制的图样是要制作集
成电路的光罩图样，必须配合设计规则绘制图层， 才能确保流程时的效率。设计规则检查Tools—DRC 或按快捷按钮
(11)截面观察：利用L-Edit 的观察截面的功能，可观察该布局图设计出的 组件的制作流程与结果。选择Tools—Cross-Section 命令(或单击 按钮)， 将打开Generate Cross-Section对话框， 单击其中的 Browser 按钮， 在弹 出的对话框中选择..\Tanner EDA\L-Edit11.1＼samples＼spr＼example1＼ lights．xst 文件，单击其中的Pick 按钮在编辑画面选择要观察的位置，再 单击Generat Cross-Section 对话框的OK 按钮。
Ledit及器件版图设计
L-EDIT的应用
Electrical properties:电学 特性的设定。比如单位 面积电容的设定。一般 不设定。 GDS number：设置图层 数等。 Default wire setting：设 置线宽和连接点形状等 特性。
L-EDIT的应用
derivation工具栏：推 导产生图层 Draw和derived：选择 该图层是由绘制产生还 是由已有图层逻辑运算 产生。
L-edit 的图层
L-EDIT的应用
当把鼠标箭头放在 某个图层上时就会 显示该层的名称， 点击左键就会选中 该图层，任何时候 只能选中一个图层。 在选中的情况下绘 图只会反应在该图 层上
L-edit 的图层
L-EDIT的应用
单击某一个图层的 鼠标右键时就会显 示图层选项，图层 右侧的三个图标分 别表示锁定图层， 显示图层和保护图 层 L-edit 的图层
L-EDIT的应用
双击图层左侧区 域或者选中基本 工具栏中setupapplication就会 弹出版图应用设 置菜单，其中包 括快捷键设置和 版图的一些限定 L-edit 的设置
L-EDIT的应用
首先设定user为软件文 件路径然后进行设置. Paste to cursor:粘贴到 鼠标指针。即粘贴时 图形将会跟随鼠标移 动，直到鼠标落键图 形才会消失
Fill和outline：表 示填充和轮廓线的 颜色和花纹的设置。
L-EDIT实例
国内设计多为逆向，但也需要根据市场需求做适当改 变，所以绘制版图前首先必须完成符合项目需求的元 胞及其工艺的仿真验证，确定基本的元胞参数和工艺 步骤，为绘制确定条件。其次，需要和生产厂商确定 设计规则和工艺限制条件，使版图的绘制有据可依。
二极管结构示意图版图设计规则版图设计规则版图设计规则版图设计规则版图设计规则ledit的应用ledit的应用ledit的应用ledit的应用ledit的应用ledit的应用ledit的应用ledit的应用ledit的应用ledit的应用ledit的应用ledit的应用ledit的应用ledit的应用ledit的应用ledit的应用ledit的应用ledit的应用ledit的应用ledit的应用ledit的应用ledit的应用ledit的应用ledit的应用ledit的应用ledit的应用ledit的应用ledit的应用ledit的应用ledit的应用ledit的应用ledit实例ledit实例ledit实例ledit实例ledit实例ledit实例ledit实例ledit实例ledit实例ledit实例ledit实例ledit实例ledit实例ledit实例ledit实例ledit实例ledit实例ledit实例ledit实例ledit实例ledit实例ledit实例ledit实例ledit实例ledit实例ledit实例ledit实例ledit实例ledit实例ledit实例ledit实例ledit实例thanks
MEMS 实验 使用L-Edit画PMOS布局图
XXXXXXXX大学（MEMS）实验报告实验名称使用 L-Edit 画PMOS 布局图实验时间年月日专业姓名学号预习操作座位号教师签名总评一、实验目的：1、熟悉版图设计工具L-Edit的使用方法，并且能正确的使用这些工具；2、掌握版图设计的设计规则；3、能运用L-Edit 实现器件的布局图，以PMOS与NMOS设计为例；二、基本原理：1、CMOS器件的制作工艺2、PMOS器件和NMOS器件的版图实验原理截图：（1）PMO版图设计原理图：（2）CMOS版图设计原理图：3、设计版图时的注意事项：（1）L-Edit编辑环境是预设在P型基板上，故在P型基板上制作PMOS的第一步是需要做出N Well区，即需设定N阱区；然而对于NMOS则不需要N Well群区。
此外在设计版图时，需要将图绘制在原点之上，否则不利用版图截面的观察。
（2）改变图形大小的方法：“alt+鼠标拖动边框”；移动图形的方法“alt+鼠标拖动图形”；（3）绘制各图层之前需先通过Tools---DRC Setup查看对应的设计规则，从而选择确定图层的大小；绘制完一个图层都需DRC 进行设计规则检查；（4）各图层绘制无先后顺序的规定；（5）绘图时可适当使用“尺子”功能,以确保版图设计的对称性；清除图中的“尺寸”使用“View---Objects---Rules”或者选中后删除。
（6）对版图设计时，要注意时刻遵循设计规则，否则会出错误。
（7）对版图进行截面观察时，应注意选择好文件的路径，并且要设置好适当的界线位置。
三、实验内容及步骤：（1）打开 L-Edit 程序。
（2）另存新文件：选择 File---Save As命令，打开“另存为”对话框，在“保存在”下拉列表框中选择存储目录，在“文件名”文本框中输入新文件名称，例如：exp3。
（3）取代设定：选择File---Replace Setup命令，单击出现的对话框的From file 下拉列表右侧的 Browser按钮，择…:\LEdit83\Samples\SPR\example1\lights.tdb文件，再单击 OK 按钮，就可将 lights.tdb 文件的设定选择性应用在目前编辑的文件，包括格点设定、图层设定等。
MEMS 实验 使用L-Edit画PMOS布局图
XXXXXXXX大学（MEMS）实验报告实验名称使用 L-Edit 画PMOS 布局图实验时间年月日专业姓名学号预习操作座位号教师签名总评一、实验目的：1、熟悉版图设计工具L-Edit的使用方法，并且能正确的使用这些工具；2、掌握版图设计的设计规则；3、能运用L-Edit 实现器件的布局图，以PMOS与NMOS设计为例；二、基本原理：1、CMOS器件的制作工艺2、PMOS器件和NMOS器件的版图实验原理截图：（1）PMO版图设计原理图：（2）CMOS版图设计原理图：3、设计版图时的注意事项：（1）L-Edit编辑环境是预设在P型基板上，故在P型基板上制作PMOS的第一步是需要做出N Well区，即需设定N阱区；然而对于NMOS则不需要N Well群区。
此外在设计版图时，需要将图绘制在原点之上，否则不利用版图截面的观察。
（2）改变图形大小的方法：“alt+鼠标拖动边框”；移动图形的方法“alt+鼠标拖动图形”；（3）绘制各图层之前需先通过Tools---DRC Setup查看对应的设计规则，从而选择确定图层的大小；绘制完一个图层都需DRC 进行设计规则检查；（4）各图层绘制无先后顺序的规定；（5）绘图时可适当使用“尺子”功能,以确保版图设计的对称性；清除图中的“尺寸”使用“View---Objects---Rules”或者选中后删除。
（6）对版图设计时，要注意时刻遵循设计规则，否则会出错误。
（7）对版图进行截面观察时，应注意选择好文件的路径，并且要设置好适当的界线位置。
三、实验内容及步骤：（1）打开 L-Edit 程序。
（2）另存新文件：选择 File---Save As命令，打开“另存为”对话框，在“保存在”下拉列表框中选择存储目录，在“文件名”文本框中输入新文件名称，例如：exp3。
（3）取代设定：选择File---Replace Setup命令，单击出现的对话框的From file 下拉列表右侧的 Browser按钮，择…:\LEdit83\Samples\SPR\example1\lights.tdb文件，再单击 OK 按钮，就可将 lights.tdb 文件的设定选择性应用在目前编辑的文件，包括格点设定、图层设定等。
实验九：使用L-Edit编辑反相器的版图
出现的对话框的 From file 下拉列表右侧的 Browser 按钮，选择 d:\My Documents\Tanner EDA\Tanner Tools v13.0\L-Edit and LVS\SPR\Lights\Layout\lights.tdb 文件， 如图所示， 再单击 OK 按钮。 接着出现一个警告对话框， 按确定按钮， 就可将 lights.tdb 文件的设定选择性应用在 目前编辑的文件，包括格点设定、图层设定等。 5．重新命名：将 Cell0 的名称重新命名，可选择 Cell Rename 命令，打开 Rename Cell Cell0 对话
四、实验报告要求
实验报告包括以下内容： 1．绘制反相器版图的详细步骤； 2．在进行 DRC 检查过程中出现的错误； 3．绘制的版图； 4．绘制过程中出现的问题； 5．实验中的心得与体会。
五、反相器
1．真值表： A 0 1 Y 1 0
2．逻辑表达式： Y A
1
3．电路图：4．版图： Nhomakorabea2
六、操作步骤：
5
例使用技术设定为 MOSIS/ORBIT 2.0U SCNA Design Rules，输入输出信号由 Metal2 传入，故一个反相器 输入端口需要绘制 Metal2 图层、 Via 图层、 Metal 1 层、 Poly Contact 图层与 Poly 图层， 才能将信号从 Metal2 图层传至 Poly 层。 具体操作是： 先绘制 2 2 格点的 Poly Contact 图层， 然后在 Poly Contact 上面绘制一层 5 5 格点的 Poly 图层， Poly Contact 是用来连 接 Poly 层和 Metal 1 的接触孔，故接着绘制一个 10 4 格点的 metal 1 图层，接下来在 Metal 1 上绘制 2 2 格点的 Via（通孔）图层，Via 图层是用来连接 Metal 1 和 Metal 2 的接触孔。所以最后在 Via 上绘制 4 4 格点的 Metal 2 图层。绘制结果 如图所示。 14．新增输出端口 output 元件：选择 Cell 文本框中输出“output” ，单击 OK 按钮。 15．编辑输出端口 output 元件：反相器有一个输出端口，输出信号是从漏极输出，由 于此范例使用技术设定为 MOSIS/ORBIT 2.0U SCNA Design Rules，输入输出信号由 Metal 2 传出，故可在连接 pmos 与 nmos 漏极区的 Metal 1 上绘制 Via 图层与 Metal2 图 层，才能将漏极信号从 Metal 1 图层传至 Metal2 图层。 Via 图层是用来连接 Metal 1 图层与 Metal2 图层的接触孔。 具体操作是： 先绘制 2 2 格点的 Via 图层， 接着绘制 4 4 格点的 Metal2 图层，它要与 Via 图层重叠。绘制结果如图所示。 16．引用 Basecontactp、Basecontactn、input、output 元件：先选择 Cell 点击 OK 按钮， 回到 inv 编辑面板中。 然后选择 Cell open 命令，选择 inv 单元元件， New 命令，打开 Create New Cell 对话框，在 New cell name
L-Edit绘制版图
图3.37 编辑单元Cell0
图3.38 工艺设定
❖
Grid标签页用于显示栅格、鼠标栅格和定位栅格的设置 ，如图3.39所示。在“Grid display”栏内设定1个显示栅 格点（Displayed grid）等于1个坐标单位（Locator unit ），在“Suppress grid less than”框中设置8，表示当 栅格小于8个像素时不显示；在“Mouse grid”栏中，设 定鼠标光标显示（Cursor type）为Smooth类型，在 “Mouse snap grid”框中设定鼠标锁定的栅格为0.5个坐 标单位；在“Locator unit”栏中设定1个坐标为1000个 内部单位。
用L-Edit画PMOS版图的步骤
图3.35 L-Edit 的标题栏
❖ （1）打开L-Edit程序：L-Edit会自动将工作 文件命名为Layout1.tdb并显示在窗口的标 题栏上，如图3.35所示。
❖ （2）另存为新文件：选择执行File/Save As子命令，打开“另存为”对话框，在“ 保存在”下拉列表框中选择存贮目录，在 “文件名”文本框中输入新文件名称，如 Ex1。
L-Edit绘制版图Fra bibliotek10.1 L-Edit的窗口介绍
❖ 图3.1为L-Edit的窗口，包括标题栏、工具栏 、位置显示区、鼠标功能说明、状态栏、绘 图区等项目。还有层的定义区，用以定义现 在要进行绘制和编辑的层。
工具栏 位置显示区
层定义区
标题栏
鼠标功能说 明
状态栏
图3.1 L-Edit窗
绘图区
❖ 2．应用参数设置
❖ 设定结果为1个栅格的距离等于1个坐标单位也等于1个 Micron。
图3.39 栅格的设定
《LEdit绘制版》课件
这个PPT课件将会向大家介绍LEdit绘制版的各种功能和用途，包括基础和高级 教程、实战演练以及未来发展方向。让我们开始吧！
什么是LEdit绘制版
制图软件
LEdit绘图软件是一款流程图绘制工具，是制作 流程图、UML图、组织结构图和ER图的利器。
高效省事
LEdit绘制版可帮助用户快速制作各种流程图， 提高效率，用于项目管理非常实用。
表和关系。
制作项目流程图
用LEdit绘制版
优缺点
• 优点：LEdit绘制版具备直观、高效、免费等 特点，可以帮助用户轻松地制作各种流程图
• 形缺。点：在一些高端的图形设计领域，它的功 能还相对较弱。
未来发展方向
• 增强软件的多功能性，加强与其它软件的数 据交互性和扩展性；
组织结构图
LEdit绘制版还适用于组织结构图的制作，用于企业 的各种机构和职务的描绘。
ER图
LEdit绘制版最常用于数据库ER图的制作，是开发数 据库的关键步骤。
LEdit绘制版基础教程
1
安装和启动
下载并安装LEdit绘制版软件，双击图标启动应用程序，并熟悉软件界面和功能。
2
界面介绍
了解LEdit绘制版的各个元素和控件，包括菜单、工具栏、画布和属性面板等。
易于使用
LEdit绘图软件具有友好的界面和易于操作的功 能，即使没有图形绘制经验也能很好地使用它。
完全免费
LEdit绘制版是一个完全免费的软件，不用在学 习和应用时花费大量资金。
LEdit绘制版的应用场景
流程图
LEdit绘制版被广泛应用于各种类型的流程图的制作， 如项目管理、业务流程等。
UML图
LEdit绘制版也是一款UML图制作利器，可用于面向 对象的软件开发。
2019年最新-LEdit绘制版图-精选文档
2019/4/21
3.6 视图的操作
每个窗口显示一个单元版图的一部分。显示在窗口中 的版图的子集称为视图。可以用平移（Panning）当 前窗口的方法来显示版图中不同区域的视图，也可以 用缩放（Zooming）使在窗口中显示版图的较大或较 小区域的视图。在版图绘制中，移动和编辑的任何 阶 段都可以做平移和缩放操作。 1. 窗口的平移 平移的命令共有9种，如表3.3所示，平移只移动窗口， 而版图是不动的。当窗口向一个方向移动，视图中的 对象将向相反的方向移动。
2019/4/21
1.L-Edit的窗口介绍
图3.1为L-Edit的窗口，包括标题栏、工具栏、 位置显示区、鼠标功能说明、状态栏、绘图区 等项目。还有层的定义区，用以定义现在要进 行绘制和编辑的层。
2019/4/21
标题栏
工具栏
位置显示区
绘图区 层定义区
鼠标功能说 明
状态栏
2019/4/21
图3.1 L-Edit窗口
2019/4/21
图3.37 编辑单元Cell0
2019/4/21
2019/4/21
图3.38 工艺设定
Grid标签页用于显示栅格、鼠标栅格和定位栅格的设 置，如图3.39所示。在“Grid display”栏内设定1个 显示栅格点（Displayed grid）等于1个坐标单位 （Locator unit），在“Suppress grid less than”框 中设置8，表示当栅格小于8个像素时不显示；在 “Mouse grid”栏中，设定鼠标光标显示（Cursor type）为Smooth类型，在“Mouse snap grid”框中 设定鼠标锁定的栅格为0.5个坐标单位；在“Locator unit”栏中设定1个坐标为1000个内部单位。 设定结果为1个栅格的距离等于1个坐标单位也等于1 个Micron。
L-Edit简明教程(制图软件)
2018/6/6
（2）“Grid（栅格设置）”标签页 为方便绘图、查看和编辑，L-Edit提供了三种独立的栅格坐标：显 示栅格、鼠标栅格和定位栅格，如图3.7所示。 “Grid display”栏用于定义显示栅格。其中“Displayed grid”填 充框用于设定栅格的格点间距，单位是定位单位；“Suppress minor grid”填充框用于设定栅格格点显示的最小像素，小于或等 于该值时，格点将不显示。 “Mouse grid”栏用于设置鼠标栅格。选中“Snaping”选项表示 鼠标指针只能在栅格上移动；选中“Smooth”选项表示鼠标指针 可在栅格间移动；“Mouse snap”填充框用于设定鼠标每移动一 步的距离，单位是定位单位。
2018/6/6
4．图层设置 图层部分的设置包括有那些图层、图层的名称、对象 的电阻电容值、GDSⅡ的代号、CIF的名称、图样等 数据。执行Setup/ Layers子命令进入图层设置对话框， 如图3.10所示。对话框左边的图层列表框列出了当前 文件的图层，与图层定义区的次序是一致的。也可建 立新的图层（Add Layer）、删除原有的图层 （Delete Layer）和重新命名图层（Remane Layer）， 还可安排各图层的先后顺序(Move Layer)。在窗口的 右边可以用来定义或是更改图层的名称，与各图层的 电气特性、布局方式、生成层的方式、图样等。若要 修改某层的参数时，只要选中右边列表框的某层，再 修改右边各标签页的数据即可。
2018/6/6
“Paste To Cursor”选项表示将剪贴板上的图形粘贴 到鼠标指针上，选中该选项后，在粘贴对象时，被复 制的对象会跟随光标指针出现在绘图区，并随光标一 起移动，点击鼠标的任何键时，被复制的对象固定到 绘图区。在粘贴到绘图区之前，还可以对该对象进行 水平（H）、垂直（V）镜像与旋转（R）操作； “Auto-Panning”选项用于自动平移窗口，选中该选 项后，在执行Draw（绘图）、Move（移动）或Edit （编辑）操作时，当鼠标指针碰到绘图窗口边缘时， L-Edit将自动平移窗口。
版图工具ledit使用技巧（转）
版图工具ledit使用技巧（转）4.3 集成电路自动设计工具软件掩模版图编辑操作利用计算集成电路自动设计工具软件L-EDIT 实现移相掩模图形布局设计及交互式图形编辑。
Tanner Research,Inc.开发的一种很优秀的集成电路设计工具(Tanner IC Design Tools) 软件，最大的特点是可用于任何个人计算机(PC机)、它不仅具有强大的集成电路设计、模拟验证、版图编辑和自动布局布线等功能，而且图形处理速度快、编辑功能强、通俗易学、使用方便，很实用于任何个人进行集成电路设计或其它微细图形加工的版图设计工作。
早期（1988）Tanner EDA Tools 是一种可以运行于PC-DOS或MS-DOS操作系统的IBM PC及其兼容机的交互式集成电路版图设计工具软件包、（当然也能运行于Macintoshcs苹果机和带X-windos的UNIX工作站），通过十多年的扩充、改进，几乎每年都有一种新的修改版，到目前已经推出到1988-2002 Tanner EDA 版本，其强大的EDA功能不比SUN 工作站上运行的Cadence设计软件逊色，可以用来完成任何复杂度的IC 设计，但它却能够运行于任何微机上的Windows 98/ Windows ME/ Windows NT/ Windows 2000/ Windows XP等各种操作系统平台上，为设计软件的普及、推广、应用创造了非常有利的条件。
教程以具有代表性的1998年Tanner EDA T ools 版本为基础对Tanner集成电路设计工具软件作全面的介绍，抛砖引玉，读者可以在此基础上，对其他版本功能作进一步探讨。
整个设计工具大体上可以归纳为两大部分，即以S-Edit为核心的集成电路设计、模拟、验证模块和以L-Edit为核心的集成电路版图编辑与自动布图布线模块。
前者包括电路图编辑器S-Edit、电路模拟器T-Spice和高级模型软件、波形编辑器W-Edit、NetTran网表转换器、门电路模拟器GateSim以及工艺映射库、符合库SchemLib、Spice元件库等软件包，构成一个完整的集成电路设计、模拟、验证体系，每个模块互相关联又相对独立，其中S-Edit可以把设计的电路图转换成SPICE，VHDL，EDIF和TPR等网表文件输出，提供模拟或自动布图布线。
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2019/4/13
2019/4/13
3.7
3"Selection"
3.8 "Selection range"
"Deslection range" MOVE-EDIT "Edit range" MOVE-EDITEdit Move "Select drawn objects"
2019/4/13
"Paste To Cursor" HVR "Auto-Panning" DrawMoveEdit L-Edit
2019/4/13
2019/4/13
3.5
TDBTDB
"Toolbars""Use Large Button" "Layer Icon Size" "Drawing Mode" 3Orthogonal90�45 Degree45�All Angle
"Recently Used File List" 16 File
2019/4/13
2"Keyboard"
3"Warnings"
4"UPI" L-EditUPI 5"Rendering"
2019/4/13
3
Setup/ Design 3.66 1"Technology" 3.6 "Technology name" L-Edit LEdit
2019/4/13
2019/4/13
3.6
"Technology units"6 MicronsMilsMillimeters CentimetersInchesOther Other Lambda
"Technology setup"
"Technology units""Other" Lambda"Lambda per Internal Unit"Lambda Lambda"Lambda"Lambda foot304800 304800/11 1/1000
"Technology units""Other" "Mils""Technology setup""Mils per Internal"Mils
2019/4/13
2"Grid" L-Edit
3.7
"Grid display""Displayed grid" "Suppress minor grid"
L-Edit
2019/4/13
5. L-Eห้องสมุดไป่ตู้it
GDSCIFTDB GDSCIFL-EditFile / ImPort Mask Data 3.15
2019/4/13
2019/4/13
3.15
File/ImPort Mask DataGDSCIF "From File"L-Edit GDSCIF TDB "Use setup file"TDB ImportGDSCIF TannerL-Edit
1 Setup Palette
3.4L-Edit16 14 2RGB
2019/4/13
2019/4/13
3.4
2 Setup /Application
3.5 1 "Workgroup" "User"
2019/4/13
2"General"
Editing Options4 "Active-Push Rubberbanding"
OKLayoutNN L-EditL-Edit Cell0 L-Edit File/Save as Cell/Close as
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2 <empty> New Layer TDB
File/Info
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2. File/Open
3. File/Close 4. File / SaveFile / Save As
"Create rules on" "Current layer"
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4
GDSCIF Setup/ Layers 3.10 Add Layer Delete LayerRemane Layer (Move Layer)
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3.10
L-Edit
L-EditTanner Tools Pro S-Edit Tanner Tools Pro LVS L-Edit
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10.1 L-Edit
3.1L-Edit
2019/4/13
2019/4/13
3.1 L-Edit
3.2 L-Edit
2019/4/13
3.3
L-EditTDB TDBTDB
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TDBTanner TDBCIF GDSIICIFGDSII TDB
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3.3.1 1. File/ New3.14 L-EditLayoutText
1"Copy TDB setupfrom"
GDS/CIFTDB L-Edit
6. L-EditGDSCIFFile / Export Mask
Data3.163.16
GDSCIF Export
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3.16
3.3.2
() Instance
1. Cell / New 3.17 "Open in new window" OK
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3.8
4"Drawing" 3.9
"Default port text size"
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"Nudge amount" Draw/Nudge
"Default ruler settings" TextDisplay EndShow tick marks
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3.17
2. Cell/Open 3.18"File" "Cell"L-Edit i in in "Open In New Window"
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2019/4/13
3.18
3. Cell/Rename