长晶炉专业术语

合集下载

锅炉常用词汇

锅炉常用词汇
出口
fraction
公差
route
路线
shield
护罩挡板
decimal
公差
drilling
钻孔
intensity
加强
malfunction
故障
metal
金属
steel
钢铁
exhaust
排气管废气
sensor
传感器
Start-up
建立
legend
文字说明
clip
截短
vent
排气孔
comput
计算
prefab
校验
thermal
热的,热量的
specification
规格
fin

bundle.
打包机
segment
分割、片断
Drum /Hdr
联箱
Orifice plate
孔板
stagger
交错
Flow pattern
冲刷方式
reinforcement
增援、加强
pitch
定位于
fouling
污垢
partition
发生器
Blow-down
排污率
fillet

integral
整体
assembled
装配
profile
侧面外形轮廓
valve

condenser
冷凝器
shear
剪切扭断
vender
卖主
manway
人行巷道
column
圆柱
lb

atmophere
大气
grating

温差法C相长晶技术及长晶炉介绍

温差法C相长晶技术及长晶炉介绍
� 直接 C 相长晶,不用掏棒直接滚磨成晶棒,利用率达到 80%; � 静态生长,自动化程度高,装料后全部自动控制完成,良品率 达 80%以上; � 产品品质高, 由于 C 相长晶速度低于 A 相, 位错密度小于 500 每平方厘米; � 2 英寸晶棒一炉可同时长 3 个,正在开发一炉长 3 个 4 英寸晶 棒或一个 6 英寸晶棒的长晶炉; � 设备投资小, 设备全部国产化, 并对发热体及保温筒进行改进, 采用石墨发热体及固化碳毡保温,降低设备投资;
温差法(TD 法)技术获奖
联系人:尉茂 电话:15927231199 E-mail:fiany88@ QQ:炉介绍
二零一零年十二月
温差法(TD 法)C 相长晶技术介绍
温差法(TD 法)是继泡生法、提拉法、热交换法后开发的新型 长晶技术,主要是通过加热热场温度梯度,来达到长晶的环境,同时 直接用 C 相籽晶静态引晶,长出 C 轴方向的蓝宝石,不需要进行掏 棒。
技术特点:
月产量(折换成 2″LE D 12. 12.月产量(折换成 LED 蓝宝石毛坯)
3 个月
8台 00mm 400mm×8=32 3200mm KW 20KW×8=160 160KW 全自动 否
3台 00mm 18 1800mm KW 180 180KW 半自动 需要
总功率 13. 13.总功率 操作自动化程度 14. 14.操作自动化程度
晶棒的获得 ) 15. 15.晶棒的获得 (是否要掏棒 是否要掏棒)
温差法(TD 法)C 相长晶炉参数及照片
序号 1 2 3 4 5 6 7 8 9
项目 长晶炉型号 加热功率 坩埚 保温 底座 真空度 单次投料量 生长时间 单次产品产量
参数 65 型真空长晶炉 20KW 石墨发热体 Φ110 钨钼合金 固化碳毡 氧化锆陶瓷 高真空惰性气体保护 4KG 7 天(带拆装) 100mm4 英寸棒

CrystalTech - 蓝宝石晶体生长炉和晶体生长技术

CrystalTech - 蓝宝石晶体生长炉和晶体生长技术

功能描述
全新热场选材及设计;寿命长达2年或更高;有效降低能耗及耗 材消耗,提高设备利用率 快速热场定位系统,提高工艺稳定性,提高设备利用率 万分级高精度电源管理系统,提高晶体品质和成晶率 内置隔离系统,集成式炉内退火及快速更换籽晶功能, 提高晶体品质及设备利用率 防粘锅设计,提高成晶率及坩埚寿命 冷却水入口温度±0.5℃,提高晶体品质和成晶率 先进真空管理及气体分配系统,提高成晶率及晶体品质 安全装置及互锁,提高安全性 先进温控系统功率控制、温度控制精度±1.0℃,减少了人为的 影响(闭环控制),提高成晶率及晶体品质
LED 级蓝宝石晶棒 LED级的蓝宝石晶棒加工成蓝宝石基板, 是LED外延制造的主要基板材料之一。 是LED的最主要的原材料,占LED成本的12%。
非LED 级蓝宝石晶棒 可加工成高档手表的表面、珠宝、首饰等高档消费品。 以及轴承,光学仪器,军事等用途。 目前,70%瑞士手表蓝宝石表面均来自于国内蓝宝石加工厂家
LSGTM蓝宝石晶体生长工艺
革新性热场设计:经高速计算机模拟验证,提高成晶率; 热场材料选择:降低能耗及耗材消耗,提高热场稳定性及设备 利用率;
Easy Repeat 热场定位系统设计:提高热场稳定性;
设备利用率及成晶率各提升约15%-20%
Drive your lighting way
CTSSTM切磨抛工艺
组织机构图
GM
VP (Sales)
VP (Marketing)
VP (Project team)
CFO
HR/Admin
Process manager
Project manager
Drive your lighting way 3
香港科瑞斯特公司
技术团队组成: 工艺团队:来自国内外晶体生长行业的顶尖晶体工艺研发人员,

pvt长晶炉热绝缘材料

pvt长晶炉热绝缘材料

pvt长晶炉热绝缘材料PVT长晶炉热绝缘材料是一种用于半导体材料制备的高温隔热材料,具有优异的耐高温性能和化学稳定性。

本文将从以下几个方面详细介绍PVT长晶炉热绝缘材料的相关知识。

一、PVT长晶炉简介PVT(Physical Vapor Transport)长晶法是一种常用的半导体材料制备方法,其基本原理是将高纯度的粉末或块状单质放置在加热区域内,通过气相传输使其在低温区域沉积形成单晶。

该方法具有设备简单、易于控制、产量高等优点。

二、PVT长晶炉隔热材料的作用在PVT长晶法中,为了保证单晶生长过程中的稳定性和纯度,需要对加热区域进行隔离和保护。

此时,隔热材料就发挥了重要作用。

它可以有效地防止加热区域外部环境对单晶生长过程产生干扰,并且能够提供足够的隔离效果,使得加热区域内部的温度得到有效控制。

三、PVT长晶炉隔热材料的要求由于PVT长晶炉隔热材料工作环境的特殊性,其要求具有以下几个方面:1.高温稳定性:隔热材料需要能够在高温环境下保持稳定的物理和化学性质,不发生脱附、分解或者其他失效现象。

2.低气体排放:隔热材料需要具有低挥发性和低气体排放特性,以免对单晶生长过程产生干扰。

3.化学稳定性:隔热材料需要具有良好的化学稳定性,能够抵抗与其他材料接触时可能产生的反应或者腐蚀。

4.机械强度:由于PVT长晶炉生长过程中会产生一定的机械振动,因此隔热材料还需要具有足够的机械强度来保证其完整性和稳定性。

四、PVT长晶炉常用隔热材料目前在PVT长晶法中常用的隔热材料主要包括:氧化铝陶瓷、碳化硅陶瓷、氮化硅陶瓷等。

1.氧化铝陶瓷氧化铝陶瓷是一种具有优异高温稳定性和机械强度的隔热材料,其主要成分为Al2O3。

由于其具有良好的耐腐蚀性和低挥发性,因此在PVT长晶法中被广泛应用。

2.碳化硅陶瓷碳化硅陶瓷是一种由SiC颗粒通过高温加压制成的材料,具有优异的高温稳定性和机械强度。

由于其导热系数较低,因此在PVT长晶法中常用于制备GaAs等半导体材料。

碳化硅长晶炉热场使用寿命

碳化硅长晶炉热场使用寿命

碳化硅长晶炉热场使用寿命一、碳化硅长晶炉的热场特点碳化硅长晶炉是一种专门用于生产碳化硅单晶的设备,其热场主要用于提供均匀的温度场以及合适的温度梯度,在晶体成长过程中起到至关重要的作用。

碳化硅的熔点较高,晶体生长温度通常在2400°C以上,因此炉子的热场要求能够耐高温高热载,具有良好的热传导性和稳定性。

碳化硅长晶炉热场通常由石墨和石墨纤维混合制成,其主要特点包括:高温稳定性好,导热性能优异,不易发生热胀冷缩,可以快速响应温度变化,热传导性好等。

这些特性使得碳化硅长晶炉能够在高温条件下稳定工作,并且能够满足晶体生长的特殊需求。

二、碳化硅长晶炉热场的使用寿命影响因素热场的使用寿命是一个很复杂的问题,受到多种因素的共同影响。

尤其是在碳化硅长晶炉的应用中,由于炉子工作环境的特殊性以及生产过程中存在的多种因素,热场的使用寿命受到的影响更加复杂。

以下是一些影响碳化硅长晶炉热场使用寿命的主要因素:1. 高温热载碳化硅长晶炉通常需要在高温环境下工作,而且需要承受大量的热载。

高温环境和高热载会导致热场材料的热胀冷缩等问题,热场受到巨大的热应力,从而影响热场的稳定性和使用寿命。

2. 温度变化和温度梯度碳化硅长晶炉在晶体生长过程中需要快速响应温度变化,同时还需要提供合适的温度梯度。

温度变化和温度梯度会对热场材料产生一定的影响,尤其是在工作温度附近,热场材料受到的热应力更大。

3. 热传导性能热传导性能是热场材料的重要性能指标之一,影响着热场的温度均匀性和温度梯度。

热传导性能差会导致热场温度分布不均匀,从而影响晶体生长的质量。

4. 热场结构设计热场的结构设计直接影响了其受到的热应力和热载分布。

良好的热场结构设计可以降低热场的热应力,延长热场的使用寿命。

5. 炉子操作和维护炉子的操作和维护对热场的使用寿命也有重要影响。

不当的操作和维护会导致热场受到磨损和损坏,缩短其使用寿命。

三、延长碳化硅长晶炉热场使用寿命的方法为了延长碳化硅长晶炉热场的使用寿命,可以采取如下措施:1. 优化热场结构设计通过优化热场结构设计,可以减小热场受到的热应力,降低热场的温度梯度,延长热场的使用寿命。

长晶炉工作原理

长晶炉工作原理

长晶炉工作原理
自然界存在着丰富而多样的矿物,而从这些矿物中提取和分离出有用的物质是一种重要的技术,而长晶炉正是将其利用起来的工具。

长晶炉,也称为保热金属熔炼炉,是一种特殊的高熔点金属冶炼设备,其目的是炼熔各种矿石,以获得需要的溶质,还有产物中的一些金属元素。

长晶炉工况要求严格,其工作温度可达3000℃,压力80kg/cm2;以及高硅酸盐熔点要求为1080℃,这比一般大多数金属要高出80℃~100℃。

长晶炉结构复杂,需要借助于专业技术才能确保正常运行。

长晶炉使用大容量液体顶窑和炉门,炉膛和炉门放置在炉身中间,上端是液体顶窑,安装炉组件置于炉膛和被服刀条包覆的底部。

炉膛内装有送风机,由变压器控制,可以控制送风机的风量从而调整炉膛内温度,从而达到一定的温度。

成品注入炉膛,然后由送风机和风量控制器把炉内的温度调整到设定温度,从而使熔融物质充分熔融,使特定的熔融物质从熔渣中分离出来。

长晶炉的熔渣处理也很重要。

长晶炉的熔渣处理需要通过抽吸机残渣、调节体系成分密度等方式对熔渣进行处理,其中抽吸机残渣的效率较高,可以有效提升处理效率,并且能够节省能量消耗,降低成本。

在使用长晶炉时还要注意各种安全防护设备,例如安装闪光报警器、气体报警器、应急停电装置、智能温度控制装置,确保每台长晶炉的安全运行。

总之,长晶炉是一种重要的冶炼设备,被广泛应用于有色金属、冶炼、分离复合物和熔融物质等领域。

它具有快速冶炼、高熔点要求、炉温稳定等优点,是一种先进、高效、安全的冶炼工具。

全自动连续拉晶晶体生长炉诞生

全自动连续拉晶晶体生长炉诞生

全⾃动连续拉晶晶体⽣长炉诞⽣11⽉2⽇位于宜兴的江苏拜尔特光电设备有限公司宣布,经过2年不懈努⼒,成功开发出拥有⾃主知识产权的全球⾸台全⾃动连续拉晶晶体⽣长炉,其机械性能和⽣产效率通过各项测试表明,优于国际同类产品,使⽤该⽣长炉可以使光伏发电成本降低12%。

江苏拜尔特光电是专业从事晶体⽣长炉研发和制造的江苏省⾼新技术企业,早在2013年就研发成功国内最⼤投料量的单晶炉,产品经德国康斯坦茨国际太阳能研究中⼼测试确认,达到国际⾏业领先⽔平。

太阳能光伏产业,是清洁能源的重要组成部分,发展潜⼒巨⼤。

但是,由于光伏材料⽣产装备的问题,致使多晶、单晶等⽣产企业,普遍存在效率低、能耗⼤、⽣产成本⾼等发展上的“痛点”,制约着我国太阳能光伏产业的发展。

江苏拜尔特光电设备有限公司袁⽟平说:“必须依靠技术创新,加快研制出智能化程度⾼、能耗低、⽣产效率更⾼的新⼀代拉晶晶体⽣长炉,来⽀撑我国太阳能光伏产业的整体⽔平,提⾼光伏发电在能源结构中的⽐重,让光伏发电照亮国家能源结构绿⾊转型之路。

”正是在如此背景下,江苏拜尔特光电秉承绿⾊发展理念,凭借在单晶炉研发上积累的经验,实施“⽣产⼀代,中试⼀代,研发⼀代”的技术战略,加快组合式智能化双提拉头全⾃动连续拉晶晶体⽣长炉的研制,组织10多位各领域的专家进⾏项⽬论证,吸收国际先进的设计理念,形成整体合理设计⽅案,并集中攻克关键技术难题。

于今年7⽉,终于研制成功全球⾸台全⾃动连续拉晶晶体⽣长炉,尤其在机械设计、热场设计、⾃动化控制系统编程等,实现了全⾯创新。

经组织国内专家,对全⾃动拉晶晶体⽣长炉进⾏全流程调试和测试表明,各项性能指标全部达到设计要求,整体技术达到国际领先⽔平。

据了解,产品品质⽅⾯,全⾃动连续拉晶晶体⽣长炉⽣产出来的硅棒头尾电阻偏差能控制在20%以下,碳含量明显降低。

效率和成本⽅⾯,全⾃动连续拉晶晶体⽣长炉每⼀个⽉可以⽣产单晶硅圆棒4500公⽄左右,每公⽄单晶硅的⾮硅成本在30元以下,电费为0.75元每度。

pvt长晶炉热绝缘材料

pvt长晶炉热绝缘材料

PVT长晶炉热绝缘材料介绍PVT长晶炉是一种用于生长单晶的设备,它是通过高温熔炼来生长单晶材料的,因此需要使用热绝缘材料来保护设备和操作人员。

本文将详细介绍PVT长晶炉热绝缘材料的选择和应用。

PVT长晶炉热绝缘材料的选择因素选择适合的热绝缘材料对PVT长晶炉的操作和性能至关重要。

以下是选择PVT长晶炉热绝缘材料时需要考虑的因素:1. 高温稳定性PVT长晶炉操作温度通常在1000°C以上,所以热绝缘材料必须具有出色的高温稳定性,能够长时间承受高温环境而不发生变形或脱落。

2. 热导率热绝缘材料的热导率应尽量低,以减少热量在设备中的传导,从而提高长晶炉的效率。

3. 热膨胀系数长晶炉在加热和冷却过程中,温度会发生变化,所以热绝缘材料的热膨胀系数应与设备其他部分相匹配,以避免应力集中或产生裂纹。

4. 耐化学腐蚀性PVT长晶炉中使用的粉末材料和气体环境可能会对热绝缘材料产生化学腐蚀作用,所以材料需要具有较好的耐化学腐蚀性。

常用的PVT长晶炉热绝缘材料根据以上选择因素,以下是一些常用的PVT长晶炉热绝缘材料:1. 氧化锆氧化锆具有优异的高温稳定性和热膨胀系数,是一种常用的热绝缘材料。

它还具有良好的耐化学腐蚀性,可以在高温、酸性或碱性环境下使用。

2. 氧化铝氧化铝是另一种常用的热绝缘材料,具有出色的高温稳定性和耐化学腐蚀性。

它的热导率相对较低,可以有效减少热量传导。

3. 硅氮烷硅氮烷是一种无机陶瓷材料,具有出色的高温稳定性和热膨胀系数。

它还具有较低的热导率和较好的耐化学腐蚀性,适用于PVT长晶炉的热绝缘。

PVT长晶炉热绝缘材料的应用PVT长晶炉热绝缘材料主要应用于以下方面:1. 内部炉膛绝缘长晶炉的内部炉膛是生长单晶的重要部分,需要使用热绝缘材料来保护炉膛的结构和提高温度分布的均匀性。

2. 电炉及加热元件绝缘PVT长晶炉中的加热元件和电炉也需要使用热绝缘材料进行绝缘,以提高加热效率和减少能量损耗。

3. 操作人员安全PVT长晶炉的高温操作环境对操作人员的安全提出了挑战。

长晶炉 半导体

长晶炉 半导体

长晶炉是一种用于半导体材料生长的设备。

半导体材料是用于制造电子器件(如集成电路)的重要材料。

长晶炉利用炉内的高温环境,通过熔融原料,使其逐渐结晶,形成单晶材料。

长晶炉通常由一个炉膛和控制系统组成。

炉膛内通过加热元件提供高温环境,通常使用电炉或者气体加热。

原料通常以固体或者粉末的形式放入炉膛,并通过加热使其熔融。

然后,在适当的温度梯度下,原料开始结晶,形成单晶材料。

结晶的过程通常需要控制熔融状态和结晶速度等参数,以确保获得高质量的单晶材料。

长晶炉在半导体行业中具有广泛的应用。

在半导体制造过程中,长晶炉用于生长硅晶棒,这是制造大部分半导体器件的基本材料。

此外,长晶炉也可以用于生长其他半导体材料,如锗、砷化镓等。

通过长晶炉生长出来的单晶材料具有优异的电子性能和结构一致性,对于制造高性能的半导体器件至关重要。

因此,长晶炉在半导体行业中扮演着重要的角色。

Dss多晶炉

Dss多晶炉

DSS多晶炉主要内容:1.掌握DSS炉的长晶原理2.DSS炉的基本结构3.DSS炉的基本操作及其安全处理措施4.铸锭的生产流程及其基本检测1、DSS多晶炉的长晶原理DSS(多晶硅定向生成铸锭炉)能生产较大尺寸的,优质的多晶硅锭(用于光伏工业领域)。

DSS的生产量很大,能在50个小时左右的时间内生产出400--500kg的硅锭。

在长晶期间,只有隔热笼一个部件在运动,通过其的运动控制炉子热场的分布,从而达到定向长晶的目的。

内涂SiN的坩埚装入多晶硅料后放在导热性很强的石墨块DS-Block。

整个坩埚由石墨板固定,主要防止坩埚高温软化导致其胀破。

有石墨固定的坩埚被隔热笼从上到下罩住。

隔热笼内壁四周粘有加热电阻,能起到加热硅料,同时又能起到隔热作用。

关闭炉子后排气,接通加热器电源融化硅料数小时以上。

硅料从上部和四周开始先熔,此时隔热笼与DS-Block完全接触,形成一个封闭的加热场。

待完全熔完,隔热笼慢慢升起以便露出DS-Block的边缘,使热量辐射到下腔室的水冷四壁上。

水冷却DS-Block后再返回来冷却坩埚底部,从而使坩埚内的熔融硅周围形成了一个竖直温度梯度。

这个梯度使坩埚内的硅料从底部开始凝固,从熔体底部向顶部开始长晶,形成一个金字塔型的长晶结构。

当中心长晶结束后,晶体开始向四周生长。

当所有的硅料都凝固后,在程序的控制下,硅锭需要经过退火,冷却处理以免破裂且能将(晶格)位移降到最小限度。

2、DSS多晶炉的结构结构:系统硬件包括不锈钢板,一对侧板,水冷铸锭炉,供应电源,一个真空泵系统和一个控制柜,操作控制盘。

炉腔包括石墨加热区和隔热层组件。

炉腔周围有架空层(以便操作和维修,同时支撑着变压器),公用设施和布设在架空层地板下面的电线。

2.1炉腔上腔室像一个倒扣的钟固定在三个支架上。

利用三个结实的丝杠连接下腔室和上腔室。

挠性的驱动电缆使3个丝杠作同步运动。

一个大的DC电机驱动着丝杠上下运动,以打开和关闭下腔室,这样可以将坩埚/硅料装入加热区和取出长晶后的硅锭。

感应炉生长晶体

感应炉生长晶体

感应炉生长晶体
感应炉生长晶体是一种利用感应加热技术进行晶体生长的方法。

感应炉利用电磁感应原理,通过在感应线圈中通电产生交变磁场,使感应材料中的电流产生涡流,从而产生加热效应。

而晶体生长需要通过控制温度梯度来实现,感应炉能够提供高温和稳定的温度梯度,从而适用于晶体生长。

在感应炉生长晶体时,通常使用一种称为感应炉坩堝的容器,容器中放置了感应材料和所需元素的原料。

通电后,感应炉坩堝会产生高温,原料在高温下熔化,并通过控制温度梯度使其逐渐结晶,最终形成所需的晶体。

感应炉生长晶体的优点包括温度控制精度高、加热效率高、加热均匀等。

同时,由于感应炉本身不直接接触原料,因此不会对晶体质量产生污染,有利于获得高纯度的晶体。

需要注意的是,感应炉生长晶体的过程中需要控制好温度梯度和冷却速度等参数,以确保晶体生长的质量和结果。

同时,不同的晶体材料和要求可能需要不同的生长条件和处理方法。

晶圆处理工程用语

晶圆处理工程用语
磁悬浮输送
是指利用磁性反斥力之非接触性输送机构。是由控制磁悬浮之控制电磁铁、线性马达及悬浮体等所构成,例如遮光罩或晶圆等之基片搭载在悬浮体上来移动。在真空中使用时,因属非接触,无振动、无润滑油及全然不产生灰尘,具有可获得洁净真空等大特点。
D1019
Robot for using in vacuum
真空机械人
D1027
Turbo molecular pump
涡轮式分子泵
指具有汽涡轮机形之叶片,经由高速旋转之转子,将与其叶片表面碰撞气体分子给与运动量,以输送气体之运动量输送式真空泵。可在分子流领域有动作。
D1028
Dummy wafer
仿真晶元,虚设晶圆
指当装置在试运转中,分批处理晶圆时为要凑齐片数,或为承载效应等对策所使用,指实际没有形成IC图案的晶圆.
营运成本为目的,是用作保存及输送如晶圆等被处理体密闭容器的总称。经由以下主要构成要素的选择,可以考量有如下四种组合,容器内部可保持晶圆的匣盒部分,与容器为一体构造,(即匣盒部分为可拆开式或无法拆开式)。其开口部位在前面或底面者。
D1044
rapid thermal process
快速热处理
是有关热处理,为提升产量(throughput)等目的,将温度作快速上升或下降等操作或制程。
D1045
in-situ
就地,在现场,自然(环境)
以往都将起当作另外制程进行之处理,却将其编入其它制程内,诸如:in-situ cleaning,in-situ doping,及in-situ monitoring可分别当作就地清洁,自然(环境)掺杂,及现场监视等使用。
缓衡容器
系指可在装置内暂时收纳遮光罩或晶圆等基板之单元。通常可分为使用载运闸盒,或使用专用治具者。基板之进出有先进先出(FIFO),有后进先出(LIFO)之2种方式。

碳化硅长晶设备及其长晶方法

碳化硅长晶设备及其长晶方法

碳化硅长晶设备及其长晶方法简介碳化硅(SiC)是一种广泛应用于电子、光电子、能源等领域的先进材料,具有高温稳定性、高热导率、高带隙宽度等优良的特性。

在碳化硅材料的制备过程中,碳化硅长晶设备及其长晶方法起着关键的作用。

本文将深入探讨碳化硅长晶设备及其长晶方法的原理、工作原理、工艺流程等关键内容。

碳化硅长晶设备碳化硅长晶设备主要包括晶体生长炉、悬浮装置、控制系统等部分。

下面将逐一介绍这些设备的功能和特点。

晶体生长炉晶体生长炉是碳化硅长晶设备的核心部分,其主要作用是提供适宜的温度和气氛条件,促进晶体的生长。

晶体生长炉根据热源的不同可以分为电阻炉、感应炉等多种类型。

其中,电阻炉是最常用的一种。

电阻炉通常由一个热源,多个加热区域和一个冷却区域组成。

热源通常采用电加热,通过电极产生高温。

加热区域可以根据需要进行设置,以实现不同温度梯度的控制。

冷却区的作用是使晶体在合适的温度条件下冷却,保证晶体结构的稳定。

晶体生长炉的设计需要考虑温度控制、晶体生长速度、气氛控制等多个因素。

通过优化炉子结构和控制系统,可以提高晶体的质量和产量。

悬浮装置悬浮装置是碳化硅长晶设备中的关键组成部分,其主要作用是支撑晶体生长的衬底,并提供适当的运动方式。

悬浮装置一般分为悬浮棒和支承部分两部分。

悬浮棒通常由碳化硅材料制成,具有良好的耐高温性能和化学稳定性。

悬浮棒通过一个或多个机械臂与支承部分连接,使得晶体生长衬底能够在炉内进行适当的摆动和旋转,以实现晶体的均匀生长。

悬浮装置的设计需要考虑支撑力、材料选择、装配方式等多个因素。

合理的悬浮装置可以提高晶体的均匀性和完整性。

控制系统碳化硅长晶设备的控制系统主要包括温度控制、气氛控制和运动控制三个方面。

温度控制是保证晶体生长过程中温度稳定性的关键。

通过电热元件的供热和温度传感器的反馈,控制系统可以实时监测和调节炉内温度,确保晶体生长的稳定性。

气氛控制是提供适宜的气氛条件以促进晶体生长的关键。

通过气体供给系统和气体流动调节系统,控制系统可以实时调整炉内气氛,以达到所需的生长条件。

Bridgman的晶体生长技术

Bridgman的晶体生长技术

Bridgman的晶体生长技术1.Bridgeman法晶体生长技术简介Bridgman法是由Bridgman于1925年提出的。

传统Bridgman法晶体生长的基本原理如图.1所示。

将晶体生长的原料装入合适的容器中,在具有单向温度梯度的Bridgman长晶炉内进行生长。

Bridgman长晶炉通常采用管式结构,并分为3个区域,即加热区、梯度区和冷却区。

加热区的温度高于晶体的熔点,冷却区低于晶体熔点,梯度区的温度逐渐由加热区温度过渡到冷却区温度,形成一维的温度梯度。

首先将坩埚置于加热区进行熔化,并在一定的过热度下恒温一段时间,获得均匀的过热熔体。

然后通过炉体的运动或坩埚的移动使坩埚由加热区穿过梯度区向冷却区运动。

坩埚进入梯度区后熔体发生定向冷却,首先达到低于熔点温度的部分发生结晶,并随着坩埚的连续运动而冷却,结晶界面沿着与其运动相反的方向定向生长,实现晶体生长过程的连续进行。

如图所示坩埚轴线与重力场方向平行,高温区在上方,低温区在下方,坩埚从上向下移动,实现晶体生长。

该方法是最常见的Bridgman法,称为垂直Bridgman法。

除此之外,另一种应用较为普遍的是的水平Bridgman法其温度梯度(坩埚轴线)方向垂直于重力场。

垂直Bridgman法利于获得圆周方向对称的温度场和对流模式,从而使所生长的晶体具有轴对称的性质;而水平Bridgman法的控制系统相对简单,并能够在结晶界面前沿获得较强的对流,进行晶体生长行为控制。

同时,水平Bridgman法还有利于控制炉膛与坩埚之间的对流换热,获得更高的温度梯度。

此外,也有人采用坩埚轴线与重力场成一定角度的倾斜Bridgman法进行晶体生长。

而垂直Bridgman法也可采用从上向下生长的方式。

2.Bridgman法的结构组成典型垂直Bridgman法晶体生长设备包括执行单元和控制单元。

其中执行单元的结构,由炉体、机械传动系统和支撑结构3个部分构成。

炉体部分采用管式炉,通过多温区的结构设计实现一维的温度分布,获得晶体生长的温度场。

  1. 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
  2. 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
  3. 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
培养料(nutrien) 指用水热法及助熔剂法等合成方法生长晶体的主要原料。培养料主要来源于天然晶体,如生长合成水晶时用天然石英碎块作培养料,也可用其它合成方法获得的晶体材料作培养料。培养料的要求主要是纯度高,一般纯度要求在99.9%以上,且要有足够的数量。培养料的溶解表面积与籽晶生长表面积的比例会影响晶体的生长速度。
低压法(low pressure or normal pressure and high temperature methods) 是在金刚石亚稳定区进行外延生长金刚石(钻石)的方法。即在一定条件下(一般温度为600-10000C,压力为10Pa以下),通过电解或其它作用使碳原子在籽晶或异类基底材料上有规则地外延长大。有气相法、液(熔)相法、三相法和常压高温法等。目前这种方法只能获得钻石微晶,最大约0.5mm,主要用于工业和科学研究。
浮区法(zone melting technique) 同区域熔炼法。
助熔剂法(fl将配料溶解在助熔剂中,并在达到过饱和时自发成核生长或在籽晶上生长晶体的方法。宝石的生长大都采用籽晶技术。靠控制容器内溶液的温差对流或通过溶解、扩散、反应达到过饱和状态并生长晶体。助熔剂法是宝石合成中一种重要的方法,许多材料都可用它合成,如各种颜色的刚玉、祖母绿、变石,YAG等。其晶体生长温度较低,晶体热应力很小。长出的晶体大多发育有晶面,但晶体通常较小。因助熔剂具腐蚀性,一般用铂金坩埚作容器。助熔剂可进入晶体的晶格或成为包裹体。助熔剂法合成的宝石常含有助熔剂残余和铂金片的典型包裹体。
工业级钻石的合成(synthesis of industrial diamond) 二十世纪五十年代美国和瑞士首次成功合成了工业级钻石。目前工业用钻砂有三分之二来自合成的。采用静态高压高温技术,在金属熔剂作用下使原本在石墨稳定区饱和的碳在钻石稳定区内变得过饱和,从而析出钻石。合成工业钻常用两面顶、四面顶和六面顶压机。需要可塑性大的叶蜡石炉体。炉体的圆管内交替叠放着镍金属片和石墨片,两端用镍板焊封。将叶蜡石炉体放入压机中加压,在两端通电加热。在温度为1300-16000C,压力为6X109Pa时,镍熔化渗入石墨薄层,石墨溶于镍中并从管子两端向内开始结晶成钻石。整个转化过程只需几分钟。合成的钻石颗粒很小,颜色为黄绿色,并含大量金属熔剂包裹体。通过控制生长温度及其梯度等条件可以使生长晶形具有优选形态。主要用作磨料及其它工业用途。合成钻砂比天然钻砂含有较少的缺陷,且生产成本较低。
化学气相沉积法(chemical vapor deposition method,CVD) 是一种在低压下生长金刚石(钻石)的新方法。即用加热、放电等方法激活碳基气体(如甲烷),使之离解出碳原子和氢原子(或甲基CH3和氢原子),碳原子在甲基和氢原子的作用下在固相基片如籽晶上沉积形成金刚石单晶薄膜或多晶质薄膜。目前生长速度只能达到每周0.02mm,可获得的金刚石薄膜厚度太小(几十至几百微米),还远不能用来合成宝石级钻石,仅用于钻石及其它材料的表面镀层。
维尔纳叶法(Verneuil technique) 见焰熔法。
维尔纳叶炉(Verneuil furnace) 由维尔纳叶发明的,故得名。上部给料区为一料筒,内装合成粉末及添料,筒底为一筛状平底,中部贯通有一根震动装置使粉末少量、等量、周期性地自动释放,通过向下变尖的吹管下落。氧气通过同一吹管喷出与外吹管携带的氢气在喷嘴处混合燃烧。吹管至喷嘴处有一冷却水套,使氢气和氧气处于正常供气状态。落下的粉末经过氢氧火焰熔融,并落在旋转平台上的籽晶棒上,逐渐长成一个晶棒(梨晶)。水套下为一耐火砖围砌的保温炉,保持燃烧温度及晶体生长温度,近上部有一个观察孔,可了解晶体生长情况。
震荡波法(shock wave method) 一种动压合成金刚石的方法。采用爆炸冲击、强放电和高速运动物体碰撞产生瞬时高温高压,使石墨转变为钻石微粒。合成出的钻石粒径一般为十至几十微米,最大为0.5mm。采用此法还可以把微粉金刚石进行二次或多次冲击压缩烧结成大颗粒多晶体。目前主要用于合成工业钻。
合成宝石(synthetic stone) 用人为方法全部或部分地进行加工后得到的材料,其物理性质、化学成分以及晶体结构与相应的天然宝石基本相似。例如,合成红宝石具有与天然红宝石基本相似的物理性质、化学成分及晶体结构。
焰熔法(flame fusion technique) 该法是于19世纪由E.弗雷米发明,19世纪末由其助手维尔纳叶推向市场,故又称维尔纳叶法。该方法是原料的粉末在通过氢氧火焰时熔融落在籽晶棒上然后再结晶的过程,此过程是在维尔纳叶炉中进行的。可以生产各种品种的刚玉、尖晶石、金红石、钛酸锶、白钨矿等宝石晶体。此法生长晶体的速度快,获得的晶体常含有气泡和弯曲生长纹。
提拉法(pulling technique) 此法是Czochralski于1918年发明的,故又称为“丘克拉斯基法”。该法可以获得高质量的大晶体,主要用于工业和科学研究目的。将已配好的原料装入铱(熔点24420C)坩埚中,在坩埚上方的可旋转的提拉杆下端的夹头上装上籽晶。用高频线圈加热,使坩埚内的原料都熔化成熔体。此时降低提拉杆使籽晶接触熔体表面,然后缓慢旋转并向上提拉,便可长出晶体。整个装置放在一封闭的钟形外罩里,以便控制生长的环境气氛。通过外罩的窗口可观察生长过程。该法可用于生产各种刚玉、变石、YAG、GGG、铌酸锂等宝石材料。生长出的梨晶较大。具弯曲生长纹、有时可见气泡及铱金片等包裹体。
丘克拉斯基法(Czochralski technique) 同提拉法。
冷坩埚法(skull melting process) 又称“壳熔法”。此法最初由法国科学家Roulin发明,后由前苏联的列别捷夫物理研究所完善于1972年获得美国专利。氧化锆原料的熔点达27500C ,找不到合适的坩埚材料。此方法是利用原料本身的外壳作为“坩埚”,为此使用了由许多铜管围成的似坩埚的容器,铜管内通有循环冷却水形成了一个冷坩埚,内装有配比合适的原料及一根金属锆。铜管外缠绕着高频线圈用以加热。受热的金属锆使周围的氧化锆导电并开始熔化,直到整个容器内的氧化锆都被熔融,只有最外层约1mm厚的壳在冷却水的作用下保持未熔。然后将容器向下从高频线圈中缓慢脱出,因底部最先冷却,故结晶从底部开始并向上逐渐长成许多柱状晶体。长成的晶体需要在空气中退火以消除内应力。合成的晶体有的含有气泡和未熔粉末。
高压釜(autoclave) 是水热法生长晶体的关键设备,为可承高温高压的钢制釜体。水热法采用的高压釜一般可承受11000C的温度和109Pa的压力,具有可靠的密封系统和防爆装置。因为具潜在的爆炸危险,故又名“炸弹”(bomb)。由于内部要装酸、碱性的强腐蚀性溶液,所以要求高压釜的材料能耐腐蚀。有时还在高压釜内装有耐腐蚀的贵金属内衬。
矿化剂(mineraliser) 水热法生长晶体时采用的溶剂通常称为“矿化剂”。矿化剂通常可分为以下五类: 1)碱金属及铵的卤化物,2)碱金属的氢氧化物,3)弱酸与碱金属形成的盐类,4)强酸,5)酸类(一般为无机酸)。其中碱金属的卤化物及氢氧化物是最为有效且广泛应用的矿化剂。矿化剂的化学性质和浓度影响物质在其中的溶解度与生长速率。合成红宝石时可采用的矿化剂有NaOH,Na2CO3,NaHCO3+KHCO3,K2CO3 等多种。Al2O3 在NaOH中溶解度很小,而在Na2CO3中生长较慢,采用NaHCO3+KHCO3 混合液则效果较好。
梨晶(boule) 又称“晶棒”。由焰熔法和提拉法生长的晶体。梨晶是从种晶棒一端开始生长,经过接种、扩肩,然后等径生长而成,并结束于一向上微凸的弧形平台。梨晶的横断面多为圆形或椭圆形,一般无平坦的晶面,但合成尖晶石的横断面则为近方形,局部可发育一些较平坦的晶面。梨晶的生长层为微向上凸的弧面,垂直梨晶的延伸方向。合成刚玉的光轴方向与梨晶的延伸方向有一定的夹角。一般在取下梨晶时,它会沿纵轴自动裂开或为了释放应力故意将其沿纵轴劈为两半。梨晶一般长10至30cm,直径为几个厘米。
壳熔法(skull melting process) 同冷坩埚法。
区域熔炼法(zone melting technique) 由Keek 和Golay 于1953年创立的。该方法在整个生长过程中的任何时刻都只有一部分原料被熔融,熔区由表面张力支撑,故又称“浮区法”。所用原料一般先制成烧结棒。将烧结棒用两个卡盘固定并垂直安放在保温管内。利用高频线圈或聚焦红外线加热烧结棒的局部,使熔区从一端逐渐移至另一端以完成结晶过程。该方法不需要坩埚,生长出的晶体质量高,常用于材料的物理提纯,也用于生长晶体。可生产刚玉、YAG及白钨矿等宝石材料。生长的晶体可含有气泡和未熔粉末。
助熔剂(flux) 又称“熔剂”。能帮助降低原料熔点的化学物质。常用于助熔剂法合成中。助熔剂主要有两类:一类为金属,主要用于半导体单晶的生长;另一类为氧化物和卤化物(如PbO,PbF2等),主要用于氧化物和离子材料的生长。理想的助熔剂必须不与原料发生反应形成中间化合物,而且应有较低的熔点、较低的粘度、较差的挥发性、强的溶解能力和毒性小等特点。(助熔剂法通常采用的助熔剂为硼、钡、铋、铅、钼、钨、锂、钾、钠的氧化物或氟化物,如B2O3,BaO,Bi2O3,PbO,PbF2,MoO3,WO3,Li2O,K2O,KF,Na2O,NaF,Na3AlF6等)。合成不同宝石品种所采用的助熔剂类型不同。即使合成同一品种的宝石,不同厂家采用的助熔剂种类也不一样。助熔剂的选择对宝石结晶习性有很大的影响。助熔剂法合成的宝石通常含有大量的助熔剂残余。它们常常呈扭曲的面纱状、熔滴状等各种形态。大多在放大观察下呈橘红色或白色,显粒状结构。
水热法(hydrothermal process) 是利用高温高压的水溶液使那些在大气条件下不溶或难溶的的物质通过溶解或反应生成该物质的溶解产物,并使其呈过饱和态从而结晶生长的方法。合成宝石多采用控制高压釜内溶液的温差使产生对流以形成过饱和状态。当合成石英时,一般培养料放在高压釜内温度较高的下部,籽晶悬挂在温度较低的上部。釜内填以一定容量和浓度的矿化剂作溶剂。当容器内的溶液由于上下部之间的温差产生对流时,高温区的饱和溶液被输送到低温区,变成过饱和状态,从而在籽晶上生长。当合成祖母绿时,一般将培养料分放在顶、底部,两处的物质被溶解、扩散,在中部相遇并发生反应,生成祖母绿的溶液,当祖母绿溶液达到过饱和时便会析出,在中部的籽晶上生长。水热法可以合成各种颜色的刚玉、绿柱石(包括祖母绿)、石英等宝石。长出的晶体具有晶面,热应力较小,内部缺陷少。其包裹体与天然宝石的十分相近。特征性包裹体有铂金片、钉状包裹体、面包渣状包裹体及波状纹理等。
相关文档
最新文档