冶金法多晶硅酸洗去除金属杂质工艺探索

合集下载

冶金法生产多晶硅的清洁生产分析实例

冶金法生产多晶硅的清洁生产分析实例

同类 项 目环 境 影 响 评 价 和 清 洁生 产 审核 具 有 一 定 的借 鉴 意 义 。
关 键 词 : 晶硅 ; 金法 ; 境 影 响 评 价 ; 洁 生 产 多 冶 环 清
中图 分 类 号 : 3 X 8 文献标识码 : A 文 章 编 号 : 6 42 4 ( 0 2 0 —0 40 1 7 —8 2 2 1 ) 20 4 — 3
冶金 法 生产 多 晶硅 的清 洁 生产 分 析 实例
~ 衄 虬 一 酬 d .源自杜 娟 , 建 宁 王 建 国。 石 ,
(. 夏 环 境 科 学 设计 研 究 院 , 夏 银 川 70 0 ;. 1宁 宁 5 0 4 2 宁夏 银 星 多 晶硅 有 限责 任 公 司 , 宁夏 银 川 7 0 O ) 5O 4
良西 门子 法 。改 良西 门子法 是用 氯和 氢合成 氯化 氢 ( 或外购 氯化氢 ) 氯 化 氢 和工 业 硅 粉 在一 定 温 度 下 ,
合 成三氯 氢硅 , 然后 对 三 氯 氢硅 进 行 分 离 、 馏 、 精 提
纯, 提纯 后 的三氯氢 硅 在 氢还 原 炉 内进行 反 应 生 产 多 晶硅 。改 良西 门子法可 生产 电子级 多 晶硅 ( N) 9 。
l 定 性 分 析
1 1 生 产 工 艺 .
国 内外 现有 的多 晶硅 生产厂 家绝大 部分 采用 改
收 稿 日期 :0 20 一4 2 1 -1O 作者简介 : 杜 娟 ( 9 3 )女 , 18 一 , 宁夏 银 川 人 , 士 研 究 生 , 要 从 事 硕 主 环 境 监 测 与 评 价 、 环 境 容 量 的研 究 。 水
染物产 生种类及产生量 远小于改 良西 门子法 。
2 综 合 指数 法 评 价

冶金法多晶硅中的缺陷及磷吸杂实验研究

冶金法多晶硅中的缺陷及磷吸杂实验研究

昆明理工大学硕士学位论文摘要当今,硅是光伏产品最重要的材料。

其中多晶硅是一种用于生产具有较高品质和低生产成本的太阳电池材料。

冶金法作为一种生产太阳能级硅的新方法,截至目前取得了很大的成绩与进展,相比于传统的西门子法和铸造法,这种方法具有低成本,对原料的纯度要求不苛刻,可直接从金属硅提纯至太阳能级硅的优点。

然而,由这种方法生产的多晶硅,其中的杂质和晶体缺陷及不利的生长取向降低了太阳电池的效率。

因此,对于研究如何控制多晶硅中的杂质浓度、结构缺陷(位错和晶界)以及生长取向显得尤为重要。

本文利用Zeiss Axioimager A1型金相显微镜,D/max 3B型XRD,配备TSL型电子背散射衍射(EBSD)附件的扫描电镜(Philips XL30),二次离子质谱仪(SIMS)和辉光放电质谱仪(GDMS)研究了定向凝固过程中,不同凝固速率对小试多晶硅中位错密度变化,晶体生长面取向,晶界类型,晶粒尺寸,纵截面宏观晶体生长形貌,碳、氧含量及部分金属杂质浓度的影响。

同时还进行了不同吸杂温度,2h下的常规磷吸杂实验研究。

取得以下进展:随坩埚凝固速率的提高,晶体硅中的位错密度也随之增加。

其中,10μm/s时铸锭的位错密度最低;而20μm/s时铸锭中部的一些重要的过渡族金属杂质浓度最低;凝固速率为10μm/s时,得到的铸锭顶部位错密度大于20μm/s时的顶部位错密度。

晶体择优生长面取向从(111)转变为(331)再转变为(111)。

30μm/s时铸锭中的CSL晶界所占比例最大,20μm/s时铸锭中的CSL晶界所占比例最小;∑3晶界所占比例大小随凝固速率的增加亦增加。

20μm/s时铸锭中部的晶粒尺寸最大,平均晶粒尺寸为547.5μm,40μm/s时铸锭中部的晶粒尺寸最小,平均晶粒尺寸为345μm。

通过对各铸锭的纵截面进行腐蚀观察发现20μm/s时,晶体生长取向平行于坩埚轴向,晶体质量较好。

此外,通过对感应熔炼的样品进行磷吸杂研究,发现对杂质铁的吸除最有效;随吸杂温度的升高,样品的电阻率和少子寿命随之增加;不同吸杂温度会引起样品中晶界的变化,共同的特点是普通大角度晶界(R)数量都趋于减少,重位晶界(CSL)数量增加,800℃时,CSL晶界所占比例最大;通过金相分析发现吸杂后的样品表面位错密度均明显减少,其中在800℃和900℃时,晶体表面出现很多孪晶,表明晶体内部热应力得到了极大释放,改善了晶体质量。

金属冶炼中的杂质控制与去除

金属冶炼中的杂质控制与去除
电解沉积
利用电解过程将溶液中的金属离子还原成金属并沉积在阴极上,通过控制电位和电流密 度,使杂质元素不被还原或以较小量被还原,从而实现杂质的分析
案例一:不锈钢冶炼中的杂质控制与去除
不锈钢中的杂质元素
不锈钢中的杂质元素如碳、氮、氧、硫等会影响其耐腐蚀性和机 械性能。
金属冶炼中的杂质控制与去 除
目录
• 金属冶炼概述 • 金属冶炼中的杂质控制技术 • 金属冶炼中的杂质去除技术 • 金属冶炼中的杂质控制与去除案
例分析 • 金属冶炼中的杂质控制与去除发
展趋势与展望
01
金属冶炼概述
金属冶炼的定义与目的
定义
金属冶炼是指通过一系列化学和 物理过程,将矿石或废旧金属中 的目标金属提取出来,并与其他 杂质分离的过程。
在铝的熔炼和精炼过程中,采用电解沉积和区域熔炼等方法进
一步去除杂质元素,提高铝的纯度。
05
金属冶炼中的杂质控制与去 除发展趋势与展望
新型杂质控制与去除技术的研发与应用
新型熔融还原技术
利用直接还原法将铁矿石熔融成铁水,减少传统炼铁工艺中的杂 质引入,提高金属纯度。
真空蒸馏法
在真空条件下,利用不同金属或其化合物的蒸气压差异,实现杂 质的分离和去除。
磁选法
利用杂质元素与主金属在 磁性上的差异,通过磁场 将磁性杂质与主金属分离 。
筛分法
通过不同规格的筛网将主 金属与杂质进行粒度分级 ,从而将杂质去除。
电解法去除杂质
电解精炼
利用杂质元素在电解过程中的电化学性质与主金属的差异,通过阴极析出或阳极溶解将 杂质去除。
电解提取
通过电解溶融盐类溶液,使杂质元素在阳极上氧化溶解,而主金属则在阴极上还原析出 ,达到杂质去除的目的。

冶金级硅中杂质的表面吸附与去吸附除杂技术研究

冶金级硅中杂质的表面吸附与去吸附除杂技术研究

冶金级硅中杂质的表面吸附与去吸附除杂技术研究摘要冶金级硅是生产多晶硅的重要原料,多晶硅则是制造太阳能电池的制备,因此,在制造晶体硅之前,需要对冶金级硅进行精炼,消除其内的杂质。

提纯冶金级硅,可以利用硅中杂质的表面吸附偏聚,将冶金级硅粉做酸洗去吸附除杂。

这种提纯方法能够有效清除冶金级硅中的杂质,对硅的精炼有非常重要的意义。

关键词冶金级硅;表面吸附;去吸附除杂前言在世界上,最纯净、最丰富的可再生能源就是太阳能,能够源源不断被利用。

太阳能可以被间接转化为电能,转化过程不污染环境,而且储量丰富,受到了人们的关注。

能够将太阳能转化为电能的设备就是太阳能电池,其主要材料是多晶硅。

多晶硅的成本较低,使用寿命长,在太阳能电池的制造中受到广泛使用[1]。

但随着高纯硅料的用量增加,市场供应出现短缺,为了缓解高纯硅料的短缺,人们开始研发对冶金级硅的提纯技术。

1 冶金级硅除杂提纯原理高纯硅在市场上的需求量非常大,但供应不足,为了解决供需问题,需要对硅进行提纯。

目前已经研发出的对冶金级硅进行提纯的技术主要有:结渣纯化技术、定向凝固杂质分凝技术、卤硅烷纯化技术、酸洗纯化技术、气吹和蒸发纯化技术、高温碳—硅和铝—硅还原纯化技术等。

这些技术对于硅的提纯都有各自独特的优点,但普遍需要在1000℃以上的高温环境下进行提纯,而且需要极高的设备和工艺条件,增加了提纯成本。

酸洗提纯技术所需的温度较低,操作较为简便,可以同其他技术配合使用。

酸洗提纯技术利用冶金级硅中杂质表面的吸附偏聚现象,把硅粉碎成细粉,然后进行酸洗去除杂质,能够一定程度上对硅进行提纯[2]。

由酸洗提纯技术可以看出,将硅粉碎的程度越高,其除杂效果则越好,但随之而来的是氧化程度也越高。

表面吸附偏聚是一种热力学平衡,通过表面吸附,将硅内部的杂质吸附到表面,经过吸附—除杂—再吸附—再除杂的过程,能够让酸洗提纯效果更加明显。

2 对冶金级硅杂质表面吸附与吸附除杂实验2.1 选择除杂材料精选某硅业公司生产的冶金级硅产品,其中含有杂质为Fe、Al、Cu等,经过检测后,杂质所占比例分别为0.5%、0.08%和0.008%。

金属冶炼中的杂质处理与去除技术

金属冶炼中的杂质处理与去除技术

新型化学杂质处理技术
化学沉淀法
通过向金属溶液中添加化 学试剂,使杂质转化为不 溶性沉淀物,再通过固液 分离去除。
氧化还原法
利用氧化剂或还原剂将杂 质金属离子转化为另一种 价态的金属离子,再通过 沉淀、萃取等方法去除。
离子交换法
利用离子交换剂的离子交 换性质,将杂质离子吸附 在交换剂上,达到净化目 的。
该钢铁企业采用先进的熔炼技术和分离工艺,有效去除生铁、钢水中的杂质,提高产品质量和力学性能。同时, 采用环保措施,降低生产过程中的污染物排放。案ຫໍສະໝຸດ 二总结词多元化、精细化
详细描述
该有色金属冶炼厂针对不同种类的金属,采用不同的处理和去除技术,如电解精炼、化学提纯等。同 时,采用先进的检测手段,确保杂质含量符合标准要求,提高产品的纯度和附加值。
案例三
总结词
高纯度、高回收率
详细描述
该贵金属提炼厂采用先进的物理和化学方法,对金、银等贵金属进行提纯和精炼,确保 产品纯度达到99.99%以上。同时,采用高效的回收技术,提高贵金属的回收率,降低
生产成本。
THANK YOU
萃取法具有分离效果好、回收率高、操作简便等优点,但需要使用大量有机溶剂, 且对设备要求较高。
常见的萃取剂有磷酸三丁酯、甲基异丁酮等。
电化学法去除杂质
电化学法是通过电解或电沉积的 方法,将杂质从溶液中去除的方
法。
电化学法具有去除效果好、操作 简便、环保等优点,但需要消耗 大量电能,且对设备要求较高。
新型生物杂质处理技术
微生物吸附法
利用对金属具有特异吸附作用的微生物,将杂质金属离子吸 附在微生物表面,再通过固液分离去除。
酶促反应法
利用对金属具有催化降解作用的酶,将杂质转化为无害或低 毒性的物质,从而达到净化目的。

金属冶炼冶金工艺的奥秘揭开金属冶炼的神秘面纱

金属冶炼冶金工艺的奥秘揭开金属冶炼的神秘面纱

金属冶炼冶金工艺的奥秘揭开金属冶炼的神秘面纱金属冶炼是一门古老而神秘的工艺,它将矿石转化为纯净的金属,为人类的文明进程做出了巨大贡献。

本文将揭开金属冶炼冶金工艺的奥秘,探索其背后的科学原理和工艺流程。

第一部分:金属冶炼的背景与重要性在人类的历史长河中,金属冶炼一直扮演着重要的角色。

金属冶炼技术的发展,使人类得以从石器时代进入青铜时代、铁器时代,进而催生了现代科技和工业的革命。

金属冶炼的背后蕴含着人类对物质世界的认知和科学探索,其重要性不可忽视。

第二部分:金属冶炼的基本原理金属冶炼的基本原理是将含有金属元素的矿石经过一系列的物理和化学变化,提取出金属。

首先,矿石需要进行矿石选矿,去除其中的杂质和低品位的矿石。

随后,矿石通过破碎、磨矿等物理过程被破碎成一定粒度的颗粒。

接下来,利用化学反应和物理手段,通过冶炼炉或冶炼炉组合对矿石进行还原、熔化、分离等过程,从而获得纯净金属。

第三部分:金属冶炼的工艺流程金属冶炼的工艺流程可以分为矿石前处理、冶炼和精炼三个主要阶段。

在矿石前处理阶段,矿石根据其物理性质进行选矿和制浆,以便后续的冶炼过程。

接下来,经过一系列的物理、化学反应和分离过程,金属矿石被剥离出来,形成金属浓缩物。

最后,通过精炼过程,获得纯净的金属材料。

第四部分:金属冶炼的常见工艺金属冶炼的具体工艺取决于冶炼的金属种类、矿石特性和目标产品的要求。

常见的金属冶炼工艺有焙烧还原法、浸取法、电解法、熔融法等。

每种工艺都有其独特的优势和适用范围,根据实际情况选择合适的工艺可以提高冶炼效率和产品质量。

第五部分:金属冶炼的发展与前景随着科学技术的不断进步和工艺的不断革新,金属冶炼工艺也在不断发展演变。

新型的冶炼工艺,如高温还原、溶剂提取、熔盐电解等,为金属冶炼带来了新的可能性。

随着资源的逐渐枯竭和环境的日益恶化,绿色环保的金属冶炼工艺也成为了发展的趋势。

结语:金属冶炼冶金工艺是人类文明的摇篮,其背后蕴含着丰富的科学知识和技术智慧。

一种化学冶金提纯多晶硅的方法[发明专利]

一种化学冶金提纯多晶硅的方法[发明专利]

专利名称:一种化学冶金提纯多晶硅的方法
专利类型:发明专利
发明人:谭毅,姜大川,李国斌,许富民,刘艳娇,胡祖麒申请号:CN200810011266.0
申请日:20080430
公开号:CN101311114A
公开日:
20081126
专利内容由知识产权出版社提供
摘要:本发明一种化学冶金提纯多晶硅的方法属于用化学冶金提纯多晶硅的技术领域,特别涉及一种利用酸、碱等化学手段提纯硅到99.99%纯度的多晶硅的方法。

利用扫描电镜观察、记录工业硅晶粒的大小,再将硅晶粒破碎到合适的程度,并用氢氧化钠溶液去除硅粉的氧化层及杂质铝,用浓度氢氟酸进行酸洗,去除金属复杂相;用水清洗直到溶液呈中性,得到高纯度的硅材料。

这种提纯多晶硅的方法成本低、能耗小、操作简单、可行性高。

申请人:大连理工大学
地址:116024 辽宁省大连市甘井子区凌工路2号
国籍:CN
代理机构:大连理工大学专利中心
代理人:关慧贞
更多信息请下载全文后查看。

多晶硅冷氢化系统中重金属杂质的去除技术

多晶硅冷氢化系统中重金属杂质的去除技术

多晶硅冷氢化系统中重金属杂质的去除技术【摘要】随着生态环境问题日趋严重,推广利用可再生资源受到社会的关注。

太阳能能源对环境无污染符合环保要求,多晶硅是光伏产业的基础材料,近年来多晶硅市场迅速增长,亟需研发无污染多晶硅制备方法。

多晶硅中的金属杂质来源包括原料与铸造中坩埚污染造成。

多晶硅表面金属杂质有多种元素,主要发生在存储与包装等环节。

研究介绍多晶硅冷氢化系统生产工艺,分析重金属杂质产生原理及影响,提出多晶硅冷氢化系统重金属杂质去除方法。

【关键词】多晶硅冷氢化系统;重金属杂质;去除技术随着能源的过度开发,传统能源发电成本攀高,利用光伏发电优势是不产生污染。

中日欧美等国家制定太阳能能源发展规划,近年来太阳能光伏发电迅速发展,太阳能电池是将光能转换为电能的有效工具,电池分为晶硅与多元化合物薄膜电池等。

P型铸造多晶硅电池在晶硅太阳能电池中份额超过60%,多晶硅材料需求大幅度增加。

改良西门子法是当今太阳能级多晶硅主要生产方法。

近年来冷氢化工艺取代热氢化,但因需要除去大部分杂质,导致氯化物富集在管道引起堵塞。

本文研究去除重金属氯化物杂质措施缓解堵塞情况。

1.多晶硅冷氢化系统工艺硅是重要的半导体元素,硅原子价主要为4价,化合物性质稳定,在自然界以化合价形态存在。

多晶硅是单质硅的形态,其形成过程是熔融单质硅在过冷条件下凝固时柜员制排列成晶核长成晶面取向不同的晶粒结合【1】。

多晶硅晶粒聚合具有多种晶向,多晶硅中晶粒取向不同,某些晶粒滑移面处于有利的位向,相邻晶粒处于不利位向变形晶粒塞积在晶界附近变形受到约束。

多晶硅具有半导体性质,可作拉制单晶硅的原料。

多晶硅生产技术包括改良西门子法与流化床法等。

冷氢化技术是以四氯化硅等为原料,在压力2.0-3.0MPa于反应器中放热硅粉处于流化状态,生产混合物经内置旋风分离器除尘去除硅粉,冷凝回收系统得到氯硅烷液体经粗馏系统分离三氯氢硅粗品,送至精馏装置精制废渣排放到密封罐送至处理装置处理。

  1. 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
  2. 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
  3. 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。

冶金法多晶硅酸洗去除金属杂质工艺探索周京明1云南乾元光能产业有限公司,中国云南昆明650216Zhou jing mingYunnan Qian Yuan solar energy industry co., LTD, Kunming Yunnan China 650216 摘要:高纯多晶硅是制备单晶硅和太阳能硅电池的主要原材料,是太阳能光伏产业的基石,由于现阶段高纯多晶硅生产的主流技术西门子法不利于降低太阳能电池的成本,因此探索低成本高纯多晶硅生产技术成为目前国内外的热点之一。

目前低成本多晶硅生产技术主要是物理法,其中如何有效脱出金属硅中的金属杂质是关键工序之一。

本文就酸洗脱出金属硅中的金属杂质的关键因素进行探索,对相应的工艺条件进行了摸索和验证,为寻找低成本高纯多晶硅生产技术工作进行有益探索。

Abstract: High-purity polysilicon preparation monocrystalline silicon and silicon solar cell is the main raw material, is the cornerstone of the solar pv industry, because at present the mainstream of high-purity polysilicon production technology of Siemens method is not conducive to reduce the cost of solar cells, thus to explore the low cost of high purity polysilicon production technology to become one of the hot spots at home and abroad. Low cost of polysilicon production technology at present is mainly physical method, including how to effectively out metal impurity in silicon metal is one of the key working procedure. In this paper, the metal impurities in silicon metal pickling out key factors to explore, to grope for the corresponding technological conditions and validation, looking for low cost production technology work of high purity polycrystalline silicon.关键词:冶金法多晶硅;酸洗除杂。

Keyword: Metallurgical method of polysilicon;Removal of impurities with acid.一、前言高纯多晶硅是制备单晶硅和太阳能硅电池的主要原材料,是太阳能光伏产业的基石。

目前,国内外高纯多晶硅的生产工艺技术主要包括化学法和物理法,化学法典型工艺以改良西门子法—闭环式三氯化硅氢还原法为代表,是目前多晶硅生产的主流技术,现阶段国内外的多晶硅生产厂家80%以上是采用此方法生产多晶硅。

该方法是用氯气和氢气合成氯化氢,氯化氢再与工业硅粉在一定温度下合成三氯氢硅,通过精馏进行分离提纯后,在氢1周京明,1968年出生,男,汉族,云南省昆明市嵩明县人,工程师,工程硕士,从事化工工艺多年,现为云南乾元光能产业有限公司制造部副主任,邮箱:ynzjm68@,地址:云南省昆明市盘龙区穿金路云山村457号。

还原炉内进行化学气相沉积(CVD)反应生成高纯多晶硅。

化学法高纯多晶硅产品纯度可以达到99.999999999%(11N),满足信息产业集成电路以及太阳能光伏电池制造的需要。

西门子法的不足之处在于工艺复杂,流程环节过多,时间较长,一次转化率低,原材料消耗、能耗较高,污染较大,同时由于太阳能电池所需多晶硅的纯度只要求达到99.9999%(6N)以上即可,多余的纯度对于提高太阳能电池的传化率并没有太大实际意义,因此采用西门子法生产太阳能电池用多晶硅不利于降低太阳能电池的成本。

为了降低太阳能电池用多晶硅的成本,近几年来国内国际上开始不断探索新的太阳能电池用多晶硅的生产方法,其主要代表方法是物理法,包括冶金法和重掺硅废料提纯法两种,通过采用炉外精炼、酸洗、等离子体熔炼、电子束熔炼以及定向凝固等方法,除去硼、磷、金属、碳等杂质,直接生产太阳能电池用多晶硅。

与化学法相比,冶金法的特点是工艺简单,流程简单,能耗较低。

酸洗提纯金属硅主要是利用酸与金属的化学反应,通过酸对被破碎至一定粒度的硅料进行浸出来除去金属杂质,从而达到提纯冶金级硅粉的目的。

单纯使用酸洗工艺可以使冶金级硅提纯到99.9%(3N)的水平,即达到超冶金级硅的水平(UG-Si),再通过与等离子体熔炼、电子束熔炼以及定向凝固等方法结合就能生产出合格的太阳能级硅材料。

二、酸洗除杂探索试验1.金属硅酸洗提纯杂质机理冶金级金属硅中的杂质主要分为两大类:一类是O、C、N、H等轻元素杂质:另一类是Fe、Al、Ca、Cu、Ni等金属杂质。

由于金属硅中导致太阳电池性能恶化的金属杂质大都具有很低的分凝系数,在金属硅固化过程中金属杂质富集于晶粒表面和晶界空隙中,因此去除这些杂质就能实现金属硅初级提纯的目标。

金属硅块破碎制粉时多沿晶粒边界、缺陷裂解,当硅料直径等于或小于晶粒边界尺寸时,大部分金属杂质便裸露在微粒的表面。

酸洗提纯金属硅主要是基于金属硅中金属杂质分布的特性,先将金属硅破碎制粉,使集中在金属硅晶界处大部分的杂质暴露在硅料表面,通过与各种酸接触发生反应得到浸出,从而达到提纯冶金级硅粉的目的。

2.金属硅酸洗提纯探索试验酸洗提纯探索性试验以造渣除硼后的金属硅作为原料,采用颚式破碎机将硅原料破碎成1~2cm的颗粒,再采用对辊破碎机或气流粉碎机进行制粉,粉料用振动筛筛分,大于80目的硅料重新返回破碎机进行破碎,小于80目的硅料用于酸洗除杂。

具体工艺流程如下:将破碎制粉后粒级合格的硅料加入到聚四氟烧杯中,向烧杯中加入一定比例的酸溶液,酸严格控制了浓度、种类,然后启动搅拌装置,在设定温度下搅拌一定时间,搅拌加热结束后过滤、清洗、烘干,进行分析测试。

固液分离主要采用抽滤的方式分离,烘干采用真空干燥箱进行烘干。

酸洗提纯金属硅工艺流程见图一所示。

图一:酸洗提纯金属硅工艺流程简图三、结果与讨论本试验综合考虑了酸洗过程中影响除杂的各项因素,对关键因素进行了探索性试验研究,最终确定对硅料粒度、酸种类、酸浓度、固液比、加热温度等进行了条件探性索性试验研究,结果如下:1.硅料粒度硅料粒度以及粉碎的方式对酸洗效果以及硅料的回收率有影响。

首先,金属杂质富集于晶粒边界或硅块空隙中,只有硅料粒度大小小于或等于晶粒边界的时候金属杂质才能与酸充分接触发生反应。

同时由于在酸洗过程中要进行多次漂洗,硅料尺寸越小,沉淀时间越长,洗涤效率越低,另外过细的硅料也不易回收。

其次,如果硅料粒度太小,其表面吸附力增强,反应物不易离开硅料表面进入溶液中,而且易吸附外来杂质,因此,硅料粒度有个适合的范围。

为了确定合适硅料粒度,粒度试验过程采用颚式破碎、对辊破碎机或气流粉碎机和振动筛进行破碎制粉。

试验选取了造渣除B后的金属硅作为原料,将硅料采用颚式破碎机破碎成1~2cm的颗粒,然后分别采用对辊破碎和气流粉碎进行制粉试验,粉碎后硅料杂质含量结果详见表一所示。

通过对不同破碎方式后产品的检测结果进行分析,采用气流粉碎的方式进行破碎,可以减少甚至是不会在破碎过程中引入其他的杂质。

另外从环保角度来看,由于气流粉碎是在一个密封的体系中进行,不会对环境造成粉尘污染,而采用对辊破碎需要解决粉尘污染问题,还不能完全达到破碎制粉的要求。

综合上述因素,确定气以流粉碎作为破碎制粉的首选方式。

表一:不同破碎方式破碎后硅料杂质含量对比表在确定了最佳的破碎方式基础上,通过文献资料记载和实际操作经验,对硅料粒度大小确定在-80+400目范围之间。

将硅料粒度大小确定在-80+400目范围之间主要是基于以下三方面的原因:(1).-80+400目范围之间是气流粉碎破碎的最佳范围;(2).硅料粒度大小在-80+400目范围之间,硅料中的杂质都暴露在硅料表面,使沉积在其晶体界面上或其裂缝处的杂质容易与各种酸接触发生反应。

(3).由于酸洗过程中要进行多次漂洗,过细的硅料将使洗涤效率降低并且不易回收。

同时硅料粒度太小,表面吸附力增强,反应物不易离开硅料表面进入溶液中,并且容易吸附外来杂质。

2.酸种类不同来源的金属硅,各种杂质的含量是不同的;不同的热处理温度和冷却速度使得硅中金属沉淀的形态也大不一样,酸洗时,不同的酸之间存在差异,对于沉积在晶粒边界的铁杂质的去除效果是不同的。

本探索试验主要对王水、HCl、HF中的一种或几种进行条件摸索。

其试验内容为:以高浓度酸按液固比4:1在加热50℃下搅拌反应6h为固定条件,分别进行王水、HCl、HF、HF+HCl为变动条件的对比试验确定最佳酸种类。

酸种类条件探索性试验的结果详见表二所示。

表二:酸种类对金属硅中杂质含量去除对比表从表二中的分析结果可以看出,采用HF+HCl对去除硅料中杂质效果最为明显。

3.酸浓度在确定HF+HCl对去除硅料中杂质效果最为明显的基础上,以按液固比4:1在加热50℃下搅拌反应6h为固定条件,分别以酸浓度为高浓度、60%、20%为变动条件的对比试验确定最佳酸浓度。

酸浓度探索性试验结果详见表三所示。

表三:酸浓度对金属硅中杂质含量去除对比表从表三中的分析结果可以看出,高浓度的HF+HCl对去除硅料中杂质效果最为明显。

4.固液比液固比的主要目的是保证溶液和固体粉末界面能够有足够的接触。

硅粉在浸出过程中会出现膨胀,因此固体粉末在溶液中分散性良好,固—液混合容易均匀,所以液固比对该浸出的影响很小。

不过以确保固液混合相不至于太稠,造成粘度及摩擦损失太大,增加操作成本;同时,在保证足够固液接触的情况下,应尽量减少浸出剂的用量,以减少原料消耗。

综合考虑各方面的因素,本试验中采用的液固比为4:1。

5.加热温度及时间理论上随着反应温度的升高,金属杂质的去除率升高,且反应速率加快。

但是由于HF、HCl均为挥发性酸,温度升高会导致酸汽化和挥发,降低浸出剂浓度,反而对酸洗效果产生不利影响。

相关文档
最新文档