真空电镀原理简介
真空电镀幻彩的原理
真空电镀幻彩的原理
真空电镀幻彩的原理是利用高真空环境下的物理过程，将金属蒸汽沉积在物体表面，形成一层薄膜。
这个薄膜可以反射、折射和透射特定波长的光线，并具有特殊的幻彩效果。
具体原理如下：
1. 真空环境：在真空状态下，通过抽取空气并加热金属材料，可以将金属转化为蒸汽形式。
真空环境可以防止氧化和杂质对镀膜过程的干扰。
2. 电子束蒸发：采用电子束轰击金属源，使其升温并蒸发。
金属蒸汽会扩散到真空腔室内。
3. 中和电子：通过引入离子源在腔室内产生离子束，这些离子可以与蒸汽中的电子结合，以维持电荷中性。
4. 沉积薄膜：在被镀物体上，金属蒸汽遇到表面会凝结形成一层薄膜。
这个薄膜的厚度可以通过控制沉积时间来调节。
5. 幻彩效果：沉积的金属薄膜会使光线发生多次反射、折射和透射，不同波长的光线会互相干涉和衍射，形成幻彩效果。
这是由于金属薄膜的厚度与光的波长之间存在着波长特性的相对关系。
通过控制蒸发材料和差异性的金属镀膜厚度，在不同的观察角度和光照条件下，可以产生出不同的幻彩效果。
真空电镀幻彩广泛应用于眼镜、手机、钟表等产品的表面涂层装饰。
真空电镀原理
在高真空度的条件下，高纯度的镀层金属（如铝）在高温下蒸发后会自由地飞散开并沉降在工件表面，形成镀层。
氩气为保护性气体，防止氧化反应影响镀层质量。
真空电镀原理：一般而言，镀膜在真空镀膜机内以真空度 1~5 x 10 -4 Torr程度进行 (1 Torr = 1 公厘水银柱高的压力，大气压为 760 Torr)。
其镀膜膜厚约为 0.1 ~ 0.2 微米。
颜如果镀膜在特定厚度以下时（即太薄），面油对底油将会产生侵蚀、引起化学变化（如表面雾化等）。
如镀膜过厚时，会产生白化的状态。
颜填料,助剂,树脂,乳液,分散Dr<!--[if !supportFoot<!--[endif]-->l<!--[if !supportFootnotes]-->[1] <!--[endif]-->v#W？n8D<!--[if !supportFootnotes]-->[1]<!--[endif]-->G.e关于镀膜的形成，首先利用强大电流将镀膜源 (钨丝) 加热，然后把挂在钨丝上的铝片或铝线熔解。
铝材从而蒸发、飞散到各方面并附着于被镀件上。
熔解的铝为铝原子，以不定形或液体状态存在并附着于被镀件上，经冷却结晶后从而变为铝薄膜。
因此设定钨丝为定数时，由真空度至蒸发铝的飞散方向、钨丝的温度，钨丝到被镀件的距离等；依其镀膜条件，镀膜的性能也除着改变而发生变化。
一如前述，镀膜在10 –4 Torr左右下进行，如真空度过低时，其蒸发中的铝遇到残留的气体或者碰着钨丝被加热时产生的气体，发生冲突而冷却，形成的铝粒(非常小的铝粒子集合体) 会附着于被镀膜件上。
此时所形成的镀膜因微细铝粒中可能仍含有残留气体而令其失去光泽，也会大大降低镀膜与底油的密着性。
如真空度高，而且钨丝的温度亦高时，蒸发铝的运动能量也因此会提高，被镀膜件表面所附着的会是纯铝 (并没有残留气体)，而且密度非常高，镀膜性能因此而得到提升 (包括密着性等)B. 涂料及雾化：依各种镀膜条件形成不同的镀膜。
真空电镀
有关真空电镀的一点知识真空电镀（NCVM）：在近3000摄氏度的真空镀膜炉内，将金属化为气体，这些气体会附在 胶件或其他待镀件的表面，形成电镀膜层，所以“真空电镀”又称“蒸镀”。
设备：真空镀膜炉，+自动喷涂线（两次喷涂）。
（ 德国雅宝，约100万欧元/台，炉直径1.8米，可容600挂/炉，电镀时胶件在绕炉 心轴公转的同时也会自转，电镀时间为半小时左右。
当然还有其他品牌或国产机， 价位、容量与效果会不一样。
）适用塑胶材质（常用）：ABS、PC、ABS+PC、PMMA。
模具表面要求：至少省到2000#的砂纸或以上，8u”以下的纹深电镀后都会被覆盖成亮面。
亮面镀工作程序：用透明UV打底漆（厚度约10u”）+电镀金属膜层（厚度约0.3-0.5u”） +透明UV面漆（厚度约10u”）彩镀工作程序：用透明UV打底漆（厚度约10u”）+电镀金属膜层（厚度约0.3-0.5u”） +调好颜色的UV面漆（厚度约10u”）不导电真空镀与导电真空镀：前者电镀的是金属铟（属不能连续导电金属），后者镀的是金属铝。
CD纹与拉丝纹：完全决定于电铸模表面，只有纹深在8u”以上才有效果。
亮面与雾面：完全决定于电铸模表面，只有纹深在8u”以上才有效果。
在同一块表面上， 真空电镀无法实现亮面与雾面并存，水镀可以。
表面丝印：可以实现，要用特殊的油墨。
镭雕：素材一般用透明材质，镀层背面丝印颜色，字符也雕在镀层背面。
性能指标测试：百格、硬度、RCV值、耐酒精性、高低温以及盐雾测试标准与UV油漆相同。
以上材料供参考，其中难免有不正确的地方，大家可能有更深刻的认识。
在此抛砖引玉，还望大家不惜赐教，共同探讨，谢谢！。
PVD —真空电镀介绍
五、PVD鍍膜品質管控:
2. 鍍層硬度測試：用維氏硬度機測試鍍層表面 硬度，一般硬度在HV600以上(即HRC50以 上) ，此硬度非鍍層真實的硬度，因為設備的 原因，實際上在測試時，已把鍍層打破。(實 際的硬應在HV1000以上)
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二、真空電鍍原理:
# 離子鍍是蒸發鍍和濺射鍍相結合的新技術，目前用在球 頭上主是離子鍍。
# 真空鍍可以鍍金、鈦、鋯、鉻、銅等金屬，同一種金屬 能透過不同的反應氣體(O2、N2、C2H2)及氣體的比 例，會形成出不同顏色的鍍層；顏色的深、淺是靠通入 反應气體的多少來決定，而色深要比色淺的硬度硬(因通 入反應氣體少時，不能使Ti饱和反應，鍍膜中有反應Ti 和鈍Ti，而鈍Ti的硬度比反應Ti要低，造成硬度下降)。
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萬爾 思百高
TLM深黑色、灰黑色
TLM深黑色、灰黑色 深黑色、藍色、咖啡色、灰黑色
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真空電鍍基本知识介绍
生技二課 2010年2月23日
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真空电镀资料
真
●五.真空电镀与其他工艺搭配效果
空 效
果
與
鐳
雕
.
印 刷 、 熱 轉 印 工 藝 的 藝 術 搭 配
●六.真空電鍍件常问题点及发生原因
項次 不良現象
發生原因
改良對策
1
油污點 除油不盡
加強前制程清洗和淨電除塵
2
底漆顆粒 底漆過濾不充分;噴房無塵度不足
加強底漆過濾,防雜質混入;改善噴房 環境
3
面漆顆粒 面漆過濾不充分;噴房無塵度不足
尺寸變化大
3.物性測 試上
4.環保上 5.成本上
A.膜厚
B.耐磨性 C.耐候性 D.抗干擾 A.原料利用率 B.廢棄物產生 C.對工作環境要求上 A.加工工費用
厚,有高低電位差
好 中等(三價鉻易發霉)
差 高 較多 較高 一般
真空電鍍 大
較高 一般
強 MCVM不用鐳雕可透光
無 尺寸變化小 薄,0.3UM以下,鍍層比較
4
包裝運 輸方面
1。設計專用吸塑 盒或其他專用包裝 方式；
防產品在運輸過程中 損傷表面
圖示 /
●八.真空电镀与水电镀特性比较
項次 1.外觀 2.尺寸
比較內容 A.麗面效果可調範圍 B.高光效果 C.啞光效果深鍍性 D.金屬質感 E.透光性 A.高低電位 B.邊角位
水電鍍 小 高 好 強
需鐳雕方可透光 有
■一.真空电镀工艺原理及分类 ■二.真空電鍍设备简介及环境要求 ■三.真空電鍍制程介紹 ■四.真空电镀效果 ■五.真空電鍍与其他工艺的搭配效果 ■六.真空电镀常见问题点及发生原因 ■七.真空電鍍件对工程設計的几點要求 ■八.真空电镀与水电镀特性比较 ■九.真空电镀市场前景
真空电镀的原理
真空电镀的原理
真空电镀是一种高科技表面处理技术，它通过在真空环境下利用电化学反应对材料表面进行镀膜加工，从而改变其外观、物理性质和化学性质。
该技术广泛应用于汽车、航空航天、电子、建筑等领域，是一种重要的表面处理方式。
真空电镀的原理是利用电子束或离子束轰击材料表面，使其表面原子或分子脱离，并在真空中形成电子云。
同时，在真空中加入所需的镀层材料，然后通过放电加热、蒸发或溅射等技术使镀层材料转化为离子态，再利用高压电场将镀层材料的离子引入被镀材料表面，在表面析出成薄膜，从而完成镀层加工。
真空电镀技术的优点在于能够在真空状态下进行加工，避免了空气中的氧化作用，从而保证了镀层的质量和耐腐蚀性。
此外，真空电镀技术还可实现多种材料的镀层加工，如金属、合金、陶瓷等，从而增强了材料的功能和使用价值。
总之，真空电镀技术是一种高效、环保、精密的表面处理技术，它的应用范围广泛，能够满足不同领域对于材料表面处理的要求，并带来良好的经济效益和社会效益。
- 1 -。
真空电镀
电镀技术作为一种功能精饰技术，其合金镀层具有优异的耐磨性、耐蚀性、镀层厚度均匀性、致密度高等特点，已在电子产品中获得大量应用。
随着电子工业的迅猛发展，对电镀技术的要求越来越高，新技术、新产品、新工艺层出不穷。
NCVM又称不连续镀膜技术或不导电电镀技术，是一种起缘普通真空电镀的高新技术。
真空电镀，简称VM，是vacuum metalization的缩写。
它是指金属材料在真空条件下，运用化学、物理等特定手段进行有机转换，使金属转换成粒子，沉积或吸附在塑胶材料的表面，形成膜，也就是我们所谓的镀膜。
真空不导电电镀，又称NCVM，是英文Non conductive vacuum metalization的缩写。
它的加工工艺高于普通真空电镀，其加工制程比普通制程要复杂得多。
NCVM是采用镀出金属及绝缘化合物等薄膜，利用各相不连续之特性，得到最终外观有金属质感且不影响到无线通讯传输之效果。
首先要实现不导电，满足无线通讯产品的正常使用；其次要保证“金属质感”这一重要的外观要求；最后通过UV涂料与镀膜层结合，最终保证产品的物性和耐候性，满足客户需求。
NCVM可应用于各种塑料材料，如PC、PC+ABS、ABS、PMMA、NYLON、工程塑料等，它更符合制作工艺的绿色环保要求，是无铬（Non-Chrome）电镀制品的替代技术，适用于所有需要表面处理的塑料类产品，特别适用于有讯号收发的3C产品，尤其是在天线盖附近区域，如MobilePhone、PDA、Smart Phone、GPS卫星导航、蓝芽耳机等。
NCVM的主要特征是结合了传统真空镀膜技术的特性，采用新的镀膜技术、新的材料，做出普通真空电镀的不同颜色的金属外观效果，起到美化工件表面之功用。
采用NCVM技术制出的成品可以通过高压电表几万伏特的高压测试，不导通或不被击穿。
正是因为它的不导电性，当手机或蓝牙耳机收讯或是发射讯号时，产生的电磁场不被导电的镀层所屯积，从而不影响手机的RF（射频）性能以及ESD（静电放电）性能，也就是说使得无线产品达到更好的收讯效果，无杂音，更不会对人体产生任何影响。
真空电镀的原理
真空电镀的原理引言：在现代科技中，电镀技术被广泛应用于各个领域，其中真空电镀技术因其独特的优势而备受关注。
本文将详细介绍真空电镀的原理及其应用。
一、真空电镀的基本原理真空电镀是利用真空环境下金属薄膜的物理气相沉积过程，将金属离子沉积在基材表面，形成一层金属薄膜。
其基本原理可以概括为以下几点：1. 电子束或离子轰击：在真空室中，通过加热阴极，产生高速电子束或离子束。
这些高速粒子轰击靶材（金属块），将靶材表面的金属原子或分子击出。
2. 原子扩散：被击出的金属原子或分子在高真空环境中自由扩散，向基材表面移动。
3. 沉积：金属原子或分子在基材表面沉积，并逐渐形成一层金属薄膜。
二、真空电镀的关键技术实现有效的真空电镀过程，需要掌握以下关键技术：1. 高真空环境：真空电镀过程中，必须创造出高度真空的环境，以防止金属薄膜被杂质污染。
通常使用真空泵抽取气体，将气压降至非常低的水平，从而实现高真空条件。
2. 恰当的电子束或离子束：电子束或离子束的能量和密度对沉积速度和质量有着重要影响。
通过控制加热阴极的电流和电压，以及调节束流密度，可以达到理想的沉积效果。
3. 基材表面处理：在进行真空电镀之前，经常需要对基材表面进行一系列的准备工作，以提高金属薄膜的附着力。
常见的表面处理方法包括去污、抛光和化学处理等。
4. 薄膜质量检测：真空电镀后，需要对金属薄膜进行质量检测。
常见的检测手段有电子显微镜、X射线衍射和厚度测量仪等。
三、真空电镀的应用领域真空电镀技术在许多领域都有广泛的应用，包括：1. 电子器件：真空电镀可以制备电子器件中的导电薄膜、光学薄膜和保护膜等。
例如，将金属薄膜应用于集成电路连接器，可以提高电子器件的性能和稳定性。
2. 光学镜片：真空电镀可以用于制备光学镜片，提高其反射和透射性能。
通过在玻璃或塑料表面镀上金属薄膜，可以改变光的传播特性，实现反射镜、透镜和滤光片等光学元件的功能。
3. 饰品和装饰品：真空电镀技术可以制造出具有镀金、镀银或其他金属镀层的饰品和装饰品。
真空电镀及工艺流程
真空电镀及工艺流程
《真空电镀及工艺流程》
真空电镀是一种利用真空环境下的金属蒸发技术进行表面处理的工艺。
它通过将金属将蒸发在材料表面上，形成一层致密、均匀、耐腐蚀的金属涂层，以改善材料的表面性能和外观。
真空电镀广泛应用于汽车、电子、玩具、饰品等行业，是一种重要的表面处理技术。
真空电镀的工艺流程主要包括以下几个步骤：清洗、贴膜、真空镀膜、冷却、包装。
在清洗工艺中，要对待处理的材料进行清洗处理，去除杂质和油脂，以保证金属膜的附着力和表面平整度。
在贴膜工艺中，需要将镀膜材料（如铝箔）覆盖在待处理材料上，以保护待处理材料在真空环境中不受污染。
在真空镀膜工艺中，将清洁后的材料放置在真空镀膜设备中，通过加热并蒸发金属材料，使其在待处理材料表面形成一层金属膜。
在冷却过程中，将镀膜后的材料冷却至室温，以稳定金属膜的结构。
最后，进行包装工艺，将已经镀膜的材料进行包装，以保护金属膜不受损坏。
总的来说，真空电镀是一种高效、环保的表面处理技木，能够在成本低、工艺稳定的情况下制备出高质量的金属涂层，为产品的外观和性能提供了良好的保障。
真空电镀
电镀技术作为一种功能精饰技术，其合金镀层具有优异的耐磨性、耐蚀性、镀层厚度均匀性、致密度高等特点，已在电子产品中获得大量应用。
随着电子工业的迅猛发展，对电镀技术的要求越来越高，新技术、新产品、新工艺层出不穷。
NCVM又称不连续镀膜技术或不导电电镀技术，是一种起缘普通真空电镀的高新技术。
真空电镀，简称VM，是vacuum metalization的缩写。
它是指金属材料在真空条件下，运用化学、物理等特定手段进行有机转换，使金属转换成粒子，沉积或吸附在塑胶材料的表面，形成膜，也就是我们所谓的镀膜。
真空不导电电镀，又称NCVM，是英文Non conductive vacuum metalization的缩写。
它的加工工艺高于普通真空电镀，其加工制程比普通制程要复杂得多。
NCVM是采用镀出金属及绝缘化合物等薄膜，利用各相不连续之特性，得到最终外观有金属质感且不影响到无线通讯传输之效果。
首先要实现不导电，满足无线通讯产品的正常使用；其次要保证“金属质感”这一重要的外观要求；最后通过UV涂料与镀膜层结合，最终保证产品的物性和耐候性，满足客户需求。
NCVM可应用于各种塑料材料，如PC、PC+ABS、ABS、PMMA、NYLON、工程塑料等，它更符合制作工艺的绿色环保要求，是无铬（Non-Chrome）电镀制品的替代技术，适用于所有需要表面处理的塑料类产品，特别适用于有讯号收发的3C产品，尤其是在天线盖附近区域，如MobilePhone、PDA、Smart Phone、GPS卫星导航、蓝芽耳机等。
NCVM的主要特征是结合了传统真空镀膜技术的特性，采用新的镀膜技术、新的材料，做出普通真空电镀的不同颜色的金属外观效果，起到美化工件表面之功用。
采用NCVM技术制出的成品可以通过高压电表几万伏特的高压测试，不导通或不被击穿。
正是因为它的不导电性，当手机或蓝牙耳机收讯或是发射讯号时，产生的电磁场不被导电的镀层所屯积，从而不影响手机的RF（射频）性能以及ESD（静电放电）性能，也就是说使得无线产品达到更好的收讯效果，无杂音，更不会对人体产生任何影响。
PVD —真空电镀介绍
真空電鍍基本知识介绍
生技二課 2010年2月23日
2013/7/8
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目錄
一、真空電鍍定義 二、真空電鍍原理 三、真空電鍍流程 四、真空電鍍流程補充說明 五、PVD鍍膜品質管控 六、退鍍方式 七、常見PVD品質不良
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a.把偏壓調高,適當延長PVD a.用維氏硬度機， 時間，增加鍍層厚度。 測出硬度達不到 膜層太薄,偏電壓過低。 b.若客戶或限度樣允許的話 硬度不夠, 要求。 ，可適當把調整鍍層。 耐磨性差 b.落砂試驗或磨 損試驗後見到底 ※ 色澤越深硬度越硬(因反應氣體少時，不能使Ti饱和反應，鍍膜中有 材。 反應Ti和鈍Ti，而鈍Ti會造成硬度下降)。 鍍層飄膜 深黑色 (TiNC)P VD後會 變彩色 用布能把鍍層擦 掉。 球頭表面不潔(有油污)，造成PVD層附 著不良； 確保PVD前球頭的清潔；
七、常見PVD品質不良
序 號 4 不良名稱 色泽不良 (色深) 色泽不良 (色淺) 狀 況 不良原因 A、真空度不夠； B、PVD時通入的反應氣體過多 。 真空度不夠； PVD時通入的反應氣體過少。 爐內不潔,爐壁上鍍層脫落掉在 球頭上。 球頭表面不潔或有击出物，造 成高電流區產生電孤，把周邊 燒傷。 IP時電壓太高，造成電孤燒傷。 焊道處出現摺疊 過的凹痕。 PVD時加溫至200° C，焊道釋放 應力造成。此為磨光補焊後沒 有做熱處理產生。 改善對策 提高真空度，和調整通入的反 應氣體比例。 提高真空度，和調整通入的反 應氣體比例。 清理爐子,一般廠商有規定2~3爐 會清理一次。(這問題暫無法完 全改善,視廠技術和設備能力來 決定不良率) 1.噴的砂要干淨，送PVD前擦拭 要確實； 適當降低IP時電壓。(要確保 “硬度”和“附著力”) 重做熱處理。 色泽比樣深。
PVD原理及技术特点
惰性气体或反应气体电离为气体离子，气体离子因靶（所谓靶是IP电镀的消耗材料）的负电位形成定向运动，轰击固体靶材表面进行能量交换，使靶材获得能量溅射出靶原子或分子，在电场加速运动下产生物理气象沉积（PVD）于所电镀产品表面，形成电镀层。
PVD表面处理特点是：1、光泽度好2、无镍环保3、延长基本寿命1~2年真空镀膜技术及其特点在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发（或溅射），使其沉积在被涂覆的物体（称基片、基板或基体）上的方法称为真空镀膜法。
在材料表面上，镀上一层薄膜，就能使该种材料具有许多新的物理和化学性能。
过去在物体表面上镀膜作为物体表面改性的一种方法，多采用湿式镀膜法，即电镀法和化学镀法。
电镀法中被电解的离子镀到作为电解液另一个电极的基体表面上。
因此，这种镀膜的基体应是良导体，而且膜层厚度难于控制，化学镀法是应用化学还原原理，使镀膜材料（称膜材）溶液迅速参加还原反应，沉积在基体上。
这两种方法不但膜的附着强度差，膜层厚度不均，而且还会产生大量的废液而造成公害。
因此它们在薄膜制备工艺上受到了很大的限制。
真空镀膜法是一种新的镀膜工艺，由于薄膜制备工艺是在真空条件下进行的，故称真空镀膜法。
亦称干式镀膜法。
它与湿式镀膜相比较具有如下特点：1、真空下制备薄膜，环境清洁，膜不易受污染，可获得致密性好、纯度高、膜厚均匀的涂层。
2、膜材和基体材料有广泛的选择性，薄膜厚度可进行控制，可以制备各种不同的功能性薄膜。
3、膜与基体附着强度好，膜层牢固。
4、不产生废液，可避免对环境的污染。
PVD为什么要采用真空腔体？真空镀膜中的溅射利用了辉光放电原理，因为有电场的存在，驱动空气中的电子和正离子运动，电子向正极运动，正离子向阴极运动。
离子与电子在运动过程中动能量不断增加，与空气分子碰撞就会不断地产生更多的离子与电子，就造成了辉光的持续放电。
但是辉光放电是有限制的，非真空状态或者真空度过低，就是空气中的分子过多，电子与离子频繁与分子碰撞而积聚不起能量而无法电离分子，所以溅射要求在一定的真空压力下才能实现，必须要采用真空腔体。
玩具真空电镀工艺概述
玩具真空电镀工艺塑料真空电镀：这是在真空条件下，通过物理方法使金属或金属化合物加热蒸发，使蒸汽固化在塑料玩具表面上，形成一层均匀的金属膜，产生仿银、仿金、仿铜的金属效果。
塑料电镀适用于各种形状的玩具，但色彩较单一，表面会导电。
真空电镀是指在真空环境下，将某种金属或金属化合物以气体的形式沉积到材料表面（通常是非金属材料），属于物理气相沉积工艺，因为镀层常为金属薄膜，故也称真空镀膜，又称真空电镀（主要是取代污染严重的传统水电镀）。
真空电镀的主要功能是赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果，在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。
真空电镀生产过程中QC最后的质量检查主要项目有哪些?1.泛黄2.亚色3.起点4.聚油5.刮花6.掉油（脱膜）真空飞铝工艺“镀层”分哪几层，其主要成份有哪些？真空飞铝生产工艺：在玩具行业中，最常见的是对注塑件进行真空电镀铝薄膜（俗称“真空飞铝”）。
“镀层”分为三层：1底漆（底油）2镀层（镀膜）3表面(面油)。
主要成分：1.真空电镀底漆（底油）：树脂漆，多见为改性聚酯漆或改性聚氨酯漆。
用于掩盖或弥补产品表面可能存在的缺陷，提供平整、光滑表面，同时提高镀层附着力。
减少或抑制含易挥发物塑料的表面放气量，使得镀膜有保证。
2.镀层：铝片3.真空电镀面漆（面油）：在镀膜上加一层涂料保护（透明）膜以消除针孔使镀层加固，提高镀膜的耐磨性和接触性；另一个作用是后续染色工序成为可能。
在玩具中哪些部分可能会用到真空飞铝工艺？玩具车模型，仿真武器，玩具灯罩和金属配件外壳等表面需要金属质感，金属光泽的玩具部件。
人体接触或吞咽入体内可能存在哪些危害？大多数有机溶剂有毒，如三氯乙烯具有麻醉性，能使人窒息，受紫外线照射会分解出剧毒的光气和强腐蚀性的氯化氢。
三氯乙烯中毒会造成皮疹，昏厥，高烧，淋巴肿大，最后会引发多种并发症，直至皮肤溃烂，肝肾功能衰竭而死亡；苯中毒主要影响人体造血功能，轻的引起白细胞减少，重则引起再生障碍性贫血，最后出现白血病；四氯化碳可引起肝肾严重损害。
真空电镀原理：
真空電鍍原理：
一般而言，鍍膜在真空鍍膜機內以真空度1~5 x 10 -4 Torr程度
進行(1 Torr = 1 公厘水銀柱高的壓力，大氣壓為760 Torr)。
其鍍膜
膜厚約為0.1 ~ 0.2 微米。
如果鍍膜在特定厚度以下時（即太薄），面漆對底漆將會產生
侵蝕、引起化學變化（如表面霧化等）。
如鍍膜過厚時，會產生白
化的狀態。
關於鍍膜的形成，首先利用強大電流將鍍膜源 (鎢絲) 加熱，
然後把掛在鎢絲上的鋁片或鋁線熔解。
鋁材從而蒸發、飛散到各方
面並附著於被鍍件上。
熔解的鋁為鋁原子，以不定形或液體狀態存在並附著於被鍍件上，經冷卻結晶後從而變為鋁薄膜。
因此設定鎢絲為定數時，由真空度至蒸發鋁的飛散方向、鎢絲的溫度，鎢絲到被鍍件的距離等；依其鍍膜條件，鍍膜的性能也除著改變而發生變化。
一如前述，鍍膜在10 –4 Torr左右下進行，如真空度過低時，其蒸發中的鋁遇到殘留的氣體或者碰著鎢絲被加熱時產生的氣體，發生衝突而冷卻，形成的鋁粒 (非常小的鋁粒子集合體) 會附著于被鍍膜件上。
此時所形成的鍍膜因微細鋁粒中可能仍含有殘留氣體而令其失去光澤，也會大大降低鍍膜與底油的密著性。
如真空度高，而且鎢絲的溫度亦高時，蒸發鋁的運動能量也因此會提高，被鍍膜件表面所附著的會是純鋁 (並沒有殘留氣體)，而且密度非常高，鍍膜性能因此而得到提升 (包括密著性等)。
真空电镀的生产工艺
真空电镀的生产工艺一﹑真空电镀的概念真空电镀即真空蒸发镀膜﹐其原理是在高度真空条件下（1.3×10-2~1.3×10-1Pa）使金属铝片受热蒸发并附于（塑料）工件表面﹐形成一层金属膜的方法﹒真空电镀的特点:1>真空镀膜所获得的金属膜层很薄(一般为0.01~0.1um),能够严格复制出啤件表面的形状2>工作电压不是很高（200V）﹐操作方便﹐但设备较昂贵﹒3>蒸镀锅瓶容积小﹐电镀件出数少﹐生产效率较低﹒4>只限于比钨丝熔点低的金属（如铝﹑银﹑铜﹑金等）镀饰﹒5>对镀件表面质量要求较高﹐通常电镀前需打底油来弥补工件表面缺陷﹒6>真空镀膜可以镀多种塑料如﹕ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA等﹒二﹑真空电镀工艺流程工艺流程图重要工序工艺说明1)待镀啤件:真空电镀对啤件要求特别高,如:a)要求啤件表面清洁,无油渍﹑污渍.b)要求啤件表面粗糙度尽可能低.c)啤件内应力要尽可能低﹐内外转角要倒圆角﹒啤塑时要用较低的注射压力﹐较高的模温﹑料温﹐以及尽可能慢的注射速度﹒d)啤件外型应利于获得均匀的镀层﹐如较大平面中间要微突起（突起度约0.1~0.15mm/cm）e)啤件壁厚要适当﹐太薄的件易变形使镀层附着力不好﹐太厚的件易缩水使外观受影响﹒一般来讲﹐薄壁不宜小于0.9mm﹐厚壁不宜超过3.8mm﹒f)注塑缺陷如缩水﹑夹水纹﹑气纹﹑气泡等均会影响电镀外观质量﹐必须严格控制其程度﹐为此要求注塑时采用﹕i> 充分的原料烘干ii> 不使用脱模剂（尤其是硅烷类）iii> 适当的注塑模温﹐较高料温iv> 尽可能少加入或不加入水口料(减低材料中挥发物含量)g)若啤件有台阶或凹位﹐应预先设计必要的斜度过渡﹒h)如有盲孔﹐应设计孔深不超过孔径一半﹐否则对孔底镀层应不作要求.i) 如有“V”形槽﹐要求其宽度与深度比应大于3﹒2)脱脂脱脂作用﹕清除啤件表面尘垢﹑油污﹐保证镀膜有足够的附着力﹒脱脂剂﹕现时生产中使用的是有机溶剂脱脂﹐有机溶剂的选择原则是不伤害塑件表面而能迅速挥发为佳﹐所以因塑料品种而异﹐以下情况提供塑料i> TH104 天那水 （恒星有限公司） ii> #617 天那水 （大昌化工油漆厂）使用时注意﹕ABS ﹑PC 塑料件只用#617清洗（TH104会烧坏胶件）﹐而NYLON ﹑PP 料胶件先用TH104﹑再用#617洗净﹒实际上脱脂方法除用有机溶剂外﹐还有酸性除油﹑碱性除油等﹐下列为酸性脱油过程（供参考）稀硫酸/铬酸清洗液水洗 酒精/乙醚混和液 干燥3) 上底油 & 烘干固化从构成上看,真空镀膜层由底层(底油)+镀层(镀膜)+表面(面油)构成. 底油的作用: 用以掩盖或弥补产品表面可能存在的微小缺陷如针孔､麻点､刮痕等,为真空电镀提供平整､光滑的基面,同时亦提高膜层附着力(这对于结晶性弱､极性对膜层附着力差的塑料如PE ､PP 尤为重要).最后还有一个作用是减少或抑制含易挥发物塑料的表面放气量,使蒸镀质量有保证. 底油要求: 底油涂料应与塑料粘结性好,与镀膜层不发生化学反应及与塑件有相近的软化温度.底油的使用: 底油其实为树脂漆,多见为改性聚脂漆或改性聚氨脂漆做底料﹒本厂所用底油皆由香港采购供应,其牌号及使用情况如下表: 40℃﹐10~20min常溫注意事项:a).上底油操作过程中始终保持啤件清洁,上油均匀到位,不聚油,防刮花.b).车间环境要保持干燥､防尘､防潮.c).配油按工艺要求,油要过滤,保持干净.4).蒸发镀膜a).在发热钨丝上缠上铝片.(如上次电镀中熔铝呈球状包覆于钨丝上己不可用,需拆出换过钨丝);b).将上好笼架的啤件(通过小车)推入真空室内,保持电极紧密接触,嵌入离合器定位牢固应能旋转;c).顺序用机械泵,罗茨泵及扩散泵抽气,当真空度指针达到5×10-4TORR时可开始蒸镀操作;d).蒸镀过程:钨丝升温到650℃,铝熔融在钨丝上,继续升高到近1000℃,熔化铝被蒸发逸出,逸出的铝原子以直线运动凝结在它相碰的表面上,真空室内被镀制品不断在旋转(跟笼架)使被镀表面镀上均匀膜层;e).平均镀膜生产周期约30分钟左右;f).设备的详细操作使用参见附页数据.5).上架& 落架(一) 上架操作要点:a).上架前先检查底油上油质量,不合格的需用#617天那水清洗再重新上油;b).夹持要稳固,保证啤件在真空室内旋转时不会掉落甩出;c).啤件的装挂位在电镀后会留痕迹,另外夹持力过大啤件可能变形,故可保留水口/浇道作为装挂位,在电镀后再其除去;d).上架过程中不得触摸啤件要电镀的有效位置,以免留下指印污痕影响电镀效果;e).笼架保持清洁,要定期洗擦.(二) 落架操作要点:a).小心取下,不要刮花;b).摆放整齐,隔层用干净纸垫好;c).胶盆要盖好,防灰尘.6).上面油& 烘干固化面油作用:在镀膜上加一层涂料保护(透明)膜以消除针孔使镀层加固,提高镀层的耐磨性和接触性,另外一个作用是使染色工序成为可能.操作注意:上面油要特别注意上油均匀到位且不聚油,一般需用海绵类物渗吸去表面多余面油.本厂所用的面油牌号为MB-063X(由香港采购供应),适用于PC,PP,ABS,NYLON等,使用时用#617开稀,比例1:15-1:2. (上架)烘干/固化条件:温度60-65℃,时间30min. 7).染色& 烘干染金色---使镀膜外观呈珼镀金色的效果a> 配染色液:一般用300份水配1份色粉. (色粉供货商:华松化学工业有限公司) ;b> 保持染色液70℃恒温,通入气流搅动令染色液均匀无沉淀;c> 染色时间:3 ~ 12s,之后用清水清洗两次;d> 出现色差时,从温度､时间及染色比例来调整;e> 染色件外观要求:色对签办且色泽均一,无起点,不脱模光泽好,无刮花.烘干:温度70℃,时间30 ~ 40min.8).剪水口&电镀成品剪水口:电镀零件从整啤件上剪下,分装入袋或排盆.工序注意事项:a).剪水口过程中应戴手套操作,避免在镀件上留下指痕污渍;b).水口披锋要剪平,清洗干净;c).防止零件擦花,外观要求高的的镀件分开排放好,并要铺上干净的纸隔开,一般细件直接装胶袋即可.9).补充-----翻洗电镀件非啤件本身问题而是由于上油,蒸镀,染色工艺过程问题所导致次品如污槽,刮花,颜色偏差等,足可以用热的烧碱水溶液洗去饰层.工艺过程:a). 将烧碱(NaOH)加入水中(比例约1:20)制成过饱和溶液,电热煮沸;b). 将要翻洗件置于其中约30分钟,自行脱去镀层油层;c). 取出后过清水清洗,再进行脱脂后一系列工序.本厂所用烧碱(苛性钠)为中国天津制造:CAUSTIC SODA (FLAKE) PURITY 96% MIN.电镀成品常见问题及改善方法真空电镀机操作指令一.准备工作:1. 保持真空室内清洁,干燥,必要时应作清洁处理.2. 确认抽气系统,机组转向,清洁,油量符合说明书规定﹒3. 接通全部冷却水.4. 关闭全部阀门(如预热扩散泵﹐则前级阀不关闭).5. 接通气源.二.蒸镀工作准备:1. 在龙架上装好蒸发塑料件.2. 将龙架由小车推入真空室,使电极紧密吻合,嵌入离合器定位牢固应能旋.3. 关紧大门及放气阀.三.抽气-抽气系统机组的工作:1. 提前1小时将扩散泵加热,此时用机械泵工作,下级阀打开.2. 机械泵抽气:达到加热温度,先关下闭阀门(加热不停止)打开上阀,对真空容器粗抽.3. 罗茨泵抽气:当真空度到达730mmHG(即负压730mmHG)后方可启动罗茨泵,注意不得任意提前启动罗茨泵,以免过载造成损坏,罗茨泵工作后应观察热偶计真空规来了解真空度﹒4. 扩散泵抽气﹕当真空所指真空度到达2°t时,先打开下阀,当真空所指真空度到达3°t时,打开主阀关上阀,使扩散泵对真空室抽气.5. 当指针到达7×10-2pa或以上数据可进行蒸镀工作,若继续抽气时,真空度将不断升高.四. 蒸镀当真空室己达到所需真空度后,可进行蒸镀操作.蒸发电流之最大值只允许在不超过30秒的时间内使用.五﹒停机在完成本工作日最后一次蒸镀后,应按下述步骤停机.1.关紧大门,使容器在高真空下关闭SG-3真空计.2.关气动高真空阀,关预抽上阀,关罗茨泵,关机散泵加热﹒3.在扩散泵停止加热1小时后关下阀及关机械泵.4.关冷却水及气压.5.关总电源.。
真空蒸发镀膜原理
A、真空电镀原理：一般而言,镀膜在真空镀膜机内以真空度1～5 x 10-4 Tｏrr程度进行(1 Torr = 1 公厘水银柱高得压力,大气压为76０Torr)。
其镀膜膜厚约为0、1 ～0、2 微米。
颜如果镀膜在特定厚度以下时(即太薄),面油对底油将会产生侵蚀、引起化学变化（如表面雾化等）。
如镀膜过厚时,会产生白化得状态.颜填料,助剂,树脂，乳液,分散ﻦDr＜!—－［if !suppoｒtFoｏt＜!－-［e ｎdｉf］－—>l〈!－-[ｉf !ｓupportFootnoｔes]－－>［1]＜!-—[ｅｎｄif］—－>v＃Ｗ？n８D<！--［if ！suｐpｏｒtFootnｏtes]—－>［1]＜!－－[endｉf］－－〉G、e关于镀膜得形成，首先利用强大电流将镀膜源（钨丝）加热,然后把挂在钨丝上得铝片或铝线熔解.铝材从而蒸发、飞散到各方面并附着于被镀件上。
熔解得铝为铝原子，以不定形或液体状态存在并附着于被镀件上,经冷却结晶后从而变为铝薄膜。
因此设定钨丝为定数时,由真空度至蒸发铝得飞散方向、钨丝得温度，钨丝到被镀件得距离等;依其镀膜条件,镀膜得性能也除着改变而发生变化。
一如前述,镀膜在1０–４Tｏrｒ左右下进行，如真空度过低时，其蒸发中得铝遇到残留得气体或者碰着钨丝被加热时产生得气体，发生冲突而冷却，形成得铝粒（非常小得铝粒子集合体）会附着于被镀膜件上。
此时所形成得镀膜因微细铝粒中可能仍含有残留气体而令其失去光泽，也会大大降低镀膜与底油得密着性。
如真空度高，而且钨丝得温度亦高时，蒸发铝得运动能量也因此会提高,被镀膜件表面所附着得会就是纯铝（并没有残留气体)，而且密度非常高，镀膜性能因此而得到提升(包括密着性等）B、涂料及雾化：依各种镀膜条件形成不同得镀膜。
如前述,在现场作业最容易产生得问题就是雾化现象。
这种现象就是有机高分子(涂膜）与金属（铝膜）得膨胀系数差异而发生。
PVD原理及技术特点
惰性气体或反应气体电离为气体离子，气体离子因靶（所谓靶是IP电镀的消耗材料）的负电位形成定向运动，轰击固体靶材表面进行能量交换，使靶材获得能量溅射出靶原子或分子，在电场加速运动下产生物理气象沉积（PVD）于所电镀产品表面，形成电镀层。
PVD表面处理特点是：1、光泽度好2、无镍环保3、延长基本寿命1~2年真空镀膜技术及其特点在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发（或溅射），使其沉积在被涂覆的物体（称基片、基板或基体）上的方法称为真空镀膜法。
在材料表面上，镀上一层薄膜，就能使该种材料具有许多新的物理和化学性能。
过去在物体表面上镀膜作为物体表面改性的一种方法，多采用湿式镀膜法，即电镀法和化学镀法。
电镀法中被电解的离子镀到作为电解液另一个电极的基体表面上。
因此，这种镀膜的基体应是良导体，而且膜层厚度难于控制，化学镀法是应用化学还原原理，使镀膜材料（称膜材）溶液迅速参加还原反应，沉积在基体上。
这两种方法不但膜的附着强度差，膜层厚度不均，而且还会产生大量的废液而造成公害。
因此它们在薄膜制备工艺上受到了很大的限制。
真空镀膜法是一种新的镀膜工艺，由于薄膜制备工艺是在真空条件下进行的，故称真空镀膜法。
亦称干式镀膜法。
它与湿式镀膜相比较具有如下特点：1、真空下制备薄膜，环境清洁，膜不易受污染，可获得致密性好、纯度高、膜厚均匀的涂层。
2、膜材和基体材料有广泛的选择性，薄膜厚度可进行控制，可以制备各种不同的功能性薄膜。
3、膜与基体附着强度好，膜层牢固。
4、不产生废液，可避免对环境的污染。
PVD为什么要采用真空腔体？真空镀膜中的溅射利用了辉光放电原理，因为有电场的存在，驱动空气中的电子和正离子运动，电子向正极运动，正离子向阴极运动。
离子与电子在运动过程中动能量不断增加，与空气分子碰撞就会不断地产生更多的离子与电子，就造成了辉光的持续放电。
但是辉光放电是有限制的，非真空状态或者真空度过低，就是空气中的分子过多，电子与离子频繁与分子碰撞而积聚不起能量而无法电离分子，所以溅射要求在一定的真空压力下才能实现，必须要采用真空腔体。
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3.品保:
真空电镀不良原因(如颗粒,凹点,麻点,碰刮伤,面皱等问题)同涂装是大同小异的.
确认:审核:作成:
教育训练教材:
真空电镀
一.原理:
利用真空炉把空气抽掉,抽到一定的压力,加电压电流让钨丝产生高温,把铝(铬.镍)蒸发成气体.
````两极
材质:钨丝
排气
真空炉
二.水镀与真空电镀的不同点:
项目
水镀
真空电镀
优点
膜厚较厚,耐磨性佳.
1.产量高,没有化学污染的问题.
2.设计素材方面不必浪费.
缺点
1.产量低,化学污染严重.
2.设计素材要考虑电流分布的情形.
膜厚比较薄,耐磨性没有水镀好.
耐磨性
175g RCA测试200回OK.
175g RCA测试200回OK.
附着力测试
不脱落
不脱落
硬度测试1H
OK
OK
膜厚范围
15um
20um以上
颜色效果
单一颜色
颜色有铝,铬,镍.
三.真空电镀的工艺流程:
四.真空电镀与各部门应该注意的事项:
1.设计:
A.真空电镀设计上须考虑实配上的问题,因为真空电镀基本的膜厚就有20um以上,如果耐磨要好的话要三
涂基本膜厚有30um以上,这点设计ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ注意.
B.料头设计希望有新产品时能和电镀部门检讨一下,方便电镀作业.
2.营运管理部:
如果有产品要试做,希望能是新开发的产品优先,不要拿快打切的产品来试做,送样试做出来也没有多少单