电镜的基本原理1透射电镜
透射电镜成像原理
透射电镜成像原理
透射电镜是一种常用的电子显微镜，用于观察和研究材料中的微观结构。
它利用电子的波粒二象性，通过透射原子层的电子来形成显微图像，具有比光学显微镜更高的分辨率。
透射电镜的成像原理可以简单概括为以下几个步骤：
1. 电子发射：透射电镜使用热阴极或冷阴极发射出高速电子，这些电子被加速到高能状态。
2. 透射样品：加速的电子通过一个非常薄的样品片，如薄片状的金属、陶瓷或生物组织。
样品必须具有高度透射性，以允许电子通过。
3. 散射与透射：入射电子束在样品中发生散射和透射两种现象。
散射是指电子与样品中的原子或电子相互作用，改变其运动方向，而透射是指电子穿过样品的现象。
4. 透射电子形成图像：透射电镜使用透射电子成像器件，如方形磁透镜或电磁透镜，将透射电子聚焦在屏幕或感光材料上。
根据电子的能量和散射情况，屏幕上形成亮暗不同的区域，形成图像。
透射电镜成像原理的关键在于控制电子束的发射和透射过程，以及透射电子的成像聚焦和检测。
通过调整透射电子的能量、电磁透镜的设置和样品的准备，可以获得高分辨率的电子显微图像，揭示材料的微观结构和性质。
透射电镜成像原理
透射电镜成像原理透射电镜是一种利用电子束来成像的高分辨率显微镜，其成像原理主要基于电子的波粒二象性和透射电子的特性。
透射电镜成像原理的理解对于正确操作和解释透射电镜成像结果具有重要意义。
首先，透射电镜成像的基本原理是利用电子束通过样品后的透射来形成影像。
电子束由电子枪产生，经过透镜的聚焦和定位后，射向样品。
样品中的原子核和电子会对电子束产生散射和吸收，形成不同的透射强度。
透射电子被收集并转换成电子信号，最终形成样品的影像。
其次，透射电镜成像原理涉及到电子的波粒二象性。
根据德布罗意关系，电子具有波动性，其波长与动量呈反比关系。
因此，透射电镜成像的分辨率受到电子波长的限制，通常采用加速电压提高电子的动能，从而减小电子的波长，提高成像分辨率。
另外，透射电镜成像原理还涉及到透射电子的特性。
由于电子具有负电荷，其在物质中的相互作用主要包括库仑散射和弹性散射。
这些散射过程会影响电子束的透射强度和方向，从而影响成像结果。
因此，在透射电镜成像过程中，需要考虑样品的厚度、成分和结构等因素，以及透射电子与样品之间的相互作用。
最后，透射电镜成像原理还涉及到透射电镜的成像系统和信号处理。
透射电镜成像系统包括电子光学系统、样品台、检测器和成像设备等部分，通过这些部分协同工作，可以获取样品的高分辨率影像。
同时，透射电镜成像信号需要经过放大、处理和显示等步骤，以便对样品进行分析和观察。
综上所述，透射电镜成像原理是基于电子的波粒二象性和透射电子的特性，利用电子束通过样品后的透射来形成影像。
正确理解透射电镜成像原理对于准确操作和解释透射电镜成像结果具有重要意义。
透射电镜成像原理的深入理解有助于提高透射电镜的成像分辨率和质量，为科学研究和工程应用提供有力支持。
透射电镜的工作原理
透射电镜的工作原理透射电镜（Transmission Electron Microscope，简称TEM）是一种利用电子束来观察样品的微观结构的高分辨率显微镜。
与光学显微镜不同，透射电镜使用的是电子而不是可见光来照射样品，因此能够获得比光学显微镜更高的分辨率。
透射电镜的工作原理涉及到电子的产生、聚焦、透射、成像和检测等多个方面，下面将详细介绍透射电镜的工作原理。
1. 电子的产生。
透射电镜使用的是电子束来照射样品，因此首先需要产生电子。
电子产生的常用方法是热发射和场发射。
热发射是利用热能使金属表面的电子逃逸而产生电子，而场发射则是利用电场使电子从金属表面逃逸。
在透射电镜中，通常使用的是热发射电子源，即利用钨丝或钨钢合金丝受热后发射电子。
2. 电子的聚焦。
产生的电子束需要经过一系列的聚焦系统，使其成为一个细小的束流，以便能够准确地照射到样品上。
透射电镜的聚焦系统通常包括电子透镜和磁透镜。
电子透镜利用电场来聚焦电子束，而磁透镜则利用磁场来聚焦电子束。
通过合理设计和调节，可以使电子束聚焦到非常小的尺寸，从而获得高分辨率的成像能力。
3. 电子的透射。
经过聚焦系统聚焦后的电子束将照射到样品上，这时的电子束被称为透射电子束。
透射电子束穿过样品时，会与样品中的原子和分子发生相互作用，产生散射和吸收。
透射电镜通过检测透射电子束的变化来获取样品的结构信息。
4. 成像。
透射电镜的成像原理是利用透射电子束与样品相互作用后产生的信号来获取样品的结构信息。
透射电镜通常采用透射电子显微镜来观察样品。
透射电子显微镜通过探测透射电子束的强度和位置来获得样品的结构信息，然后将这些信息转换成图像显示出来。
5. 检测。
透射电镜的检测系统通常包括电子探测器和图像处理系统。
电子探测器用于探测透射电子束的强度和位置，然后将这些信息传输给图像处理系统。
图像处理系统将探测到的信息转换成图像，并进行增强和处理，最终显示在显示屏上供用户观察。
总结来说，透射电镜的工作原理涉及到电子的产生、聚焦、透射、成像和检测等多个方面。
透射电镜的基本原理
透射电镜的基本原理透射电镜（Transmission Electron Microscope，TEM）是一种使用电子束而非光线进行成像的仪器。
它使用高能电子束将样品穿透，然后收集透射的电子，并通过电子透射图像来获得样品的高分辨率图像。
以下是透射电镜的基本原理。
1.电子源：透射电镜中的电子通常是通过热发射或场发射从钨丝或钨尖中提取出来的。
电子源通常位于电镜的顶部，并通过加热或外加电场使电子发射。
2.加速器和减速器：电子源中产生的电子通过一个加速器进行加速，以达到高能水平。
这样可以使电子具有足够的能量穿透样品。
在穿过样品后，电子被进一步减速，以改变电子束的相对能量。
3.样品：样品通常是非晶态或晶态材料，厚度通常在几纳米到几十纳米之间。
样品先被制备成极薄切片，并被放置在透明的钢网上，并通过透射底座固定在电镜中。
4.磁透镜系统：磁透镜系统用于聚焦和定向电子束。
它可以通过控制磁铁中的磁场来控制电子束的聚焦和导向。
电镜通常包含一个物镜透镜和一个对焦透镜。
物镜透镜具有更大的聚焦能力，用于将电子束聚焦到样品上，而对焦透镜用于微调焦距。
5.透射：电子束穿过样品时会与样品中的原子和电子发生相互作用。
其中一个主要的相互作用是电子与样品中的原子核和电子发生库仑散射。
这些相互作用会使电子的能量损失，并改变电子的路径。
透射电子图像是根据这些散射事件的位置和能量损失来重建的。
6.探测器：透射电子通过样品后，会被收集并转换为可视图像。
光学系统使用透射电子图像来放大和重构样品。
最常用的探测器是闪烁屏幕和摄像机。
闪烁屏幕会发出光，而摄像机则将光转换为电信号，并将其转化为可视化的图像。
7.后处理：获得的透射电子图像可以通过计算机后处理进行增强和处理。
这些处理包括调整对比度，增强细节以及从二维图像中提取出三维信息。
透射电镜的原理允许它在纳米尺度下观察物质的结构和形貌。
与传统的光学显微镜相比，透射电镜具有更高的分辨率和更大的深度解析力。
透射电镜的简单原理
透射电镜的简单原理
透射电镜是一种用于观察材料内部结构的显微镜。
其简单原理如下：
1. 电子源：透射电镜使用电子束来照射样品。
电子源通常是一个发射电子的热阴极，例如钨丝。
2. 准直系统：电子束从电子源发射出来后，通过准直系统进行调整，以保持电子束的直线性质和平行性。
准直系统通常包括透镜和磁铁等。
3. 照射样品：经过准直系统调整后的电子束照射到待观察的样品上。
样品可以是薄片或厚块，这取决于所需的观察深度。
4. 样品交叉点：经过样品的电子束会与样品内部原子或分子相互作用。
这些相互作用会导致一部分电子束被散射、吸收或透射。
5. 过滤器：透射电镜使用不同的过滤器来选择散射、吸收和透射电子束。
通过调整过滤器，可以选择只让透射电子束通过。
6. 探测器：透过样品的透射电子束最终到达探测器，例如荧光屏或CCD。
探测器记录下电子束的位置和强度。
7. 数据处理：通过采集和处理探测器的数据，可以形成一个关于样品内部结构的电子图像。
透射电镜的原理包括产生平行且高能的电子束、调整电子束与样品之间的相对位置、选择透射电子束并记录下来。
通过这些原理，透射电镜可以产生高分辨率的样品内部结构图像。
透射电镜的原理
透射电镜的原理
透射电镜是一种常用的电子显微镜技术，用于观察和研究物质的微观结构。
其原理基于电子的波粒二象性和物质对电子的散射效应。
透射电镜的工作原理可以概括为以下几个步骤：
1. 电子源：透射电镜使用的电子源一般为热阴极或冷阴极。
电子发射后，通过加速电压和电子透镜系统，使电子获得足够的能量和聚焦程度。
2. 样品：待观察的样品被制备成非晶态或薄片状，并放置在样品台上。
样品的厚度通常在纳米到亚微米级别，以保证电子的穿透性。
3. 散射：通过透射电镜的电子束，电子与样品内的原子或分子发生相互作用。
根据样品的组成和结构，电子会被散射并改变方向。
4. 对比度增强：经过样品后，电子束进入投影镜筒。
在此过程中，通过调节投影镜筒中的电子透镜，可以调整电子束的聚焦度和强度。
5. 形成显影：电子束通过样品后，穿过投影镜筒的屏幕或探测器。
探测器接收到散射电子并转化为电子信号，经过放大和处理后，形成最终的图像。
透射电镜的原理是基于电子的波性和散射现象，利用电子的穿透性观察物质的微观结构。
通过控制电子束的聚焦度和强度，结合样品的散射特性，透射电镜可以提供高分辨率和高对比度的图像，用于研究各种材料的微观结构和性质。
透射电镜像散调节
透射电镜像散调节透射电镜是一种十分重要的光学元件，广泛应用于激光器、光纤通信、成像等领域。
透射电镜像散调节技术可以进一步优化透射电镜的光学性能，提高光学成像的质量与稳定性。
1. 透射电镜的基本原理透射电镜是一种由光学玻璃或晶体制成的光学元件，其主要作用是将平行光线聚焦或反射为平行光线。
透射电镜可以用于全反射、成像、激光束整形等多种场合。
透射电镜的基本原理是利用光线在不同折射率介质之间的反射与折射，实现对光线的聚束或反射。
透射电镜的设计需要充分考虑折射率、光程等光学参数。
2. 透射电镜像散调节的意义与方法透射电镜是一种高精度的光学元件，其光学性能直接影响成像质量与稳定性。
透射电镜常常存在从中心到边缘成像模糊、色差、畸变等问题。
透射电镜像散调节技术是一种有效的处理透射电镜光学散焦的方法。
通过调节透射电镜的折射率分布、曲率半径、材料厚度等参数，可以实现透射电镜的像散调节。
目前透射电镜像散调节技术主要包括以下两种：（1）材料选择和加工方法：选用高精度的材料和加工工艺，可以有效避免透射电镜因材料或制造工艺导致的像散问题。
（2）光学设计和计算方法：采用先进的光学设计软件，精确计算透射电镜各项参数间的关系，实现透射电镜的像散调节。
3. 透射电镜像散调节的实现(i) 参数设计与优化：首先进行透射电镜的参数设计，包括曲率半径、折射率、材料厚度等参数的选择和优化。
(ii) 材料加工与选择：选用高精度的材料和加工工艺，保证透射电镜表面光滑度和质量。
(iii) 光学仿真与分析：使用光学仿真软件对透射电镜进行光学分析和仿真，检验透射电镜的像散调节效果。
(iv) 实验验证与优化：进行实验验证，对透射电镜的光学性能进行评价与优化调整。
4. 透射电镜像散调节的应用透射电镜像散调节技术在各种光电设备、仪器中得到广泛的应用。
例如，透射电镜像散调节技术可以用于激光器的光束整形，提高激光器的光束质量和稳定性。
同时，在成像领域中，透射电镜像散调节技术也可以用于消除透射电镜成像的畸变和色差，提高成像质量和精度。
化学物质的透射电镜
化学物质的透射电镜透射电镜是一种常用的分析工具，特别是在化学领域。
它利用电子束照射样品，通过观察电子透射的方式来研究物质的结构和性质。
本文将介绍透射电镜的原理、应用以及在化学物质研究中的重要作用。
一、透射电镜的原理透射电镜的原理基于电子的波粒二象性。
电子具有波动性质，与光的波动性质相似。
通过将电子束聚焦到很小的直径上，并使其通过样品，探测样品中透射电子的强弱，可以了解样品的结构和成分。
二、透射电镜的应用1. 结构研究：透射电镜可以用来研究材料的晶体结构和外形。
通过观察透射的电子的衍射图案，可以确定晶体的晶胞参数、晶面指数等信息。
同时，透射电镜还可以观察到有关晶格缺陷、原子排列和晶界等结构信息。
2. 成分分析：透射电镜可以通过观察透射电子的吸收和散射情况，来确定样品的成分。
利用不同化学物质对电子的散射和吸收的差异，可以获得样品的能谱图像，进而分析样品中的元素种类和含量。
3. 形貌观察：透射电镜还可以用来观察化学物质的形貌。
通过调节电子束的聚焦和透射模式，可以观察到样品的表面形貌以及微观结构，如纳米颗粒、薄膜厚度等。
三、透射电镜在化学研究和应用中的作用1. 新材料研发：透射电镜在新材料研发中起到了重要作用。
通过观察材料的晶格结构、成分分布和缺陷情况，可以帮助科学家们设计和合成具有特定性能的新材料。
2. 催化剂研究：催化剂在化学反应中起到了关键作用。
透射电镜可以用来研究催化剂的结构和活性中心，以及催化剂与反应物之间的相互作用，从而优化催化剂的性能和效率。
3. 纳米材料研究：纳米材料因其独特的物理和化学性质而备受关注。
透射电镜可以观察到纳米材料的形貌和结构信息，帮助了解纳米颗粒的生长机理、表面活性和物理化学性质。
4. 生物化学研究：透射电镜在生物化学领域中也有广泛的应用。
它可以用来观察生物大分子的结构和形貌，如蛋白质、核酸等，对于研究其功能和生物活性具有重要意义。
综上所述，透射电镜在化学物质研究中扮演着重要角色。
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8. 成像的影响因素
★电子数目越多．散射越厉害，透射电子就越少，从而 图像就越暗 ★样品厚度、原子序数、密度对衬度也有影响，一般有 下列关系：
a．样品越厚，图像越暗； b．原于序数越大，图像越暗； c．密度越大，图像越暗 其中，密度的影响最重要，因为高分子的组成中原 于序数差别不大，所以样品排列紧密程度的差别是其反 差的主要来源。
照明系统
电子枪 －－电子枪是由阴极、阳极和栅极组成．一般用钨丝作阴极，
当在阴极和阳极之间加上高压．再加上灯丝电流以后，即可从钨丝发出 电子束，通过阳极孔，照射到样品上．一般透射电镜的加速电压为50～ 200kv。电压越高，电子束对物质的穿透能力越强，可以观察较厚的样 品，并且电子束对物质的辐照损伤越小。
碳纳米管？
碳纳米管, 又名巴基管, 是一种具有 特殊结果的一维量子材料, 其径向尺 寸为纳米级, 轴向尺寸为微米量级, 管
子两端基本上都封口。碳纳米管的壁 层是由六边形网格组成的圆柱面, 且 C C 原子之间通过sp2 杂化构成共价 键, 因此碳纳米管沿轴向有极高的拉
伸强度。碳纳米管直径一般在几纳米 到几十纳米之间, 长度为几个至几十 微米。
在26000倍下观测碳酸钙粉末
在18900倍下对PVC树脂 进行观测
第二章 电镜的基本原理和构造
第一节 透射电镜
一、电镜的发展历史
▼ 1932年鲁斯卡发明创制了第一台透射电子显微 镜实验装置(TEM)。
▼ 相继问世了扫描透射电子显微镜(STEM)、扫描 电子显微镜(SEM)以及上述产品与X射线分析系 统(EDS、WDS)的结合，即各种不同类型分析 型电子显微镜。
9. 电子显微镜原理概述
Technology for Microscopy Analysis ----Electron Microscope
一束电子射到试样上，电子与物质相互作用，当电子 的运动方向被改变，称为散射。
散射
弹性散射 电子只改变运动方向而电子的 能量不发生变化
非弹性散射 电子的运动方向和能量都发生变化
多样的碳纳米管
多样的碳纳米材料
谢谢聆 听
共同学习相互提高
直接透射电子，以及弹性或非弹性散射的透射 透射电子 电子用于透射电镜(TEM)的成像和衍射
◆ 如果入射电子撞击样品表面原子的外层电 子，把它激发出来，就形成低能量的二次电子， 在电场的作用下它可呈曲线运动，翻越障碍进 入检测器，使表面凹凸的各个部分都能清晰成 二次电子 像。
◆ 二次电子的强度主要与样品表面形貌有关。 二次电子和背景散射电子共同用于扫描电镜 (SEM)的成像。
为什么电子显微 镜有这么高的分 辨率和放大倍数
呢？
电子波长λ＝h/mv h-普朗克常数 m-电子的质量
v 取决于加速电压 mv2=2eU
加速电压与电子波波长的关系
1 kv 0.388 A 10 kv 0.122 A 100 kv 0.037 A
2 kv 0.274 A 20 kv 0.0589 A 200 kv 0.0251 A
根据以上公式，要提高分辨率和放大倍数，必须降低照 明光源的波长
为了看清楚原子．电镜必须有优于2.5 Å的原子尺寸的分 辨率和50万~100万倍的放大倍数，否则就不能在底片上记 录下原子的存在。目前200kV电镜的技术水平已达到放大倍 数100万倍，点分辨率1.9 Å，晶格分辨率1.4 Å．目前最高 水平仪器的品格分辨率可达０.５Å．基本可以在底片上记录 下原于的存在，清晰地反映原子在空间的排列．
◆ 光学显微镜中的玻璃透镜不能用于电镜，因为 它们没有聚焦成像的能力，是“不透明”的。电流 通过线圈时出现磁力线和南北极。
◆ 由于电子带电，会与磁力线相互作用，而使电 子束在线圈的下方聚焦。只要改变线圈的励磁电流， 就可以使电镜的放大倍数连续变化。
5.电镜三要素
分辨率 放大倍数 衬度
分辨率
◆
大孔径角的磁透镜，100KV时，分辨率可达0.005nm。实 际TEM只能达到0.1－0.2nm，这是由于透镜的固有像差造成的。
放大倍数
电镜最大的放大倍数等于肉眼分辨率(约0.2mm)除 以电镜的分辨率0.2nm，因而在106数量级以上。
衬度
在分析TEM图像时，亮和暗的差别(即衬度，又称 反差)到底与样品的什么特性有关，这点对解释图像非 常重要。
6. 透射电子显微镜的样品处理
对样品的一般要求
1、样品需置于直径为2－3mm的铜制载网上，网上附有 支持膜；
▼ 1986年，宾尼格和罗雷尔先后研制成功扫描隧 道电子显微镜(STM)和原子力电子显微镜(AFM)， 使人类的视野得到进一步的扩展。
二、透射电镜(TEM)基本原理
20世纪20年代，发现电子流具有波动的性质， 是一种电磁波，其波长比光波短10万倍以 上．如果能够制成一台用电子束成像的电子显 微镜，分辨本领便可大大提高．自1932年德国 Ruska和Knoll研制出第一台电子显微镜，至今 已60余年．经过半个多世纪的发展，今天的透 射电子显微镜(TEM)不仅是一台放大倍数可达 100万倍以上，可以直接分辨小到一两个埃的单 个原子的显微镜，并且还能进行纳米尺度的晶 体结构及化学组成分析，成为全面评价固体微 观结构的综合性仪器．
1. 显微倍数＝ 眼睛分辨率/显微镜分辨率
• 光学显微镜的分辨率为光波波长的一半(约为2000Å)， 眼睛的分辨率为0.2mm，因此光学显微镜最大放大倍数为 1000倍, 超过这个数值并不能得到更多的信息，而仅仅是 将一个模糊的斑点再放大而已．多余的放大倍数称为空放 大。
如果入射电子把样品表面原子的内层电子撞 出，被激发的空穴由高能级电子填充时，能 特征X射线 量以电磁辐射的形式放出，就产生特征X射线， 可用于元素分析。
如果入射电子把外层电子打进内层，原
俄歇 子被激发了．为释放能量而电离出次外层电
(Auger)电 子，叫俄歇电子。
子
主要用于轻元素和超轻元素(除H和He)的
2、样品必须很薄，使电子束能够穿透，一般厚度为 100nm左右；
3、样品应是固体，不能含有水分及挥发物；
4、样品应有足够的强度和稳定性，在电子线照射下 不至于损坏或发生变化；
5、样品及其周围应非常清洁，以免污染而造成对像 质的影响。
样品的一般制备方法
1、粉末样品可将其分散在支持膜上进行观察。
2、直接制成厚度在100－200nn之间的薄膜样品，观察其 形貌及结晶性质。一般有真空蒸发法、溶液凝固(结 晶)法、离子轰击减薄法、超薄切片法、金属薄片制 备法。
3、采用复型技术，即制作表面显微组织浮雕的复形膜， 然后放在透射电子显微镜中观察。制作方法一般有 四种，即塑料(火棉胶)膜 一级复型、碳膜一级复型、 塑料－碳膜二级复型、萃取复型。
7.透射电子显微镜的观测内容
★表面起伏状态所反映的微观结构问题； ★观测颗粒的形状、大小及粒度分布； ★观测样品个各部分电子射散能力的差异； ★晶体结构的鉴定及分析。
3.电子显微镜与光学显微镜的比较
光学显微镜所用光源为可见光．能在空气中传播．而电子束是一种粒子流，当 它进入物体后，和物质内的电子和原子发生作用而散射．所以只能透过极薄的 物体．空气对电子起阻碍作用，因此，电镜内必须保持高真空，一般为10－５乇 或更高．
4.电镜构造的两个特点 （1）磁透镜
（2）高真空。
聚光镜－－电镜中用来使电子束聚焦的是电磁透镜．电镜中的聚光镜
是用来聚拢电子束和调节电子束强度的．一股采用双聚光镜系统，第一 聚光镜为短焦距强透镜，它将电子束斑直径缩小几十倍，而第二聚光镜 采用长焦距透镜，将电子束斑成像到样品上，从而使聚光镜和样品之间 有足够的工作距离，以便放置试样和各种附件．
成像系统
在电镜中，物镜产生的一次放大像还要经过中间镜 和投影镜的放大作用而在荧光屏上得到三次放大 像．中间镜的物面与物镜的像面相重，而投影镜的物 面又与中间镜的像面相重．这样，中间镜把物镜产生 的放大像投影到投影镜的物面上，再由投影镜把它投 射到荧光屏上．
物镜和投影镜的放大倍数一般为100，中间镜的放大 倍数可调，为0－20。荧光屏、光学观察放大镜及照 相机等组成观察系统。
分析，称为俄歇电子能谱仪
背景散射 电子
入射电子穿达到离核很近的地方被反射，没有 能量损失；反射角的大小取决于离核的距离和 原来的能量，实际上任何方向都有散射，即形 成背景散射
阴极荧光
如果入射电子使试样的原于内电子发生电离， 高能级的电子向低能级跃迁时发出的光波长较 长(在可见光或紫外区)，称为阴极荧光，可用 作光谱分析，但它通常非常微弱
10. 透射电镜在材料表征中的应用
NH
N
N
HN
铂/酞菁/碳纳米管复合纳米催化剂的构建
酞菁的结构
催化剂的制备：通过超声处理将酞菁分子(Pc)修饰至碳纳米管表 面,随后采用乙二醇还原法将铂纳米粒子固载到酞菁修饰的碳纳 米管表面,形成Pt/Pc/CNTs复合纳米催化剂。
参考文献：钱敏杰; 蒋湘芬; 王喜章; 蹇国强; 胡征;无机化学学报， Vol.24 ，No.8，1278~1283
◆提高加速电压可以提高分辨率。已有300KV以上的商品高 压(或超高压)电镜，高压不仅提高了分辨率，而且允许样品有较 大的厚度，推迟了样品受电子束损伤的时间，因而对高分子的 研究很有用。但高加速电压意味着大的物镜，500KV时物镜直 径45－50cm。
对高分子材料的研究所适合的加速电压，最好在250KV左 右。◆
3 kv 0.274 A 50 kv 0.0536 A 500 kv 0.0142 A
思考？
为什么比可见光波长更短的紫外线、 X射线不能用作光源来制造高分辨显微镜？
2. 电子显微镜的构造
电子显微镜的结构由照明系统、成像系统、观察和记 录系统 组成．照明系统是由电子枪和聚光镜组成，成像
系统由物镜、中间镜和投影镜组成。观察和记录系统包 括观察室、荧光屏和计算机等。