双层金属工艺中的IMD—PETEOS

双层金属工艺中的IMD—PETEOS

张义强

【期刊名称】《微电子技术》

【年(卷),期】1995(023)006

【摘要】本文讨论了ＰＥＴＥＯＳ在金属层间介质（ＩＭＤ）上的运用，并就其运用于亚微米ＣＭＯＳ、双层金属工艺中所要求的一些电、机械及结构方面的特性进行了探讨研究。

【总页数】6页(P32-37)

【作者】张义强

【作者单位】无

【正文语种】中文

【中图分类】TN405.97

【相关文献】

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