电浆原理与电浆清洗机简介I
豆浆机的工作原理以及各部件功能
豆浆机的工作原理以及各部件功能
豆浆机的工作原理以及各部件功能说明
豆浆机工作原理及各部件功能
1、工作原理：通过电机带动刀片的高速旋转，同时借助导流杯加速液体循环，增加刀片与物料的接触机会，使物料得到彻底粉碎。
电热管加热与刀片转动通过科学的程序交替进行，使浆液得到充分熬煮。
2、各部件功能
刀片：打碎物料。
电热管：加热浆液。
导流杯：加速液体循环，增加刀片与物料的接触机会，使粉碎更彻底。
温度传感器：a、精确测温，实现科学打浆。
b、无水防干烧。
防溢电极：防止浆液溢出。
微动开关：使机头提起时电路处于断电状态，以保证安全。
何谓电浆
何謂電漿?電漿電視又是什麼?一般說物質有三態固態液態與氣態由於原子間的交互作用當原子相互間有固定結構時處於所謂固態每個原子基本上在固定帄衡位置上微小振幅的振動(此振動的巨觀表現就是溫度)當溫度增加時使得每個原子獲得更多動能振動的更厲害於是原子間無法保持固定結構但是仍然具有相互吸引力而聚在一起因此通常液體的形狀隨容器而改變但是維持固定的體積(從固體轉變成液體狀態的過程所吸收的熱量破壞原子間固定的鍵結且距離更遠了)當溫度繼續提昇原子獲得更多動能則彼此間距離愈拉愈長終於破壞彼此間相聚的狀態而成為氣體(想一想18克的水變成氣體時所佔體積從原來18cc 變成24.5升左右增加了1000倍以上難怪攝氏100度每克水需要吸收539卡的熱量才能轉變成同溫度的氣體)此時原子間幾乎不再有交互作用(很微弱) 每個原子的運動相互獨立而成為氣態所謂電漿態Plasma 則是將原子外層的電子和原子分離彼此獨立如同氣體狀態的運動由於來源是中性的原子內部有等量的正離子與電子數目(大陸上plasma翻成為等離子體便是取其涵義)這些正負電荷的離子再同一個區域內猶如氣體分子般運動可以利用磁場等將其限制在區域內地球上處於電漿態的情形相對較少例如日光燈管內有微弱的比例處於電漿態但是地球大氣層以外的世界幾乎98%以上的區域都處於電漿態如太陽的內部電漿態的離子會再度結合也會因碰撞而將原子有分離這些過程都會產生電磁波詳見本網站日光燈的原理所謂電漿電視便是利用類似日光燈的原理在螢幕區域分成千萬個封閉低壓的空氣腔可以說每個就像一個小日光燈內部有微量氖氣neon和氙氣xneon然後每一個腔內背面都分別有塗紅綠藍的螢光劑當施加電壓時腔內會產生電漿放電產生紫外光這些紫外光打在螢光劑上後能量被吸收釋放出對應的可見光便形成光點影系統的光點分布必形成電視畫面那現在的核融合實驗爐利用電漿把反應的物質限制於一個區域內，使得其高溫不會接觸到爐體，也是利用這種原理，那麼他是如何將反應的物質放入電漿中呢？？？？？核融合所討論的電漿和日光燈管內的電漿有些差別日光燈管內游離的電漿所佔比例很少核融合電漿幾乎全部都游離了核融合不是將反應的物質放入高溫的區域內是直接加熱反應的物質使其達到電漿態足夠高溫時觸發核融合反應這是傳統的核融合電漿實驗另外也有利用雷射將反應的物質瞬間加熱使其達到核融合的條件生等离子效应，放出紫外线，激发三原色，红蓝绿RGB三原色的发光体不经由电子枪扫描或背光的明暗所产生的光，而是每个个体独立发光的，产生不同三原色的可见光，并利用激发时间的长短来产生不同的亮度。
电动清洗机工作原理
电动清洗机工作原理电动清洗机是一种常见的家用清洁设备，广泛应用于家庭、商业和工业领域。
它的工作原理可以用以下几个步骤来解释：第一，供电和电动机启动。
电动清洗机通过插座或电池供电。
当用户接通电源或按下开关时，电动机会启动。
第二，水源接入。
用户需要将水源接入电动清洗机，通常通过自来水管或水桶。
水源接入后，清洗机才能获得清洁用水。
第三，泵送水源。
电动清洗机内部有一台水泵，负责将水从水源中抽取出来，并提供给喷嘴。
水泵可以根据用户的需求进行调节，控制水的压力和流量。
第四，喷嘴工作。
电动清洗机上有一个喷嘴，负责将水喷出。
喷嘴具有多种喷雾模式，如直射模式、扇形模式和旋转模式等。
用户可以根据清洗对象的不同选择合适的喷雾模式。
第五，水和污垢接触。
当用户操作电动清洗机时，喷嘴会将高压水喷射到需要清洗的表面上。
高压水能够将污垢和杂质迅速冲刷掉，使表面恢复光洁。
第六，废水排出。
清洗过程中，污水和清洁剂会与清洗对象产生接触，在冲刷后产生污水。
电动清洗机内部的排水系统会将废水排出设备，并通过排水管道排出。
电动清洗机的工作原理简单而高效。
它利用高压水流将污垢冲刷掉，不仅可以清洁地面、车辆和建筑物等硬表面，还可以清洗家具、地毯和窗帘等软表面。
同时，由于使用的是电动机驱动，操作起来更加方便快捷，不需要过多的体力。
总结起来，电动清洗机的工作原理包括供电和电动机启动、水源接入、泵送水源、喷嘴工作、水和污垢接触以及废水排出。
它以高压水的力量有效清洁各种表面，提供了一种便捷而高效的家庭和商业清洁解决方案。
电浆的基础讲解
原子核
基態
分解碰撞(Dissociation Collision)
电子和分子碰撞时,如果因撞击而传递到分子的能量会 比分子的键结能量要高戥,那就能打破化学键并且产生 自由基(Free Radicals)
e- + AB → A + B + e AB 是分子,而A和B两者都是由分解碰撞所產生的自由
在抽至高真空的反应室内的两个平行板电极之 间加上电压来產生电浆
电浆的产生
由於这两个平行板 电极就好像电容器 中的电极,所以也称 為电容耦合型 (Capacitively Coupled)电浆源
RF电浆的产生
两电极中通RF高电压,产生交流电场 如RF能量够高,自由电子会被加速 直到自由电子得到足够的能量来和反应室中的
游离率也与压力,电极间的距离,製程气体的种 类以及电浆反应器的设计有关
控制施加的功率→控制电子能量→控制游离率
电浆的产生
直流电浆源[Direct Current (DC) Plasma], 用 于离子佈植机(Ion Implanter)
射頻电浆源[Radio Frequency (RF) Plasma], 用于感应式耦合电浆(ICP)
离子化碰撞(Ionization Collision)
当电子与一个原子或一个分子相碰撞,它会将 部分的能量传递至受到原子核或分子核所束缚 的轨道电子上
如果轨道电子获得的能量而足以脱离核子的束 缚,它就会变成自由电子
e- + A → A+ + 2 e (e-代表电子,A代表中性原子或分子,而A+代表
原子或分子碰撞以产生另一个离子和另一个自 由电子 离子化碰撞是一连串的反应,因此整个反应室 就迅速地充满了等量的电子和离子,也就是充 满了电浆
电浆阳极氧化
电浆阳极氧化电浆阳极氧化是一种技术，能够在金属表面形成一层坚硬的氧化膜，提高金属的耐腐蚀性和耐磨性。
该技术在多个领域都有应用，如航空航天、汽车、电子设备等。
下面将详细介绍电浆阳极氧化的原理、过程和优点。
电浆阳极氧化的原理是利用电解过程在金属表面产生氧化膜。
在该过程中，金属放置在电解槽中成为阳极，而另一电极则是阴极。
通过电流的作用，阳极金属表面将发生氧化反应，并形成均匀的氧化膜。
在电解液中，含有一定的酸性物质，如硫酸或草酸，它们能够促进氧化反应的进行。
同时，还需要控制电解液的温度、浓度和电流密度等因素，以实现理想的氧化效果。
电浆阳极氧化的过程主要包括准备金属表面、清洁处理、电解阳极处理和后处理四个步骤。
首先，金属表面需要进行准备，包括去除表面的污垢和氧化皮。
然后，进行清洁处理，以保证阳极处理的效果。
在电解处理中，金属表面会形成氧化膜，膜层的厚度和颜色取决于处理时间和电流密度。
最后，还需要进行后处理，如封膜、染色等，以增加氧化膜的耐久性和美观性。
电浆阳极氧化具有许多优点。
首先，它能够增加金属的耐腐蚀性能。
氧化膜具有一定的孔隙结构，能够阻止腐蚀物质进一步侵入金属表面，延长金属的使用寿命。
其次，电浆阳极氧化还能提高金属的硬度和耐磨性。
氧化膜具有良好的硬度和耐磨性，能够减少金属在使用过程中的磨损和划伤。
此外，电浆阳极氧化还能改善金属的表面质量和美观性。
根据处理时间和电流密度的不同，氧化膜的颜色可以有多种选择，从银白色到黑色不等，满足不同应用的需求。
电浆阳极氧化在航空航天、汽车、电子设备等领域都有广泛的应用。
在航空航天领域，该技术可以增加飞机零部件的抗腐蚀性能，提高飞行安全性。
在汽车领域，电浆阳极氧化可以保护车身和引擎零部件免受腐蚀和磨损。
在电子设备领域，电浆阳极氧化可以改善外壳的表面质量和美观度，提高产品的市场竞争力。
总而言之，电浆阳极氧化是一种重要的表面处理技术，能够提高金属的耐腐蚀性和耐磨性，广泛应用于航空航天、汽车、电子设备等领域。
洗浆机工作原理
洗浆机工作原理
洗涤机工作原理是指利用电机驱动鼓筒或螺旋桨旋转，将清洁剂和水混合后喷洒到衣物表面，通过机械磨擦、液体冲刷等方式，去除污渍和灰尘，最终通过排水管排出水。
洗涤机的关键部件包括电机、鼓筒、控制系统、进水和排水系统等。
洗涤机工作流程包括进水、洗涤、漂洗、甩干和排水等多个环节。
不同的洗涤模式会根据不同的衣物材质和需要调整水温、旋转速度、清洁剂种类和使用量等参数。
洗涤机的主要优点是高效率、方便快捷、可控性强，但需要注意的是使用时应按照说明书操作，定期清洁维护，以延长使用寿命。
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电浆原理 for ASE Trainning
RF Power Generators
132mm*38mm LCD顯示面板， 可同時監控所有相關數據。
Automatching Network 控制區 ，提供匹配網路之電容值調校。
Program程式選單
RF power控制
Automatching Networks
依據電磁波傳輸原理，要達到 最大的功率轉換效益，在電負載之間 的阻抗必需匹配。 市面上常見之RF Generator 設計之輸出端阻抗通常為50Ω，而負 荷端Plasma Reactor的阻抗通常僅有 僅有0.5~10Ω，此時就需要一個良好 的匹配網路系統來平衡負載之阻抗。
波義爾定義 P1V1=P2V2 Plasma working pressure about 25mtorr 25/760000=28.14/V1 V1=855456L(1mole粒子在25mtorr, 70℃下所佔的體積 d=6.02x1023/855456=7.04x1014個/c.c
λ=0.507cm 電漿環境中的平均自由路徑
反應性離子蝕刻(Reactive Ion Etching 簡稱RIE)
最為各種反應器廣泛使用的方法，便 使是結合(1)物理性的離子轟擊與(2)化 學反應的蝕刻。此種方式兼具非等向 性與高蝕刻選擇比等雙重優點，蝕刻 的進行主要靠化學反應來達成，以獲 得高選擇比。加入離子轟擊的作用有 二：一是將被蝕刻材質表面的原子鍵 結破壞，以加速反應速率。二是將再 沈積於被蝕刻表面的產物或聚合物 (Polymer)打掉，以使被蝕刻表面能再 與蝕刻氣體接觸。而非等向性蝕刻的 達成，則是靠再沈積的產物或聚合物， 沈積在蝕刻圖形上，在表面的沈積物 可為離子打掉，故蝕刻可繼續進行， 而在側壁上的沈積物，因未受離子轟 擊而保留下來，阻隔了蝕刻表面與反 應氣體的接觸，使得側壁不受蝕刻， 而獲得非等向性蝕刻。
洗浆机工作原理
洗浆机工作原理
洗浆机是现代家庭中必不可少的家电之一，它的工作原理是通过水流和摩擦力来清洗衣物。
下面我们来详细了解一下洗浆机的工作原理。
洗浆机的工作需要用到水和洗涤剂。
当我们将衣物放入洗浆机中后，加入适量的洗涤剂和水，然后启动洗浆机，水就会进入洗衣机的内部。
洗衣机内部有一个水箱，水箱中有一个螺旋形的叶轮，当水进入水箱后，叶轮开始旋转，将水搅拌均匀。
接下来，洗衣机会根据设定的程序，将水加热到一定的温度，这样可以更好地溶解洗涤剂，提高清洗效果。
同时，洗衣机内部还有一个电机，电机会带动洗衣机内部的鼓筒旋转，使衣物在水中不断翻滚，从而达到清洗的效果。
在洗衣机的清洗过程中，还需要用到摩擦力。
洗衣机内部的鼓筒表面有许多凸起的突起，当衣物在鼓筒中翻滚时，会与这些突起摩擦，从而去除衣物表面的污渍。
此外，洗衣机还会在清洗过程中不断地注入水和排出水，以保持水的清洁度。
洗衣机的清洗过程完成后，需要将水排出。
洗衣机内部有一个排水管，当洗衣机需要排水时，排水管会打开，将水排出。
排水完成后，洗衣机内部还会进行漂洗和脱水等程序，以保证衣物的清洁度和干燥度。
洗浆机的工作原理是通过水流和摩擦力来清洗衣物，同时还需要用到洗涤剂、加热、电机等多种技术手段。
随着科技的不断发展，洗浆机的清洗效果和智能化程度也在不断提高，为我们的生活带来了更多的便利和舒适。
脉冲电浆除臭技术方案及流程
脉冲电浆除臭技术方案及流程一、脉冲电浆除臭技术的基本原理。
1.1 脉冲电浆啊，这可是个很厉害的东西。
它就像一把神奇的扫帚，能把那些臭烘烘的东西扫得干干净净。
简单来说呢，脉冲电浆是通过产生高能量的等离子体。
这等离子体啊，里面有好多高活性的粒子，像自由基之类的。
这些小粒子可活跃了，就像一群精力旺盛的小工人，到处去找那些产生臭味的分子。
1.2 比如说一些有机的臭味分子，在这些小粒子的作用下啊，就被分解了。
就好比一个恶霸遇到了一群正义的勇士，被打得落花流水，那些臭味分子就被分解成了二氧化碳啊，水啊这些无害的东西。
这就是脉冲电浆除臭的基本魔法啦。
二、脉冲电浆除臭技术方案。
2.1 首先是设备的选择。
那得挑合适的脉冲电浆发生器啊，不能随便乱选。
就像选鞋子一样，得合脚才行。
要根据除臭的空间大小，臭味的浓度这些因素来确定。
如果是个小空间，像小仓库，那小功率的可能就够了；要是大的垃圾处理厂，那得大功率的才顶得住。
2.2 其次是安装位置。
这可不能马虎，得把脉冲电浆发生器安装在臭味的源头附近或者空气流动的关键位置。
这就像在战场上，要把大炮放在关键的战略要地一样。
比如说在污水处理厂，就得靠近那些散发臭味最厉害的污水池附近安装，这样才能第一时间把臭味扼杀在摇篮里。
2.3 然后还有运行参数的设置。
这就像是调整汽车的挡位一样，要根据实际情况来。
像脉冲的频率啊，电浆的强度啊这些参数，得经过测试和调整，找到最适合的数值，这样才能让除臭效果达到最佳状态。
三、脉冲电浆除臭技术流程。
3.1 第一步是空气的引入。
得把那些臭烘烘的空气引进来，这就像是把敌人引进包围圈一样。
通过通风管道之类的把含臭空气送到脉冲电浆发生器那里。
这时候啊，那些空气就像是一群待宰的羔羊，进入了脉冲电浆的“魔法阵”。
3.2 第二步就是脉冲电浆的作用过程了。
在发生器里，那些高活性的粒子就开始对臭味分子发动猛烈攻击。
这是一场激烈的战斗，只见那些臭味分子在高能量的冲击下，一点一点被分解。
锂电池合浆机的原理
锂电池合浆机的原理
锂电池合浆机是一种用于制备电池正负极材料混合浆料的设备。
其主要原理如下：
1. 混合：合浆机通过搅拌装置将固体材料（如锂电池正负极材料的粉末）和液体（如溶剂或粘结剂）混合在一起，形成均匀的混合浆料。
2. 分散：合浆机采用高速旋转或其他方法，将固体材料分散在液体中，并使其均匀分布。
这有助于提高浆料的均匀性和可流动性。
3. 均质：合浆机还可以通过高速搅拌和剪切作用，将固体颗粒更细化，使混合浆料更加均匀。
这有助于提高电池材料的粘结性和电化学性能。
4. 清洗：在合浆过程中，合浆机还可以通过喷洒清洗剂或使用机械清洗装置，将浆料中的杂质和污染物清洗掉，以保证浆料的纯净性和质量。
综上所述，锂电池合浆机通过混合、分散、均质和清洗等步骤，将固体材料和液体混合成均匀的浆料，以提供良好的电池正负极材料性能和可靠的电池性能。
电浆产品说明-电浆喷头
電漿噴頭簡介在大氣環境下，高速將微細的有機污染物洗淨，完成被加工物表面潔淨及改質。
有效的提升產品在封裝黏著及印刷製程上更穩定的品質及良率。
電漿噴頭與其他清洗設備比較Uv Clean真空電漿電漿噴頭真空不需要需要不需要在線架設可否可維護成本高高低使用氣體2N2O2CDA or N清潔範圍線形全面點狀工件大小受限於燈管受限於腔體無限制清潔效果尚可可佳二次汙染無有風險無電漿噴頭的設計原理1.經高速鼓風機吸入反應所需的氣體(或廠務提供壓縮空氣)。
2.氣體經管路送到控制部內，經由流量計控制所需的量再送入照射部內。
3.在照射部內給予1525KHz的高週波，以穩定電壓持續不斷的產生Plasma，~將工件上微小的有機污染物完全洗淨。
大氣壓電漿清潔原理大氣壓等離子如何清洗微小有機物結合式C+O+O ->CO 2利用化學反應與有機物產生結合反應大氣壓等離子如何處理氧化物結合式O+H+H ->H 2O利用化學反應與氧化物產生結合反應電漿噴頭的應用範例Plasma處理後，可以將表面細微的有機物去除並且產生改質的效果，因而增加親水的官能基。
如ABS+PC材質的筆記型電腦外殼:經Plasma處理未經Plasma處理經電漿處理後，就表面分析與實際測試皆可發現親水的官能基增加。
C -CC -OO -C=O C -N C=O COOH未經Plasma處理經Plasma處理Surface analysis –ESCA C1s spectrum of PMMA水滴接觸角驗證(速度VS角度)以不同反應氣體的Plasma洗淨Plasma處理後Plasma處理前測試樣品為TFT Finger位置，測試液體為純水。
處理前，水滴角度約6570 度。
~電極至處理物距離為7mm。
取樣試片為200 片處理速度與表面溫度的關係廢氣驗證距離電漿0.5 m 之地方，量測N2 電漿所產生的臭氧濃度為 0.02 ppm。
~距離電漿0.5 m 之地方，量測CDA 電漿所產生的臭氧濃度為 0.001 ppm。
一分钟电浆机的用途以及特点
一分钟电浆机的用途以及特点概述电浆是一种能量密度极高的状态，是气体中等离子体的一种形态。
电浆在高温、高压和高能辐射条件下稳定存在，广泛应用于物理、化学、材料科学、医学和工程技术领域。
一分钟电浆机是一种小型的电浆发生器，主要用于学校、实验室和科普教育领域。
用途一分钟电浆机的主要用途有以下几个方面：科学研究在科学研究中，电浆技术被广泛应用于等离子体物理、核物理、材料科学和空间物理等领域。
一分钟电浆机可以用于各种类型的电浆实验，包括等离子体诊断、磁约束等离子体、惯性约束聚变等。
教育科普在教育和科普领域，一分钟电浆机可以用于展示等离子体物理的基本原理和现象。
例如，可以用一分钟电浆机展示等离子体发光的效果，让学生感受到等离子体的特殊性质。
创意装饰一分钟电浆机也可以用于创意装饰。
它可以作为餐厅、咖啡店、商场和展览馆等公共场所的装饰品。
许多朋友可以用它来拍摄创意照片和视频，这也是一分钟电浆机的一大特色。
特点一分钟电浆机的特点如下：体积小，便于携带和展示一分钟电浆机通常体积比较小，非常适合携带和展示。
它可以方便地放到桌子上、书架上或展台上，让人们随时随地可以观察到等离子体的奇妙景象。
火花绽放效果明显，视觉效果强烈一分钟电浆机在工作时，电极周围的气体会发生等离子体化现象。
这时，会出现各种颜色的火花和闪电效果。
这些视觉效果非常强烈，容易吸引人们的注意力。
操作简单，使用安全一分钟电浆机的操作非常简单，只需要插上电源，开启电源开关即可。
而且，它的使用非常安全，因为它的电压和电流都比较小。
使用它时，我们不需要特别的技能和知识，就可以安全地将它用于展示和学习。
结论一分钟电浆机是一种小型的、便携式的电浆发生器，具有明显的火花绽放效果和强烈的视觉效果。
它在科学研究、教育科普和创意装饰等领域都有广泛的应用。
作为一种安全、易用的电浆发生器，一分钟电浆机可以给人们带来丰富多彩的体验，同时也可以帮助人们更好地了解等离子体相关知识。
清洗机泵工作原理
清洗机泵工作原理
清洗机泵的工作原理是利用电动机带动泵体旋转产生压力，将清洗液体从容器中吸入泵体内部，然后通过泵的出口喷洒到清洗对象上。
具体来说，清洗机泵的工作原理如下：
1. 电动机带动泵体旋转：通过电动机的驱动，将泵体内的叶轮、轴等部件旋转起来。
2. 吸入清洗液体：当泵体旋转时，泵的进口处产生负压，使得清洗液体从容器中被吸入泵体内部。
3. 压缩清洗液体：随着泵体的旋转，清洗液体被推向泵的出口，形成一定的压力。
这个压力使得清洗液体能够顺畅地流动，并将清洗液体带到需要清洗的对象上。
4. 喷洒清洗液体：通过泵体的出口，清洗液体喷洒到需要清洗的对象上，从而实现清洗的效果。
综上所述，清洗机泵的工作原理是通过电动机带动泵体旋转，在泵的进口产生负压吸入清洗液体，然后通过泵的出口形成一定压力将清洗液体喷洒到清洗对象上。
做豆腐的电浆原理
做豆腐的电浆原理
做豆腐的电浆原理主要涉及到大豆的蛋白质与水的相互作用。
具体步骤如下：
1. 大豆浸泡：将大豆浸泡在水中，使其吸收水分，使豆子变软，便于破碎和提取蛋白质。
2. 磨碎和搅拌：将浸泡好的大豆和适量的水一起放入搅拌机中搅拌，将大豆磨碎成细腻的粒子，形成豆浆。
3. 过滤：将豆浆通过滤网或细布进行过滤，去除固体颗粒，得到液态的豆浆。
4. 加热：将豆浆加热至一定温度（通常为85），以杀灭细菌和使蛋白质凝固。
5. 加入凝固剂：通常使用盐酸、硫酸、柠檬汁等酸性物质作为凝固剂，将其加入热豆浆中。
6. 搅拌和沉淀：在加入凝固剂后，继续搅拌豆浆，使凝固剂均匀混合，并促使豆浆中的蛋白质凝固成固体颗粒。
7. 压榨：将凝固后的豆腐块放入豆腐模具中，并施加一定压力，使豆腐中的水分被挤压出来，使豆腐块更加紧密。
8. 冷却：将压榨出的豆腐块放入冷水中冷却，并使其保持形状和刚度。
通过这个过程，豆腐的电浆即豆浆中的蛋白质在酸性条件下凝固成豆腐固态。
最终得到的豆腐固块可切割并食用。
电浆原理
◎日常生活中的電漿
1.日常生活中最常見的日光燈，就是電漿的應用！當我們開燈時，點燈器會產生 極高的電壓，並產生電漿粒子，這些電漿粒子會轟擊燈管中的水銀蒸氣、螢光 物質，而使其發光。五顏六色的霓虹燈也是相同原理。 2.富士通（Fujitsu）於1993年發表的電漿顯示器（Plasma Display Pannel）， 其基本顯像原理：由前、後二塊玻璃基板夾成，玻璃上附有透明電極、誘電層、 保護層、紅綠藍三色螢光體等結構。這二塊玻璃基板中間的間隙只有0.1mm， 而在這0.1mm空間中填充了一種氣體。當施加電壓於電極上時，電極會放電而 產生紫外線光。而當紫外線光打擊到玻璃基板上的紅、綠、藍螢光物質時，這 些螢光物質就會產生紅、綠、藍三原色，這些紅綠藍三原色最後就合成各種彩 色影像。
H2 ＋ 4.4 eV → Ｈ ＋ Ｈ H ＋ 13.6 eV → H+ Ar ＋ 15.76eV → Ar+ O2 ＋ 5.1 eV → O ＋ O O ＋ 13.62 eV → O+
e + CF4 e + CF4 e + CF443;F CF3 +F +e CF2 +2F+e CF3 +F+2e
603E
602A
602S
Plasma 800A series
Application (LED)
•
Improve Wire Bond Strength and Uniformity Promotes Underfill Adhesion Enhances Die Attach Surface Treatment
Medium Frequencies
ISM Frequencies
电浆清洗机工作原理
电浆清洗机工作原理
电浆清洗机是一种利用高能离子束或电弧等形成的电浆进行清洗的设备。
其工作原理如下：1. 电离：在清洗室中加入适量的工作气体，通常为氮气、氩气等惰性气体。
然后通过加热或电弧放电等方式将气体中的原子或分子离子化，形成等离子体。
2. 电浆生成：离子化的工作气体形成的等离子体被加热并加速，形成高温高能的电浆。
电浆中的离子具有较高的动能，可以对清洗物体表面的污垢进行溅射和弹击。
同时，电浆中的电子也可以与表面的污垢进行化学反应。
3. 清洗作用：电浆束通过电浆喷嘴或电极，将高能离子束或电流喷射到待清洗的工件表面。
高能离子束的动能足以将表面的污垢物理击碎，并将其剥离。
而电流则通过电解溶解污垢的化学键，使其分解为更容易去除的物质。
4. 清洗效果：经过电浆清洗的工件表面将获得较高的清洁度和光洁度。
由于电浆清洗过程中的高能离子束或电流对待清洗物体的冲击力较大，因此能够去除一些较难清洗的污垢，如氧化物、油脂等。
总的来说，电浆清洗机通过产生高能离子束或电流的电浆来对工件表面进行清洗，利用物理和化学效应去除污垢，达到清洁和表面改性的目的。
电浆(等离子体)原理及应用
電漿源原理與應用之介紹文/張家豪，魏鴻文，翁政輝，柳克強李安平，寇崇善吳敏文，曾錦清，蔡文發，鄭國川摘要電漿科技已廣泛應用於科學研究及工業製程，成為現代科技的重要指標。
本文將介紹國內在電漿源方面的研發，其中包括電感式電漿源，微波表面波電漿源,大氣電漿源，電漿浸沒離子佈植及電漿火炬等等。
文中將簡介各式電漿源之基本物理及其應用發展。
1. 前言電漿已廣泛應用於各種領域，如在半導體積體電路製造方面，舉凡不同材料薄膜的成長及電路的蝕刻皆普遍由電漿技術達成。
另外在半導封裝及紡織業方面，則使用電漿來清潔及改變材料表面以達到特殊的功能及效果。
在環保方面,電漿火炬可以安全固化焚化爐所產生之高污染灰渣。
甚至在醫療上現已有商用之電漿設備用於手術刀具的殺菌。
而在科學研究方面電漿更已成為重要的工具，如奈米碳管的成長，微機電的研發等等。
電漿之所以能提供如此廣泛的功能主要在於電漿中的反應是許多不同成分間的作用(Heterogeneous Interactions)，其中包括紫外線，中性粒子，活化粒子，電子及離子的反應。
尤其是包含了具能量的粒子，它們能引發許多特殊的化學與物理的反應。
例如在電漿蝕刻技術中，正離子經由電漿鞘層(Plasma Sheath)加速後轟擊矽晶圓，使其表面原子的鍵結破壞進而能迅速與活化粒子進行化學反應達到蝕刻效果。
另外如在鑽石膜成長中，電漿一方面產生成長所需要的碳原子，當其在表面形成鍵結時，電漿中所產生的氫原子則能與石墨鍵結的碳原子進行蝕刻反應而留下鑽石的鍵結。
在奈米碳管成長中，電漿鞘層的電場則能達到高方向性的成長。
這是其他方法所無法達到的。
在電漿技術中電漿源則是系統的關鍵。
目前產生電漿的方法以使用的功率源而言有直流放電(DC discharge)，低頻及中頻放電(數KHz到數MHz),射頻放電(13.6MHz)，及微波放電(2.45GHz)。
現行電漿製程多操作在低氣壓之輝光放電(mTorr 到百Torr)。
打浆机工作原理
打浆机工作原理
打浆机的工作原理是通过电动机驱动刀具或者搅拌器快速旋转，将待处理的物质进行打碎、混合和搅拌。
其具体工作原理如下：
1. 电动机驱动：打浆机通过内置的电动机来提供动力。
电动机会将电能转化为机械能，驱动刀具或者搅拌器进行旋转。
2. 刀具或搅拌器：打浆机内部装备着不同形状和材质的刀具或搅拌器，它们通常位于一个容器内。
根据不同的工作需要，刀具通常具有锋利的边缘，而搅拌器通常由分散的搅拌叶片组成。
3. 旋转运动：当电动机启动时，刀具或搅拌器开始以高速旋转。
旋转的速度可以根据需要进行调整。
4. 物质处理：待处理的物质通常被放置在打浆机的容器内。
当刀具或搅拌器旋转时，物质被带到刀具边缘或搅拌器叶片周围。
5. 打碎和混合：刀具边缘的旋转将待处理的物质快速剪切和撕裂，同时搅拌器的旋转搅动物质，促使其均匀混合。
这样就可以实现物质的打碎和混合。
具体打碎和混合的效果取决于所选用的刀具或搅拌器的设计和性能。
6. 控制和安全性：打浆机通常配备了控制装置，可以通过调整旋转速度和其他参数来控制物质处理的效果。
此外，为了安全起见，在操作过程中通常会设置保护装置，以避免误操作或意外发生。
需要注意的是，打浆机的工作原理可以因其类型和用途的不同而有所差异，上述工作原理仅为常见打浆机的基本描述。
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為什麼電漿有用？
電漿中含有電子、離子以及氣體原子。低溫電漿是 因為僅有一部份質量輕的電子在快速躍動著，而氣 體中的原子與分子相互碰撞。通常高溫是化學反應 的必要條件，但在這裡低溫也能有所作為。 另一方面，電漿能發出各式各樣的顏色光(紫外光和 可見光等等)，而我們能利用這個特性來做照明。
Turbo pump
機台部品使用
多用途真空計控制器 Ion Gauge高真空計
MKS 627B (金屬外殼可加熱式)
熱對流式低真空計
機台部品使用
RF power Generator
ICP Power與Bias Power均使用美國 AE dressler 或是 德國Cito系列 13.56MHz 的RF Power，含相位鎖 定功能，不會產生power之間的干擾。 ICP Power Max: 1000 Watt Bias Power Max.: 600 Watt
腔體需加裝ㄧ介電窗才可導入感應磁場
為得到更有效率的蝕刻製程，便發展出所謂變 壓耦合式電漿源（Transformer Coupled Plasma, TCP）以及感應式耦合電漿源的高密 度電漿系統。TCP與ICP兩者在名稱上雖有不 同，但其實為同一原理。統稱為ICP system。 基材與腔體等電位
Down Stream Mode (Inductive Coupled Plasma)
Pressure Control
Pumping
Temperature Control
機台部品使用
Angle Valve
Inline Valve
Solenoid valve
Diaphragm valve
Slit Valve
機台部品使用
Oil Rotary pump
Dry pump
Roots PUMP
Pump
RIE mode
可清潔擴充 環藍膜晶粒
13.56MHz RF Power
Eazy cleaner 設備設計示意圖
For Chip wire bond
Pum pdown Buffer plate Magazine Radical Gas inlet Shower head
Pump
RIE mode
+ + +
+ +
+ +
+
3)電漿能量將氧轉 變成正離子
4)中性氧原子及正氧離子與光 阻中之碳及氫反應
基板
光阻 陽極
RF產生器
Eazy cleaner 設備設計示意圖
For wafer clean
Pum pdown Buffer plate Wafer Radical Gas inlet Shower head
PE mode
13.56MHz RF Power
真空電漿設備系統簡介
DC/AC Power and Matching
Feed Stock Gas and Flow Control
Vacuum Chamber
Process Reaction
Substrate Deliver and System Control
處理物幾何形狀無限制：大或小，簡單或複雜，部件或紡織品，均可進行電漿表面處理。先 進製程，可滿足半導體微小線寬製程要求。
電漿產生型態: PE mode
基材置於接地電極的一側，另一端為接上13.56MHz 的射頻電 極，電子在兩電極間來回震盪激發氣體分子成為電漿態。腔體 內的電漿電位Vp 一般維持約10V~20V 之間，依據系統設計的 不同將會有所差異。在PE-Mode 的系統內，最大的直流偏壓 就是電漿電位，兩電極板承受相同但並不劇烈的離子轟擊。 (適合低溫製程＜70℃) 在製程中PE-Mode 的優點在於離子損傷較 小，操作壓力一般在100 mTorr 左右，整個 蝕刻過程以化學反應機制呈現，蝕刻的選擇 性高，可應用於整面有機物、油膜殘留或是 光阻的移除以及薄膜表面的電漿改質等等。 基材與腔體等電位
PE Mode ( Plasma Etching)
電漿產生型態: RIE mode
為了增強離子轟擊，也就是為了增加蝕刻製程的非等向性所做的設 計，與PE-Mode 的配置恰好相反，此時基材將置於接上13.56MHz 射頻電極的一側， 電極，產生一自我偏壓（self-bias），電子同樣 在兩電極間來回震盪激發氣體分子成為電漿態，陰極極板所承受的 離子轟擊此時變為電漿電位加上自我偏壓的合，蝕刻速率較高，但 是基材表面溫度易高於120℃) RIE 的設計使得製程傾向於更具非等向 性的物理性蝕刻機制，在同時具有物理 及化學特性的電漿系統之下，也讓蝕刻 製程變的更有效率。缺點是製程損傷較 為嚴重。 基材至於RF端
TCL(Ni/Au) Deposition Ni)/Au PR p-GaN n-GaN Sapphire
捷毅電漿清洗機台設計特點
• 具有架構簡單、占地面積小、生產率高等優點。 • 裝片容量大、清洗均勻性好、單一批次可以多層放置， 提高單批次產能競爭力。
• 電漿清潔製程中提供再現性高、可控性強、高駕動率， 以及低營運成本的特性。
Applications
封裝打線前處理
Ar Plasma 對基材做物理離子轟擊
Before wire bond Plasma Cleaning Process
Applications
LED chip蒸鍍前處理
PhotolithographyⅡ(TCL) PR p-GaN
n-GaN
Sapphire
電漿特徵
Plasma – 離子化氣體 (物質第四態)
整體來說，電漿的內部是呈電中性的狀態，也就是帶負電粒子的密度與 帶正電粒子的密度是相同的。 因為電漿中正、負離子的個數幾乎是一比一，因此電漿呈現電中性。 電漿是由一群帶電粒子所組成，所以當有一部分受到外力作用時，遠處 部份的電漿，乃至整群的電漿粒子都會受到影響，這叫做「電漿的群體 效應」。 具有良好的導電性和導熱性。
由於這些原因，電漿能作到固體、液體、氣體所不 能作到的。因此，電漿被認為能應用在各種領域上： 能源、環境、奈米科技、半導體、醫療、生物等等。
電漿表面處理的優點
安全性:電漿提供一個使用一個電能去促進表面清潔，比加熱更低溫的化學反應環境，排除 了濕式化學的危險性。 環保技術：電漿反應過程是氣體解離的乾式反應，不消耗水資源，無需添加化學藥劑，反應 物不需回收處理，對環境無污染無環保問題。 溫度低：接近常溫，特別適於高分子材料，比電暈和火焰方法有較長保存時間和較高表面張 力。 廣適性：不分處理物件的基材類型，均可進行處理。如金屬、半導體、氧化物和大多數高分 子材料等等均可進行處理。 功能強：僅涉及各種改質材料之表面層進行清潔，可以保持材料本身特性的同時，賦予其一 種或多種新的功能。(親水性或是疏水性功能) 低成本：裝置簡單，易操作維修，可長時間連續運行，處理費用便宜、沒有溶液的浪費，清 洗成本會大大低於濕法清洗。 全製程可控參數：提供簡單製程，提昇工作效能，所有參數可由電腦設置和資料記錄，進行 品質控制。
Ion Beam Mode - (Linear Ion Beam Source)
電漿原理在蝕刻製程應用
RF產生器
1)蝕刻氣體進入 反應室 氣體傳送 2)電場將反應 物分解
陽極 電場 蝕刻製程反應室 l
3)電子與原子的結 合產生電漿
副產物
8)副產物之 移除
l
4)反應性正離子 轟擊表面 5)反應性離子在 表面之吸附 6)原子團與膜表面 的表面反應
電漿產生型態: Ion Beam mode
是ㄧ種強調物理轟擊的蝕刻機制，也可以通入O2或是Ar氣體，但 是要先經由ㄧ磁場設計的Ion Source，並中和帶電荷的電子，產 生純粹中性的離子，是ㄧ種屬於非電漿應用。這種機制強調分子 平均自由徑要長，所以通常操作壓力要小於10-3torr較有效。
無電漿設計
如何產生人造電漿？
電場
Gas Plasma (discharge)
Breakdown
Gas
電子崩潰
◎電漿產生方式
藉由外加的電場能量來促使氣體內的電子獲得能量並加速撞擊不帶 電中性粒子，由於不帶電中性粒子受加速電子的撞擊後會產生離子 與另一帶能量的加速電子，這些被釋出的電子，在經由電場加速與 其他中性粒子碰撞。如此反覆不斷，進而使氣體產生崩潰效應(gas breakdown)，形成電漿狀態。
RIE Mode ( Reactive Ion Etching)
電漿產生型態: Down stream mode
ICP 腔體的結構示意圖，於上電極RF power一般為13.56MHz 或其倍 頻，主要作為控制電漿密度之用，一般稱作source-RF，而陰極電極可 接地。ICP system 最重要的結構之一在於陽極電極的感應線圈設計， HDP 的線圈形式種類繁多，有立體繞組、平面繞組、或多重線圈繞組 等設計。藉以提高電漿解離率，增加效率，也是適合低溫製程，但是 匹配線路複雜。
JetEazy System Co.,Ltd.
Plasma Principles and Eazy Cleaner Tank introduction
Kevin Lo ======================== Jeteazy, Differ From Difference
電漿原理簡介 電漿產生型態介紹 電漿表面處理原理與應用 真空系統電漿設備簡介 Plasma Clean簡介 操作系統簡介
排氣
7)副產物之 去吸附
異向性蝕刻
基板 陰極பைடு நூலகம்
等向性蝕刻