氮化硅陶瓷材料的制备及应用
多晶硅生产用氮化硅陶瓷材料_概述及解释说明
多晶硅生产用氮化硅陶瓷材料概述及解释说明1. 引言1.1 概述本文主要探讨多晶硅生产过程中使用的氮化硅陶瓷材料。
随着现代科技的快速发展，多晶硅作为一种重要的半导体材料，在光电子、电子信息和太阳能等领域具有广泛应用。
而在多晶硅的生产过程中，氮化硅陶瓷材料被广泛应用，以提高工艺效率和产品质量。
1.2 文章结构文章将按照以下结构展开论述。
首先，在“2. 多晶硅生产用氮化硅陶瓷材料的概述”部分，介绍多晶硅生产的重要性，并详细探讨氮化硅陶瓷材料在多晶硅生产中的应用及其特点与优势。
接着，在“3. 氮化硅陶瓷材料的制备方法和工艺流程”部分，将介绍传统和先进的氮化硅陶瓷制备方法，并简要概述工艺流程。
在“4. 多晶硅生产用氮化硅陶瓷材料的性能考察与分析”部分，将对该材料的物理性能、化学性能和结构性能进行综合考察和分析。
最后，在“5. 结论与展望”部分，将总结研究成果并展望氮化硅陶瓷材料在多晶硅生产中的未来发展前景以及实际应用前景。
1.3 目的通过本文的撰写，旨在全面介绍多晶硅生产过程中所使用的氮化硅陶瓷材料。
通过对其概述、制备方法、工艺流程以及性能考察与分析的探讨，可以更好地了解该材料在多晶硅生产中的重要作用和优势。
同时，通过对未来发展前景和实际应用前景的展望，为相关领域的科研人员提供新思路和参考，促进相关技术和产业的进一步发展。
2. 多晶硅生产用氮化硅陶瓷材料的概述2.1 多晶硅生产的重要性多晶硅是一种重要的半导体材料，广泛应用于太阳能电池、集成电路和光纤等领域。
在多晶硅的生产过程中，需要使用到一种高温耐腐蚀、高强度和高密度的陶瓷材料作为反应容器和保护层。
氮化硅陶瓷材料因其优异的物理性能以及良好的化学稳定性而被广泛选用。
2.2 氮化硅陶瓷材料在多晶硅生产中的应用氮化硅陶瓷材料在多晶硅生产中有多种应用。
首先，它可以作为反应容器，在高温条件下承受精确控制的化学反应过程。
其次，氮化硅陶瓷材料还可以作为衬底或者保护层，提供对多晶硅棒或片子的支撑和防护功能。
氮化硅的性质与应用
氮化硅简介氮化硅，分子式为Si3N4,是一种重要的结构陶瓷材料。
它是一种超硬物质，本身具有润滑性，并且耐磨损，为原子晶体；氮化硅除氢氟酸外，它不与其他无机酸反应(反应方程式：Si3N4+16HF═3SiF4↑+4NH4F），抗腐蚀能力强，高温时抗氧化。
而且它还能抵抗冷热冲击，在空气中加热到1 000 ℃以上，急剧冷却再急剧加热，也不会碎裂。
正是由于氮化硅陶瓷具有如此优异的特性，人们常常利用它来制造轴承、气轮机叶片、机械密封环、永久性模具等机械构件。
如果用耐高温而且不易传热的氮化硅陶瓷来制造发动机部件的受热面，不仅可以提高柴油机质量，节省燃料，而且能够提高热效率。
我国及美国、日本等国家都已研制出了这种柴油机。
应用【氮化硅的应用】氮化硅用做高级耐火材料，如与sic结合作SI3N4-SIC耐火材料用于高炉炉身等部位；如与BN结合作SI3N4-BN材料，用于水平连铸分离环。
SI3N4-BN系水平连铸分离环是一种细结构陶瓷材料，结构均匀，具有高的机械强度。
耐热冲击性好，又不会被钢液湿润，符合连珠的工艺要求。
见下表更多信息物理性质相对分子质量140.28。
灰色、白色或灰白色。
六方晶系。
晶体呈六面体。
密度3.44。
硬度9~9.5，努氏硬度约为2200，显微硬度为32630MPa。
熔点1900℃（加压下）。
通常在常压下1900℃分解。
比热容为0.71J/(g·K)。
生成热为-751.57kJ/mol。
热导率为16.7W/(m·K)。
线膨胀系数为2.75×10-6/℃(20~1000℃)。
不溶于水。
溶于氢氟酸。
在空气中开始氧化的温度1300~1400℃。
比体积电阻，20℃时为1.4×105 ·m,500℃时为4×108 ·m。
弹性模量为28420~46060MPa。
耐压强度为490MPa（反应烧结的）。
1285摄式度时与二氮化二钙反应生成二氮硅化钙，600度时使过渡金属还原，放出氮氧化物。
氮化硅陶瓷的应用领域
氮化硅陶瓷的应用领域
氮化硅陶瓷是以氮化硅为主要原料制成的高温陶瓷材料，具有极高的抗腐蚀性、热稳
定性和强度，因此在众多领域有广泛的应用前景。
1. 电子工业方面：氮化硅陶瓷在电子工业中的应用非常广泛，如射频阻抗匹配器、
化学气相沉积反应器等，其稳定性和高档次的外观制造使其成为电子乃至IT业中不可或缺的材料。
2. 光学领域：在高清晰、快速测量等技术领域中，氮化硅陶瓷被广泛应用。
其光学
性能极佳，特别是在几何学光学、光学焦点和定位方面，能够实现非常高的精度。
3. 医疗器械和生命科学领域：氮化硅陶瓷不仅具有抗腐蚀性和抗磨损性，还具有良
好的生物相容性和无毒性，能够用于医疗器械和生物设备的制造。
例如人工关节、植入物、牙科等领域。
4. 陶瓷刀具领域：氮化硅陶瓷具有硬度高、耐磨性好、抗腐蚀性强等优良性能，非
常适合用于生产切割工具，如陶瓷刀、电子半导体加工用刀、切纸刀、切肉刀等。
5. 焊接领域：氮化硅陶瓷非常适合作为焊接工具，如封装和电路板上的压接针头和
传送轮。
6. 机械工程领域：氮化硅陶瓷还用于制造轴承、气动间隙、塑料注塑机件、传动系
统等。
总之，氮化硅陶瓷因其优异的物理性能，并且几乎对任何一种化学物质都有极高的抗
腐蚀性能，使得其具有非常广泛的应用前景。
氮化硅材料的制备与优化
氮化硅材料的制备与优化氮化硅是一种先进的材料，具有高温、高硬度、高耐磨、高化学稳定性等优良性能，被广泛应用于半导体、能源、照明、航空航天等领域。
氮化硅材料的制备与优化是实现其广泛应用的必要步骤。
一、氮化硅材料的制备方法1.氮化硅粉末制备法氮化硅粉末是制备氮化硅陶瓷的最基础材料。
目前制备氮化硅粉末的方法主要有两种：气相法和固相法。
气相法是将硅源和氨气混合，在高温下反应生成氮化硅粉末。
但气相法制备的氮化硅粉末成本高，难以控制粒径分布，通常用于制备高纯度、细颗粒的氮化硅粉末。
固相法是将硅和氨在高温下进行固相反应，生成氮化硅粉末。
这种方法简单易行，材料成本低，但是氮化硅粉末的纯度和晶相受到限制。
2.氮化硅制备法除了粉末制备法，氮化硅还可以通过其他方式进行制备，如反应烧结法、热压法、等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）、离子束沉积法（IBAD）等。
* 反应烧结法：将氮化硅粉末与其他添加剂混合后，在高温下进行烧结得到氮化硅陶瓷。
该法制备的氮化硅陶瓷密度高、硬度大，但是制备周期长、成本高。
* 热压法：将氮化硅粉末以及其他添加剂加热至一定温度，随后利用高压使粉末烧结，形成氮化硅陶瓷。
与反应烧结法相比，热压法的制备周期短、精度高，但成本仍然相对较高。
* PECVD法：该法通过等离子体对硅源和氨气反应生成氮化硅薄膜。
PECVD法制备的薄膜具有良好的光学、电学、力学性能，可以应用于光学涂层、电子器件等领域。
* IBAD法：该法通过电子束或离子束轰击氮化硅陶瓷基板并沉积氮化硅薄膜，可以制备高质量、高均匀性的氮化硅陶瓷基板和薄膜。
二、氮化硅材料的优化设计除了制备方法，氮化硅材料的优化设计也是提高其性能的重要方法。
氮化硅的优化设计主要包括以下几个方面：1.控制晶相晶相是氮化硅材料的一个重要性能指标。
硅-氮化硅体系共有3种晶相：α-氮化硅，β-氮化硅和δ-氮化硅。
α-氮化硅具有高硬度、高熔点、低膨胀系数等优良性能。
但是，α-氮化硅的加工难度大，易出现裂纹；β-氮化硅制备成本低，加工性良好；δ-氮化硅的抗裂纹性能最好，但硬度较低。
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氮化硅微粉的制备方法及应用现状
氮化硅（Si3N4）是重要的陶瓷结构材料，具有密度和热膨胀系数小、硬度大、弹性模量高以及热稳定性、化学稳定性和电绝缘性好等特点，此外，它还耐腐蚀、抗氧化，具有表面摩擦系数小等优点，广泛应用于冶金，化工，机械，航空，航天及能源等领域。
一、氮化硅微粉的制备方法
1、硅粉直接氮化法
该方法采用化学纯的硅粉（分析纯：95%以上）在NH3，N2+H2或N2气氛中直接与氮反应实现，其反应方程式如下：
硅粉直接氮化合成Si3N4微细粉的优点是工艺流程简单，成本低。
缺点是该方法反应慢。
需较高的反应温度和较长的反应时间，制备的Si3N4粒径分布较宽，需要进一步经过粉碎、磨细和纯化才能达到质量要求。
2、SiO2还原氮化法
将SiO2的细粉与碳粉混合后，通过热还原首先生成SiO，然后SiO再被氮化生成块状的Si3N4。
总的化学反应式为：
SiO2还原氮化法的特点是原料来源丰富，反应产物是疏松粉末，与硅粉氮化产物不需要进行粉碎处理，从而避免了杂质的重新引入，所以用该法制得Si3N4粉末粒型规整，粒度分布窄。
3、液相法
液相法的化学反应式如下：
该方法关键在于制备纯的硅亚胺。
SiCl4和NH3为放热放映，常温下很容易反应。
所以工艺上要求控制反应速度和除净副产物。
采用这种方法生。
【精品文章】一文了解氮氧化硅材料制备方法及应用
一文了解氮氧化硅材料制备方法及应用
氮氧化硅材料主要有氮氧化硅复合陶瓷、氮氧化硅薄膜材料及介孔氮氧化硅材料，氮氧化硅（Si2N2O）复合陶瓷具有抗热震、抗氧化、高致密度和优异的力学性能及化学稳定性等优点，是一种性能优异高温结构材料；氮氧化硅薄膜具有折射率可控、薄膜应力可调和在室温及可见光范围内光致发光的性质，广泛应用于集成电路、光学器件、光波导材料、非易失性存储器及离子传感器等领域。
一、氮氧化硅复合陶瓷
为了改善氮化硅陶瓷韧性差的问题，Si3N4陶瓷基础上加入SiO2高温生成Si2N2O，合成Si3N4/Si2N2O复合陶瓷。
氮氧化硅复合陶瓷制备方法主要有原位烧结法、凝胶注模和硅溶胶浸渗法。
氮氧化硅复合陶瓷
1、原位烧结法
原位烧结法制备氮氧化硅复合陶瓷是以Y2O3和Al2O3作为烧结助剂，通过液相烧结非晶纳米Si3N4陶瓷粉体，经过原位反应成功合成了细晶
Si3N4/Si2N2O复合陶瓷。
其反应方程式如下：
4 Si3N4＋3O2 → 6Si2N2O＋2N2
目前，原位烧结技术是合成氮氧化硅复合材料较为常用的方法，一般采用Y2O3和Al2O3作为烧结助剂，经过一步原位反应，合成需要的复合材料。
该方法优点是：易于操作，工艺过程简单。
缺点是但是原位反应通常在高温下进行，成本较高，而且复合材料中成分含量不易控制。
氮氧化硅粉体SEM图片。
氮化硅陶瓷粉末
氮化硅陶瓷粉末氮化硅陶瓷粉末，是一种具有优异性能的陶瓷材料，广泛应用于高温、高压和耐腐蚀等极端环境中。
本文将从氮化硅陶瓷粉末的性质、制备工艺、应用领域等方面进行阐述。
一、氮化硅陶瓷粉末的性质氮化硅陶瓷粉末具有许多优异的性质，如高硬度、高强度、优异的耐磨性、耐腐蚀性和耐高温性等。
它的硬度接近于金刚石，仅次于碳化硅陶瓷。
同时，氮化硅陶瓷粉末具有优异的导热性能，其导热系数远高于普通陶瓷材料，可达到100-200 W/(m·K)。
此外，它还具有良好的绝缘性能和较低的热膨胀系数，能够在高温环境下保持稳定的性能。
氮化硅陶瓷粉末的制备主要通过高温反应法进行。
一种常用的制备方法是将硅粉和氨气在高温下进行反应，生成氮化硅粉末。
在制备过程中，需要严格控制反应温度和气氛，以确保反应的进行和产物的纯度。
三、氮化硅陶瓷粉末的应用领域氮化硅陶瓷粉末由于其优异的性能，在多个领域得到广泛应用。
首先，在电子行业中，氮化硅陶瓷粉末可用于制备高导热性的散热器和散热模块，有效降低电子元器件的温度，提高其工作性能和寿命。
其次，在机械工程领域，氮化硅陶瓷粉末可用于制备高硬度和耐磨性的零部件，如轴承、密封件和切削工具等。
此外，氮化硅陶瓷粉末还可应用于化学工业、医疗器械和航空航天等领域，用于制备耐腐蚀、耐高温的设备和零部件。
氮化硅陶瓷粉末是一种具有优异性能的陶瓷材料，广泛应用于高温、高压和耐腐蚀等极端环境中。
它的制备工艺相对简单，但需要严格控制反应条件以确保产物的纯度。
在电子、机械、化工等领域中，氮化硅陶瓷粉末发挥着重要的作用，为各行各业提供了高性能的材料解决方案。
随着科学技术的不断发展，相信氮化硅陶瓷粉末将在更多领域展现其巨大的潜力和价值。
氮化硅陶瓷牙科修复材料研究进展
氮化硅陶瓷牙科修复材料研究进展摘要：氮化硅陶瓷牙科修复材料作为一种新型高性能陶瓷牙科修复材料已经引起广泛关注。
其优点包括高硬度、高强度、高温度稳定性、良好的生物相容性等。
本文综述氮化硅陶瓷牙科修复材料的制备及应用领域，着重介绍了其在全瓷牙修复、全口修复、种植修复、颜色修复、外科修复和辅助设备制作等方面的应用。
同时，还对当前研究中存在的问题及未来研究方向进行了分析和探讨。
关键词：氮化硅陶瓷；牙科修复材料；研究一、氮化硅胶瓷的基本特性1. 化学成分和微观结构特性：氮化硅陶瓷是由氮化硅（Si3N4）颗粒和玻璃相组成的复合材料。
其中，氮化硅晶体的晶粒尺寸一般为0.5~3μm，玻璃相的成分包括硅酸盐和氧化铝。
氮化硅陶瓷具有高硬度，高抗磨性、高强度、高耐热性、低密度、低热膨胀系数、优异的绝缘性能和化学稳定性。
2. 物理力学性能：氮化硅陶瓷具有极高的硬度（达到20GPa以上）、优异的抗弯强度、抗压强度和断裂韧性。
其力学性能取决于氮化硅晶体和玻璃相之间的相互作用，因此，材料的制备方法和烧结工艺对其力学性能有很大影响。
3. 生物相容性：氮化硅陶瓷在医学领域应用广泛，如人工关节、牙科种植体等医疗器械中均有使用。
其生物相容性良好，不会引起明显的毒性反应和排斥反应，而且能够促进骨细胞的附着和生长，有利于修复和再生骨组织。
然而，其使用仍需谨慎，需要充分考虑材料的生物相容性、力学性能和制备工艺等因素。
二、氮化硅陶瓷牙科修复材料的优缺点氮化硅陶瓷牙科修复材料被广泛应用于牙科修复领域，并受到了牙医和患者的认可。
以下是氮化硅陶瓷牙科修复材料的优缺点。
（一）优点1. 良好的生物相容性：氮化硅陶瓷材料具有良好的生物相容性，不引起过敏、溶解或其他不良反应。
2. 良好的美观性：氮化硅陶瓷材料具有良好的透明度和颜色稳定性，与牙齿自然相似，可以有效地改善牙齿的外表美观度。
1 北京中医药大学东直门医院口腔科3. 良好的力学性能：氮化硅陶瓷材料具有良好的强度和硬度，可以承受牙齿的咬合力和咀嚼力。
氮化硅的制备、性质及应用
氮化硅的制备、性质及应用一、氮化硅的制备氮化硅（Si3N4）是一种高性能陶瓷材料，具有极高的硬度、耐热性、耐腐蚀性和机械强度。
在高温、高压、化学侵蚀和磨损等环境中都能够保持稳定的性能，因此被广泛地应用于诸如机械制造、航空航天、电子、能源等领域。
其制备主要有以下几种方法：1.1 气相沉积法(Gas-Phase Deposition)氮化硅经常采用气相沉积法制备，一般将硅酸气体和氨混合后，置于反应室内，在高温高压的条件下，氨气和硅源发生氧化还原反应，生成氮化硅。
这种方法可以分为化学气相沉积法(CVD)、低压化学气相沉积法(LPCVD)和物理气相沉积法(PVD)等。
CVD法是将硅源和氨气混合后通过一个加热的反应室，通过热解反应生成氮化硅薄膜。
LPCVD法是在比CVD更低的压力下进行，从而减少了薄膜内的杂质和气孔。
PVD法是将氮化硅蒸发到底材上，通过物理冷凝来生成薄膜。
这三种方法均可以获得高质量的氮化硅薄膜，但设备成本较高。
1.2 热压法(Hot-Pressing)热压法是利用模压设备，在高温和高压下对加工的氮化硅粉末进行压缩成形。
在这个过程中，氮化硅粉末粒子被压实在一起形成高性能的氮化硅材料。
此方法适用于制备较厚的氮化硅坯体，但制造成本较高。
1.3 热等静压法(Hot Isostatic Pressing)热等静压法是在高温和高压的条件下，通过固态反应生成氮化硅。
这种方法通过将氮化硅粉末置于气密的容器中，通过加热和压缩气体的方式进行固态反应。
与热压法相比，这种方法可以制备更大尺寸范围内的氮化硅零件，并且可以减少气孔和缺陷。
二、氮化硅的性质氮化硅是一种重要的工程陶瓷材料，具有许多优异的物理和化学特性。
以下是氮化硅的主要特性：2.1 高硬度与热稳定性氮化硅具有非常高的硬度，通常为9到10的莫氏硬度。
在极端条件下，如高温热应力、化学侵蚀和高压下，氮化硅能够保持稳定的物理特性和化学特性。
2.2 良好的热导性和电绝缘性氮化硅具有较高的热导性和良好的电绝缘性能，这使得它在电子行业和热管理行业中具有良好的应用前景。
氮化硅陶瓷材料
氮化硅陶瓷材料Document serial number【UU89WT-UU98YT-UU8CB-UUUT-UUT108】摘要氮化硅陶瓷是一种具有广阔发展前景的高温、高强度结构陶瓷，它具有强度高、抗热震稳定性好、疲劳韧性高、室温抗弯强度高、耐磨、抗氧化、耐腐蚀性能好等高性能，已被广泛应用于各行各业。
本文介绍了氮化硅陶瓷的基本性质，综述了氮化硅陶瓷的制备工艺和国内外现代制造业中的应用，并展望了氮化硅陶瓷的发展前景。
Abtract：Silicon nitride ceramic is a broad development prospects of high temperature, high strength structural ceramics, it has high strength, thermal shock stability, high temperature fatigue toughness, high bending strength, wear resistance, oxidation resistance,corrosion resistance and good performance of high performance, has been widely used in all walks of life. This paper introduces thebasic properties of silicon nitride ceramics, reviews the fabricating technique of silicon nitride ceramics at home and abroad and modern manufacturing industry in the application, and looks forward to the development prospect of silicon nitride ceramics.氮化硅陶瓷材料关键词氮化硅陶瓷性能制备工艺应用Key words properties of silicon nitride ceramic preparation process and Application1.前言随着现代科学技术的发展，各种零部件的使用条件愈加苛刻（如高温、强腐蚀等），对新材料的研究和应用提出了更高的要求，传统的金属材料由于自身耐高温、抗腐蚀性能差等弱点已难以满足科技日益发展对材料性能的要求，现亟待开发新材料。
氮化硅陶瓷的用途
氮化硅陶瓷的用途一、高温结构材料由于氮化硅陶瓷具有出色的抗高温和抗腐蚀性能，可用作高温结构材料。
在航空航天领域，氮化硅陶瓷可以用作火箭发动机喷嘴材料，可承受极高的温度和压力。
在石化和冶金领域，氮化硅陶瓷可用于高温炉窑中的隔热层、传热介质和耐火材料，可以提高炉窑的工作温度和热效率。
二、磨擦材料氮化硅陶瓷具有高硬度和高抗磨性能，可用作磨料或磨具，广泛用于研磨和磨削领域。
例如，在砂轮、砂带、砂纸等磨具中，添加氮化硅颗粒可以提高磨具的磨削效率和使用寿命。
此外，氮化硅陶瓷也可用于切削工具的制备，如钻头、砂轮和刀片等，具有较高的耐磨性和切削性能。
三、电子材料氮化硅陶瓷是一种优异的电绝缘体，可用于电子器件的绝缘层。
例如，在半导体器件中，氮化硅陶瓷可用于制备高温绝缘层、感应层和介电层等，以提高器件的电气性能和稳定性。
此外，氮化硅陶瓷还可用于制备电子封装材料，如陶瓷材质的外壳、基板和连接器等，具有良好的机械强度和尺寸稳定性。
四、摩擦材料氮化硅陶瓷具有优异的热传导性能和机械强度，可用于制备摩擦材料。
在汽车和摩托车制动系统中，氮化硅陶瓷可用作刹车盘和刹车片，具有良好的耐磨性、耐高温性和抗腐蚀性能。
与传统的金属材料相比，氮化硅陶瓷制备的刹车片可以减少刹车时的摩擦热量和磨损量，提高制动效果和使用寿命。
五、光学材料氮化硅陶瓷具有优异的光学性能，如高透光率、低散射率和优良的折射率。
因此，它可用于光学材料的制备。
例如，在光学仪器和激光器中，氮化硅陶瓷可用作窗口、棱镜和透镜等元件，以提高光学系统的光学传输和成像质量。
此外，氮化硅陶瓷还可用于制备红外窗口和激光输出窗口等各种耐腐蚀和高温的光学器件。
综上所述，氮化硅陶瓷具有广泛的应用领域，包括高温结构材料、磨擦材料、电子材料、摩擦材料和光学材料等。
随着科学技术的进步和应用的推广，相信氮化硅陶瓷将在更多的领域发挥重要的作用。
氮化硅陶瓷生产工艺
氮化硅陶瓷生产工艺概述氮化硅陶瓷是一种具有优异性能的高级陶瓷材料，具有高强度、高硬度、耐磨损、耐腐蚀、耐高温、绝缘性好等特点。
它广泛应用于电子、光电子、航空航天等领域，是一种非常重要的功能性材料。
氮化硅陶瓷的生产工艺包括原料制备、成型、烧结和加工等过程。
本文将分别介绍氮化硅陶瓷的生产工艺的各个环节。
原料制备氮化硅陶瓷的制备主要使用硅粉和氨气作为原料。
硅粉通常通过矽石经破碎、磨粉等工艺制备而成。
而氨气则通过氮气与氢气在一定的温度和压力条件下催化反应生成。
硅粉的质量对氮化硅陶瓷的性能有着重要影响，因此在制备过程中需要选择高纯度、合适粒度的硅粉，并进行粉体分析控制。
而氨气的制备则需要严密的气体处理，保证其纯度和稳定性。
成型成型是氮化硅陶瓷生产过程中的一个关键步骤。
目前常用的成型方法主要包括浸渍成型，注射成型和热挤压成型。
浸渍成型浸渍成型是将浸泡在硅橡胶或有机溶剂中的陶瓷颗粒通过真空抽吸或压力脱模等方式，在模具中形成一定形状的陶瓷胚料。
然后通过烘干、烧结等工艺，使胚料转变为坚硬的陶瓷制品。
注射成型注射成型是将氮化硅浆料注射到成型模具中，在模具中形成所需形状的陶瓷制品。
然后通过烘干、烧结等工艺，使浆料凝固转变为坚硬的陶瓷制品。
热挤压成型热挤压成型是将高温高压下的氮化硅浆料挤出模具，经过高温固化形成坚硬的陶瓷制品。
以上成型方法各有优缺点，具体使用哪种方法需要根据产品的要求和生产成本等因素来决定。
烧结烧结是氮化硅陶瓷生产过程中的关键步骤之一。
通过高温处理，使成型的陶瓷制品在固态下发生烧结作用，使颗粒之间发生结合，获得致密的陶瓷材料。
氮化硅的烧结需要在高温、无氧气氛下进行，通常使用电阻炉或炭化炉进行。
在烧结过程中，要控制烧结温度、保持一定的烧结时间，以获得理想的烧结效果。
烧结后的陶瓷制品需要进行冷却、清洗等处理，以达到要求的产品质量。
加工烧结后的陶瓷制品需要进行加工，以获得最终的产品形态和尺寸。
常用的加工方法包括磨削、切割、抛光等。
氮化硅陶瓷的制备工艺及其热力学性能分析
氮化硅陶瓷的制备工艺及其热力学性能分析氮化硅陶瓷是一种新型的高性能陶瓷材料，具有很高的硬度、热稳定性和化学稳定性，因此在航天、电子、汽车等领域得到了广泛的应用。
本文将重点介绍氮化硅陶瓷的制备工艺和热力学性能分析。
一、氮化硅陶瓷的制备工艺氮化硅陶瓷的制备工艺通常采用化学气相沉积（CVD）或反应烧结法。
其中，CVD是一种制备高质量氮化硅薄膜和涂层的重要方法，而反应烧结法则是一种制备块状氮化硅陶瓷的主要方法。
1. CVD制备氮化硅陶瓷CVD是一种通过在高温下将气体化学物质分解并沉积在衬底上的方法，常用的沉积物包括氧化物、氮化物和碳化物等。
在制备氮化硅陶瓷时，主要反应如下：SiH4 + NH3 → Si3N4 + 3H2其中，SiH4是硅烷，NH3是氨。
这个反应产生的氮化硅沉积物具有相对均匀的成分和微细的晶体尺寸，因此CVD是一种制备高质量氮化硅薄膜和涂层的重要方法。
2. 反应烧结法制备氮化硅陶瓷反应烧结法是指将粉末状的硅和氨在高温下反应生成氮化硅块状陶瓷。
这种方法主要有两个步骤：首先是化学反应生成氮化硅的粉末，然后在高温下进行烧结。
一般的反应方程式为：3Si + 4NH3 → Si3N4 + 6H2硅和氨的混合物首先被热反应生成Si3N4的粉末，然后这些粉末被压缩并烧结成块状氮化硅陶瓷。
反应的烧结温度通常在1700°C以上，并且需要在高真空或惰性气体气氛下进行，以避免氮化硅被氧化。
二、氮化硅陶瓷的热力学性能分析氮化硅陶瓷具有很高的硬度、热稳定性和化学稳定性，这些特性源于其良好的热力学性能。
本节将介绍氮化硅陶瓷的主要热力学性质，包括热膨胀系数、比热容和热导率。
1. 热膨胀系数热膨胀系数是指材料在温度变化下的长度变化率。
对于氮化硅陶瓷来说，其热膨胀系数相对较小，通常在4-5×10^-6/°C左右，这意味着该材料在高温下具有较好的热稳定性和机械稳定性。
2. 比热容比热容是指单位质量材料在吸热或放热过程中所需的热量。
氮化硅的制备性质及应用课件
பைடு நூலகம்
电子工业：氮化硅陶瓷在电子工业中用作基板、 绝缘体、封装材料等，由于其良好的绝缘性能和 耐高温性能，可以提高电子器件的可靠性和稳定 性。
请注意，以上只是对氮化硅的概述，更深入的内 容需要进一步探讨氮化硅的制备工艺、详细性质 以及具体应用领域等方面。
VS
光学材料
氮化硅在光学领域也有应用，如高折射率 光学元件、光波导器件等，得益于其优异 的光学性能和稳定性。
THANKS
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无压烧结
通过添加烧结助剂，降低氮化硅 的烧结温度，使其在常压下实现 致密化。这种方法成本较低，适 用于大规模生产。
其他制备方法
溶胶-凝胶法
将硅源、氮源和溶剂混合，形成溶胶，经过干燥、凝胶化、 热处理等步骤制得氮化硅。这种方法可以在较低温度下制备 氮化硅，但纯度相对较低。
自蔓延高温合成法(SHS)
利用化学反应产生的热量使反应自持续进行，从而合成氮化 硅。这种方法具有能耗低、合成时间短等优点，但产物粒度 较大，需要后续处理。
03
氮化硅的性质
物理性质
01
02
03
04
高硬度
氮化硅具有极高的硬度，是一 种优良的耐磨材料。
耐高温
氮化硅具有出色的高温稳定性 ，能在高温环境下保持优良的
物理性能。
低热膨胀系数
氮化硅的热膨胀系数非常低， 因此具有良好的热稳定性。
优秀的绝缘性能
氮化硅是一种良好的电绝缘体 ，可用于制造高温电子器件。
化学性质
介电材料
氮化硅的介电常数稳定，损耗低，因 此可用作高频和高功率电子器件的介 电材料，如电容器、电感器等。
氮化硅陶瓷化学式-概述说明以及解释
氮化硅陶瓷化学式-概述说明以及解释1.引言1.1 概述概述氮化硅陶瓷是一种重要的无机陶瓷材料，其化学式为Si3N4。
由于其特殊的化学结构和多种优异的性质，氮化硅陶瓷在许多领域都具有广泛应用的前景。
氮化硅陶瓷具有高熔点、高硬度、低热膨胀系数和优异的化学稳定性等特点，使其能够在高温、酸碱和腐蚀等恶劣环境下保持稳定性能。
此外，氮化硅陶瓷还具有良好的机械强度和优异的热导性能，使其在高温、高压和磨损等极端条件下表现出卓越的性能。
氮化硅陶瓷的制备方法主要包括热处理、化学气相沉积、烧结等多种技术。
这些制备方法的选择取决于所需氮化硅陶瓷的性质和应用领域的要求。
目前，研究人员正不断改进氮化硅陶瓷的制备方法，以提高其制备效率和性能。
氮化硅陶瓷在诸多领域具有广泛的应用前景。
在电子领域，氮化硅陶瓷可以用于制作高温、高功率和高频率电子器件。
在能源领域，氮化硅陶瓷可以用于制备先进的燃料电池和太阳能电池等器件。
此外，氮化硅陶瓷还可以应用于航空航天、化工、机械制造等领域，为这些领域的技术发展提供长久稳定的支撑。
展望未来，随着科技的不断进步和研究的深入，我们有理由相信氮化硅陶瓷将在更多领域展现其潜力和价值。
然而，同时也需要克服氮化硅陶瓷制备过程中的一些问题和挑战，提高其性能和降低制备成本，以更好地满足实际应用的需求。
总之，氮化硅陶瓷作为一种重要的无机陶瓷材料，具有许多独特的性质和广泛的应用前景。
在科学家和工程师的不懈努力下，相信氮化硅陶瓷将在各个领域发挥重要作用，促进社会的进步和发展。
1.2文章结构文章结构部分的内容可以包括以下几个方面：1.2 文章结构本文将按照以下结构进行论述：第一部分是引言部分，主要包括概述、文章结构以及目的。
在概述中，将介绍氮化硅陶瓷的一般情况，包括其化学式、性质和制备方法。
文章结构部分将呈现本文的组织结构，为读者提供整体的了解。
而在目的部分，将阐明本文的研究目的和意义。
第二部分是正文，将分为三个小节。
第一小节将详细介绍氮化硅的化学式，解释其组成和结构。
纳米氮化硅陶瓷的制备及其热力学性能研究
纳米氮化硅陶瓷的制备及其热力学性能研究近年来，随着纳米科技的不断发展，纳米材料在许多领域都被广泛应用，其中纳米氮化硅材料在材料科学、化学等领域都具有广阔的应用前景。
本文将介绍纳米氮化硅陶瓷的制备及其热力学性能研究。
制备方法纳米氮化硅陶瓷的制备方法有很多种，目前最常用的方法包括溶胶-凝胶法、卤化物热分解法、氮化物还原法等。
其中，溶胶-凝胶法是目前应用最为广泛的方法之一。
溶胶-凝胶法是指把某些金属离子或有机物解离成溶胶，然后通过加热和干燥等过程使其凝结成凝胶，最后通过高温烧结成为氮化硅陶瓷。
这种方法的优点是制备过程简单、成本低、坯体易于成型，且其材料粒度可以控制在纳米级别，具有较高的比表面积和催化活性。
热力学性能研究热力学性能是指材料在高温下的稳定性、热导率、热膨胀系数、热容等性能。
纳米氮化硅陶瓷具有较高的热稳定性，可以耐受高温下的氧化和热膨胀。
此外，它还具有优异的热导率和热膨胀系数。
这些性能使得纳米氮化硅陶瓷被广泛应用于高温结构材料、电子器件、化学催化剂等领域。
热膨胀系数是材料在温度变化时长度的变化与原长度比值的度量。
纳米氮化硅陶瓷的热膨胀系数一般在2.6×10-6至4.7×10-6/K之间，随着温度的升高呈现先增大后减小的趋势。
热导率是材料传导热的能力，它与材料的导热系数、比热容等因素有关。
纳米氮化硅陶瓷的热导率一般在20~40 W/m·K之间，因其具有较高的热电子运动能力和相对稳定的结构，热导率较高。
总之，纳米氮化硅陶瓷具有优异的热力学性能，其制备方法简单、成本低。
随着其在材料科学、化学等领域的广泛应用，这种新型研究材料将为人们带来更多惊喜。
氮化硅陶瓷讲解
氮化硅陶瓷讲解氮化硅陶瓷及其制备成型工艺氮化硅（Si3N4）是氮和硅的化合物。
在自然界里，氮、硅都是极其普通的元素。
氮是生命的基础，硅是无机世界的主角，这两种元素在我们生活的世界上无所不在，然而，至今人们还未发现自然界里存在这两种元素的化合物。
氮化硅是在人工条件下合成的化合物。
虽早在140 多年前就直接合成了氮化硅，但当时仅仅作为一种稳定的“难熔”的氮化物留在人们的记忆中。
二次大战后，科技的迅速发展，迫切需要耐高温、高硬度、高强度、抗腐蚀的材料。
经过长期的努力，直至1955 年氮化硅才被重视，七十年代中期才真正制得了高质量、低成本，有广泛重要用途的氮化硅陶瓷制品。
开发过程为何如此艰难，这是因为氮化硅粉体和氮化硅陶瓷制品之间的性能和功能相差甚远，没有一个严格而精细的对氮化硅粉体再加工过程，是得不到具有优异性能的氮化硅陶瓷制品的。
没有氮化硅陶瓷就没有氮化硅如今的重要地位。
Si3N4 是以共价键为主的化合物，键强大，键的方向性强，结构中缺陷的形成和迁移需要的能量大，即缺陷扩散系数低（缺点），难以烧结，其中共价键Si-N 成分为70 % ，离子键为30 % ，同时由于Si3N4 本身结构不够致密，从而为提高性能需要添加少量氧化物烧结助剂，通过液相烧结使其致密化。
Si3N4 含有两种晶型，一种为α-Si3N4，针状结晶体，呈白色或灰白色，另一种为β-Si3N4，颜色较深，呈致密的颗粒状多面体或短棱柱体。
两者均为六方晶系，都是以[SiN4]4-四面体共用顶角构成的三维空间网络。
在高温状态下，β相在热力学上更稳定，因此α相会发生相变，转为β相。
从而高α相含量Si3N4 粉烧结时可得到细晶、长柱状β-Si3N4 晶粒，提高材料的断裂韧性。
但陶瓷烧结时必须控制颗粒的异常生长，使得气孔、裂纹、位错缺陷出现，成为材料的断裂源。
在工业性能上，Si3N4 陶瓷材料表现出了较好的工艺性能。
（1）机械强度高，硬度接近于刚玉，有自润滑性耐磨；（2）热稳定性高，热膨胀系数小，有良好的导热性能；（3）化学性能稳定，能经受强烈的辐射照射等等。
氮化硅陶瓷概述
总结词
氮化硅陶瓷在航空航天领域中主要用于制造高温部件和结构 件，如燃烧室、喷嘴、涡轮等。
详细描述
由于氮化硅陶瓷具有出色的高温稳定性和抗氧化性能，因此 在航空航天领域中广泛应用于制造各种高温部件和结构件。 例如，氮化硅陶瓷燃烧室能够承受极高的温度和压力，从而 提高航空发动机的效率和可靠性。
汽车工业
总结词
氮化硅陶瓷概述
目 录
• 氮化硅陶瓷的定义与特性 • 氮化硅陶瓷的制备方法 • 氮化硅陶瓷的应用领域 • 氮化硅陶瓷的发展前景与挑战
01 氮化硅陶瓷的定义与特性
定义
01
氮化硅陶瓷是一种无机非金属材 料，由硅和氮元素以化学键结合 而成。
02
它具有高硬度、高强度、低热膨 胀系数等特点，被广泛应用于高 温、耐磨、耐腐蚀等极端环境下 的应用。
物理特性
01
02
03பைடு நூலகம்
高硬度
氮化硅陶瓷的硬度仅次于 金刚石和碳化硅，具有极 佳的耐磨性和耐划痕性。
高温稳定性
在高温下仍能保持优良的 力学性能和稳定性，可在 高达1200℃以上的高温环 境下长期使用。
低热膨胀系数
氮化硅陶瓷的热膨胀系数 接近于零，因此具有优良 的热稳定性，能够适应温 度变化较大的工作环境。
面临的挑战
高成本
氮化硅陶瓷的制备工艺复 杂，成本较高，限制了其 在一些领域的广泛应用。
性能稳定性
氮化硅陶瓷的力学性能和 热稳定性有待进一步提高， 以满足某些极端条件下的 应用需求。
生产规模
目前氮化硅陶瓷的生产规 模相对较小，难以满足大 规模市场需求，需要进一 步扩大生产规模。
未来研究方向
性能提升
溶胶-凝胶法
总结词
氮化硅制备
氮化硅制备
氮化硅是一种常用的高性能陶瓷材料，它具有优良的高温强度、高硬度、良好的耐磨性和化学稳定性等特点，被广泛应用于电子、光电、化工和制造业等领域。
那么，氮化硅是怎样制备得到的呢？下面我们来看一下氮化硅的制备过程。
1. 原料准备
制备氮化硅的原料主要有硅粉和氨气。
硅粉一般采用高纯度晶体硅，氨气可以通过氧化铵和碳质材料反应制得。
2. 混合制备
将硅粉和氨气按比例混合，通常需要在高温、高压条件下进行反应。
混合过程中需要控制温度、气氛和气体流量等因素，以保证反应的顺利进行。
3. 氮化反应
混合物经加热后，在氨气气氛下进行氮化反应，将硅体表面上的氧化物还原并作为反应生成物的一部分排放出去。
生成的尚未氮化的硅粉经过反复的反应脱氧，最终得到含有氮化硅的粉末。
4. 热压成型
经过氮化反应得到的氮化硅粉末需要通过热压成型来制成具有一定形状和尺寸的氮化硅制品。
在高温高压的条件下，将氮化硅粉末加压成
型，并对样品进行热处理，以进一步提高其物理性能。
总之，氮化硅制备是一个复杂的过程，但其具有的优良性能使其成为现代高科技制造领域中不可或缺的一部分。
氮化硅陶瓷生产工艺
氮化硅陶瓷生产工艺氮化硅陶瓷是一种高性能、高强度、高硬度、高耐磨、高耐腐蚀的陶瓷材料，广泛应用于机械、电子、化工等领域。
氮化硅陶瓷的生产工艺包括原料准备、成型、干燥、烧结和加工等环节。
1. 原料准备氮化硅陶瓷的主要原料是氮化硅粉末和添加剂。
氮化硅粉末需要经过筛分和分级处理，以保证粒度均匀。
添加剂可以根据不同的需求选择，常用的有碳化硅和碳化钛等。
2. 成型成型是将原料制成所需形状的过程。
常用的成型方法包括压制法和注塑法。
压制法是将混合好的原料放入模具中，通过加压使其成型。
注塑法则是将混合好的原料通过注射器喷射到模具中进行成型。
3. 干燥干燥是将成型后的陶瓷材料中的水分蒸发掉，以便进行下一步操作。
常用的干燥方法包括自然风干和烘干。
自然风干是将成型后的陶瓷材料放置在通风良好的地方，让其自然风干。
烘干则是将成型后的陶瓷材料放入烤箱中进行加热，使其快速蒸发水分。
4. 烧结烧结是将干燥后的陶瓷材料进行高温处理，使其形成致密的结构。
常用的烧结方法有氮化硅粉末反应烧结法和气相反应法。
氮化硅粉末反应烧结法是将混合好的原料放入高温电阻加热器中进行加热，并通过控制气氛、温度、时间等参数来实现陶瓷材料的致密化。
气相反应法则是将混合好的原料放入高温反应室中，在特定气氛下进行高温反应，使其形成致密结构。
5. 加工加工是对已经成型和烧结好的陶瓷材料进行切削、打孔、抛光等操作，以得到所需形态和尺寸。
常用的加工方法包括机械加工、电火花加工和激光加工等。
总之，氮化硅陶瓷的生产工艺包括原料准备、成型、干燥、烧结和加工等环节。
这些环节需要严格控制各个参数，以保证最终产品的质量和性能。
同时，氮化硅陶瓷的生产也需要投入大量的人力、物力和财力，因此其成本相对较高。
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氮化硅陶瓷材料的制备及应用
氮化硅，子式为Si3N4,是一种重要的结构陶瓷材料。
它是一种超硬物质，本身具有润滑性，并且耐磨损，为原子晶体；高温时抗氧化。
而且它还能抵抗冷热冲击，在空气中加热到1 000 ℃以上，急剧冷却再急剧加热，也不会碎裂。
正是由于氮化硅陶瓷具有如此优异的特性，人们常常利用它来制造轴承、气轮机叶片、机械密封环、永久性模具等机械构件。
如果用耐高温而且不易传热的氮化硅陶瓷来制造发动机部件的受热面，不仅可以提高柴油机质量，节省燃料，而且能够提高热效率。
我国及美国、日本等国家都已研制出了这种柴油机
一、材料的制备
Si3N4 陶瓷的制备技术在过去几年发展很快,制备工艺主要集中在反应烧结法、热压烧结法和常压烧结法、气压烧结法等类型. 由于制备工艺不同,各类型氮化硅陶瓷具有不同的微观结构(如孔隙度和孔隙形貌、晶粒形貌、晶间形貌以及晶间第二相含量等). 因而各项性能差别很大 . 要得到性能优良的Si3N4 陶瓷材料,首先应制备高质量的Si3N4 粉末. 用不同方法制备的Si3N4 粉质量不完全相同,这就导致了其在用途上的差异,许多陶瓷材料应用的失败,往往归咎于开发者不了解各种陶瓷粉末之间的差别,对其性质认识不足. 一般来说,高质量的Si3N4 粉应具有α相含量高,组成均匀,杂质少且在陶瓷中分布均匀,粒径小且粒度分布窄及分散性好等特性. 好的Si3N4 粉中α相至少应占90%,这是由于Si3N4 在烧结过程中,部分α相会转变成β相,而没有足够的α相含量,就会降低陶瓷材料的强度.
1、反应烧结法( RS)
是采用一般成型法,先将硅粉压制成所需形状的生坯,放入氮化炉经预氮化(部分氮化)烧结处理,预氮化后的生坯已具有一定的强度,可以进行各种机械加工(如车、刨、铣、钻). 最后,在硅熔点的温度以上;将生坯再一次进行完全氮化烧结,得到尺寸变化很小的产品(即生坯烧结后,收缩率很小,线收缩率< 011% ). 该产品一般不需研磨加工即可使用. 反应烧结法适于制造形状复杂,尺寸精确的零件,成本也低,但氮化时间很长.
2、热压烧结法( HPS)
是将Si3N4 粉末和少量添加剂(如MgO、Al2O3、MgF2、Fe2O3 等) ,在1916 MPa以上的压强和1600 ℃以上的温度进行热压成型烧结. 英国和美国的一些公司采用的热压烧结Si3N4 陶瓷,其强度高达981MPa以上. 烧结时添加物和物相组成对产品性能有很大的影响. 由于严格控制晶界相的组成,以及在Si3N4 陶瓷烧结后进行适当的热处理,所以可以获得即使温度高达1300 ℃时强度(可达490MPa以上)也不会明显下降的Si3N4系陶瓷材料,而且抗蠕变性可提高三个数量级. 若对Si3N4 陶瓷材料进行1400———1500 ℃高温预氧化处理,则在陶瓷材料表面上形成Si2N2O相,它能显著提高Si3N4 陶瓷的耐氧化性和高温强度. 热压烧结法生产的Si3N4 陶瓷的机械性能比反应烧结的Si3N4 要优异,强度高、密度大. 但制造成本高、烧结设备复杂,由于烧结体收缩大,使产品的尺寸精度受到一定的限制,难以制造复杂零件,只能制造形状简单的零件制品,工件的机械加工也较困难.
3、常压烧结法( PLS)
在提高烧结氮气氛压力方面,利用Si3N4 分解温度升高(通常在N2 = 1atm气压下,从
1800℃开始分解)的性质,在1700———1800℃温度范围内进行常压烧结后,再在1800———2000℃温度范围内进行气压烧结. 该法目的在于采用气压能促进Si3N4 陶瓷组织致密化,从而提高陶瓷的强度.所得产品的性能比热压烧结略低. 这种方法的缺点与热压烧结相似.
4、气压烧结法( GPS)
近几年来,人们对气压烧结进行了大量的研究,获得了很大的进展. 气压烧结氮化硅在1 ～10MPa气压下, 2000℃左右温度下进行. 高的氮气压抑制了氮化硅的高温分解. 由于采用高温烧结,在添加较少烧结助剂情况下,也足以促进Si3N4晶粒生长,而获得密度> 99%的含有原位生长的长柱状晶粒高韧性陶瓷. 因此气压烧结无论在实验室还是在生产上都得到越来越大的重视. 气压烧结氮化硅陶瓷具有高韧性、高强度和好的耐磨性,可直接制取接近最终形状的各种复杂形状制品,从而可大幅度降低生产成本和加工费用. 而且其生产工艺接近于硬质合金生产工艺,适用于大规模生产.
二、材料的应用
对于Si3N4以及Sialon陶瓷烧结体，现已提供了一种不用形成复合材料而保持单一状态的、利用超塑性进行成型的工艺，并提供了一种根据该工艺成型出的烧结体。
把相对密度在95%以上、线密度对于烧结体的二维横截面上的50μm的长度在120～250范围内的氮化硅及Sialon烧结体；在1300～1700℃的温度下通过拉伸或压缩作用使其在小于10-1/秒的应变速率下发生塑性形变从而进行成型。
成型后的烧结体特别在常温下具有优异的机械性能
Si3N4 陶瓷是一种重要的结构材料,它是一种超硬物质,本身具有润滑性,并且耐磨损;除氢氟酸外,它不与其他无机酸反应,抗腐蚀能力强,高温时抗氧化. 而且它还能抵抗冷热冲击,在空气中加热到1, 000℃以上,急剧冷却再急剧加热,也不会碎裂. 正是由于Si3N4 陶瓷具有如此优异的特性,人们常常利用它来制造轴承、气轮机叶片、机械密封环、永久性模具等机械构件. 如果用耐高温而且不易传热的氮化硅陶瓷来制造发动机部件的受热面,不仅可以提高柴油机质量,节省燃料,而且能够提高热效率. 我国及美国、日本等国家都已研制出了这种柴油机.
利用Si3N4 重量轻和刚度大的特点,可用来制造滚珠轴承、它比金属轴承具有更高的精度,产生热量少,而且能在较高的温度和腐蚀性介质中操作. 用Si3N4 陶瓷制造的蒸汽喷嘴具有耐磨、耐热等特性,用于650℃锅炉几个月后无明显损坏,而其它耐热耐蚀合金钢喷嘴在同样条件下只能使用1 - 2个月.由中科院上海硅酸盐研究所与机电部上海内燃机研究所共同研制的Si3N4 电热塞,解决了柴油发动机冷态起动困难的问题,适用于直喷式或非直喷式柴油机. 这种电热塞是当今最先进、最理想的柴油发动机点火装置. 日本原子能研究所和三菱重工业公司研制成功了一种新的粗制泵,泵壳内装有由11个Si3N4 陶瓷转盘组成的转子. 由于该泵采用热膨胀系数很小的Si3N4 陶瓷转子和精密的空气轴承,从而无需润滑和冷却介质就能正常运转. 如果将这种泵与超真空泵如涡轮———分子泵结合起来,就能组成适合于核聚变反应堆或半导体处理设备使用的真空系统.
以上只是Si3N4 陶瓷作为结构材料的几个应用实例,相信随着Si3N4 粉末生产、成型、烧结及加工技术的改进,其性能和可靠性将不断提高,氮化硅陶瓷将获得更加广泛的应用. 近年来,由于Si3N4 原料纯度的提高, Si3N4 粉末的成型技术和烧结技术的迅速发展,以及
应用领域的不断扩大, Si3N4 正在作为工程结构陶瓷,在工业中占据越来越重要的地位. Si3N4 陶瓷具有优异的综合性能和丰富的资源,是一种理想的高温结构材料,具有广阔的应用领域和市场,世界各国都在竞相研究和开发. 陶瓷材料具有一般金属材料难以比拟的耐磨、耐蚀、耐高温、抗氧化性、抗热冲击及低比重等特点. 可以承受金属或高分子材料难以胜任的严酷工作环境,具有广泛的应用前景. 成为继金属材料、高分子材料之后支撑21世纪支柱产业的关键基础材料,并成为最为活跃的研究领域之一,当今世界各国都十分重视它的研究与发展,作为高温结构陶瓷家族中重要成员之一的Si3N4 陶瓷,较其它高温结构陶瓷如氧化物陶瓷、碳化物陶瓷等具有更为优异的机械性能、热学性能及化学稳定性. 因而被认为是高温结构陶瓷中最有应用潜力的材料.
可以预言,随着陶瓷的基础研究和新技术开发的不断进步,特别是复杂件和大型件制备技术的日臻完善, Si3N4 陶瓷材料作为性能优良的工程材料将得到更广泛的应用.
化工材料0901
金肯晗
200944363。