《电子技术基础》-曾令琴-教学课件-5068

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原子结构中: 正电荷
=
负电荷
半导体基础与常用器件
电子技术基础
(1) 导体 )
导体的最外层电子数通常是1~3个,且距原子核较远, 因此受原子核的束缚力较小。由于温度升高、振动等外界 的影响,导体的最外层电子就会获得一定能量,从而挣脱 原子核的束缚而游离到空间成为自由电子。因此,导体在 常温下存在大量的自由电子,具有良好的导电能力。常用 的导电材料有银、铜、铝、金等。
何谓杂质半导体中的多子 和少子 ?N型半导体中的多
子是什么?少子是什么? 子是什么?少子是什么? 自由电子导电和空 穴导电的区别在哪 里?空穴载流子的 形成是否由自由电 子填补空穴的运动 形成的? 形成的?
P型半导体中的空穴 型半导体中的空穴 多于自由电子, 多于自由电子,是否 意味着带正电?
半导体基础与常用器件
硅原子和锗原子的简化模型图
半导体基础与常用器件
电子技术基础 天然的硅和锗是不能制作成半导体器件的。它们必须先经 过高度提纯,形成晶格结构完全对称的本征半导体。
晶格结构
+4 +4 +4
实际上半导体的 晶格结构是三维 的。
+4
+4
+4
+4
+4
+4
共价键结构
本征半导体原子核最外层的价电子都是4个,称为四价元 素,它们排列成非常整齐的晶格结构。在本征半导体的晶格 结构中,每一个原子均与相邻的四个原子结合,即与相邻四 共价键结构。 个原子的价电子两两组成电子对,构成共价键结构

原子核
内部几乎没有自由电子, 因此不导电。
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电子技术基础
(3) 半导体 )
半导体的最外层电子数一般为4个,在常温下存在的自 由电子数介于导体和绝缘体之间,因而在常温下半导体的 导电能力也是介于导体和绝缘体之间。 常用的半导体材料有硅、锗、硒等。
半导体的特点:

原子核
导电性能介于导体和绝缘体之 间,但具有光敏性、热敏性和参 杂性的独特性能,因此在电子技 术中得到广泛应用。
N区
内电场
半导体基础与常用器件
电子技术基础 动画演示
半导体基础与常用器件
电子技术基础 PN结形成的过程中,多数载流子的扩散和少数载流子的 漂移共存。开始时多子的扩散运动占优势,扩散运动的结 果使PN结加宽,内电场增强;另一方面,内电场又促使了 少子的漂移运动:P区的少子电子向N区漂移,补充了交界 面上N区失去的电子,同时, N区的少子空穴向P区漂移, 补充了原交界面上P区失去的空穴,显然漂移运动减少了空 间电荷区带电离子的数量,削弱了内电场,使PN结变窄。 PN 最后,扩散运动和漂移运动达到动态平衡,空间电荷区的 宽度基本稳定,即PN结形成。
半导体基础与常用器件
电子技术基础 2. 半导体的独特性能 金属导体的电导率一般在105s/cm量级;塑料、云母等绝 缘体的电导率通常是10-22~10-14s/cm量级;半导体的电导率 则在10-9~102s/cm量级。 半导体的导电能力虽然介于导体和绝缘体之间,但半导 体的应用却极其广泛,这是由半导体的独特性能决定的: 光敏性——半导体受光照后,其导电能力大大增强; 光敏性 热敏性——受温度的影响,半导体导电能力变化很大; 热敏性 掺杂性——在半导体中掺入少量特殊杂质,其导电 掺杂性 能力极大地增强;
半导体基础与常用器件
电子技术基础
1.1 半导体的基本知识
导体、 1. 导体、半导体和绝缘体 自然界的一切物质都是由分子、原子组成的。 原子又由一个带正电的原子核和在它周围高速旋转着的 带有负电的电子组成。 原子核中有质子和中子, 其中质子带正电 带正电,中子不带 电。

原子核
绕原子核高速旋转的核外 电子带负电 带负电。 电子带负电。
半导体基础与常用器件
电子技术基础 不论是N型半导体还是P型半导体,其中的多子和少子的 移动都能形成电流。但是,由于多子的数量远大于少子的 数量,因此起主要导电作用的是多数载流子。 一般可近似认为多数载流子的数量与杂质的浓度相等。
注意: 掺入杂质后虽然形成了N型或P型半导体,但整个半
导体晶体仍然呈电中性。
电子技术基础
主编 曾令琴
电子技术基础
第1章 电子技术中常用半导体器件 第2章 基本放大电路 第3章 集成运算放大器 第4章 数字逻辑基础 第5章 逻辑门与组合逻辑电路 第6章 触发器 第7章 时序逻辑电路 第8章 存储器 第9章 数/模和模/数转换器 模和模/
半导体基础与常用器件
电子技术基础
1.1 半导体的基本知识 1.2 半导体二极管 1.3 特殊二极管 1.4 双极型三极管 1.5 单极型三极管
半导体基础与常用器件
电子技术基础
4. 本征半导体
本征半导体虽然有自由电子和空穴两种载流子,但由于数 量极少导电能力仍然很低。如果在其中掺入某种元素的微量 杂质,将使掺杂后的杂质半导体的导电性能大大增强。
+4 +4 +4
+
P +4 +4 +4
五价元素磷(P)
+4 +4 +4
掺入磷杂质的硅半 导体晶格中, 导体晶格中,自由 电子的数量大大增 因此自由电子 加。因此自由电子 是这种半导体的导 是这种半导体的导 电主流。 电主流。
在室温情况下,本征硅中的磷杂质等于10-6数量级时,电 子载流子的数目将增加几十万倍。掺入五价元素的杂质半导 体由于自由电子多而称为电子型半导体,也叫做N型半导体。
半导体基础与常用器件
电子技Байду номын сангаас基础
+4
- +4
+4
+
B +4 +4 +4
三价元素硼(B)
+4 +4 +4
掺入硼杂质的硅半 导体晶格中, 导体晶格中,空穴 载流子的数量大大 空穴是 增加。因此空穴 增加。因此空穴是 这种半导体的导电 这种半导体的导电 主流。 主流。
导体的特点:

原子核
内部含有大量的自由电子
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(2) 绝缘体 )
绝缘体的最外层电子数一般为6~8个,且距原子核较 近,因此受原子核的束缚力较强而不易挣脱其束缚。 常温下绝缘体内部几乎不存在自由电子,因此导电能 力极差或不导电。 常用的绝缘体材料有橡胶、云母、陶瓷等。
绝缘体的特点:
一般情况下,杂质半导体中的多数载流子的数量可达到少数 载流子数量的1010倍或更多,因此,杂质半导体比本征半导体 的导电能力可增强几十万倍。 掺入三价元素的杂质半导体,由于空穴载流子的数量大大于自 由电子载流子的数量而称为空穴型半导体,也叫做P型半导体。 在P型半导体中,多数载流子是空穴,少数载流子是自由电 子,而不能移动的离子带负电。
+ +4
+4
+4
+4
+4
+4
由于热激发而在晶体中出现电子空穴对的现象称为本征激发 本征激发。 本征激发的结果,造成了半导体内部自由电子载流子运动的产 生,由此本征半导体的电中性被破坏,使失掉电子的原子变成带 正电荷的离子。 由于共价键是定域的,这些带正电的离子不会移动,即不能参 与导电,成为晶体中固定不动的带正电离子。
PN结内部载流子基本为零,因此导电率很低,相当于介质。 但PN结两侧的P区和N区导电率很高,相当于导体,这一点和 电容比较相似,所以说PN结具有电容效应。
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4. PN结的单向导电性
半导体基础与常用器件
电子技术基础
PN结反向偏置时的情况
半导体基础与常用器件
电子技术基础
半导体基础与常用器件
电子技术基础
+4 +4 +4
+4
+4
+4
自由电子载流子运动可以形 容为没有座位人的移动;空穴 载流子运动则可形容为有座位 的人依次向前挪动座位的运动。 半导体内部的这两种运动总是 共存的,且在一定温度下达到 动态平衡。
+4
+4
+4
半导体的导电机理
半导体的导电机理与金属导体导电机理有本质上的区别: 金属导体中只有自由电子一种载流子参与导电;而半导体中 则是由本征激发产生的自由电子和复合运动产生的空穴两种 载流子同时参与导电 同时参与导电。两种载流子电量相等、符号相反,电 流的方向为空穴载流子的方向即自由电子载流子的反方向。
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电子技术基础
从共价键晶格结 构来看, 构来看,每个原 子外层都具有8 子外层都具有8个 价电子。但价电 价电子。 子是相邻原子共 用,所以稳定性 并不能象绝缘体 那样好。 那样好。 +4
+ +4
+4
在游离走的价电子原 位上留下一个不能移 动的空位,叫空穴。 动的空位,叫空穴。 受光照或温度上升 影响, 影响,共价键中价电 子的热运动加剧, 子的热运动加剧,一 些价电子会挣脱原子 核的束缚游离到空间 成为自由电子 自由电子。 成为自由电子。
半导体基础与常用器件
电子技术基础 1. 半导体中少子的浓度虽然很低 ,但少子对温度 非常敏感,因此温度对半导体器件的性能影响很 大。而多子因浓度基本上等于杂质原子的掺杂浓 学习与归纳 度,所以说多子的数量基本上不受温度的影响。
2. 半导体受温度和光照影响,产生本征激发现象而出现电子、空 穴对;同时,其它价电子又不断地 “转移跳进”本征激发出现 的空穴中,产生价电子与空穴的复合。在一定温度下,电子、空 穴对的激发和复合最终达到动态平衡状态。平衡状态下,半导体 中的载流子浓度一定,即反向电流的数值基本不发生变化。 3. 空间电荷区的电阻率很高,是指其内电场阻碍多数载流子扩 散运动的作用,由于这种阻碍作用,使得扩散电流难以通过空 间电荷区,即空间电荷区对扩散电流呈现高阻作用。 4. PN结的单向导电性是指:PN结正向偏置时,呈现的电阻很小 几乎为零,因此多子构成的扩散电流极易通过PN结;PN结反向 偏置时,呈现的电阻趋近于无穷大,因此电流无法通过被阻断。
半导体材料的独特性能是由其内部的导电机理 内部的导电机理所决定的。
半导体基础与常用器件
电子技术基础
3. 本征半导体
最常用的半导体为硅(Si)和锗(Ge)。它们的共同特征是四价 元素,即每个原子最外层电子数为4个。
+
Si(硅原子)
Si +4 Ge +4
+
Ge(锗原子)
因为原子呈电中性, 因为原子呈电中性,所 以简化模型图中的原子 核只用带圈的+4 +4符号表 核只用带圈的+4符号表 示即可。 示即可。
PN结的单向导电性
PN结的上述“正向导通,反向阻断”作用,说明它具有单 单 向 导电性,PN结的单向导电性是它构成半导体器件的基础。 导电性
PN结中反向电流的讨论
由于常温下少数载流子的数量不多,故反向电流很小,而 且当外加电压在一定范围内变化时,反向电流几乎不随外加 电压的变化而变化,因此反向电流又称为反向饱和电流。反 向饱和电流由于很小一般可以忽略,从这一点来看,PN结对 反向电流呈高阻状态,也就是所谓的反向阻断 反向阻断作用。 值得注意的是,由于本征激发随温度的升高而加剧,导致 电子—空穴对增多,因而反向电流将随温度的升高而成倍增 长。反向电流是造成电路噪声的主要原因之一,因此,在设 计电路时,必须考虑温度补偿问题。
半导体基础与常用器件
电子技术基础
+4 受光照或温度 上升影响, 上升影响,共 价键中其它一 些价电子直接 跳进空穴 空穴, 跳进空穴,使 失电子的原子 重新恢复电中 性。 +4 +4 此时整个晶 体带电吗? 体带电吗? 为什么? 为什么?
+4
+4
+4
+4
+4
+4
价电子填补空穴的现象称为复合 复合。 参与复合的价电子又会留下一个新的空位,而这个新的 空穴仍会被邻近共价键中跳出来的价电子填补上,这种价 电子填补空穴的复合运动使本征半导体中又形成一种不同 于本征激发下的电荷迁移,为区别于本征激发下自由电子 载流子的运动,我们把价电子填补空穴的复合运动称为空 穴载流子运动。
电子技术基础
5. PN结及其形成过程
杂质半导体的导电能力虽然比本征半导体极大增强,但它 们并不能称为半导体器件。在电子技术中,PN结是一切半导 体器件的“元概念”和技术起始点。
PN结的形成 结的形成
空间电荷区
- - - - + + + + + + +
P区
- - -
+ + + - - - 在一块晶片的两端分别注入三价 元素硼和五价元素磷 + + + - - - - - - + + +
半导体基础与常用器件
电子技术基础
学习目的与要求
了解本征半导体、 型和 型和N型半导体的特征 了解本征半导体、P型和 型半导体的特征 结的形成过程; 及PN结的形成过程;熟悉二极管的伏安特性 结的形成过程 及其分类、用途; 及其分类、用途;理解三极管的电流放大原 掌握其输入和输出特性的分析方法; 理,掌握其输入和输出特性的分析方法;理 解双极型和单极型三极管在控制原理上的区 别;初步掌握工程技术人员必需具备的分析 电子电路的基本理论、 电子电路的基本理论、基本 知识和基本技能。 知识和基本技能。
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