透射电镜图象解释
TEM(透射电子显微镜)
细胞结构解析
细胞膜结构
透射电镜图像可以清晰地展示细胞膜的精细结构,如细胞膜的厚度、 细胞器的分布等。
细胞器结构
透射电镜能够观察到细胞内的各种细胞器,如线粒体、内质网、高 尔基体等,有助于了解细胞器的形态和功能。
细胞骨架结构
透射电镜能够观察到细胞骨架的超微结构,如微管、微丝和中间纤维 等,有助于了解细胞骨架在细胞运动、分裂和分化中的作用。
TEM应用领域
01
02
03
04
生物学
研究细胞、组织和器官的超微 结构,如细胞器、细胞膜、染
色体等。
医学
用于诊断疾病,如癌症、传染 病等,以及药物研发和疫苗制
备过程中的结构分析。
地质学
观察岩石、矿物和矿物的微观 结构,研究地球科学中的各种
地质现象。
材料科学
研究金属、陶瓷、高分子等材 料的微观结构和性能,以及材
控制切片的厚度,通常在50~70纳米之间,以确 保电子束能够穿透并观察到样品的内部结构。
切片收集与处理
将切好的超薄切片收集到支持膜上,并进行染色、 染色脱水和空气干燥等处理。
染色
染色剂选择
选择适当的染色剂,如铅、铀或 铜盐,以增强样品的电子密度并
突出其结构特征。
染色时间与温度
控制染色时间和温度,以确保染色 剂与样品充分反应并达到最佳染色 效果。
清洁样品室
定期清洁样品室,保持清洁度 。
检查电子束系统
定期检查电子束系统,确保聚 焦和稳定性。
更新软件和驱动程序
及时更新TEM相关软件和驱动 程序,确保兼容性和稳定性。
定期校准
按照厂家建议,定期对TEM进 行校准,确保观察结果的准确
性。
06 TEM未来发展
第9-1章透射电子显微镜
24
③ 场致发射电子枪
• 场致发射原理:
• 金属中自由电子克服其表面势垒而逸出所做的功,称电子逸 出功(材料物理常数)。
• 研究表明:当强外电场施加到金 属表面,会使其表面势垒降低, 并促使自由电子逸出表面的几率 增加。若势垒的降低值接近其电 子逸出功值(即表面势垒接近为 零),导致隧道效应,则在常温 下也会发射出电子,此现象称为 场致电子发射效应或冷发射。
热电子发射
钨灯丝 W 50
2800 2.3 100 稳定 不需要 5×105 10-3 几个月 20
六硼化镧 LaB6 10 1800 1.5 20 较稳定 不需要 5×106 10-5 约1年 1,000
场发射
热场发射 ZrO/W<100>
0.1-1 1800 0.6-0.8 100 稳定 不需要 5×108 10-7 3-4年 较贵
5-第一聚光镜 6-第二聚光镜 8一电磁偏转线圈
10一物镜消像散线圈 13-第一中间镜 14一第二中间镜 15-第三中间镜 19-荧光屏 20、21-发、收片盒 22-照相室
8
原荷兰PHILIPS公司透射电镜
CM200-TEM 用于普通的材料研究
CM120-TEM 可用于生命科学领域
9
FEI公司TECNAI系列透射电镜
6
日本电子公司透射电镜 JEM-2100(HR)
• 我校新安装的TEM
●点分辨率:0.23nm ●晶格分辨率:0.14nm ●加速電圧:80~200kV ●倍率:×50~1,500,000
7
JEM-2010透射电镜镜筒剖面图
透射电镜(TEM)讲义
05
TEM操作与注意事项
操作步骤与技巧
01
02
03
04
准备样品
选择适当的样品,进行适当的 处理和固定,以确保观察效果 最佳。
调整仪器参数
根据观察需求,调整透射电镜 的加速电压、放大倍数等参数 ,以达到最佳观察效果。
操作步骤
按照仪器操作手册的步骤进行 操作,包括安装样品、调整焦 距、观察记录等。
技巧
定量分析方法
颗粒统计
对图像中颗粒的数量、大 小和分布进行统计,计算 颗粒的平均尺寸和粒度分 布。
电子衍射分析
利用电子衍射技术分析晶 体结构和相组成,确定晶 格常数和晶面间距。
能谱分析
通过能谱仪测定图像中各 点的元素组成和相对含量, 进行定性和定量分析。
04
TEM图像解析实例
晶体结构分析
利用高分辨的TEM图像,可以观察到晶体内部的原 子排列和晶体结构,如面心立方、体心立方或六方 密排结构等。
掌握操作技巧,如正确使用操 作杆、合理利用观察窗口等, 以提高观察效果和效率。
仪器维护与保养
定期清洁
定期对透射电镜进行清 洁,保持仪器内部和外
部的清洁度。
检查部件
更换消耗品
定期检查透射电镜的部 件,如电子枪、镜筒等,
确保其正常工作。
根据需要,及时更换透射 电镜的消耗品,如真空泵
油、电子枪灯丝等。
保养计划
在操作透射电镜时,应严格遵守操作规程, 确保仪器和人身安全。
THANK YOU
感谢聆听
80%
观察模式
根据观察目的选择不同的观察模 式,如明场、暗场、相位对比和 微分干涉等。
图像解析与解读
01
02
03
一文看懂各种型号的透射电子显微镜(图文详解)
电子显微神兵利器:各种型号的透射电子显微镜透射电子显微镜(Transmission Electron Microscopy,TEM)是通过穿透样品的电子束进行成像的放大设备。
电子束穿过样品以后,带有样品之中关于微结构及组成等方面的信息,将这些信息进行方法和处理,便可得到所需要的显微照片及多种图谱。
现在商业透射电镜最高的分辨率已经达到了0.8 Å,透射电镜作为一种极为重要的电子显微设备,在包括材料、生物、化学、物理等诸多领域发挥着不可替代的重要作用。
下面简单介绍一些不同品牌和型号的透射电镜。
世界上能生产透射电镜的厂家不多,主要是欧美日的大型电子公司,德国的蔡司(Zeiss),美国的FEI(电镜部门的前身是飞利浦的电子光学公司),日本的日本电子(JEOL)、日立(Hitachi)。
蔡司公司是德国老牌光学仪器公司,光学仪器,如光学显微镜、照相机、以及军事用途的光学瞄准器都是世界一流水平,二战时德国强大的坦克部队都是用的蔡司的瞄准系统,精确度相当的高!虽然蔡司涉足电子光学领域要晚于西门子和飞利浦(西门子和飞利浦分别于1939和1949年造出自己的第一台商业化透射电镜),但其强大的研发和生产能力使其很快在电子光学仪器领域占得了一席之地,下面介绍几款蔡司的产品。
Libra 120 (Libra是“天秤座”,蔡司的电镜型号无论透射扫描都是以星座的名字命名的)技术参数:LIBRA 120点分辨率:0.34nm能量分辨率:<1.5eV加速电压:(20)40-120kv放大倍率:8-630,000x电子枪:LaB6或W照明系统:Koehler(库勒)(平行束照明系统)真空系统:完全无油系统操作界面:基于Windows XP WinTEM此款电镜分辨率较低,加速电压最高仅120KV,比主流的200KV低了不少,看似性能一般。
Libra200技术参数:LIBRA 200 FE点分辨率:0.24nm能量分辨率:<0.7eV加速电压:200kv放大倍率:8-1,000,000x电子枪:热场发射电子枪照明系统:Koehler(库勒)(平行束照明系统)真空系统:完全无油系统操作界面:基于Windows XP WinTEM此款电镜带能量过滤器,可以使用能量损失谱对样品的微区进行元素分析。
透射电镜(TEM)原理详解(课堂PPT)
G t 36
当A、B两区不是由同一种物质组成时,衬
度不仅取决于样品的厚度差,还取决于样品的
原子序数差。
同样的几何厚度,含重原子散射作用强,
相应的明场像暗;反之,由轻原子组成的区域,
散射作用弱,相应的明场像亮.
复型样品的制备中,常采用真空镀膜投影
的方法,由于投影(重)金属或萃取第二相粒
的圆盘,圆盘面垂直于入射电
子束,并且每个入射电子射中
一个圆盘就发生偏转而离开原
入射方向;未射中圆盘的电子
则不受影响直接通过。
27
散射截面的大小
按Rutherford模型,当入射电子经过原子核附近时,
其受到核电场的库仑力-e2Z/rn2作用而发生偏转,其轨
迹是双曲线型。散射角n的大小取决于入射电子和原
0.2~0.3nm
有效放大倍数
103×
106×
物镜孔径角
约700
<10
景深
较小
较大
焦长
较短
较长
像的记录
照相底板
照相底板
正是由于 α很小, TEM的 景深和焦 长都20很大
• TEM成像系统可以实现两种成像操作:一种是将物 镜的像放大成像,即试样形貌观察;另一种是将物 镜背焦面的衍射花样放大成像,即电子衍射分析。
度为ρ和厚度为t的样品上,若入射电子数为n,通过
厚度为dt后不参与成象的电子数为dn,则入射电子散
射率为
单个原子的散射截面
dn N dt A 0
每单位体积样品的散射面积
n
M
单位体积样品中包含的原子个数
厚度为dt的晶体总散射截面
将上式积分,得:
N
N
0
exp
《透射电镜成像分析》课件
人工智能与图像解析
总结词
透射电镜结合人工智能技术进行图像解析是 未来的发展趋势,能够提高图像解析的准确 性和效率,为科学研究提供更可靠的数据支 持。
详细描述
透射电镜获取的图像数据量庞大,人工解析 效率低下且容易出错。结合人工智能技术进 行图像解析可以提高准确性和效率,为科学 研究提供更可靠的数据支持。同时,人工智 能技术还可以用于图像识别、模式匹配等方 面,有助于科学家们更好地理解和分析透射 电镜的图像数据。
基于一系列连续的二维图像,通过图像配准和三维插值等技术, 重建出物体的三维结构。
投影与表面重建
通过透射电镜的投影数据,利用表面重建算法,得到物体的表面几 何形态。
立体视觉与深度恢复
利用双目或多目视觉原理,恢复出物体的深度信息,实现三维场景 的重建。
图像数据库与信息管理技术
图像数据存储
采用高效的数据存储方式,如分布式存储或云存储, 确保大量图像数据的可靠存储。
06
透射电镜的未来发展与挑战
BIG DATA EMPOWERS TO CREATE A NEW
ERA
高分辨成像技术
总结词
透射电镜的高分辨成像技术是未来发展的重要方向,能够揭示更细微的结构和分子排列,为科学研究提供更深入 的观察和分析。
详细描述
随着材料科学、生物学等领域的不断发展,对高分辨成像技术的需求越来越迫切。透射电镜的高分辨成像技术能 够捕捉到更细微的结构和分子排列,为科学家们提供更深入的观察和分析,有助于揭示物质内部的奥秘和规律。
数据索引与检索
建立图像数据的索引机制,提供快速的图像检索功能 ,便于用户快速查找所需数据。
数据安全与隐私保护
采用加密和安全传输等技术,确保图像数据的安全性 和隐私保护。
11-透射电镜图象原理与解释
Teacher:Ji-bing Sun
21
3)采用双束近似处理方法,即所谓的“双光束条件”
① 除透射束外,只有一束较强的衍射束参与成象,忽略其它衍射束,故 称双光成象。 ② 强衍射束相对于入射束而言仍然是很弱的。 这在入射电子束波长较弱以及晶体试样较薄的情况下是合适的。 因为波长短,球面半径1/λ大,垂直于入射束方向的反射球面可看作 平面。加上薄晶的“倒易杆”效应,因此,试样虽然处于任意方位,仍 然可以在不严格满足布拉格反射条件下与反射球相交而形成衍射斑点。 由于强衍射束比入射束弱得多,因此认为这一衍射束不是完全处于准 确的布拉格反射位置,而存在一个偏离矢量s,s表示倒易点偏离反射 球的程度,或反映偏离布拉格角2θ的程度。这就可以保证衍射束和 透射束之间没有能量交换 。 ③只有一束衍射束,则可以认为衍射束的强度 Ig和透射束的强度 IT之间 有互补关系,即 I0= Ig+ IT
School of Material Science and Engneering
Teacher:Ji-bing Sun
19
消光距离的值
“消光”指的是尽管满足衍射条件,但由于动力学互相作用而 在晶体内一定深度处衍射波(或透射波)的强度实际为零。 根据费(菲)涅尔衍射理论推导得到:
式中 d —晶面间距; n —原子面上单位面积内所含晶胞数。 1/n就是一个晶胞所占有的面积, Fg—结构因子
Teacher:Ji-bing Sun
6
第二节
衍射衬度形成机理
衍射衬度是来源于晶体试样各部分满足布 拉格反射条件不同和结构振幅的差异。 薄晶体样品受到电子束照射时,如果晶 体中所有晶面都和布拉格条件有很大的偏 差,那么入射电子束就可以全部透过样 品,而无衍射束产生。此时透射束的强度 可认为和入射电子束的强度相等,若用IT 代表透射电子束的强度,I0代表入射电子 束的强度,则IT=I0。这时,透射束通过 电磁透镜组在荧光屏上成像,被放大的物 象亮度很高。 或不加物镜光阑也有同样的效果。只有衍 射指数较大的衍射束被镜筒挡镜而成像。
透射电镜
电子光学系统
照明系统
成像系统 观察记录系统
一、照明系统
作用是提供光源 阴极 (控制其稳定度、 控制极 照明强度和照明 阳极 孔径角);选择 照明方式(明场 电子束 或暗场成像)。
聚光镜试样ຫໍສະໝຸດ (1)阴极 电子源:
1. 钨灯丝—热发射
束流密度~10A/cm2 束斑大小~4nm
• 日本电子株式会社 • JEM-1400plus透射 电子显微镜 点分辨率:0.33nm; 线分辨率:0.14nm
日本电子株式会社 场发射透射电子显微镜
JEM-2100F
点分辨率:0.25nm; 线分辨率:0.102nm; STEM分辨率:0.20nm.
透射电子显微镜结构原理
(4)聚光镜
高性能TEM采用双 聚光镜系统,提高 照明效果。
静电透镜
电子是带负电的粒子,在静电场中会受到电 场力的作用,使运动方向发生偏转,设计静 电场的大小和形状可实现电子的聚焦和发散。 由静电场制成的透镜称为静电透镜,在电子 显微镜中,发射电子的电子枪就是利用静电 透镜。
电磁透镜
运动的电子在磁场中也会受磁场力的作用产 生偏折,从而达到会聚和发散,由磁场制成 的透镜称为磁透镜。用通电线圈产生的磁场 来使电子波聚焦成像的装置叫电磁透镜。
角。
无论是光学透镜还是电磁透镜,只要它们能够将光波(无论是可见 光还是电子波)会聚或者发散,就可以做成透镜。而且无论是何种 透镜它们的几何光学成像原理都是相同的(如上图所示),所以对
于透射电子显微成像的光路,我们可以象分析可见光一样来处理。
与光学透镜的成像原理相似,电磁透镜的 物距(d)、像距(l)和焦距(f)三者之 间也满足以下关系式:
《透射电镜原理》课件
构。
立体感强
透射电镜的图像具有很强的立体感 ,能够呈现出样品的层次感和深度 。
色彩丰富
透射电镜的图像可以通过不同的染 色技术呈现出丰富的色彩,增强视 觉效果。
透射电镜的图像解析步骤
图像获取
通过透射电镜获取样品的图像。
特征提取
从图像中提取出样品的主要特征,如细胞核 、细胞质等。
。
透射电镜的维护与保养
定期清洁透射电镜的镜筒和样品室,保持清洁度。 定期更换透射电镜的灯丝,保证电子源的正常工作。
检查透射电镜的真空系统和气体系统是否正常工作,确 保电子束传输畅通无阻。
定期进行校准和维护,确保透射电镜的各项参数准确性 和稳定性。
透射电镜的图像解
05
析
透射电镜的图像特点
高分辨率
复型样品制备
总结词
复型样品制备是为了保护原样品,将其复制成另一种材料并制成薄膜,以便在电镜中观察其微观结构 。
详细描述
复型样品制备通常采用硅橡胶、环氧树脂等材料作为基质,将原样品放置在基质中,经过聚合、固化 等步骤后,将原样品取出,留下一个与原样品相似的薄膜。制备过程中需要注意控制温度和压力,以 确保复型样品的准确性和稳定性。
冷冻样品制备
总结词
冷冻样品制备是为了保持生物样品的活 性和天然状态,将样品快速冷冻并制成 薄膜,以便在电镜中观察其微观结构。
VS
详细描述
冷冻样品制备通常采用液氮等低温介质将 生物样品迅速冷冻,然后将其转移到冷冻 切片机中进行切片。制备过程中需要严格 控制温度和切片的厚度,以确保样品的结 构和成分不受影响。同时,冷冻样品制备 还可以用于观察细胞内部的结构和动态过 程。
透射电子显微镜(TEM)详解
(一)间接样品的制备(表面复型)
透射电镜所用的试样既要薄又要小,这就大大限 制了它的应用领域,采用复型制样技术可以弥补 这一缺陷。复型是用能耐电子束辐照并对电子束 透明的材料对试样的表面进行复制,通过对这种 复制品的透射电镜观察,间接了解高聚物材料的 表面形貌。
蚀刻剂:高锰酸钾-浓 硫酸 将无定形部分腐蚀掉
八、透射电镜在聚合物研究中的应用
(一)结晶性聚合物的TEM照片
PE单晶及其电子衍射谱
Keller提出的PE折叠链模型
尼龙6 折叠链 片晶
单斜晶系 的PP单晶
2、树枝晶: 从较浓溶液(0.01~0.1%)结晶时,流动力 场存在,可形成树枝晶等。
PE的树枝状结晶
(3)染色:通常的聚合物由轻元素组成,在用厚 度衬度成像时图像的反差很弱,通过染色处理后 可改善。
所谓染色处理实质上就是用一种含重金属的试剂 对试样中的某一组分进行选择性化学处理,使其 结合上重金属,从而导致其对电子的散射能力增 强,以增强图像的衬度。
(a)OsO4染色,可染-C=C-双键、-OH基、-NH2基。 其染色反应是:
(二)直接样品的制备
1.粉末样品制备 粉末样品制备的关键是如何将超细粉的颗粒分散开来,
各自独立而不团聚。
胶粉混合法:在干净玻璃片上滴火棉胶溶液,然后在玻 璃片胶液上放少许粉末并搅匀,再将另一玻璃片压上, 两玻璃片对研并突然抽开,稍候,膜干。用刀片划成小 方格,将玻璃片斜插入水杯中,在水面上下空插,膜片 逐渐脱落,用铜网将方形膜捞出,待观察。
常见的聚合物制样技术
(1)超薄切片:超薄切片机将大试样切成50nm 左右的薄试样。
聚甲基丙烯酸丁酯将 聚四氟乙烯包埋后切 片,白色部分表示颗 粒形貌, 切片时,有颗粒的部 分掉了
TEM高分辨透射电镜讲稿 精品 ppt课件
▪ 透射电镜的样品是放置在物镜的上下极靴之间,由于这里的空间很小, 所以透射电镜的样品也很小,通常是直径3mm的薄片。
成像部分:
▪ 物镜:为放大率很高的短距透镜,对样品成像和 放大。它是决定TEM分辨本领和成像质量的关键。 因为它将样品中的微细结构成像、放大,物镜中 的任何缺陷都将被成像系统中的其他透镜进一步 放大。
TEM高分辨透射电镜讲稿 精品
透射电镜的成像及应用(TEM)
精品资料
你怎么称呼老师?
如果老师最后没有总结一节课的重点的难点,你是 否会认为老师的教学方法需要改进?
你所经历的课堂,是讲座式还是讨论式? 教师的教鞭
“不怕太阳晒,也不怕那风雨狂,只怕先生骂我笨, 没有学问无颜见爹娘 ……”
“太阳当空照,花儿对我笑,小鸟说早早早……”
▪ 因为不同结构有不同的相互作用,这样就 可以根据透射电子图象所获得的信息来了 解试样内部的结构。由于试样结构和相互 作用的复杂性,因此所获得的图象也很复 杂。它不象表面形貌那样直观、易懂。
➢超高压和中等加速电压技术:电子经过试样后,对成像有贡献的弹性散射 电子所占的百分比决定了图像分辨率→信号/噪声的高低;
由于质厚衬度来源于入射电子与试样物质发生相互作用而引起的 吸收与散射。由于试样很薄,吸收很少。衬度主要取决于散射电 子(吸收主要取于厚度,也可归于厚度),当散射角大于物镜的 孔径角α时,它不能参与成象而相应地变暗。这种电子越多,其象越 暗。或者说,平均原子系数越大,散射本领大,透射电子少的部 分所形成的象要暗些,反之则亮些。
3.非晶体样品的质厚衬度成像原理:
入射电子透过样品时,若样品越厚→碰到的原子数目越多;或样 品原子序数Z越大或密度越大→样品原子核库仑电场越强,则散射角 α越大→被散射到物镜光阑外的电子就越多,而参与成像的电子强 度也就越低,从而在荧光屏显示出不同的衬度,这就是质厚衬度成 像原理 。
透射电镜主体剖面图三级放大成像示意图
有的样品杆本身还带有使样品倾斜或原位旋转的 装置。这些样品杆和倾斜样品台组合在一起成为 侧插式双倾样品台和单倾旋转样品台。
目前,双倾台是最常用的,沿X和Y轴倾转 450。 样品台的倾斜和旋转装置可以进行三维立体分析,
测定晶体的位向、相变时的惯习面以及析出相的 方位等。
电子束倾2.斜2与.2平电移装子置 束倾斜与平移装置
托
供电控制系统
电子枪加速电子用小电 流高电压电源 透镜激磁用大电流低压 电源
附加仪器系统
EDS WDS
EELS
JEM-2010主要部件名称
透 射 电 镜 主 体 剖 面 图
电子光学系统
包括:照明系统 成像系统 观察记录系统
2.1.1 照明系统 组成:电子枪
子枪还可以倾斜2—30,以
3.电子束倾斜与平移的原理图
2.1.2 成像系统
由物镜、物镜光栏、选区光栏、中间镜和投影镜组成.
•物镜:放大倍数100—300倍。 作用:形成第一幅放大像 •物镜光栏:物镜背焦面。 作用:a.提高像衬度,
b.减小孔经角从而减小像差。 c.进行暗场成像 •选区光栏:物镜像平面上。 作用:进行微区衍射分析。 •中间镜:放大倍数0—20倍 作用a.控制电镜总放大倍数。
由光阑架和光阑孔组成:
阑孔组成
抗污染光阑
无磁金属制成(Pt、Mo等)制造。由于小光阑孔容易 污染,高性能电镜常用抗污染光阑或自洁光阑。
光阑孔周围开口,电子束照射后热量不易散出,处 于高温状态,污染物不易沉积。
光阑常做成四个一组的光阑孔,安装在光阑杆的支 架上。使用时,通过光阑杆的分档机构按需要依次 插入。
电镜 都新带式有电电镜磁都偏转带器有,电使磁入偏射电转子器束,平使移入和射倾 电子束平移和 原理见倾图转,,上其、下原两理线见圈图联,动的上。、利下用两电线子束圈原联位动倾的。利用电 进行中子心束暗原场位成像倾操斜作可。以进行中心暗场成像操作。
第5篇19电镜(透射电镜和扫描电镜)PPT课件
2021
49
Morphology
(a)
(b)
SEM (a) and TEM (b) microphotographs of MWCNT.
2021
50
1.材料表面形态(组织)观察
2021
51
2.断口形貌观察
2021
52
2.断口形貌观察
2021
53
3.磨损表面形貌观察
2021
54
4.纳米结构材料形态观察
2021
6
物镜(M0)用来获得被检物的一次放大像和衍射谱,它 决定显微镜的分辨率,是电镜的心脏.中间镜(Mi)是 个可变倍率的弱透镜,它的作用是把物镜形成一次中
间像或衍射谱射到投影镜的物面上.投影镜(Mp)把中 间镜形成的二次像及衍射谱放大到荧光屏上,一般具
有2—3个聚光镜和4—6个物镜加投影镜。
球晶的偏光显微镜照片
2021
37
2021
38
观察非晶聚合物的形态
2021
39
电镜在聚合物研究中的应用
观察聚合物的聚集态结构 研究聚合物的多相共混体系 在聚合物纳米复合材料研究中的应用
2021
40
研究聚合物的多相共混体系 研究聚合物共混体系中的相行为与分散 研究聚合物共混体系中的断裂机理
2021
41
研究聚合物共混体系中的相行为与分散
100/0
95/5
(a)
(b)
1 m
SEM images for PHBV/PBAT blends: (a) 100/0, (b)
95/5,(c) 90/10, and (d) 80/20.
2021
42
研究聚合物共混体系中的相行为与分散
透射电镜的原理与演示
示
转 化 细 胞
41
扫
描
电
镜
照
片
演
细胞褶皱的扫描电镜照片
分裂沟的扫描电镜照片
示
42
冰冻蚀刻技术
(freeze-etching techniques)
亦 称 冰 冻 断 裂 (freeze-fracture) , 是 研 究 生 物 膜 内部结构的一种有用的技术,关于膜结构的许多资料 即是利用这种方法取得的。
系
观察室 荧光屏
品真实结构的图像
统
铅玻璃窗
保护眼睛
放大镜 用于放大投到荧光屏上的图像
照相装置 电子形成的荧光图像衰减速度很快,一旦
观察到理想的结构图像就需要尽快照相
注意:电镜照相与普通照相不同,图像的反衬度最低时 才是正聚焦;且底片还必须要经过预干燥处理
15
2、透射电镜的成像原理
高速电子束
透射样品
透
射
叶绿体的
电
透射电镜
镜
照片
照
片
演
示
线粒体的透射电镜照片
23
透
射
电
镜
照
片
演
细胞核的透射电镜照片 有丝分裂器的透射电镜照片
示
凋 亡 细 胞
正 在 杀 肿 瘤 细 胞 的 T 细 24 胞
透
笼形蛋白
射
电
镜
照
热休克蛋白Hsp60
片
演
示
-辅肌动蛋白
25
透 射 电 镜 照 片 演 示
金的原子布阵的透射电镜照片
0.123 0.0122 0.00387
电子束的波长与发射电子 束的电压平方根成反比:
透射电镜教程PPT课件
图9-19 衍射衬度成像光路图
第四节 电子衍射运动学理论
透射电镜衍射衬度是由样品底表面不同部位的衍射束强度存在差异而 造成的。要深入理解和正确解释透射电镜衍衬像的衬度特征,就需要 对衍射束的强度进行计算。
动力学衍射 运动学衍射
为满足上述基本假设,在实践上可通过以下两条途径实现:
一、成像操作
图9-17 成像操作光路图 (a)明场像 (b)暗场像 (c)中心暗场像
二、像衬度
像衬度是图像上不同区域间明暗程度的差别。
透射电镜的像衬度来源于样品对入射电子束的散射。可分为:
质厚衬度 :非晶样品衬度的主要来源
振幅衬度
衍射衬度 :晶体样品衬度的主要来源
相位衬度
图9-18 质厚衬度成像光路图
地揭示表面形貌的细节特征。 常用的复型材料是非晶碳膜和各种塑料薄膜。
复型的种类
按复型的制备方法,复型主要分为:
一级复型
二级复型
萃取复型(半直接样品)
图9-14 塑料-碳二级复型制备过程示意图
萃取复型
二、直接样品的制备
1.粉末样品制备 粉末样品制备的关键是如何将超细粉的颗粒分散开来,各自独立而不
11 1 uv f
式中:u、v与f——物距、像距与焦距。
f
A
(
RV0 NI )
2
(9-1) (9-2)
式中:V0——电子加速电压;R——透镜半径;NI——激磁线圈安匝 数;A——与透镜结构有关的比例常数。
电磁透镜是一种焦距(或放大倍数)可调的会聚透镜。减小激磁电流,可使 电磁透镜磁场强度降低、焦距变长(由f1变为f2 ) 。
2. 照明系统
作用:提供亮度高、相干性好、束流稳定的照明电子束。
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厚度衬度
σ02 =σ01 A1=A2 ρ1=ρ2 则有 Gρt = N(δ0ρ(t2-t1) /A)
= N (δ0ρ△t /A ) (4-2) 即复型试样的质厚衬度主要取决于厚度, 对于常数复型,则其衬度差由式决定,即由 质量与厚度差共同决定,故(4-1)称为质量 衬度表达式。
平均原子系数衬度
散射截面: 弹性: γn = z e/ u α бn=π γn 2
= π(z 2e2/ u 2α) 非弹性: γ e = e/ u α бe= π γ e 2
zбe= zπ γ e 2 б o= бn + zбe бn / zбe = z 表明原子序数越大,弹性散射的比例 就越大,弹性散射是透射电子成像的基础,而非 弹性散射主要引起背底增强,试图象反差下降。
3 衍射衬度形成机理
2 质厚衬度原理
由于质厚衬度来源于入射电子与试样物质 发生相互作用而引起的吸收与散射。由于试样 很薄,吸收很少。衬度主要取决于散射电子 (吸收主要取于厚度,也可归于厚度),当散 射角大于物镜的孔径角α时,它不能参与成象而 相应地变暗。这种电子越多,其象越暗。或者 说,平均原子系数越大,散射本领大,透射电 子少的部分所形成的象要暗些,反之则亮些。
晶体中或多或少存在着不完整性,并且较复杂,这种不完整性包括: 1.由于晶体取向关系的改变而引起的不完整性,例如晶界、孪晶界、 沉淀物与基体界向等等。 2.晶体缺陷引起,主要有关缺陷(空穴与间隙原子),线缺陷(位 错)、面缺陷(层错)及体缺陷(偏析,二相粒子,空洞等)。 3. 相转变引起的晶体不完整性:①成分不变组织不变(spinodals); ②组织改变成分不变(马氏体相变);③相界面(共格、半共格、非 共格) 具有以上不完整性的晶体,称为不完整晶决于缺陷的种类和性质
对于给定缺陷,R是确定的,选用不同的g成象同一缺陷将出现 不同的衬度特征。如果g·R=n,n=0,1,2,3, ……则e-i α=1,此时 缺陷衬度将消失,即在图象中缺陷不可见。如果g·R =1/n, n≠0,1,2,3, ……则e-i α ≠ 1,此时缺陷将显示衬度。显然,不同的 晶体缺陷引起完整晶体畸变不同,即R存在差异,因而相位差 又不同,产生的衍衬象也不同。
• 对于透射电镜试样,由于样品较厚,则 质厚衬度可近似表示为:
Gρt = N(δ02ρ2t2 /A2 - δ01ρ1t1 /A1 ) (4-1) 其中
δ02.δ01 --- 原子的有效散射截面 A2. A1 --- 试样原子量 ρ2. ρ1 --- 样品密度 t2, t1 --- 试样厚度
N --- 阿佛加德罗常数
暗场像——用物镜光栏挡住透射束及其余衍射束, 而只让一束强衍射束通过光栏参与成像的方法, 称为暗场成像,所得图象为暗场像。
暗场成像有两种方法:偏心暗场像与中心暗场像。
必须指出: ① 只有晶体试样形成的衍衬像才存 明场像与暗场像之分,其亮度是明暗反转的,即 在明场下是亮线,在暗场下则为暗线,其条件是, 此暗线确实是所造用的操作反射斑引起的。
g·R=0在衍衬分析中具有重要意义,它表明缺陷虽然存在,但 由于操作反射矢量g与点阵位移矢量R垂直,缺陷不能成象,常 称g·R=0为缺陷的“不可见性判据”,它是缺陷晶体学定量分 析的重要依据和出发点,有很大用途,例如,可以利用它来确 定位错的柏氏矢量b。 位错线、位错环、位错钉扎、位错缠结、胞状结构。
② 它不是表面形貌的直观反映,是入射电子束与 晶体试样之间相互作用后的反映。
为了使衍衬像与晶体内部结构关系有机的联系 起来,从而能够根据衍衬像来分析晶体内部的 结构,探测晶体内部的缺陷,必须建立一套理 论,这就是衍衬运动学理论和动力学理论(超 出范围不讲)。
4 晶体缺陷分析
一. 晶体缺陷对衍射强度的影响
透射电子显微镜成象 原理与图象解释
透射电镜由于入射电子透射试样后,将与 试样内部原子发生相互作用,从而改变其能量 及运动方向。
不同结构有不同的相互作用。这样,就可 以根据透射电子图象所获得的信息来了解试样 内部的结构。由于试样结构和相互作用的复杂 性,因此所获得的图象也很复杂。它不象表面 形貌那样直观、易懂。
晶面反射并受到物镜光栏挡住,因此,在荧光 屏上就成为暗区,而OB晶粒则为亮区,从而 形成明暗反差。由于这种衬度是由于存在布拉 格衍射造成的,因此,称为衍射衬度。
设入射电子强度为IO,(hkl)衍射强度为Ihkl,则 A晶粒的强度为IA= IO- Ihkl,B晶粒的为IB= IO, 其反差为IA/ IB= (IO- Ihkl)/ IO。 明场像——上述采用物镜光栏将衍射束挡掉, 只让透射束通过而得到图象衬度的方法称为明 场成像,所得的图象称为明场像。
1 透射电子衬度象的形成机制
① 质厚衬度
由于试样的质量和厚度不同,各部分对入射电 子发生相互作用,产生的吸收与散射程度不同, 而使得透射电子束的强度分布不同,形成反差, 称为质-厚衬度。
② 衍射衬度
衍射衬度主要是由于晶体试样满足布拉格反射 条件程度差异以及结构振幅不同而形成电子图 象反差。它仅属于晶体结构物质,对于非晶体 试样是不存在的。
•。
设入射电子束恰好与试样OA晶粒的(h1k1l1)平面 交成精确的布拉格角θ,形成强烈衍射,而OB 晶粒则偏离Bragg反射,结果在物镜的背焦面 上出现强的衍射斑h1k1l1。若用物镜光栏将该强 斑束h1k1l1挡住,不让其通过,只让透射束通过, 这样,由于通过OA晶粒的入射电子受到(h1k1l1)
各种缺陷的存在,改变了完整晶体中原子的 正常排列情况,使的晶体中某一区域的原子偏离 了原来正常位置而产生了畸变,这种畸变使缺陷 处晶面与电子束的相对位相发生了改变,它与完 整晶体比较,其满足布拉格条件就不一样,因而 造成了有缺陷区域与无缺陷的完整区域的衍射强 度的差异,从而产生了衬度。
根据这种衬度效应。人们可以判断晶体内存 在什么缺陷和相变。