光电集成ppt概要
合集下载
相关主题
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
因此可以说SOI将有 可能成为深亚微米的 低压、低功耗集成电 路的主流技术。此外, SOI材料还被用来制 造MEMS光开关,用 于微机械加工技术。
结构功能
通常根据在绝缘体上的硅膜厚度将SOI分成薄 膜全耗尽FD(Fully Depleted)结构和厚膜部分耗 尽PD(Partially Depleted)结构。由于SOI的介质 隔离,制作在厚膜SOI结构上的器件正、背界面的 耗尽层之间不互相影响,在它们中间存在一中性体 区,这一中性体区的存在使得硅体处于电学浮空状 态,产生了两个明显的寄生效应,一个是"翘曲效应 "即Kink 效应,另一个是器件源漏之间形成的基极 开路NPN寄生效应。
光电子集成电路按功能分主要有电光发射集 成电路和光电接收集成电路。前者是由电光 驱动电路、有源光发射器件、导波光路、光 隔离器、光调制器和光开关等组成;后者是 由光滤波器、光放大器、光-电转换器以及相 应的接收电路和器件集合而成。
光电子集成电路(optoelectronic integrated circuit,简称OEIC ),是把光器件和电子器件集 成在同一基片上的集成电路。
SiGe(锗硅合金)/Si和SOI光波导器件都与
CMOS电路工艺兼容
SiGe(锗硅合金)/Si波导中SiGe和Si晶格 失配,波导层SiGe不可能生长的太厚,因 此SiGe/Si光波导同光纤的耦合效率很低。
SOI材料的制作工艺更成熟,顶层Si膜的厚 度是不受限制的,可制作大截面尺度的SOI 光波导,从而降低耦合损耗。
1)SOI
2)光电子集成电路
3)
SOI集成光电子器件
光电子集成电路(optoelectronic integrated circuit,简称OEIC ),是把光 器件和电子器件集成在同一基片上的集成电 路。
光电子集成电路(optoelectronic integrated circuit,简称OEIC ),是把光器件和电子器件集 成在同一基片上的集成电路。
结构功能
如果将这一中性区经过一体接触接地,则厚膜 器件工作特性便和体硅器件特性几乎完全相同。而 基于薄膜SOI结构的器件由于硅膜的全部耗尽完全 消除"翘曲效应",且这类器件具有低电场、高跨导、 良好的短沟道特性和接近理想的亚阈值斜率等优点。 因此薄膜全耗尽FDSOI是非常有前景的SOI结构。
Si基光电子集成是集成电路研究的一个重要方向, 由于硅加工工艺和CMOS电路工艺极其成熟,硅基集 成光学的研究主要集中在三个方面: (1)SiO2光波导回路; (2)SiGe(锗硅合金)/Si光波导器件; (3)SOI光波导器件。
SiO2光波导回路利用在SiO2中掺杂实现波导 结构,由于它与光纤的结构相似,且波导损 耗小,因而被广泛应用。然而SiO2光波导技 术与Si的集成电路工艺不完全兼容,限制了 SiO2光波导在光电集成方面的应用。
SOI光电子集成 技术
1)SOI
2)光电子集成电路
3)
SOI集成光电子器件
SOI(Silicon-OnInsulator,绝缘衬底 上的硅)技术是在顶 层硅和背衬底之间引 入了一层氧化层。
通过在绝缘体上形成半导体 薄膜,SOI材料具有了体硅 所无法比拟的优点:可以实 现集成电路中元器件的介质 隔离,彻底消除了体硅 CMOS电路中的寄生闩锁效 应;采用这种材料制成的集 成电路还具有寄生电容小、 集成密度高、速度快、工艺 简单、短沟道效应小及特别 适用于低压低功耗电路等优 势。
SOI材料用于光波导器件有许多优越性: 1、与Si工艺兼容,便于电子和光子集成; 2、能制作三维结构,可大规模集成; 3、损耗小,具有良好的波导特性; 4、用于光互连,光学回路的运算速度比电子回路快 104倍; 5、抗辐射,能在空间或军事上应用。
1)SOI
2)光电子集成电路
3)
SOI集成光电子器件
SOI材料被称为二十一世纪的微电子材料,同时由于 集成SOI光电子工艺与标准CMOS工艺完全兼容,SOI 技术为实现低成本高集成度的光电子回路提供了可 能,因此基于SOI的集成光电子器件一直是集成光学 中的一个重要组成部分。
SOI集成光电子器件的发展以及一些研究进展: SOI 光波导, SOI光波导耦合器, SOI光波导开关,相 位阵列波导光栅(PAWG)等。
SOI光波导耦合器
集成光学中的一种重要单元器件 传统的波导耦合器有Y分支器和定向耦合器
SOI光波导耦合器
多模波导干涉耦合器(Multimode Interference Coupler, MMI耦合器)近年来受到重视,广泛应用 于集成光学中。其优点:器件结构紧凑,制作容差 大,输出功率均衡,光功率损耗低。MMI尤其适合于 分支数比较大的分束器。
光电子集成电路从结构上可分为单片集成型 和混合集成型两类。 前者是把光和电功能的 器பைடு நூலகம்都集成在单片上;后者则侧重光学元件 的集成,然后再引入相应电路的电子器件。
光电子集成电路的优点是器件之间拼接紧凑,既 能减弱因互连效应引起的响应延迟和噪声,从而提 高传递信息的容量和高保真度,又能使器件微型化, 便于信息工程的应用。
SOI光波导
基本结构如图,有平面和条形两种。条形结 构中研究最多的是脊形结构,脊形波导可以 实现大截面尺寸的单模SOI波导,大大减小 波导与光纤的耦合损耗。
弯曲波导在集成光学中也非常重要。为减少器件尺 寸,总希望弯曲波导的弯曲半径尽量小。通常波导 弯曲会导致光场向衬底泄露,和波导的侧向辐射损 耗。采用锥形结构可减少弯曲波导的最小弯曲半径。
SOI的优势 SOI 在器件性能上具有以下优点: 1) 减小了寄生电容,提高了运行速度。与体硅 材料相比,SOI 器件的运行速度提高了20-35%; 2) 具有更低的功耗。由于减少了寄生电容,降 低了漏电,SOI 器件功耗可减小35-70%;
SOI的优势 3) 消除了闩锁效应; 4) 抑制了衬底的脉冲电流干扰,减少了软错 误的发生; 5) 与现有硅工艺兼容,可减少 13-20%的工 序。