UVW自动对位平台即视觉对位平台

MMT XXY-对位平台

Copyright 2005 Micro Motion Technology All Rights Reserved * AA-300Distributed by Innovation Matrix, Inc.1715 Junction Ave., Suite B, San Jose CA 95112, TEL: 408-329-4422 Fax: 408-716-2553 Email: sales@ Website:AA- Motorized 3 Axis Alignment StageMicro Motion TechnologyMicro Motion Technology Co., Ltd. (MMT) is the leading manufacturer and distributor of highprecision positioning tables and precision components used for development andapplication of the advanced research and industrial applications.The AA Series motorized 3 axis alignment stagehas very low profile and enables the user tocreate a compact alignment system. Three different sizes are provided for wide range ofapplications needs.Features• Fine X-Y-T 3-axis alignment stage for inspection system (Hollow hole is optional)• Travel range : ± 10 mm / ± 10 mm / ± 15°• 5um accuracy• Low profile stage - 3-axis are on the same plane• High stiffness cross roller guide stage• Vacuum environment compatible is optionalApplications• Precision processing and inspection systems of Semiconductor, LCD, FPD, PCB, etc.Copyright 2005 Micro Motion Technology All Rights Reserved * AA-300Distributed by Innovation Matrix, Inc.1715 Junction Ave., Suite B, San Jose CA 95112, TEL: 408-329-4422 Fax: 408-716-2553Copyright 2005 Micro Motion Technology All Rights Reserved * AA-300Distributed by Innovation Matrix, Inc.1715 Junction Ave., Suite B, San Jose CA 95112TEL: 408-329-4422 Fax: 408-716-2553Copyright 2005 Micro Motion Technology All Rights Reserved * AA-300Distributed by Innovation Matrix, Inc.1715 Junction Ave., Suite B, San Jose CA 95112, TEL: 408-329-4422 Fax: 408-716-2553。

uvw平台对位原理

对位平台，顾名思义是对位用的。

任意两个工件需要组装到一起，都可以用到对位平台。

但是不是所有的工件组装都需要对位平台，因为不需要那么高的精度。

对位平台的精度可以去到1个微米，芯片的印刷就用到这个精度。

往低去了，像是手机屏幕的贴合，用到的精度也就3个微米以内。

常用的对位平台有三种，xyθ结构，5M结构,UVW结构。

它们的结构不一样，但是核心功能都是对位，通过X轴移动，Y轴移动，θ轴旋转，实现对位功能。

UVW对位平台是日本人发明的，它由上板，下板和四个单体组组成。

UVW对应的是三个动力轴，X轴方向两个马达（VW轴），Y轴方向一个马达（U），X轴两个马达同动实现X轴移动，Y轴一个马达控制Y轴移动，X轴两个不同步的时候实现θ轴转动。

这样，通过控制三个马达实现了X，Y的的移动，θ轴旋转实现对位。

PV200说明书

4.5 PLC 通信指令的详解 ........................................... 93
4.6 错误代码一览 ..................................................... 114
5 对位功能设定 ......................................115
2 基本操作 .................................................. 8
2.1 关于画面 ..................................................................9 2.1.1 运转画面和设定画面 ......................................9 2.1.2 预设菜单 ...................................................... 10 2.1.3 关于品种 No.0 以外、切换语言时预设菜单的使用 ................................................... 12 2.1.4 选择菜单 ...................................................... 14
6.4 检查＞对位＞自学习 .......................................... 124 6.4.1 命令 ............................................................ 124 6.4.2 检查设定 ..................................................... 124 6.4.3 详细显示（自学习数据） ........................... 126 6.4.4 手动登录（自学习数据） ........................... 127 6.4.5 旋转中心补正（自学习数据） ................... 128

PLC対位制御Obata20070618-CN

详细指令 ●ＡＡＥ指令（自动对位位置控制开始（带OFFSET））
&AAEP1P2P3P4<CR> &AAER1<CR>
PLS输出(V轴) PLS输出(W轴) PLS输出(U轴)
由PLC发出的执行自动对位的要求。
例)OFFSET为0时。
&ＡＡＥ＋０００００００００００＋０００００００００００＋０００００００００００００<CR> 执行自动对位的要求指令如上。自动对位结束后､ &ＡＡＥ００<CR> 为A210发出的执行正常的回答。
计算用存储器地址
●ＩＰＤ→换算成当前值数据用的操作区
DT1310 DT1311 DT1312 DT1313 DT1314 DT1315 DT1316 DT1317 DT1318
DT1358 DT1359 DT1360 DT1361 DT1362 DT1363 DT1370 DT1371 DT1372 DT1373 DT1374 DT1375
步进电机[日本マイクロステップ公司]生产的MC-0514-L
PLC：FPΣ､ 3轴位控(UVW) PP21+PP11
对位系统构成 ●系统构成详解(FP2)
PP41 3轴 U轴步进电机
1轴 V轴步进电机
2轴 W轴步进电机
PLC－UVW 平台接线方法
●与PP*1(U轴) 的接线方法 PP*1 A1 B1 A2 B2 A3 B3 B4 A6 B6 A20 B20 24V 0V MC-0514-L CW+ CWCCW+ CCWRP13A-12RA-20PC(HRS)
W轴目的位置位置控制数据（mm）（二进制）（带符号）
计算用存储器地址

松下电工(中国)有限公司对位系统

滑座
轴承
UVW平台的组成［２］
※中央平台被一个倒 T型的支架固定。
UVW平台的组成［３］
据U轴的指令，向X方向移动。
据向V、W轴的同一指令，向Y方向移动。
据向U、V、W轴的同一指令，同时向X、Y方向移动。
θ 方向Ｘ方向
U、V、W轴的移动量相同，据改变移动方向 U、V、W轴各自移动量不同，据向不同的指令，以平台中心为旋转中心向θ 方向移动。方向移动的指令，以任意点为旋转中心向θ 方向移动。
判定是否低于阀值 No 移动x、y、θ平台对位结束
Yes
P.17
☆自动对位・・・实际动作
【对位操作】
※使对位mark与画面中央十字线的中心部相吻合。 ◆以上演示，对位动作需执行到达到下述二值化极限值。 ΔＸ →1μm以下、ΔＹ →1μm以下、Δθ →0.002°以下
◆摄像头视野＝约为2mm□，分辨率＝约为0.004ｍｍ/像素
摄像头的设置向上向下都没有关系。
摄像头的设置稍微倾斜也没有关系。
方向不一様比較小
垂直设置的摄像头左右扭转也没有关系。
比較大
各摄像头视野的大小（据高度方向的摄像头设置位置和镜头倍率的差异）稍有不同也没有关系。
視野不一様
P.14
自动对位系统概要
◆对位系统包的基本概念(2)
自学习（Caribration）
对位mark
十字mark
平台示例
P.18
关于mark对位
① 1个 mark 对位
缺角
基准边
摄像头视野
玻璃板
边缘对位有两个功用有时候是针脚对位（针脚吻合） ◆将基板mark嵌入mark对位摄像头的视野，进行初对位 ◆为做成玻璃板加工初期的对位mark而进行的外形基准对位（缺角的两个边的基准）

视觉自动对位系统讲义

视觉自动对位系统讲义工程部:郑茂强2010/01讲义要点一.视觉自动对位系统构成二.视觉自动对位系统选型三.视觉自动对位系统应用视觉自动对位通过CCD将图像采集到图像对位处理系统,再通过图像对位处理软件,算出偏移位置和角度,再传送给外部运动制器,进行位置纠正.对位前对位后视觉自动对位流程:运动平台已经能正常运行,CCD安装并正常成像根本平台类型(XYQ,UVW…),设置平台参数,做模板,对位精度等自学习(Calibration),算出平台与CCD之间的关系.拍目标拍对像对位,自动算出偏移距离和角度(脉冲数)根据对位得出的偏移脉冲值控制平台运动相机与镜头FV -aligne r XPe/P 3-800UNT(显示器)(PLC)(FV-Aligner ENG)(对位主机)运动控制器(运动控制平台)滚动球/鼠标/键盘(触摸屏人机界面)光源,棱镜(FV-Aligner UNT 直接控制驱动器)对位主机:目前公司代理的对位系统有:松下:A210(手动对位)PV310(自动对位)(详细资料见:松下选型手册P26-P27)FAST:带轴卡-FV2300-ENG 不带轴卡-FV2300-UNT (旧型为FV1100)FV-AlignerII(对位软件)FV1100FV2300PV310A210松下对位系统:摄像机A摄像机B操作手柄PV310算出两台摄像机所拍摄的对位标记的补正量使用UVW方式／XYθ方式的平台,进行对位位置控制精度在1μm以上(需要高精度移动平台)松下对位软件:使用高精度平台,位置控制PLC进行全自动对位.适应在线生产或生产线自动化程度比较高的场合. [操作说明]松下对位软件:[松下对位介绍.ppt]FAST对位系统:FV-1100FV-2300FV-aligner系列是一款多功能，高精度的定位型图像处理装置。

进行定位时，在相机读取的图像信息的基础上，自动计算出定位所需的XYθ移动量，然后通过控制一个三轴平台（或者四轴平台）的移动，实现对工件进行XYθ校正，从而达到精确对位的目的。

FPC曝光机设计技术手记(6) 曝光平台与对位精度

高亮度大视场照明系统
高解析度快速对焦CCD系统
高效可靠的自动对位系统
Байду номын сангаас
高效率的对位算法与运算速度高精度高灵敏高稳定性的对位调整平台高度精准、可靠、可控、可视化的对位调节、检测、验证机构
高稳定的系统驱动电源
合理的对位基准选择（MASK对位之Mark设计规范）
FPC曝光机对位系统的视场与照明体系
对位靶标视场照明应优先选用黄色背光源照明，以提高靶标识别对比度。
结构问题
边缘弱气流区域边缘泄压区域
FPC曝光平台设计
作业问题对策
物料的边缘平整度物料在作业过程中的
平整性不良曝光平台有效区裕度
对位靶标设置裕度
平台内部抽气气流不会直角流动，因而存在周边死角区；
开放的物料边沿造成气压减弱
物料边沿在吸附时存在荷叶边区域
物料在作业过程中会出现翘曲和褶皱
曝光平台周边有效区域裕度不小于20mm
FPC 曝光机对位系统稳定性的扰动与规避
1、FPC 曝光机的对位系统主要有四个组成部分：曝光平台、光罩、光源和CCD对位摄像头组成，
2、遵循“对位系统稳定性扰动最小化原则”，由于随着生产产品的变化，光罩系统必须改变，因此应该以曝光平台为基准，实现相对曝光平台基准的、光罩平行定位、光源光路和CCD摄像头光轴的准直性高度稳定；为此，曝光机的定位调整应该以曝光光罩的对位调整方案为好。
图像识别迭代运算
图像识别与靶标图像和数量相匹配迭代算法与运算精度和运算速度相匹配
FPC曝光机对位系统对位靶标识别的看得清
视场
视场占空比视场对比度
靶标在光标中的占空比过大容易造成误判和难以对位

视觉自动对位系统的讲义.

02 13VBiblioteka P CUW
B
2.1 曝光機
紫外线灯
相机
模板
平台
－流程－
1.移动玻璃面板至平台
2.检出模板上的标志 3.自动定位 4.确认最终精度
5.用紫外线灯进行露光
6.排出玻璃面板
2.2 玻璃贴合机
玻璃面板Ⅱ
平台相机
－流程－
控制头
1.将玻璃面板Ⅱ上的标志移动到相机视野内
2.检出并登录目标位置
二.视觉自动对位系统选型
对位用CCD相机 ① COG对位系统中因拍照视野范围约为3mm，所以用普通的30万像素
相机即可。 ② 相机拍照IC及玻璃进属于静止状态下拍照，通常用普通隔行扫描相
机即可。如：松下：ANM832(包含相机电缆线)
Sentech：STC-E43A或STC-E42A (没有包含相机电缆线12W02)
二.视觉自动对位系统选型
目前常见对位平台:
XYθ平台 Xθ+Y平台
UVW平台
Ｘ
Ｙ
１
２
Ｙ１
Ｘ２
4軸平台
二.视觉自动对位系统选型
COG对位光学系统标准配置(参考表）注：实际情况会有变化
名称
型号
1 远心镜头
MM6-ST65D
2 左侧视棱镜
MML-PSV16L
3 右侧视棱镜
MML-PSV16R
4 高亮度点光源
MLEK-A080W1LR MLEK-A080W2LR MLEK-A230W1LR MLEK-A230W2LR
MLEP-A035W1LR MLEP-A035W1LRD MLEP-A035W3LR MLEP-A035W3LRD

对位平台介绍基础篇

注：平台旋转不会使平台中心位置发生变化。
9
Mission Complete
关于应用的详细介绍和技术细节，请参阅各类《应用篇》和《技术篇》文档。
10
对位平台介绍资料
•基础篇
ATC-AS 曾杰
1
目录
• 平台的使用 • 平台种类 • 平台对位方法
2
平台的使用
Alignment应用（静止工件）
< FZ-Motion >
针对放置在平台上的工件，通过相机得到当前位置，平台根据当前位置进行平移和旋转动作，移动产品到一个正确的姿态。
3
平台种类
Y Θ
① 角度旋转 X ② X移动
5
平台种类
① 角度旋转 ② X移动
最终平台XY轴位置不发生变化。
平台名称 UVW
组成三个轴在同一个平面上。
优缺点
Θ精度好，平台比较薄，电机容量可以较小。 Θ旋转区间小，价格较贵，构造很复杂。
6
平台种类
① 角度旋转 ② X移动
最终平台XY轴位置不发生变化。
平台名称 UVWR
组成四个轴在同一个平面上。
优缺点
Θ精度好，平台比较薄，电机容量可以比UVW的更小。 Θ旋转区间小，价格较贵，构造很复杂。
7
平台对位方法
FZ4标准版机型一般采用方法：
相机基板
1）两个相机单独校准坐标系。 2）通过搜索得到各自坐标系内的Mark坐标。 (X1，Y1)(X2，Y2) 3）通过计算公式（参考定位Knowhow），得到2个Mark点连线的角度偏移和2个Mark连线中点的XY偏移。 4）如果Mark中点不是平台旋转中点，那么只能够先旋转角度对准，再拍摄一次，后平移XY定位。

UVW平台运动控制算法以及matlab仿真

UVW平台运动控制算法以及matlab仿真UVW平台运动控制算法以及matlab仿真最近公司同事因为对某视觉对位平台的运动控制算法有疑问，所以来请教我。

由于我也是第⼀次接触到UVW⾃动对位平台（也可以叫XXY⾃动对位平台），于是找了⼀些资料学习⼀下，⼤概了解了运动模式后，使⽤matlab模拟了此平台，并验证了UVW平台资料提供的运动控制算法的正确性。

⼀、UVW平台介绍1、这是⼀种可以实现以平⾯上任意⼀点为中⼼，进⾏旋转运动的装置，并可沿着任意的⽅向平移。

2、此平台和视觉CCD纠偏系统对接在⼀起，可以很快完成⾼精度的纠偏⼯作，重复定位精度⼀般可达±1µm；UVW平台和以前的xyθ平台相⽐，有以下⼏点不同：1、控制精度⾼于xyθ平台；2、UVW平台可以平⾯上任意⼀点为中⼼做旋转运动（包括⽆限远）；⽽xyθ平台由于仅仅依靠⼀个电机的转动控制，所以旋转中⼼必须是固定在平台上某处（θ电机连接处），且必须随平台⼀同运动。

3、基于第⼆点的区别，显然UVW平台是需要⼀个绝对坐标系作为参考系，其旋转中⼼才有意义；⽽xyθ平台则必须是⼀个随平台动的坐标系作为参考系，这样控制计算⽅法便完全不⼀样了。

UVW平台⼯作模式如下图：⼆、计算⽅法计算⽅法由平台供应商提供，截图如下：仔细研究⼀下上述的公式，很容易发现，这只是简单的⼏何运算以及对⼆维坐标的求解问题。

简单说明⼀下视觉对位和运动控制思路：1、通过UVW平台供应商提供的说明书，找到机械参数，得到UVW三个轴的初始坐标（基于UVW平台原点坐标系）；2、通过视觉标定⽅法，确定相机坐标系到UVW平台坐标系的转换矩阵；确定标志物模板基于UVW平台原点坐标系的坐标值（x_m, y_m）；3、通过相机得到标志物模板位置和待纠偏标志物之间的x、y、θ偏移量（基于UVW平台原点坐标系）；4、按照上图公式，输⼊三个轴初始坐标，设置旋转中⼼为(0,0)，输⼊θ偏移量，可得到UVW三轴新的坐标值，以及待纠偏物体的新的坐标，以及三个电机对应的给进量A1、A2、A3；5、输⼊上⼀步求得的UVW三轴新的坐标值，另外通过上⼀步求得的待纠偏物体的新的坐标，计算得此时待纠偏物体到模板点位置的x2、y2偏移量；输⼊x2、y2偏移量，则可以得到三个电机对应的给进量B1、B2、B3；6、将5和6步获取的三个电机的给进量对应相加，分别得到对应电机给进量C1、C2、C3，并⽤此给进量驱动对应电机即可。

机器视觉对位中的高精度UVW平台应用方法研究

陈腾飞（广东利元亨智能装备股份有限公司，广东惠州 516057）摘　要：UVW平台具有刚性强、响应快、定位精度高等优点，广泛应用于机器视觉对位。

设计一套机器视觉对位系统，根据UVW平台的运动学特性，建立运动量与目标坐标的转换方法。

文章提出了UVW平台标定方法并展示其完整的实施过程，完成视觉纠偏实验，结果表明提出的标定方法简单高效，设计的对位系统纠偏精度高，具有较高的工业实用价值。

关键词：机器视觉；UVW平台；对位系统中图分类号：TP391.41 文献标志码：A文章编号：2096-3092（2020）06-0047-03机器视觉对位中的高精度UVW 平台应用方法研究Abstract: UVW platform has the advantages of strong rigidity, fast response and high positioning accuracy, which has widely used in machine vision counterpoint. A set of machine vision counterpoint system is designed. According to the kinematic characteristics of UVW platform, the transformation method between the amount of motion and the target coordinates is established. In this paper, the calibration method of UVW platform is proposed and its complete implementation process is demonstrated. The visual deviation correction experiment is completed. The result shows that the proposed calibration method is simple and efficient. The alignment system is designed with high accuracy of deviation correction, which has high industrial practical value.Key words: machine vision, UVW platform, alignment system(Guangdong Liyuanheng Intelligent Equipment Co., Ltd., Huizhou, Guangdong 516057)Chen TengfeiResearch on the Application Method of High Precision UVW Platform in Machine VisionAlignment当前，机器视觉技术在工业自动化领域得到广泛而深入的应用，随着制造和测量精度要求的不断提高，机器视觉对位平台的重要性愈发凸显[1]。

UVW平台在平板显示贴附类设备中的应用与研究

UVW平台在平板显示贴附类设备中的应用与研究胡钦华;衡利斌;郭鹏;杨成春【摘要】为了满足在平板显示贴附类设备中对高精度贴合的要求，设计了一种平面3-PR P 型并联机构UVW 工作平台，并对平台的自由度进行了分析，利用解析法给出了平台精确的运动学正反解模型，并在此基础上对平台产生误差的原因进行了深入分析。

在平台的各种误差中，PR P 支链的对心误差是导致运动学正反解误差的关键，是影响平台精度的主要原因。

%In order to m eet the requirem ents of high precision fitting attached equipm ent in the flat panel display,a kind of U V W w orking platform of 3-PR P parallel m echanism of plane w as designed, and the degree of freedom of the platform w ere analyzed,and the analytical m odel of kinem atics of the positive and negative w as give by analytical m ethod,the errors of the platform are analyzed in depth based on form er research.In all kinds of errors of the platform ,the central error is the key to the error of positive and negative solution of kinem atics in the chain of PR P,w hich is the m ain reason of the platform precision.【期刊名称】《电子工业专用设备》【年(卷),期】2016(000)005【总页数】7页(P29-34,46)【关键词】贴附;视觉对位系统;UVW 平台;并联机构;运动正反解;误差补偿【作者】胡钦华;衡利斌;郭鹏;杨成春【作者单位】中国电子科技集团公司第二研究所，山西太原030024;中国电子科技集团公司第二研究所，山西太原030024;中国电子科技集团公司第二研究所，山西太原030024;中国电子科技集团公司第二研究所，山西太原030024【正文语种】中文【中图分类】TN605当前，国内平板显示产业的发展日新月异，其作为国家战略层面的新兴产业，得到了国家和政府的大力扶持。

UVW平台标定方法、设备、纠偏方法、装置及对位系统[发明专利]

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 202010762261.2(22)申请日 2020.07.31(71)申请人广东利元亨智能装备股份有限公司地址 516057 广东省惠州市惠城区马安镇惠州大道旁东江职校路2号(厂房)(72)发明人陈腾飞　燕峰伟　丁媛　周俊杰　杜义贤　(74)专利代理机构北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315代理人王华强(51)Int.Cl.G06T 7/73(2017.01)G06T 7/80(2017.01)(54)发明名称UVW平台标定方法、设备、纠偏方法、装置及对位系统(57)摘要本发明揭示一种UVW平台标定方法、设备、纠偏方法、装置及对位系统。

标定方法包括：获得相机在XY方向的像素当量及相机坐标系xyθ与世界坐标系XYθ的夹角ε；获取相机坐标系xyθ中世界坐标系原点与相机坐标系原点沿X、Y方向距离Δx及Δy；根据夹角ε、Δx及Δy获得相机坐标系xyθ与世界坐标系系XYθ的映射关系。

采用平移标定以及旋转标定获得相机坐标系与世界坐标系的映射关系，而后对工件进行纠偏时，始终以世界坐标系XYθ作为运算基础，快速输出任意世界坐标系XYθ姿态下的UVW轴对应的运动量。

权利要求书2页说明书9页附图2页CN 111862221 A 2020.10.30C N 111862221A1.一种UVW平台标定方法，其特征在于，包括：步骤1、控制UVW平台按照预设平移距离，分别沿X、Y方向运动m次(m≥2)，每完成一次平移后控制UVW平台停止，则控制相机获取一次图像；步骤2、根据平移获取的所有图像，获得相机在XY方向的像素当量及相机坐标系xyθ与世界坐标系XYθ的夹角ε；步骤3、控制UVW平台按照预设角度依次旋转n次(n≥2)，每完成一次旋转后控制UVW平台停止，则控制相机采集一次图像；步骤4、根据旋转获取的所有图像及相机在XY方向的像素当量，获取相机坐标系xyθ中世界坐标系原点与相机坐标系原点沿X、Y方向距离Δx及Δy；步骤5、根据夹角ε、Δx及Δy获得相机坐标系xyθ与世界坐标系系XYθ的映射关系。

UVW对位平台[实用新型专利]

专利名称：UVW对位平台
专利类型：实用新型专利
发明人：郑伟强,林邦羽,冯金龙申请号：CN201320083444.7申请日：20130222
公开号：CN203179855U
公开日：
20130904
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本实用新型公开了一种UVW对位平台，包括底座、位于底座上的转动轴、工作台面、位于工作台面和底座之间的轴承以及连接工作台面和转动轴的滑台，所述转动轴包括U转动轴、V转动轴、W转动轴及协作转动轴，所述转动轴由马达、联轴器和丝杆组成，所述U转动轴、V转动轴和W转动轴并联共平面。

本实用新型结构简单且对位速度快，效率高，稳定性强，负载能力强，能适应特殊需求的对位。

申请人：深圳市惠诚自动化科技有限公司
地址：518000 广东省深圳市宝安区沙井街道上寮花园华苑居一巷2号一楼(办公场所)
国籍：CN
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一种UVW四轴对位平台[实用新型专利]

专利名称：一种UVW四轴对位平台专利类型：实用新型专利
发明人：刘冠林
申请号：CN202021233045.0
申请日：20200629
公开号：CN213259365U
公开日：
20210525
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本实用新型提供一种UVW四轴对位平台，其解决了现有对位平台稳定性差的技术问题；包括相对设置的底板和移动平台，底板和移动平台之间的四角上设有四个旋动支撑组件，每个旋动支撑组件均连接有驱动组件；驱动组件包括电机、通过传动装置与电机连接的滚珠丝杠，旋动支撑组件包括与滚珠丝杠连接的下滑块、连接下滑块和底板的第一导轨、上盖、连接下滑块和上盖的第二导轨以及与移动平台连接的第二轴承，第一导轨、第二导轨相互垂直设置；上盖中部设有凸起的锁紧部，锁紧部外套有第二轴承，第二轴承外套有轴承限位座；锁紧部上方连接有锁紧片，锁紧片外缘覆盖第二轴承的内圈；移动平台设有与锁紧片相对应的通孔。

本实用新型广泛应用于对位平台技术领域。

申请人：元硕机器人(威海)有限公司
地址：264200 山东省威海市环翠区羊亭和兴路186-4座21号
国籍：CN
代理机构：威海恒誉润达专利代理事务所(普通合伙)
代理人：林楠
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UVW工作平台及其在精密对位系统中的应用的开题报告

UVW工作平台及其在精密对位系统中的应用的开题报告
一、选题背景
在工业生产中，对于精密加工和测量等操作，需要精确对位的实现。

为了达到高精度
的对位效果，需要使用精密的对位系统。

UVW工作平台就是一种常见的精密对位系统。

UVW工作平台是由数控机床上常用的电动旋转平台和测头组成的一种XYZ方向运动平台，具有较高的平移和旋转精度。

在各类精密零件的加工过程中，使用UVW工作平台能够有效提高工作效率，降低损耗。

二、研究目的及意义
本文旨在探究UVW工作平台的结构、原理和应用，特别是在精密对位系统中的应用。

通过对UVW工作平台的研究，实现对其在高精度对位系统中的应用，从而提高工程师对UVW工作平台的应用水平，为现代工业生产提供更好的技术支持。

三、研究内容及方法
本研究将探讨UVW工作平台的结构和基本原理，并将结合精密对位系统的实际操作和应用情况，分析UVW工作平台在精密对位系统中的应用，并提出相关的改进意见。

具体方法包括文献调研和实验观察分析等方法。

四、预期成果
本研究预期达到的成果主要包括以下方面：
1.系统介绍UVW工作平台的结构与工作原理；
2.分析UVW工作平台在精密对位系统中的应用；
3.提出针对UVW工作平台在精密对位系统中的应用的改进意见；
4.实现对UVW工作平台的应用水平提高。

五、进度安排
1.文献调研、资料查阅（1个月）；
2.实验观察分析、数据整理（2个月）；
3.成果总结、撰写论文（1个月）。

uvw台子原点的机械参考 -回复

uvw台子原点的机械参考-回复什么是uvw台子原点的机械参考？uvw台子原点的机械参考是一种用于测量和定位机械元件位置的工具。

它由三根互相垂直的轴线组成，分别是u轴、v轴和w轴。

每根轴线都有自己的正方向和负方向，形成一个坐标系，用来描述和控制机械系统的运动。

为了更好地理解uvw台子原点的机械参考，我们先来详细了解每个轴线的含义和作用。

1. u轴：u轴是沿着机械元件的X方向运动的轴线。

它表示水平方向的位移，与坐标系中的X轴对应。

当u轴正方向增加时，机械元件向右移动，而u轴负方向增加时，机械元件向左移动。

2. v轴：v轴是沿着机械元件的Y方向运动的轴线。

它表示垂直方向的位移，与坐标系中的Y轴对应。

当v轴正方向增加时，机械元件向上移动，而v轴负方向增加时，机械元件向下移动。

3. w轴：w轴是沿着机械元件的Z方向运动的轴线。

它表示前后方向的位移，与坐标系中的Z轴对应。

当w轴正方向增加时，机械元件向前移动，而w轴负方向增加时，机械元件向后移动。

通过在这三个轴线上的运动组合，机械元件可以完成各种复杂的运动和定位任务。

例如，在三维打印机中，使用uvw台子原点的机械参考可以精确定位打印喷头的位置，从而实现精准的打印。

但uvw台子原点的机械参考仅仅提供了坐标系和定位功能，并不能直接控制机械元件的运动。

要实现机械元件的精确定位和运动控制，需要将uvw台子原点的机械参考与其他控制器（如驱动器和运动控制算法）进行连接。

在连接控制器之后，我们可以通过输入坐标值来控制机械元件的位置。

一般情况下，我们会使用一组坐标值（u、v、w）来表示目标位置。

控制器会根据当前位置和目标位置之间的差异，计算出相应的控制信号，驱动机械元件进行移动，直到达到目标位置。

除了定位功能，uvw台子原点的机械参考还可以用于测量机械元件的位置和角度。

通过在uvw台子原点的机械参考上安装传感器，我们可以实时获取机械元件的位置信息，并将其反馈给控制器进行处理。