固体光谱学 第五章 杂质和缺陷态光谱
《固体中的点缺陷》课件
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总结
点缺陷的重要性
点缺陷对材料的性质和性能具有重要影响。
对未来的展望
深入研究固体中的点缺陷将有助于开发更优质的材 料和应用。
1
密封技术
使用密封技术可以将点缺陷修复或减少其对材料性能的影响。
2
补充材料技术
通过添加补充材料,可以填补点缺陷并提高固体的性能。
点缺陷的应用
1 光电器件中的应用
点缺陷可以影响光电器件的光吸收、发射和传导性能。
2 半导体材料中的应用
半导体材料中的点缺陷可以调节导电性和能带结构。
3 电池材料中的应用
点缺陷可以影响电池材料的电子传导和离子扩散性能。
间隙缺陷
间隙缺陷指晶体中有其他原子 占据了晶格点之外的间隙位置。
气泡缺陷
气泡缺陷是由气体被困在晶体 中形成的缺陷。
点缺陷的检测
电子显微镜检测
使用电子显微镜可以观察和分析固体中的点缺陷。
吸收光谱技术
通过测量材料吸收光谱可以得出点缺陷的存在和性质。
散射技术
散射技术可以揭示固体中的点缺陷的位置和结构。
点缺陷的修复
点缺陷的形成原因
点缺陷的形成可以是热力学和动力学过程,例如晶体生长、化学反应和辐射暴露。
点缺陷的影响
1 对物理性质的影响
点缺陷可以影响固体的导电性、热导性、磁性和光学性质。
2 对材料性能的影响
点缺陷可能影响材料的机械强度、耐腐蚀性和化学稳定性。
点缺陷的分类
空位缺陷
空位缺陷指晶体中出现了空缺 的晶格点。
《固体中的点缺陷》PPT 课件
欢迎来到《固体中的点缺陷》PPT课件!本课程将深入探讨固体中的点缺陷, 包括其概述、影响、分类、检测、修复和应用。让我们一起开始探索这个有 趣的主题吧!
第五章_直拉单晶硅中的杂质和位错
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氧沉淀形成时,晶体硅中的点缺陷、杂质、掺杂 剂都可能提供氧沉淀的异质核心儿影响氧沉淀的 形成。硼可以促进氧沉淀的形成。 纯氧气氛热处理---抑制作用:氧化时,表面生 成二氧化硅层,大量的自间隙硅原子从表面进入 体内,从而抑制氧沉淀的形成。 氮化气氛—促进作用:硅片氮化产生大量空位扩 散到体内,从而对氧沉淀形成起到促进作用。
Deep Level Transient Spectroscopy (DLTS)
刃位错
螺位错
直拉单晶硅中的氧(重点)
直拉单晶硅中的碳(简要介绍)
直拉单晶硅中的金属杂质(重点)
直拉单晶硅中的位错(简要介绍)
浓度:1017-1018 cm-3 数量级 主要来源:石英坩埚的污染 (1420度),并经过 各种温度的热处理 存在形式:间隙氧,氧热施主,氧团簇,氧沉淀 双刃剑: 内吸杂,破坏器件性能
氧吸收峰: 1)波长为λ1=8.3μm(波数为1205.cm-1), 此吸收波峰主要为 分子对称伸缩振动产生的,吸收峰强度很小。
2) 波长为λ2=9μm(波数为1105.cm-1), 此吸收波峰主要为分 子反对称伸缩振动产生的,吸收峰强度最大。
3)波长为λ3=19.4μm(波数为515.cm-1), 此吸收波峰主要为 分子弯曲振动产生的,吸收峰强度较小。
正常格点上的原子,无时无刻不在作围绕平衡点的振动.由于存在热振动的涨 落,振幅达的原子就会摆脱平衡位置而进入原子间隙位置.这种由一个正常原子同 时产生一个填隙原子和一个空穴的缺陷称为弗仑克尔缺陷; 某格点上的原子,由于 热振动的涨落,某时刻它的振幅变得很大,会将最近邻原子挤跑,而自己占据这一 最近邻格点,在它原来的位置留下一个空位.由于该原子把能量传递给了挤跑的原 子,挤跑的原子也能将下一个原子挤跑,…,类似于一串小球的碰撞一样, 最表面 上的原位移到一个新的位置。晶体内这种不伴随填隙原产生的空位,称作肖持基缺 陷.
固态物理学中的晶格缺陷和杂质
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固态物理学中的晶格缺陷和杂质引言在固态物理学中,晶体是研究的重点之一。
晶体是由一定规则排列的原子或分子构成的,具有高度有序的结构。
然而,在实际应用和生产过程中,晶体中常常存在着各种各样的缺陷和杂质。
本文将通过对晶格缺陷和杂质的探讨,展示它们在固态物理学中的重要性和影响。
一、晶格缺陷1. 点缺陷点缺陷是晶体中最简单的缺陷形式。
它们可以是缺失了一个或多个原子的位置,或者是插入了一个或多个附加原子的位置。
点缺陷的存在对晶体的物理性质和化学性质产生重要影响。
例如,空位缺陷是一种常见的点缺陷形式。
晶体中的空位缺陷可以使晶体的导电率降低或增加,因为它们可以提供自由的电子或空穴用于电荷传输。
此外,空位缺陷还会对晶体的热导率、力学性能和光学性质产生影响。
2. 线缺陷除了点缺陷,还存在着线缺陷。
线缺陷是晶体中原子排列顺序的局部改变,通常形成晶体中的界面或晶体中的位错。
位错是晶体中最常见的线缺陷形式之一。
位错不仅可以改变晶体的力学性质,还可以影响晶体的导电性、热导性和光学性质。
事实上,位错是材料的强度和塑性的重要起因之一,它能够在晶体中改变原子的排列,从而使材料具有更好的弯曲性和延展性。
3. 面缺陷晶体中的面缺陷是晶格缺陷中最复杂的形式之一。
它们包括晶面、晶粒边界和相界面等。
晶面是晶体中平面的缺陷形式。
晶面的存在会对晶体的力学性质、电子性质和表面化学反应等产生影响。
例如,晶面的形状和取向可能会决定晶体的光学性质和生长方向。
晶粒边界是由不同晶粒之间的界面构成的。
晶粒边界可以影响材料的结晶度、导电性和塑性等。
相界面是晶体中不同相之间的界面。
相界面的存在可以导致晶体中出现相变、形成新的晶体结构和改变材料的热导性、力学性质和电子性质等。
二、晶格杂质除了晶格缺陷,杂质也是固态物理学中重要的研究对象。
杂质是指处于晶体中的与晶体中原子组成和排列不同的原子或分子。
杂质的存在对晶体的性质产生显著影响。
它们可以改变晶体的电子能带结构、晶格常数和电子性质等。
第5章固体的光学性质和光材料
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这样有光辐射激发产生的载流子,一方面在负荷中心消失掉,另 一方面在电场作用下可以移动一段距离后,再被陷阱俘获。如果外电 场强度大,则载流子再被陷阱所俘获之前在晶体中飘移的距离长、光 电流强,但会有一个饱和值(即初级光电流的最大值),图5.7为AgBr 的情况。
杂质原子在无机绝缘体中光学性质的研究范围十分广泛,作为基 质材料的化合物有碱金属卤化物、碱土金属卤化物、Ⅱ-Ⅳ族化合物、 氧化物、钨酸盐、钼酸盐、硅酸盐、金刚石和玻璃体等。而掺入作为光 学活性中心的杂质离子多数为过渡金属和稀土金属离子等。图5.4给出 了离子晶体的各种吸收光谱示意。
10
图5.4 离子晶体的各种吸收光谱示意
17
§5.2 固体的发光和发光材料
5.2.1 发光概论
1.激发源和发光材料分类 发光(Luminescence)一般用来描述某些固体材料由于吸收能量 而随之发生的发射光现象。发光可以以激发光源类型的不同划分为如下 发光类型: 光致发光(Photoluminescence):以光子或光为激发光源,常用 的有紫外光作激发源。 电致发光(Electroluminescence):以电能作激发源。 阴极致发光(Cathodoluminescence):使用阴极射线或电子束为 激发源。 2.发光材料的特性 一般而言,对发光材料的特性有三个要求: 发光材料的颜色 发光材料有彼此不同的颜色。发光材料的颜色 可通过不同方法来表征。
图5.7 AgBr的光导电流随 电压的变化(-185℃,照射光 波 长 546nm , 强 度 6.5×1010 个 光子/秒)
当电场强度一定时,改变
光的强度会对光导电流产生影
响。一般地,光导电流强度与
光强成正比变化。
固体光学与光谱学
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在处理光波在离子晶体中的传播时, 在求解麦克斯韦方程组 和物质方程的过程中,经典地给出了光学常数和色散关系,预 言红外区的色散起源于入射光子与离子晶体的横向光学声子 (TO)之间的相互作用. 在强耦合极限下, 耦合体系的简正模- 极化激元(polariton), 具有辐射类光子和类声子的特征,这一 预言被60年代发展起来的激光喇曼散射实验所证实.
➢19世纪末20世纪初,两个重大的科学发现:
1895, 伦琴(Röntgen): X-Ray,
气体放电 + BaPt (CN)4
荧光 ?
1896, 贝克勒尔(Becquerel):Radioactive-Ray,
阳光 + 铀盐晶体(硫酸双氧铀钾) X-Ray ?
15
➢1900年,普朗克提出了辐射的量子论,即各种频 率的电磁波,包括光,只能以各自确定的能量从 振子射出,这种能量微粒称为量子。量子论不仅 解释了黑体辐射能量按波长分布的规律,而且以 全新的方式提出了光与物质相互作用的整个问题。 量子论给整个物理学提供了新的概念,所以通常 把它的诞生视为近代物理学的起点。
➢ 1922年,康普顿(A.H. Compton )把来自钼 靶的X射线投射到石墨上以观测被散射后的X射 线。他发现其中包含有两种不同频率的成分, 一种频率(或波长)和原来人射的X射线的频率相 同,而另一种则比原来入射的X射线的频率小, 即康普顿效应
➢ 1928年,喇曼(C.V.Raman)和兰德斯别尔格 (Landsberg)相继发现了液体(苯)和固体(石英) 对光的非弹性散射, 早期称为联合散射,现在都 称之为喇曼散射. 迄今,固体散射光谱已经发展 成为一种强有力的表征方法
第五章_直拉单晶硅中的杂质和位错
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热施主在300-550度范围内产生,450度产生最 大热施主浓度 热施主在550度以上短时间热处理就可以消除, 通常在650度热处理0.5-1h就可以消除 初始形成速率与氧浓度的4次方成正比,其最大 浓度与氧浓度的3次方成正比 能级处于导带下0.06-0.07 eV 和0.13-0.15 eV, 是双施主态,热处理时间增长能级向价带偏移
单晶硅中的杂质: 1.有意引入的电活性杂质:P B 2.其他杂质:氧,碳,氮,氢和金属杂质 对于集成电路用直拉单晶硅来说氧是主要的杂质,碳杂质可 以通过优化工艺降低到1016cm-3 的红外探测极限以下。 氮杂质---用于控制微缺陷和增加机械强度 氢杂质---钝化金属杂质和缺陷 其主要缺陷类型为:点缺陷组成的微缺陷 太阳能级别的直拉单晶硅 杂质较多:氧,碳和金属杂质 1.生长速度快所引起的杂质 2.原材料引入的杂质 3.所用的器械引入的杂质 淀形成驱动 力 过饱和度大,临 界形核半径小 扩散慢 过饱和度较大, 临界形核半径较 大 扩散较快 过饱和度小,临 界形核半径大 扩散快
成核机制
密度高,尺寸小
均质成核为主
750-1050
密度高,尺寸大
均质成核和异质 成核竞争
1050-1250
密度底,尺寸大
异质成核为主
成核期(孕育期)--- 快速生长----接近饱和
氧沉淀形成时,晶体硅中的点缺陷、杂质、掺杂 剂都可能提供氧沉淀的异质核心儿影响氧沉淀的 形成。硼可以促进氧沉淀的形成。 纯氧气氛热处理---抑制作用:氧化时,表面生 成二氧化硅层,大量的自间隙硅原子从表面进入 体内,从而抑制氧沉淀的形成。 氮化气氛—促进作用:硅片氮化产生大量空位扩 散到体内,从而对氧沉淀形成起到促进作用。
固体光谱学-第一章-光学常数及色散关系
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数衰减律,即当光在物质中传播 距离后,光强的变化可简单地表示为
d
I I 0ed
(1.2)
式中 叫做吸收系数,量纲为cm-1, 表示光在固体中传播距离
d=1 / 时,光强衰减到原来的1/e。对于电导率不为零的耗散介质,
也就是吸收介质,吸收系数 相当大。
光在耗散介质中的传播,其波矢可用一个复数波动矢量来描述。
(1.3)
于是以 为角频k率的单k色r平面电ik磁i波场 (或 )的时空关系可以表
示为
EH
(1.4)
E E0 exp(ik r it)
显情的然况等,下位电,面场光垂振波直幅的于E以等波0波相矢e位的x矢p面实虚(i与部部k等r 振r,幅指而k面数等ii并形振t不)式幅e重的面x合p衰垂(,减直其k。于i中在波 光r这矢)波的
6.2 分层优化的薄膜场致发光 6.3 异质结能带偏移的光电子能谱测量 6.4 一维和0维体系光谱
6.4.1 量子尺寸效应 6.4.2 一维和零维体系的态密度与光谱 6.5 多孔硅的吸收与发光 6.5.1 多孔硅的吸收光谱 6.5.2 多孔硅发光光谱的温度效应 6.6 非晶固体带间跃迁的吸收光谱 6.7 带一带尾态间的吸收 6.8 带隙态的吸收 6.9 非晶固体的发光光谱
3.6 吸收过程的量子力学处理 3.6.1 相互作用哈密顿量 3.6.2 跃迁几率 3.6.3 直接跃迁吸收谱的量子力学处理
3.7 联合态密度和临界点 3.8 宇称选择定则 3.9 激发态载流子的可能运动方式
3.9.1 晶格驰豫、导带电子热均化与无辐射复合 3.9.2 导带自由电子的吸收 3.9.3 带内子能谷之间的跃迁 3.10 导带与价带间复合发光 3.10.1 发光与吸收之间的关系 3.10.2 带间复合发光
第五章 杂质和缺陷态光谱
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5.4 施主 受主对联合中心 施主-受主对联合中心 的吸收与发光
施主-受主对的能量状态 施主 受主对的能量状态 施主-受主对的吸收与发光光谱 施主 受主对的吸收与发光光谱
施主-受主对的能量状态 施主 受主对的能量状态
ND/NA < 1 部分补偿 考虑施主和受主杂质同时掺入的情况: 考虑施主和受主杂质同时掺入的情况: ND/NA = 1 全补偿 ND/NA > 1 过补偿 受主态会被部分的占据,而施主态会部分的空出, 受主态会被部分的占据,而施主态会部分的空出,形成 D+A-自补偿态。 自补偿态。 施主-受主对联合中心:D+可能俘获一个电子,A-可能 施主 受主对联合中心: 可能俘获一个电子, 受主对联合中心 俘获一个空穴,形成D 中心, 施主俘获一个空穴,形成 +A-eh或D+A-X中心,简称施主 或 中心 简称施主 受主对( 受主对(D-A对) 对 施主-受主对联合中心相当于束缚在 施主 受主对联合中心相当于束缚在D-A对上的一个束缚激子。 对上的一个束缚激子。 受主对联合中心相当于束缚在 对上的一个束缚激子 其初态能量: 其初态能量 其终态能量: 其终态能量
杂质中心上的电子(空穴) 杂质中心上的电子(空穴)的等效半径为
4πε 0ε ℏ 2 2 ε m0 2 rn = n = n aB 2 m*e m*
*
其中 aB=0.53x10-8cm,为氢原子波尔半径 为氢原子波尔半径
例如 (半导体 半导体: 半导体 ε大,m*/m0小) GaAs:r1*=90.9x10-8cm : Si : r1*=20x10-8cm Ge : r1*=45x10-8cm 注意有效质量的各向异性! 注意有效质量的各向异性!
ED
D
第四章 点缺陷
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kB ln )
F0为完整的晶体的自由能, Uy 为空位的形成能 , Sf为空位
的周围原子振动态引起的振动熵,而kBlnΩ 则 为 无 序 度 增 加而致的组态熵,Ω =(N+n)!/N!n!为系统的所有可能组态 数。
N n F (T , p) F 0(T , P) n(Uv SfT ) kBT ( N ln n ln ) 斯特令近似: N n N n
第四章 点缺陷
晶体缺陷:点缺陷、线缺陷和面缺陷
点缺陷:是指那些对晶体结构的干扰仅波及几个原子间距范
围的晶体缺陷。 点缺陷类型:
(1)结构缺陷:点阵空位、填隙原子。 (2)化学点缺陷:代位杂质、填隙杂质。(图4-1)
点缺陷对晶体结构及性能有重要的影响,例如:物理性质、 电学性质、光学性质等。
4.1
空位与填隙原子
4.1.1 热平衡态的点缺陷浓度
晶态固体中的原子总是在其平衡位置附近一刻 不停地作微小的振动。由于热振动的非线性,任一 原子的热振动都与周围原子的热振动状态密切相关, 使热振动能量存在涨落。当一原子一单具有足够大 的动能时就可能脱落正常位置,跳到邻近的原子间 隙中去,形成填隙原子,并在原位置留下一个空位。
( 3 )离子注入 这是一种用高能离子轰击材料将其嵌入近 表面区域的工艺,可以产生大量点缺陷。其中,注入组分 离子产生空位和填隙离子;注入杂质原子则产生代位或填 隙杂质。在制备某些合金材料时,不溶的合金元素只有借 助离子注入技术才能实现合金化,此外,高能离子注入还 能产生位错和各种类型的面缺陷,甚至非晶层。
( 2 )辐照 在金属晶体中,只有将原子由其正常位置打出 来的粒子才能产生点缺陷,只能激发电子的辐照则不能。 而在非金属中,由于电子激发态可以局域化且能保持相当 长的时间,因而电离辐照就能使晶体严重损伤,产生大量 点缺陷。不同类型的辐照粒子在产生离位原子从而形成点 缺陷方面是相差甚大的。产生离位轰击的电子需要兆电子 伏量级的能量,而中子与质子只需数百电子伏,如果轰击 粒子的质量与被轰击的原子很接近则只需数十电子伏便已 足够。
固体光学和光谱学 - 固体光学和光谱学 共21页
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禁带:两个相邻能带间可 能有一个不被允许的能量 间隔。
5
锗和硅的能带结构E—K 图(间接带半导体)
6
电子在能带中的分布:
每个能带可以容纳的电子数等于与该能带相应的 原子能级所能容纳的电子数的N倍(N是组成晶体 的原胞个数)。
正常情况下,总是优先填能量较低的能级。
满带:各能级都被电子填满的能带。 满带中电子不参与导电过程。
0
Ei (Ki )
2Ki2 2mh*
2K2 2mh*
Ef (Kf ) Eg
2K2f 2me*
Eg
2K2 2me*
E Ef
Ei
Eg
2K2 2me*
2K2 2mh*
Eg
2K2
2*
13
直接跃迁吸收 光谱的计算
[ ( )]2
( )AW ifabn i(E i)nf(E f) i,f AW ifab Ni(Ei)Nf(Ef) i,f
能量守恒
0 E
发射一个声子
E e吸收e 一 个E f声 E 子i E P E g E p2 K m C 2 e *2 K m V 2 h
E a aE f E i E PE g E p2 K m C 2 e *2 K m V 2 h
导带 Ef
Ei 价带
联合态密度
Eg
2 1
12 *3
1
J V C i,fN i( E i) N f( E f) ( 2 ) 3 k E ( k ) d s 2 2 (2) 2 ( E E g ) 2
吸收光谱
(E )A W if(2 2* 2)3 3 /2A *(
固体化学(第三章) 固体中的缺陷-2009
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38
(2) Schottky(肖特基)缺陷
Schottky缺陷的两个形成过程 ①由于热运动,晶面部分能量较大的原子蒸发 到晶面以外稍远的地方,从而产生晶面空位; ②晶体内部的原子运动到晶面,进而替代晶面 空位,并在晶体内部正常格点处留下空位。
39
因此,总的看来,就像空位从晶体表面向晶 体内部移动一样,这种空位称作Schottky缺陷。 Schottky缺陷的产生过程可示意如下:
Cui或Aui表示在在Cu3Au合金中, Cu或
Au原子占据了晶格中的间隙位置。
62
(3)错位原子
MX 表示M原子占据了应是X原子正常 所处的平衡 位置。
XM表示X原子占据了应是M原子正常
所处的平衡 位置。
63
(4)杂质原子
LM 表示溶质L占据了M的位置。 如:CaNa SX 表示S溶质占据了X位置。 如CuAu 表示在Cu3Au合金中, Cu原子占据了Au原子应占有的格位
55
1、常用缺陷表示方法:
用一个主要符号表明缺陷的种类
Az 用一个下标表示缺陷位置 b
用一个上标表示缺陷的有效电荷,如 “ . ”表示有效正电荷; “ , ”表示有
效负电荷; “×”表示有效零电荷。
56
Abz
用一个主要符号表明缺陷的种类 (1) 空位缺陷用字母V(Vacancy) (2) 杂质缺陷用该种原子的元素符号表示 (3) 电子缺陷用小写字母e (4) 空穴用小写字母h(hole)
其中,在固体化学 中,主要研究的对象是 点缺陷。
18
三、非化学计量比化合物与点缺陷
非化学计量比化合物的概念: 凡是偏离了定比定律的化合物 1、从化学的角度来看,非化学计量比化合物是指用 化学分析、XRD和平衡蒸气压测定等手段能够确定 其组成偏离整比的均一物相,如FeO1+x、FeS1+x、 PdHx等过渡元素的化合物。
固体材料光谱学优秀课件
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BLT薄膜折射率和消光系数
固体材料光谱学优秀课件
椭圆偏振光谱的优点
1.测试过程对于被测试样品损伤和破坏极小。 2.测量精度高. 椭偏光谱的工作原理虽然建立在经典
电磁波理论上,但实际上它有原子层级的灵敏度. 对 薄膜的测量准确度可以达到1nm,相当于单原子层 的厚度. 3.能同时分别测量出几个物理量. 椭偏光谱可直接得 到光学常数的实部和虚部,不需要K - K关系. 4.测量的速度很快. 5.对被测样品以及被测样品所处的环境条件无特殊要 求。
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洛伦兹振子模型
光与物质的相互作用,也就是固体对 光的响应可以看成阻尼振子体系在入射光 作用下的受迫振荡。
一个谐振子的运动方程可以表示为:
M * x M *x M *02xq0e E i t
固体材料光谱学优秀课件
M N*q20
2i/ 122
复介电常数 rii能够用上面的公式表达,
折射率和消光系数用下面的公式表示:
n 1 2
2 r
i2
r
k 1 2
2 r
i2
r
固体材料光谱学优秀课件
实验数据处理
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Bi3.25La0.75Ti3O12薄膜 ψ和Δ的光谱
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BLT薄膜拟合的参数值
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BLT薄膜介电常数
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[3] Z. G. Hu, Structure and Optical Properties of Ferroelectric PbZr0.40Ti0.60O3 Films Grown on LaNiO3-Coated Platinized Silicon Determined by Infrared Spectroscopic Ellipsometry, J. Phys. Chem. C 2008, 112, 9737–9743
固体缺陷 书
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固体缺陷书1. 引言固体缺陷是固体材料中的一种普遍现象。
它们可以是晶格中的原子或离子的位置偏移、缺失或多余,也可以是晶格中的结构缺陷,如晶界、位错和空隙等。
固体缺陷对材料的物理和化学性质产生了重要影响,因此对其进行深入研究具有重要意义。
2. 固体缺陷的分类根据固体缺陷形成原因和性质的不同,可以将固体缺陷分为点缺陷、线缺陷和面缺陷。
2.1 点缺陷点缺陷是指晶格中某个位置上原子或离子与理想位置有所偏离。
常见的点缺陷包括空位、间隙原子、杂质原子等。
•空位:指晶格中某个位置上没有占据的原子或离子。
空位可以通过热激活或辐射引起。
•间隙原子:指在晶格中出现在正常占据位置之间的额外原子或离子。
它们通常由于封闭过程或高温下的快速扩散而形成。
•杂质原子:指替代了晶格中某个位置上的原子或离子的外来原子或离子。
杂质原子可以影响材料的电学、磁学和光学性质。
2.2 线缺陷线缺陷是指晶格中某一维方向上的缺陷,包括位错和脆化性晶界。
•位错:指晶体中原子排列出现周期性偏移或错位。
位错可以影响材料的机械、热学和电学性质。
•脆化性晶界:是由于晶界处原子排列不完美引起的,使材料在该区域变得脆弱。
2.3 面缺陷面缺陷是指晶格中某个平面上的缺陷,如孪生、多晶和堆垛层错等。
•孪生:是指沿着特定方向形成对称镜像排列的两个区域。
孪生可以改变材料的力学、磁学和光学性质。
•多晶:是由多个晶粒组成的材料。
多晶结构中存在许多晶界,对材料的力学性能和导电性能产生重要影响。
•堆垛层错:是晶体中某些原子或离子的堆垛顺序发生错误。
堆垛层错可以改变材料的磁学、电学和光学性质。
3. 固体缺陷的影响固体缺陷对材料的物理和化学性质产生重要影响。
•电学性质:固体缺陷可以改变材料的导电性能。
例如,杂质原子可以引入额外的载流子,从而增加材料的电导率。
•磁学性质:固体缺陷对磁性材料的磁化行为有显著影响。
位错和孪生等线缺陷可以改变磁畴结构,从而影响磁性。
•光学性质:固体缺陷可以改变材料对光的吸收、散射和发射行为。
固体化学Ⅱ-缺陷
![固体化学Ⅱ-缺陷](https://img.taocdn.com/s3/m/da46f06302d276a201292e52.png)
一、克罗格-明克缺陷符号
在克罗格-明克符号系统中,用一个主要符号来表示缺陷的种类, 而用一个下标来表示这个缺陷所在的位置,用一个上标来表示缺陷 所带的电荷。如用上标点“·”表示正电荷,用撇“′”表示负电荷, 有时用“×”表示中性。一“撇”或一“点”表示一价,两“撇” 或两“点”表示二价,以此类推。下面以MX离子晶体(M为二价 阳离子、X为二价阴离子)为例来说明缺陷化学符号的具体表示方 法。
固体化学Ⅱ-材料科学基础 第1章 晶体结构缺陷
晶体化学:晶体中所有的原子都按照理想的晶格点阵排列。 实际上,真实晶体中,在高于0K的任何温度下,都或多 或少地存在着对这种理想晶体结构的偏离,即存在着结构 缺陷----或者说是结构欠完美。
结构缺陷的存在及其运动规律与高温过程中的扩散、 晶粒生长、相变、固相反应、烧结等机理以及材料的物理 化学性能都密切相关。晶体缺陷对晶体的某些性质甚至有 着决定性的影响。如半导体的导电性质几乎完全是由外来 的杂质原子和缺陷存在所决定,还有一些离子晶体的颜色 都是来自缺陷。 目的:⑴寻找排除缺陷的方法,提高材料的质量和性能的 稳定性;⑵帮助理解高温过程的微观机制;⑶更好的性能。 --------------------材料科学基础中的基础。
面缺陷:其特点是仅在二维方向上的尺寸较大,而另 外一维方向上的尺寸很小,故也称二维缺陷,如晶体表 面、晶界(晶粒间界)和相界面等。
这三类缺陷中,点缺陷在无机材料中是最基本也是 最重要的,点缺陷主要有以下两种分类方法。 一、根据其对理想晶格偏离的几何位置及成分来划分
在点缺陷中,根据其对理想晶格偏离的几何位置及 成分来划分,可以分为间隙原子、空位和杂质原子三 种类型,如图所示。 1. 间隙原子
二、根据产生缺陷的原因来划分 可以分为下列三种类型:
第2节 点缺陷
![第2节 点缺陷](https://img.taocdn.com/s3/m/f5fda073a45177232f60a2f4.png)
第2节点缺陷5.2.1 分类1. 按照位置和成分分类1)空位:正常结点没有被原子或离子所占据,成为空结点,称为空位或空穴,参见图5-1。
2)填隙质点:原子或离子进入晶体中正常结点之间的间隙位置,成为填隙原子(或离子)或间隙原子(或离子)。
从成分上看,填隙质点可以是晶体自身的质点,也可以是外来杂质的质点,参见图5-2。
3)杂质缺陷:外来杂质质点进入晶体中就会生成杂质缺陷,从位置上看,它可以进入结点位置,也可以进入间隙位置,参见图5-3。
杂质原子(或离子)如取代原来晶格中的原子(或离子)而进入正常结点的位置,称为取代原子(或离子);杂质原子(或离子)如进入结点之间的间隙位置,那么生成间隙式杂质原子(或离子)。
杂质进入晶体中可以看成是一个溶解过程,杂质为溶质,原来晶体为溶剂,这种溶解了杂质原子(或离子)的晶体称为固体溶液,简称固溶体,将在后面章节进行详细介绍。
2. 按照缺陷产生原因分类1)热缺陷:当晶体的温度高于0K时,由于晶格上质点热振动,使一部分能量较高的质点离开平衡位置而造成缺陷,这种缺陷称为热缺陷。
热缺陷有两种形式:弗仑克尔缺陷(Frenkel)和肖特基缺陷(Schottky)。
(1)弗仑克尔缺陷:在晶格热振动时,一些能量较大的质点离开平衡位置后,进入到间隙位置,形成间隙质点,而在原来位置上形成空位,这种缺陷称为弗仑克尔缺陷,如图5-4(a)所示。
它的特点是间隙质点与空位总是成对出现。
从能量状态分析,间隙质点的能量要高于结点位置上的能量,因此形成弗仑克尔缺陷需要克服较高的位垒。
由于间隙质点能态高,因而它处于一种亚稳定状态,当其周围存在空位时,就有可能重新与空位复合,回到能态较低的结点平衡位置。
为了实现与空位复合,它仍然需要克服一定的势垒u(见图5-5)。
间隙质点也有可能获得足够能量迁移到邻近其他间隙位置。
在一定温度下,对一定材料来说,弗仑克尔缺陷的数目是一定的,并且无规则地均匀分布在整个晶体材料中。
第5章 杂质工程与能带工程
![第5章 杂质工程与能带工程](https://img.taocdn.com/s3/m/e9d8d1fb0242a8956bece4fd.png)
(b)液态源扩散(II)
优点:系统简单、操作方便、成本低、效率高、 重复性、均匀性好
缺点:腐蚀性高,起泡器加压(易炸),对温 度敏感,携带气体纯化和干燥
少子寿命在工艺中被动改变
❖ 在氧化、扩散等高温工艺中被动产生的晶格缺陷和 被动引入的深能级杂质,使少数载流子寿命缩短
❖ 杂质原子与主体原子大小失配,重掺杂时引起缺陷 增生,使寿命下降
控制少数载流子寿命的掺杂与辐照
❖ 禁带中的深能级杂质改变少子的寿命 ❖ 利用辐照产生空位和填隙原子 ❖ 辐照不具有长期稳定性
❖ 1977年旅行者号太空探测器首次采用SiGe合金作 为温差发电材料;
❖ 在此后美国NASA的空间计划中,SiGe差不多完 全取代PbTe材料。
5.5 半导体量子阱
什么是量子阱
❖ 量子阱结构是指载流子的运动在一个方向受到约束, 即这个方向的尺寸与电子的德布罗意波长相比拟或 更小,载流子只能在二维平面内自由运动 。
第五章 杂质工程与能带工程
河南科技大学
第五章 杂质工程与能带工程
❖ 5.1 常规掺杂 ❖ 5.2 自补偿效应 ❖ 5.3 少子寿命控制 ❖ 5.4 半导体固溶体 ❖ 5.5 半导体量子阱 ❖ 5.6 扩散掺杂及工艺 ❖ 5.7 离子注入及工艺
5.1 常规掺杂(pg148)
原位掺杂:在制备材料中掺入杂质
❖ 常用磷源 5POCl3→3PCl5+P2O5(600℃) 4PCl5+5O2→2P2O5+10Cl2 2P2O5+5Si→4P+5SiO2
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5.1 离子晶体中F中心的吸收与发射
5.1.1 F中心及其吸收和发射光谱 F中心(来自德文Farbzentren)是一种很早就被 发现并被广泛研究的一种晶体缺陷。纯净的碱卤晶体 无色透明,然而将这种晶体放在相应的碱金属蒸汽中 加热,或用射线、射线辐照,用电子束轰击,会变成 有色晶体,这种过程叫做着色。若阳离子过量或阴离 子缺位,等效于一个正电中心,于是在其周围会吸引 一个电子孙,形成所谓F中心。对于图5.2所示的负离 子空位F中心。
第五章
陷态光杂质和缺谱
图5.1表示固体中可能的光学跃迁。
其中(1)和(2)表示带间吸收和发射过程;
(3)—(6)为杂质和缺陷态相关的跃迁, 其中(3)为带—施主或受主之间的三种可能跃 迁; (4)为施主—受主对(D-A对)之间的跃迁;
(5)为复合中心之间的跃迁;
(6)为分立中心内部的跃迁;
(7)为多声子弛豫的无辐射过程;
5.1.2 位形坐标模型 1. 位形坐标:位形坐标模型是关于电子和离子晶格振
动总能量与离子平均位置(用一个坐标表示)相关的
物理模型。设离子的平均位置用 R 表示,采用简谐近
似,在某个电子状态下离子的势能(离子晶格振动能) 可以表示为
1 E k ( R R0 ) 2 2
(5.1)
2. 电子—声子相互作用,离子必须调整自己的位置 以
固体中Y2O3 : Eu3+的吸收光谱即有分立的线谱, 也有连续的带谱。分立吸收谱线分布在紫外一可见光 波段。吸收谱的另一个特点是在紫外区230 nn 处出现 很强的吸收带。 图5.9说明,掺杂土氧化物既有基质晶格的吸收, 也有稀土离子的吸收,但主要是基质晶格的吸收;而 稀土氧化物的高效发光却是在稀土离子 4f 能级之间跃 迁,因此激发和发光基本上是分开的,激发到发光中 心之间有一个能量传递的过程,这一过程直拦影响发
(5.4)
3. 弗兰克—康登原理与吸收和发射的斯托克斯频移:
因为电子的质量比离子的质量小的多,在电子跃迁 的
瞬间,离子来不及调整自己的位置,晶体的位形不 变,因此可以认为电子是在两个静止的位形曲线之 间竖直跃迁。 如图5.5所示。
常温下吸收光谱的加宽,如图5.6所示。
4. 发光线形:设发射谱带中心频率为 0 ,低端频率 为 ,发射谱带的半宽度为 0 - ,相应的激发态 离子位形差 em r r0 ,基态势 以得到
1 1 (K K 0 ) 2
(5.17)
m* m0
2
R
(5.13)
类似于激子,杂质中心上电子(或空穴)的等效半径为
r
*
4 02 m*e2
n
2
m0
m*
n2aB
(5.14)
5.3.2 施主和受主杂质中心的红外吸收 图 5.19 表示半导体中的浅杂质能级与带间可能的光吸 收跃迁。
可以分为两类: 一类叫做浅跃迁。这类吸收非常弱,一般只有几十
I0
(5.11)
5.2 分立中心的吸收与发光 有两类重要的发光材料和器件:
1、一类是半导体P—N结注入式发光,如发光二极管
(LED),其发光过程是电注入载流子在结区附近的
复合;
2、另一类固体发光材料,如彩色电视显示屏使用的红
色发光粉
Y2 O3 : Eu3 。
杂质形成的发光中心大致可以分为两类:
1、 分立发光中心; 2、复合发光中心。 分立中心可以分成两类: 1、三价稀土离子中心; 2、过渡族金属离子中心。 不论三价稀土离子中心(4 f 电子)还是过渡族金属
光效率,共振能量传递可能是掺稀土氧化物中重要的
能量传递方式。 由图5.9还可以看出,即使对4 f 电子的吸收,也 不像自由稀土离子的吸收那样为线谱。换名话说,在 晶体所有的吸收谱都或多或少地被加宽。谱线加宽有 各种原因,其中主要有晶格振动加宽和结构非均匀性 引起的加宽。形成如图5.10所示的带谱。非晶固体和 纳米材料的吸收(或发射)光谱都是宽带谱,非均匀 加宽是一个重要因素。
到交点 I, 发光被猝灭, E 叫做温度猝灭的激
活能。温度猝灭的 几率可以表示为
WNR exp(E / k BT )
(5.10)
对于单分子发光过程,也就是发光只与一种粒子数 n 有
关,发光强度 为
I L (T )
,与温度之间的关系可以表示 I R n
0 1 exp(E / k B T ) R
S、P、D 等原子光谱项符号表示。 0 ,能级发生
劈裂,用晶场符号A(非简并),E(2度简并),
T(3度简并)等群论符号表示。过渡族金属掺杂的晶
体,都有鲜艳的体色,来自于掺杂离子的吸收,它与
晶场劈裂密切相关。
红宝石 Al2O3 : Cr3+ 中 Cr3+ (d1) 离子的晶场能级劈裂 如图5. 15所示。 根据光学跃迁S=0 的自旋选择定则,从基态4A2到
图 5.2 表示的负离子空位 F 中心。
图5.3表示的吸收发射光谱。一个明显的特征是:
1、发光能量比吸收的能量要低得多,差不多只有一半。 也就是说,发光与吸收之间存在较大的斯托克斯频移。
2、另一个特点是吸收和发射都是较宽的带状光谱,随 着测量温度的提高: ①吸收和发光的峰位移向低能方向; ②谱带加宽; ③强度降低。
(5.8)
5. 吸收和发射谱的温度依赖关系:吸收和发射光谱明 显受温度的影响。
如图5.6所示。
2 因为位形差 ( em ) 振子的能量 k B T ,
谱带宽度 ( 0 ) em由此得
T
1/ 2
(5.9)
6. 发光的温度猝灭:设激发态从平衡位置到交点 I 的 能量差为E,当测量温度升高到使激发态电子达
4T 、4T (4F) 2 1
和4T1 (4P) 的跃迁是允许的,应该观察
到3个吸收峰,如图 5.16 所示。图 5.17 给出红宝石 Al2O3 : Cr3+中Cr3+ (d1)离子的晶场能级、吸收和发 光光谱。
5.3 导带(或价带)到杂质中心之间的跃迁
1. 施主杂质: 具有 N 型导电的杂质叫做施主杂质, 它在半导体中形成施主能级; 2. 受主杂质:具有 P 型导电的杂质叫做 受主杂质,则在半导体中形成 受主能级。 5.3.1 施主和受主杂质中心的能量状态
2. 三价稀土离子中心的吸收光谱:
图5.7 给出了三价稀土离子的能级结构。 三价稀土离子在可见光区存在着丰富的能极,但大 多数稀土氧化物(常用 RE2O3 表示)不象过渡金属 离子掺杂的化合物有鲜艳的体色,一般为无色透明 固体。
图5.8表示水溶液中自由稀土离子的吸收光谱。
图5.9表示稀土铕掺杂的氧化钇(Y2O3 : Eu3+)的吸收光谱。
dU ( g ) 0 em em k g r0 dR Rr0
1 U (g) k g R 2 2
,
现在求发光线形分布。由图5.4所示的三角形CEF,可
(5.5)
由此得
em
( 0 ) k g r0
(5.6)
另一方面,在激态 B 和 D 点振子的出现几率 W 与该状
便重新达到电的和力的平衡,这就是晶格驰豫。
如图5.4所示。由图可见,电子-声子相互作用能,
也就是晶格驰豫能为 1
Ee p
2
2 m q ( R ) 2
(5.2)
1 2 2 s m q (R) / p 2
(5.3)
从基态振动量子数到激发态的跃迁几率可以表示为
W f r i ' 0
cm-1,实验需要在低温下进行;
第二类叫做深跃迁,如图5.19中的过程 Ei
(5.16)
可能发生离化施主与价带或离化受主与导带之间的 跃迁,这种跃迁吸收的能量比第一类跃迁高。
杂质到带间的跃迁除了宽带特征外,强度也很弱,
大约只有10几个cm-1。
( r , K )
离子中心(4 d 电子),只有在晶体场作用下,其组态 内
跃迁才成为可能。 5.2.1 三价稀土离子中心的吸收与发射光谱 1. 三价稀土离子中心的能极结构:镧系元素从 La 到 Lu 依次填充 4 f 壳层,形成15种元素,外层的 5s2 和 5p6 为满壳层,最外层的6s2和5d1(或4 f1)电子容易电 离,于是形成三价离子,如铕 (Eu) 的电子组态为(4 f 7, 6s2 ) ,三价稀土 Eu3+ 的外层电子组态为4 f 6 ,其基态 为 7F0 。如图5.7所示。
发生松动,结果 5D0 - 7F0 变成电偶极允许的跃迁,发
出波长为 618 nm 纯 红色的光,是理想的红色发光材
料,如图5.11b所示。
另外,稀土离子电子到其组态以外的跃迁是选择
定则允许的。有两种可能:
1 4 f 4 f n1 L L代表配
①电荷转移(CT)态跃迁,
位体,n 表示电子数; ② 跃迁
一个晶场能级图表示过渡族金属离子能级的晶场劈 裂E与晶场参数之间的关系,其中与金属离子和 周围基质晶格离子之间的平均距离有关,代表晶场的 大小。图 5.13 和 5.14 分别表示 Ti 3+ 离子(d1)能级的晶 场劈裂和吸收光谱。其中横轴 表示晶场的大小,
=0 的纵轴表示晶场为 0 时自由离子的能级,用符号
4 f n 4 f n1 5d。
图 5.12 表示 Ce3+ 离子的吸收光谱。
5.2.2 过渡族金属离子中心的晶场光谱
n d (0 n 10) 过渡金属离子具有非完全填满的 d 壳层,
但它们不象稀土离子那样具有满壳层结构的电子组态; 过渡族离子与基质晶格的相互作用强,使d n 组态内的 跃迁允许,因此过渡族金属离子掺杂物都有鲜艳的颜 色。 由于晶体场的存在,会引起过渡族金属离子能级