纳米薄膜的制备方法 PPT

真空溅射室及氮气等离子体辉光放 电图
大家有疑问的，可以询问和交流
可以互相讨论下，但要小声点
3 化学气相沉积法 （CVD) 利用含有薄膜元素 的一种或几种气相化合物或单质在基底表面上 进行化学反应生成薄膜的方法。
特点： CVD技术可以通过精确控制反应温度 和反应时间来控制晶粒的大小，从ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ获得纳米 复合薄膜材料。
HO Si OH
Cl
OH
X
X
adsorption
XX
H
HO Si O O Si OH
OH H
H
OH H
O
O
substrate
-H2O
polymerization
O Si Si
O
O
s u b s tra te
翟怡、张金利等，化学进展，2004，16（4）：477－484
电子在加速的过程中受到磁场洛仑兹力的作用，被束 缚在靠近靶面的等离子体区域内。
F=－q(E+v×B)
电子的运动的轨迹将是沿电场方向加速，同时绕磁场 方向螺旋前进的复杂曲线。即磁场的存在将延长电子 在等离子体中的运动轨迹，提高了它参与原子碰撞和 电离过程的几率，因而在同样的电流和气压下可以显
著地提高溅射的效率和沉积的速率。
自组装单分子膜
自组装单分子膜：通过表面活性剂的头基和基 底之间产生化学吸附，在界面上自发形成有序 的单分子层，是一种新型的有机成膜技术。
优点：原位自发形成，较高的有序性和取向 性，高密度堆积，缺陷少，结构稳定
有机硅烷SAMs在基底表面的自组装过程示意
X
X
H2O
Cl Si Cl
hydrolyzation
纳米薄膜的制备方法
原理： 真空镀膜是借助高能粒子轰
击所产生的动量交换，把镀 膜材料的原子从固体（靶） 表面撞出并放射出来。放在 靶前面的基材拦截溅射出来 的原子流，后者凝聚并形成 镀层。
阴极发射电子在电场的作用 下加速飞向基片的过程中与 溅射气体原子发生碰撞，电 离出大量的正离子和电子, 电子飞向基片, 正离子在电 场的作用下加速轰击靶材， 溅射出大量的靶材原子，呈 中性的靶原子（或分子）沉 积在基片上成膜。
什麼是乳化聚合?
在乳化剂(表面活性剂)存在下，将单体分散于水中，此时 溶液呈乳液状，再加入水溶的引发剂进行聚合反应。
1. 合成聚苯乙烯核。
HMEM: 2-[p-(2-Hydorxy-2-methylpropiphenone)]ethyleneglycol
2. 於核外面覆蓋一層光起始劑-HMEM。 3. 用UV光照射溶液中的粒子，開始行光乳化聚合。
方法： ① 直流溅射：溅射沉积各类金 属 薄膜 ② 射频溅射：溅射沉积非金属材 料（导电性差） ③ 磁控溅射：提高沉积速率 ④ 反应溅射：在溅射过程中实 现物 质之间的化学反应制备所需 要 的物质薄膜。
本实验采用射频磁控溅射法在石 英衬 底上沉积ZnO（靶材）薄膜 。
磁控溅射就是以磁场束缚和延长电子的运动路径，改 变电子的运动方向，提高工作气体的电离率和有效利 用电子的能量。
1. 將Ag salts加入之前製備好之高分子稀溶液中， 生成銀離子。
2. 再加入 NaBH4 於上述溶液中，生成金屬銀。
PS Ag
Rps:75nm RAg<5nm
图1胶态晶体法组装得到的CdSe量子点超晶格的高分辨电 镜照片(图中量子点尺寸为4.8nm) (A) fcc排布的(101)面的图像及特征电子衍射图(B) fcc 排布的(100)面的图像及特征电子衍射图