晶圆制造及半导体制造业放流水标准

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晶圆制造及半导体制造业放流水标准

废水导电度来源

制程使用之磷酸和硝酸,高浓度废液回收后,少量随清洗水流至废水单元

纯水单元离子交换树脂再生液(TDS一般在20,000~50,000mg/L间)

纯水单元RO浓排水(TDS一般在1,000~5,000mg/L间)

废水处理单元加药调整pH

废水处理单元加药去除F-与重金属

一般工业废水导电度多达数千µS/cm

废水导电度改善方案

以管线输送至海洋排放

浓缩液需能与周围海水迅速扩散混合,对于内陆区域管线费为限制因子

单效蒸发器(single-effect evaporator) 或是蒸气压缩蒸发器(vapor compression evaporator) 能源消耗高、后续盐分处理造成处理费用高昂

热处理:热蒸发器(thermal evaporator)、结晶器(crystallizers) 和喷雾干燥机(spray dryers) 将浓缩液变成泥浆(slurry, near ZLD) 或是可掩埋处置之固体产物

初设和维护费高、适用小流量需求

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